JP2008010818A - 基板、基板検査方法、素子および基板の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板検査方法は、主表面上に複数の層が形成された基板を準備する基板準備工程および成膜工程と、局所的なエッチング工程(S321)と、検査工程(S323)または組成分析工程(S322)とを備える。工程(S321)では、基板の主表面において、エピ層が形成された領域でエピ層の少なくとも一部を除去することにより凹部を形成する。検査工程(S323)では、凹部7において露出した層について検査を行なう。
【選択図】図3
Description
まず、図1に示した基板準備工程(S100)として、直径2インチのGaN基板を準備した。当該GaN基板の厚みは400μmとした。GaN基板は6枚準備した。
まず、基板のエピタキシャル膜が形成されていない裏面側を保持板にワックスを用いて固定した。そして、当該保持板に固定された基板について、エピタキシャル膜を研磨法により除去した。具体的には、ラップ装置において、スラリー供給口からダイヤモンド製の砥粒が分散して含有されたスラリーを常盤に供給しながら、基板が保持された保持板を、基板表面が常盤側に向くようにして当該常盤に押付ける。その状態で、常盤の表面に沿って常盤に対して保持板を相対的に移動させる。具体的には、たとえば保持板を回転させる。このようにして、基板のエピタキシャル膜が形成された表面の研磨(機械研磨)を行なった。なお、砥粒の粒径は2μm、1μmと段階的に小さくした。また、研磨圧力(基板が保持された保持板を常盤に押圧する圧力)は100g/cm2以上500g/cm2以下とした。また、保持板の回転数は30rpm以上100rpm以下とした。
まず、基板をエッチング装置の内部の基板保持台上に搭載した。エッチング装置としては、ICP(Inductively Coupled Plasma)RIE装置を用いた。そして、反応性イオンエッチングを行なうことにより、基板のエピタキシャル膜を除去した。反応性イオンエッチングの条件としては、以下のような条件を用いた。すなわち、エッチングガスとして塩素ガス(Cl2ガス)を使用した。またエッチングを行なう領域(RIE装置の反応容器内部)の圧力を0.3Pa以上3Pa以下とした。また、RFパワーを1000W以上1200W以下、バイアスを50Wとした。
Claims (12)
- 主表面上に複数の層が形成された基板を準備する工程と、
前記基板の主表面において、前記複数の層が形成された領域で前記複数の層の少なくとも一部を除去することにより開口部を形成する加工工程と、
前記開口部において露出した前記層について検査を行なう検査工程とを備える、基板検査方法。 - 前記加工工程においては、前記複数の層が形成された領域において複数の開口部を形成し、
前記検査工程では、前記複数の開口部のそれぞれにおいて検査を行なう、請求項2に記載の基板検査方法。 - 前記基板を構成する材料はGaN、AlN、SiCからなる群から選択される1種を含み、
前記層を構成する材料はAlGaN、InGaN、GaNからなる群から選択される1種を含む、請求項1または2に記載の基板検査方法。 - 請求項1〜3のいずれか1項に記載の基板検査方法を用いて、前記基板の検査を実施する検査工程と、
前記検査工程での検査結果により、予め定められた基準を満たすと判定された前記基板において、前記複数の層が形成された領域のうち前記開口部が形成された部分以外の領域において素子を形成する素子形成工程とを備える、素子の製造方法。 - 基板を準備する工程と、
前記基板の主表面上に複数の層を形成する工程と、
前記複数の層が形成された基板を検査する検査工程とを備え、
前記検査工程は、
前記基板の主表面において、前記複数の層が形成された領域で前記複数の層の少なくとも一部を除去することにより開口部を形成する加工工程と、
前記開口部において露出した前記層について検査を行なう開口部検査工程とを含み、さらに、
前記検査工程での検査結果により、予め定められた基準を満たさないと判定された前記基板について、前記複数の層を除去する除去工程をさらに備え、
前記複数の層を形成する工程は、前記除去工程により前記複数の層が除去された前記基板の主表面上に再度複数の層を形成することを含む、基板の製造方法。 - 前記除去工程は、前記基板において前記複数の層が形成された面を研磨することにより、前記複数の層を除去する工程を含む、請求項5に記載の基板の製造方法。
- 前記除去工程は、前記基板において前記複数の層が形成された面に対し物理的エッチングを行なうことにより、前記複数の層を除去する工程を含む、請求項5に記載の基板の製造方法。
- 前記基板を構成する材料はGaN、AlN、SiCからなる群から選択される1種を含み、
前記層を構成する材料はAlGaN、InGaN、GaNからなる群から選択される1種を含む、請求項5〜7のいずれか1項に記載の基板の製造方法。 - 請求項5〜8のいずれか1項に記載の基板の製造方法により製造された基板。
- 主表面上に複数の層が形成された基板であって、
前記基板の主表面において、前記複数の層が形成された領域で前記複数の層の少なくとも一部を除去することにより開口部が形成された、基板。 - 前記複数の層が形成された領域において、前記開口部が複数形成されている、請求項10に記載の基板。
- 前記基板を構成する材料はGaN、AlN、SiCからなる群から選択される1種を含み、
前記層を構成する材料はAlGaN、InGaN、GaNからなる群から選択される1種を含む、請求項10または11に記載の基板。
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