JP2007334279A - 光線方向制御素子の製造方法、光線方向制御素子,光線方向制御素子を用いた光源及び表示装置 - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 49
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 155
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 claims abstract description 73
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims abstract description 72
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 60
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 52
- 230000008569 process Effects 0.000 claims abstract description 31
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 claims abstract description 13
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 claims description 27
- 238000001723 curing Methods 0.000 claims description 12
- 238000000059 patterning Methods 0.000 claims description 9
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N Bisphenol A Natural products C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 4
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 3
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical class C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims description 3
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 claims description 3
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 claims description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 abstract description 17
- 239000010408 film Substances 0.000 description 83
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 23
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 21
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 13
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 13
- 230000005865 ionizing radiation Effects 0.000 description 12
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 10
- 238000005488 sandblasting Methods 0.000 description 9
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 8
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 8
- 239000004983 Polymer Dispersed Liquid Crystal Substances 0.000 description 7
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 7
- 229940125782 compound 2 Drugs 0.000 description 6
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 6
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 6
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 6
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 5
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 4
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 3
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 3
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 3
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 3
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 3
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- 239000011358 absorbing material Substances 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N cyclopentanone Chemical compound O=C1CCCC1 BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 2
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 2
- 238000005429 filling process Methods 0.000 description 2
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 2
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- -1 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 2
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 2
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 2
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 2
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 2
- PTTPXKJBFFKCEK-UHFFFAOYSA-N 2-Methyl-4-heptanone Chemical compound CC(C)CC(=O)CC(C)C PTTPXKJBFFKCEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010037660 Pyrexia Diseases 0.000 description 1
- 238000007611 bar coating method Methods 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 239000003550 marker Substances 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 238000004321 preservation Methods 0.000 description 1
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
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- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
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Abstract
【解決手段】光線方向制御素子の製造方法は、透明領域を成す光透過性材料を透明な第1の基板11上に配置しフォトリソグラフィプロセスによって透明パターン40を形成する透明パターン形成工程と、透明パターン間の間隙部分に、硬化性を有する光吸収性の流動体58を充填する流動体充填工程と、流動体50を硬化させ光吸収領域を形成する流動体硬化工程と、を有する。
【選択図】図6
Description
2,2′ 電離放射線硬化型樹脂
3,76 光吸収体
4,78 透明フィルム
5 光吸収樹脂
7 透明樹脂
10 光源
11,14,50,63,67 基板
12,68,81A,81B 光吸収領域
13 透明領域
20 バックライト
20a 光源
20b 反射板
20c 導光板
23,27 透明基板
24,26 電極
25 高分子分散液晶層
25a 高分子膜
25b 液晶分子
35,57 液晶表示素子
36 透過−散乱素子
39 透明領域層
40,49,62,69 透明パターン
41 フォトマスク
42 紫外線
45 マイクロプリズムアレイ
51 硬化性流動材料
52 ローラ
55 光線方向制御素子
56 指向性切替光源
58.68 流動体
61 反射膜
64 透明パターン厚み
65 透明パターン幅
66 パターンピッチ
75 透明な基材
77 光透過性樹脂
80A,80B 透過フィルム
83 マイクロルーバー(光制御素子)
90 スキージ
91 保護層
Claims (19)
- 透明領域と光吸収領域とが基板面上に交互に並んだ構造を有し、光線方向を制御するルーバーとして前記光吸収領域が機能する光線方向制御素子の製造方法であって、
前記透明領域を成す光透過性材料を透明な第1の基板上に配置し透明パターンを形成する透明パターン形成工程と、
前記透明パターン間の間隙部分に、硬化性を有する光吸収性の流動体を充填する流動体充填工程と、
前記流動体を硬化させ前記光吸収領域を形成する流動体硬化工程と、
を有することを特徴とする光線方向制御素子の製造方法。 - 前記透明パターン形成工程は、
光透過性の光硬化性材料を前記透明パターンに応じた厚さで前記第1の基板上に塗布し透明領域層を形成する透明領域層形成工程と、
前記透明パターンに応じたフォトマスクを用いたフォトリソグラフィプロセスにより前記透明領域層をパターニングし前記第1の基板上に硬化後の前記光硬化性材料による透明パターンを形成するパターニング工程と、
を有する、請求項1に記載の光線方向制御素子の製造方法。 - 前記第1の基板上の前記透明パターンの上に、当該透明パターンの凸部に密着するように、透明な第2の基板を積層する基板積層工程をさらに備え、
前記流動体充填工程において、前記第1の基板、前記第2の基板及び前記透明パターンによって囲まれた空間内に前記流動体が充填される、請求項1または2に記載の光線方向制御素子の製造方法。 - 前記透明領域を成す光透過性材料を透明な第2の基板上に配置し透明パターンを形成する第2の透明パターン形成工程と、
前記第1の基板上の透明パターンの凸部の頂面と前記第2の基板上の透明パターンの凸部の頂面とが密着するように、前記第1の基板及び第2の基板を重ね合わせる基板積層工程と、
を有し、前記流動体充填工程において、前記第1の基板、前記第2の基板及び前記透明パターンによって囲まれた空間内に前記流動体が充填される、請求項1または2に記載の光線方向制御素子の製造方法。 - 前記透明領域を成す光透過性材料を透明な第2の基板上に配置し透明パターンを形成する第2の透明パターン形成工程と、
前記第1の基板上の透明パターンの凸部の頂面が前記第2の基板の表面と密着し前記第2の基板上の透明パターンの凸部の頂面が前記第1の基板の表面に密着するように、前記第1の基板及び第2の基板を重ね合わせる基板積層工程と、
を有し、前記流動体充填工程において、前記第1の基板、前記第2の基板及び前記透明パターンによって囲まれた空間内に前記流動体が充填される、請求項1または2に記載の光線方向制御素子の製造方法。 - 前記第2の透明パターン形成工程は、
光透過性の光硬化性材料を前記透明パターンに応じた厚さで前記第2の基板上に塗布し透明領域層を形成する透明領域層形成工程と、
前記透明パターンに応じたフォトマスクを用いたフォトリソグラフィプロセスにより前記透明領域層をパターニングし前記第2の基板上に硬化後の前記光硬化性材料による透明パターンを形成するパターニング工程と、
を有する、請求項4または5に記載の光線方向制御素子の製造方法。 - 前記流動体充填工程において、毛細管現象を用いて前記流動体が充填される、請求項1乃至6のいずれか1項に記載の光線方向制御素子の製造方法。
- 前記流動体充填工程は、前記透明パターンを含めて前記第1の基板上に前記流動体を塗布する工程を含み、
前記流動体が塗布された前記第1の基板に対して透明な第2の基板を密着させながら前記硬化性流動体を展開し、前記第1の基板と前記第2の基板とを貼り合わせる流動体展開工程をさらに有する、請求項1に記載の光線方向制御素子の製造方法。 - 前記流動体充填工程は、前記透明パターン間の間隙部分のみに前記流動体が存在するように前記流動体を塗布する工程を含み、
前記透明パターンの凸部の頂面に透明な第2の基板が密着するように前記第2の基板を前記第1の基板に重ね合わせる基板積層工程をさらに有する、請求項1に記載の光線方向制御素子の製造方法。 - 前記光硬化性材料は、ビスフェノールAノボラックのグリシジルエーテル誘導体を含んで、光硬化開始剤から発生する酸を触媒として重合が進行して硬化するものである、請求項2または6に記載の光線方向制御素子の製造方法。
- 透明領域と光吸収領域とが基板面上に交互に並んだ構造を有し、光線方向を制御するルーバーとして前記光吸収領域が機能する光線方向制御素子であって、
前記基板面に垂直な方向から見て、前記光吸収領域が、折れ線形状,曲線形状,格子形状,網目形状のいずれか1つの形状を有することを特徴とする光線方向制御素子。 - 前記光吸収領域の底部に光の反射部分を備える、請求項11に記載の光線方向制御素子。
- 前記透明領域の線幅及び前記光吸収領域の線幅が、いずれも可視光の波長以下である、請求項11または12に記載の光線方向制御素子。
- 光源と、前記光源上に配置された請求項9乃至11のいずれか1項に記載の光線方向制御素子と、を有することを特徴とする面光源。
- 請求項14に記載の面光源と、前記面光源上に配置され入射光の直進出射と散乱出射とを電気的に切り替え可能な透過−散乱素子と、を有することを特徴とする指向性切替光源。
- 請求項14に記載の面光源と、前記面光源上に配置された液晶表示素子と、を有することを特徴とする表示装置。
- 請求項15に記載の指向性切替光源と、前記指向性切替光源上に配置された液晶表示素子と、を有することを特徴とする表示装置。
- 表示画面を有する表示装置であって、前記表示画面上に配置された請求項9乃至11のいずれか1項に記載の光線方向制御素子を有することを特徴とする表示装置。
- 請求項16乃至18のいずれか1項に記載の表示装置を搭載したことを特徴とする端末装置。
Priority Applications (9)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006265087A JP4382791B2 (ja) | 2006-05-16 | 2006-09-28 | 光線方向制御素子の製造方法 |
US11/746,516 US7817361B2 (en) | 2006-05-16 | 2007-05-09 | Beam direction control element and method of manufacturing same |
CN200710146408XA CN101097265B (zh) | 2006-05-16 | 2007-05-10 | 光束方向控制元件及其制造方法 |
CN201210212382.5A CN102736141B (zh) | 2006-05-16 | 2007-05-10 | 光束方向控制元件及其制造方法 |
CN201410196724.8A CN103969713B (zh) | 2006-05-16 | 2007-05-10 | 光束方向控制元件及其制造方法 |
KR1020070046491A KR100890247B1 (ko) | 2006-05-16 | 2007-05-14 | 빔 방향 제어 소자 및 이를 제조하는 방법 |
TW096117136A TWI369567B (en) | 2006-05-16 | 2007-05-15 | Beam direction control element and method of manufacturing same |
KR1020080105278A KR100971754B1 (ko) | 2006-05-16 | 2008-10-27 | 빔 방향 제어 소자 및 이를 제조하는 방법 |
US12/877,771 US8382299B2 (en) | 2006-05-16 | 2010-09-08 | Beam direction control element and method of manufacturing same |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006137094 | 2006-05-16 | ||
JP2006265087A JP4382791B2 (ja) | 2006-05-16 | 2006-09-28 | 光線方向制御素子の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007334279A true JP2007334279A (ja) | 2007-12-27 |
JP4382791B2 JP4382791B2 (ja) | 2009-12-16 |
Family
ID=38711724
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006265087A Active JP4382791B2 (ja) | 2006-05-16 | 2006-09-28 | 光線方向制御素子の製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US7817361B2 (ja) |
JP (1) | JP4382791B2 (ja) |
KR (2) | KR100890247B1 (ja) |
CN (3) | CN103969713B (ja) |
TW (1) | TWI369567B (ja) |
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KR100971754B1 (ko) | 2010-07-21 |
CN103969713A (zh) | 2014-08-06 |
TWI369567B (en) | 2012-08-01 |
US20070268586A1 (en) | 2007-11-22 |
KR20080106395A (ko) | 2008-12-05 |
CN101097265A (zh) | 2008-01-02 |
CN103969713B (zh) | 2016-06-22 |
JP4382791B2 (ja) | 2009-12-16 |
CN102736141A (zh) | 2012-10-17 |
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CN101097265B (zh) | 2012-08-22 |
KR100890247B1 (ko) | 2009-03-24 |
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A977 | Report on retrieval |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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S533 | Written request for registration of change of name |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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R350 | Written notification of registration of transfer |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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