JP2007292679A5 - - Google Patents

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Claims (14)

  1. 電子線を用いて試料上のパターンを評価するための電子線装置において、
    位置決めした基準となる試料上の複数の任意の基準点の計算上のXY座標と、それら基準点の測定されたXY座標(x,y)との座標誤差Δx及びΔyを算出する第1の演算手段と、
    算出された座標誤差Δx及びΔyに基づいて、XY座標の直交誤差を演算する第2の演算手段と、
    算出された座標誤差Δx及びΔyに基づいて、電子線装置の干渉計のミラー歪みによる誤差を演算する第3の演算手段と、
    演算された直交誤差に基づき、試料の検査時に、測定されたXY座標(x,y)を補正する直交誤差補正手段と、
    演算されたミラー歪みによる誤差に基づき、試料の検査時に、2次電子光学系に配置されたビーム偏向器の偏向を補正するビーム偏向補正手段と
    からなることを特徴とする電子線装置。
  2. 請求項1記載の電子線装置において、
    第2の演算手段及び第3の演算手段は、回帰演算手段であって、
    Δx=a+bx+cy+d+e (1)
    Δy=a+bx+cy+d+e (2)
    で表される式(1)及び(2)を満足する係数a〜e及びa〜eを回帰演算により求める回帰演算手段を備え、
    第2の演算手段はさらに、XY座標系の直交誤差を求められた係数c及びbの差として演算する手段を備え、
    第3の演算手段はさらに、求められた係数d、d、e、eを、
    Δx=d+e (3)
    Δy=d+e (4)
    で表される式(3)及び(4)に代入して得られた式に、電子線装置の駆動時に干渉計から入力されるXY座標(x,y)を代入することにより得られたΔx及びΔyを、ミラー歪みによる誤差として演算する手段を備えている
    ことを特徴とする電子線装置。
  3. 請求項1記載の電子線装置において、
    第2の演算手段及び第3の演算手段は、回帰演算手段であって、
    Δx=a+bx+cy+d+e (1)
    Δy=a+bx+cy+d+e (2)
    で表される式(1)及び(2)を満足する係数a〜e及びa〜eを回帰演算により求める回帰演算手段を備え、
    第2の演算手段はさらに、XY座標系の直交誤差を求められた係数c及びbの差として演算する手段を備え、
    第3の演算手段はさらに、
    直交誤差補正手段により直交誤差を補正した後の、第1の演算手段により得られた座標誤差Δx及びΔyに基づいて、式(1)及び(2)を満足する係数a〜e及びa〜eを回帰演算により求める回帰演算手段と、
    求められた係数a〜e及びa〜eを、式(1)及び(2)に代入して得られた式に、電子線装置の駆動時に干渉計から入力されるXY座標(x,y)を代入することにより得られたΔx及びΔyを、ミラー歪みによる誤差として演算する手段と
    を備えている
    ことを特徴とする電子線装置。
  4. 請求項1記載の電子線装置において、
    第2の演算手段は、
    回帰演算手段であって、
    Δx=a+bx+cy (1)
    Δy=a+bx+cy (2)
    で表される式(1)及び(2)を満足する係数a〜c及びa〜cを回帰演算により求める回帰演算手段と、
    XY座標系の直交誤差を係数c及びbの差として演算する手段と
    を備え、
    第3の演算手段は、
    直交誤差補正手段により直交誤差を補正した後の、第1の演算手段により得られた座標誤差Δx及びΔyに基づいて、
    Δx=d+e (3)
    Δy=d+e (4)
    で表される式(3)及び(4)を満足する係数d、e、d及びeを回帰演算により求める回帰演算手段と、
    求められた係数d、e、d及びeを、式(3)及び(4)に代入して得られた式に、電子線装置の駆動時に干渉計から入力されるXY座標(x,y)を代入することにより得られたΔx及びΔyを、ミラー歪みによる誤差として演算する手段と
    を備えている
    ことを特徴とする電子線装置。
  5. 請求項1記載の電子線装置において、
    第2の演算手段は、
    回帰演算手段であって、
    Δx=a+bx+cy (1)
    Δy=a+bx+cy (2)
    で表される式(1)及び(2)を満足する係数a〜c及びa〜cを回帰演算により求める回帰演算手段と、
    XY座標系の直交誤差を係数c及びbの差として演算する手段と
    を備え、
    第3の演算手段は、
    直交誤差補正手段により直交誤差を補正した後の、第1の演算手段により得られた座標誤差Δx及びΔyに基づいて、
    Δx=a+bx+cy+d+e (3)
    Δy=a+bx+cy+d+e (4)
    で表される式(3)及び(4)を満足する係数a〜e及びa〜eを回帰演算により求める回帰演算手段と、
    求められた係数a〜e及びa〜eを、式(3)及び(4)に代入して得られた式に、電子線装置の駆動時に干渉計から入力されるXY座標(x,y)を代入することにより得られたΔx及びΔyを、ミラー歪みによる誤差として演算する手段と
    を備えている
    ことを特徴とする電子線装置。
  6. 請求項2〜5いずれかに記載の電子線装置において、該装置はさらに、
    回帰演算手段により得られた係数a及びaをX軸方向及びY軸方向のシフト量とし、該シフト量を補正する手段と、
    回帰演算手段により得られた係数b及びcを、X軸方向及びY軸方向のスケール誤差とし、該スケール誤差を補正する手段と
    を備えていることを特徴とする電子線装置。
  7. 請求項1〜6いずれかに記載の電子線装置において、
    ビーム偏向器は、偏向電極を備え、
    ビーム偏向補正手段は、偏向電極への電圧を調整する手段である
    ことを特徴とする電子線装置。
  8. 請求項1〜7いずれかに記載の電子線装置において、該装置はさらに、
    1次電子ビームの照射により試料から放出された2次電子ビームを検出する検出手段と、
    検出手段の出力に基づいて試料表面のパターンの画像情報を得る手段と、
    得られた画像情報と、当該試料上の異なる位置の同一パターンの画像情報、又は、予め比較対照として記憶された参照パターンの画像情報とを対比することにより、パターンの欠陥を検出するパターン欠陥検出手段と
    を備えていることを特徴とする電子線装置。
  9. 電子線を用いて試料上のパターンを評価するための電子線装置におけるステージ位置誤差補正方法において、
    位置決めした基準となる試料上の複数の任意の基準点の計算上のXY座標と、それら基準点の測定されたXY座標(x,y)との座標誤差Δx及びΔyを算出する第1の演算ステップと、
    算出された座標誤差Δx及びΔyに基づいて、XY座標の直交誤差を演算する第2の演算ステップと、
    算出された座標誤差Δx及びΔyに基づいて、電子線装置の干渉計のミラー歪みによる誤差を演算する第3の演算ステップと、
    演算された直交誤差に基づき、試料の検査時に、測定されたXY座標(x,y)を補正する直交誤差補正ステップと、
    演算されたミラー歪みによる誤差に基づき、試料の検査時に、2次電子光学系に配置されたビーム偏向器の偏向を補正するビーム偏向補正ステップと
    からなることを特徴とするステージ誤差方正方法。
  10. 請求項9記載のステージ位置誤差補正方法において、
    第2の演算ステップ及び第3の演算ステップは、回帰演算ステップであって、
    Δx=a+bx+cy+d+e (1)
    Δy=a+bx+cy+d+e (2)
    で表される式(1)及び(2)を満足する係数a〜e及びa〜eを回帰演算により求める回帰演算ステップを備え、
    第2の演算ステップはさらに、XY座標系の直交誤差を求められた係数c及びbの差として演算するステップを備え、
    第3の演算ステップはさらに、求められた係数d、d、e、eを、
    Δx=d+e (3)
    Δy=d+e (4)
    で表される式(3)及び(4)に代入して得られた式に、電子線装置の駆動時に干渉計から入力されるXY座標(x,y)を代入することにより得られたΔx及びΔyを、ミラー歪みによる誤差として演算するステップを備えている
    ことを特徴とするステージ位置誤差補正方法。
  11. 請求項9記載のステージ位置誤差補正方法において、
    第2の演算ステップ及び第3の演算ステップは、回帰演算ステップであって、
    Δx=a+bx+cy+d+e (1)
    Δy=a+bx+cy+d+e (2)
    で表される式(1)及び(2)を満足する係数a〜e及びa〜eを回帰演算により求める回帰演算ステップを備え、
    第2の演算ステップはさらに、XY座標系の直交誤差を求められた係数c及びbの差として演算するステップを備え、
    第3の演算ステップはさらに、
    直交誤差補正ステップにより直交誤差を補正した後の、第1の演算ステップにより得られた座標誤差Δx及びΔyに基づいて、式(1)及び(2)を満足する係数a〜e及びa〜eを回帰演算により求める回帰演算ステップと、
    求められた係数a〜e及びa〜eを、式(1)及び(2)に代入して得られた式に、電子線装置の駆動時に干渉計から入力されるXY座標(x,y)を代入することにより得られたΔx及びΔyを、ミラー歪みによる誤差として演算するステップと
    を備えている
    ことを特徴とするステージ位置誤差補正方法。
  12. 請求項9記載のステージ位置誤差補正方法において、
    第2の演算ステップは、
    回帰演算ステップであって、
    Δx=a+bx+cy (1)
    Δy=a+bx+cy (2)
    で表される式(1)及び(2)を満足する係数a〜c及びa〜cを回帰演算により求める回帰演算ステップと、
    XY座標系の直交誤差を係数c及びbの差として演算するステップと
    を備え、
    第3の演算ステップは、
    直交誤差補正ステップにより直交誤差を補正した後の、第1の演算ステップにより得られた座標誤差Δx及びΔyに基づいて、
    Δx=d+e (3)
    Δy=d+e (4)
    で表される式(3)及び(4)を満足する係数d、e、d及びeを回帰演算により求める回帰演算ステップと、
    求められた係数d、e、d及びeを、式(3)及び(4)に代入して得られた式に、電子線装置の駆動時に干渉計から入力されるXY座標(x,y)を代入することにより得られたΔx及びΔyを、ミラー歪みによる誤差として演算するステップと
    を備えている
    ことを特徴とするステージ位置誤差補正方法。
  13. 請求項9記載のステージ位置誤差補正方法において、
    第2の演算ステップは、
    回帰演算ステップであって、
    Δx=a+bx+cy (1)
    Δy=a+bx+cy (2)
    で表される式(1)及び(2)を満足する係数a〜c及びa〜cを回帰演算により求める回帰演算ステップと、
    XY座標系の直交誤差を係数c及びbの差として演算するステップと
    を備え、
    第3の演算ステップは、
    直交誤差補正ステップにより直交誤差を補正した後の、第1の演算ステップにより得られた座標誤差Δx及びΔyに基づいて、
    Δx=a+bx+cy+d+e (3)
    Δy=a+bx+cy+d+e (4)
    で表される式(3)及び(4)を満足する係数a〜e及びa〜eを回帰演算により求める回帰演算ステップと、
    求められた係数a〜e及びa〜eを、式(3)及び(4)に代入して得られた式に、電子線装置の駆動時に干渉計から入力されるXY座標(x,y)を代入することにより得られたΔx及びΔyを、ミラー歪みによる誤差として演算するステップと
    を備えている
    ことを特徴とするステージ位置誤差補正方法。
  14. 電子線を用いて試料上のパターンを評価するための電子線装置におけるステージ位置誤差補正方法を実行するための、コンピュータにより読み取られて実行されるプログラムであって、請求項9〜13いずれかに記載のステージ位置誤差補正方法を実行するためのコンピュータ・プログラム。
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