JP2007262288A

JP2007262288A - 重合性液晶組成物

Info

Publication number: JP2007262288A
Application number: JP2006090761A
Authority: JP
Inventors: Osamu Yamazaki; 修山崎; Hiroshi Hasebe; 浩史長谷部; Kiyobumi Takeuchi; 清文竹内
Original assignee: Dainippon Ink and Chemicals Co Ltd
Current assignee: DIC Corp
Priority date: 2006-03-29
Filing date: 2006-03-29
Publication date: 2007-10-11

Abstract

【課題】高温下において位相差の変化が少ない光学異方体を作製することが可能な重合性液晶組成物を提供する。
【解決手段】少なくとも１つ以上の水素原子がtert-ブチル基で置換されているフェノール骨格を有する分子量３００以上の酸化防止剤を含有する重合性液晶組成物及び当該重合性液晶組成物の硬化物である光学異方体を提供する。本願発明の重合性液晶組成物により構成される光学異方体は、高温下においても、オーダーパラメータの低下に伴う位相差の減少を低減できることから、液晶セル内部に組み込む光学異方体として好適に使用することが可能である。
【選択図】なし

Description

本願発明は、液晶ディスプレイ等の光学補償に用いられる光学異方体の構成部材として有用な重合性液晶組成物及び当該組成物の重合体により構成される光学異方体に関する。

重合性液晶組成物は光学異方体の構成部材として有用であり、光学異方体は例えば位相差フィルムとして種々の液晶ディスプレイに応用されている。位相差フィルムは、重合性液晶組成物を基板に塗布して、配向膜等により重合性液晶組成物を配向させた状態で活性エネルギー線を照射して重合性液晶組成物を硬化することにより得られる。

現在、薄型・軽量化やコスト低減を目的として、液晶ディスプレイの液晶セル内に位相差フィルムを組み込む方式が注目されている。液晶ディスプレイの製造プロセスにおいては、高温下で製造を行わなければならない工程が存在することから、位相差フィルム製造プロセスにおいて２００℃以上の高温に曝されることになる。光学異方体は耐熱性に劣るものではないが、微妙な光学特性を維持することは必ずしも容易では無く高温度においては、光学異方体のオーダーパラメーターの低下が発生し易い。これに伴い光学異方体の位相差が減少し、光学特性の変化により画質が低下してしまう問題があった。

一方、重合性液晶組成物にフェノール骨格を有する酸化防止剤を添加した構成は既に知られている（特許文献１参照）。しかしながら、当該引用文献においては、フェノール骨格を有する化防止剤は、不要な重合を抑制するために用いられており、高温時における光学特性の劣化を抑制するために用いられているものではない。又、当該引用文献に記載の重合性液晶組成物においては、酸化防止剤として4-エトキシフェノール又はブチル化ヒドロキシトルエン(BHT)が用いられている。ところが、これらの酸化防止剤は分子量が何れも２５０以下と小さいことから、微妙な光学特性の変化を抑制することができないものであった。
以上より、２００℃以上の高温において位相差が変化しない光学異方体を作製することが可能な重合性組成物の開発が望まれていた。

特表２０００−５０７３６２号公報

本願発明の課題は、高温下において位相差の変化が少ない光学異方体を作製することが可能な重合性液晶組成物を提供することにある。

上記課題を解決するために種々の重合性液晶と酸化防止剤の組み合わせを鋭意検討した結果、本願発明の重合性液晶組成物に最適な酸化防止剤とその分子量の範囲を明らかにすることに成功し本願発明の完成に至った。
本願発明は、少なくとも１つ以上の水素原子がtert-ブチル基で置換されているフェノール骨格を有する分子量３００以上の酸化防止剤を含有することを特徴とする重合性液晶組成物を提供し、併せて当該重合性液晶組成物の硬化物である光学異方体を提供する

本願発明の重合性液晶組成物は、光学異方体を構成した場合において高温に曝されても位相差は減少しにくいことから、光学異方体の材料、特に液晶セル内部に組み込む光学異方体の材料として好適である。

以下に本願発明による重合性液晶組成物の最良の形態について説明する。本願発明の重合性液晶組成物は、少なくとも１つ以上の水素原子がtert-ブチル基で置換されているフェノール骨格を有する分子量３００以上の酸化防止剤を含有することが好ましく、該酸化防止剤の分子量が５００以上であることがさらに好ましく、分子量が７００以上であることことが特に好ましい。また、該酸化防止剤は、重合性液晶組成物中に０．１〜５質量％含有することが好ましく、さらには０．２〜２質量％含有することが好ましく、０．３〜１質量％含有することが特に好ましい。
好適な酸化防止剤の具体例として以下の式（I-1）〜式（I-8）で表される化合物を挙げることができる。

以上に挙げた式（I-1）〜式（I-8）の化合物のうち、中でも式（I-1）〜式（I-5）がさらに好ましく、式（I-1）〜式（I-3）が特に好ましい。

以上に述べた重合性液晶組成物中に含有する重合性液晶化合物については、特に制限はなく使用することができ、該重合性液晶組成物を有機溶媒などに溶かした溶液の状態で使用してもよい。好適な有機溶媒として例えばトルエン、キシレン、クメンなどのアルキル置換ベンゼンやプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、酢酸ブチル、シクロヘキサノン等を挙げることができる。さらにこれらの溶媒にジメチルホルムアミド、γ−ブチロラクトン、N-メチルピロリジノン、メチルエチルケトン、酢酸エチル等を添加しても良い。重合性液晶化合物として棒状重合性液晶化合物又は円盤状重合性液晶化合物を使用することが好ましく、棒状重合性液晶化合物が特に好ましい。
棒状重合性液晶化合物は、一般式（II）

（式中、Pは反応性官能基を表し、Spは炭素原子数１〜２０のスペーサー基を表し、mは０又は１を表し、MGはメソゲン基又はメソゲン性支持基を表し、R⁹は、ハロゲン原子、シアノ基又は炭素原子数１〜２５のアルキル基を表すが、該アルキル基は１つ以上のハロゲン原子又はCNにより置換されていても良く、この基中に存在する１つのCH₂基又は隣接していない２つ以上のCH₂基はそれぞれ相互に独立して、酸素原子が相互に直接結合しない形で、-O-、-S-、-NH-、-N(CH₃)-、-CO-、-COO-、-OCO-、-OCOO-、-SCO-、-COS-又は-C≡C-により置き換えられていても良く、あるいはR⁹は一般式（II-a）

（式中、Pは反応性官能基を表し、Spは炭素原子数１〜２０のスペーサー基を表し、mは０又は１を表す。）で表される構造を表す。）で表される化合物を含有することが好ましく、一般式（II）において、Spはアルキレン基を表し、該アルキレン基は１つ以上のハロゲン原子又はCNにより置換されていても良く、この基中に存在する１つのCH₂基又は隣接していない２つ以上のCH₂基はそれぞれ相互に独立して、酸素原子が相互に直接結合しない形で、-O-、-S-、-NH-、-N(CH₃)-、-CO-、-COO-、-OCO-、-OCOO-、-SCO-、-COS-又は-C≡C-により置き換えられていても良い。）で表される構造を表し、MGが一般式（II-b）

（式中、A1、A2及びA3はそれぞれ独立的に、1,4-フェニレン基、1,4-シクロヘキシレン基、1,4-シクロヘキセニル基、テトラヒドロピラン-2,5-ジイル基、1,3-ジオキサン-2,5-ジイル基、テトラヒドロチオピラン-2,5-ジイル基、1,4-ビシクロ(2,2,2)オクチレン基、デカヒドロナフタレン-2,6-ジイル基、ピリジン-2,5-ジイル基、ピリミジン-2,5-ジイル基、ピラジン-2,5-ジイル基、1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-2,6-ジイル基、2,6-ナフチレン基、フェナントレン-2,7-ジイル基、9,10-ジヒドロフェナントレン-2,7-ジイル基、1,2,3,4,4a,9,10a-オクタヒドロフェナントレン2,7-ジイル基、フルオレン2,7-ジイル基を表し、該1,4-フェニレン基、1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-2,6-ジイル基、2,6-ナフチレン基、フェナントレン-2,7-ジイル基、9,10-ジヒドロフェナントレン-2,7-ジイル基、1,2,3,4,4a,9,10a-オクタヒドロフェナントレン2,7-ジイル基及びフルオレン2,7-ジイル基は置換基として１個以上のF、Cl、CF₃、OCF₃、シアノ基、炭素原子数１〜８のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、アルカノイルオキシ基、炭素原子数２〜８のアルケニル基、アルケニルオキシ基、アルケノイル基、アルケノイルオキシ基を有していても良く、Z0、Z1、Z2及びZ3はそれぞれ独立して、-COO-、-OCO-、-CH₂ CH₂-、-OCH₂-、-CH₂O-、-CH=CH-、-C≡C-、-CH=CHCOO-、-OCOCH=CH-、-CH₂CH₂COO-、-CH₂CH₂OCO-、-COO CH₂CH₂-、-OCOCH₂CH₂-、-CONH-、-NHCO-又は単結合を表し、nは０、１又は２を表す。）で表される構造を表し、Pが一般式（II-c）、一般式（II-d）又は一般式（II-e）

（式中、R⁶¹、R⁶²、R⁶³、R⁷¹、R⁷²、R⁷³、R⁸¹、R⁸²及びR⁸³はそれぞれ独立的に水素原子、ハロゲン原子又は炭素原子数１〜５のアルキル基を表し、nは０又は１を表す。）で表される置換基からなる群より選ばれる置換基で表される化合物を含有することがさらに好ましい。

ここで、重合性液晶組成物に含有される化合物として、より具体的には一般式（III）

（式中、mは０又は１を表し、W¹及びW²はそれぞれ独立的に単結合、-O-、-COO-又は-OCO-を表し、Y¹及びY²はそれぞれ独立的に-COO-又は-OCO-を表し、r及びsはそれぞれ独立的に２〜１８の整数を表すが、式中に存在する1,4−フェニレン基は炭素原子数１〜７のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、シアノ基、又はハロゲン原子で一つ以上置換されていても良い。）で表される化合物を用いると、機械的強度や耐熱性に優れた光学異方体が得られるので好ましい。

また、一般式（IV）

（式中、Z¹は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基又は炭素原子数１〜２０の炭化水素基を表し、Z²は水素原子又はメチル基を表し、tは０又は1を表し、A、B及びCはそれぞれ独立的に、1,4−フェニレン基、隣接しないCH基が窒素で置換された1,4−フェニレン基、1,4−シクロヘキシレン基、１つ又は隣接しない２つのCH₂基が酸素又は硫黄原子で置換された1,4−シクロヘキシレン基、1,4−シクロヘキセニレン基を表すが、式中に存在する1,4−フェニレン基は炭素原子数１〜７のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、シアノ基又はハロゲン原子で一つ以上置換されていても良く、Y³及びY⁴はそれぞれ独立的に単結合、-CH₂CH₂-、-CH₂O-、-OCH₂-、-COO-、-OCO-、-C≡C-、-CH=CH-、-CF=CF-、-（CH₂）₄-、-CH₂CH₂CH₂O-、-OCH₂CH₂CH₂-、-CH=CHCH₂CH₂-、-CH₂CH₂CH=CH-、-CH=CHCOO-、-OCOCH=CH-、-CH₂CH₂COO-、-CH₂CH₂OCO-、-COO CH₂CH₂-又は-OCOCH₂CH₂-を表し、Y⁵は単結合、-O-、-COO-、-OCO-又は-CH=CHCOO-を表す。）で表される化合物を用いると、重合性液晶組成物の粘度低減や液晶温度範囲を室温もしくは室温付近まで低減することができるので好ましい。
また、一般式（V）

（式中、Z³は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子１〜２０の炭化水素基を表し、Z⁴は水素原子又はメチル基を表し、W³はそれぞれ独立的に単結合、-O-、-COO-、-OCO-を表し、vは２〜１８の整数を表し、uは０又は１の整数を表し、D、E及びFはそれぞれ独立的に、1,4-フェニレン基、隣接しないCH基が窒素で置換された1,4-フェニレン基、1,4-シクロヘキシレン基、１つ又は隣接しない２つのCH_２基が酸素又は硫黄原子で置換された1,4−シクロヘキシレン基、1,4−シクロヘキセニレン基を表し、これらのD、E及びFは、さらに炭素原子数１〜７のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、シアノ基、又はハロゲン原子で一つ以上置換されていても良く、Y⁶及びY⁷はそれぞれ独立的に単結合、-CH₂CH₂-、-CH₂O-、-OCH₂-、-COO-、-OCO-、-C≡C-、-CH=CH-、-CF=CF-、-（CH₂）₄-、-CH₂CH₂CH₂O-、-OCH₂CH₂CH₂-、-CH=CHCH₂CH₂-、-CH₂CH₂CH=CH-、-CH=CHCOO-、-OCOCH=CH-、-CH₂CH₂COO-、-CH₂CH₂OCO-、-COOCH₂CH₂-又は-OCOCH₂CH₂-を表し、Y⁸は単結合、-O-、-COO-、-OCO-又は-CH=CHCOO-を表す。）で表される化合物を用いると、重合性液晶組成物の粘度を大幅に増加させることなく液晶物性を調節することができるので好ましい。
一般式（II）で表される化合物の具体例を以下に挙げることができる。

（式中、j及びkはそれぞれ独立的に２〜１８の整数を表す。）
また、一般式（III）で表される化合物の具体例を以下に挙げることができる。

（式中、（式中、j及びkはそれぞれ独立的に２〜１８の整数を表す。）
また、一般式（IV）で表される化合物の具体的な例として、化合物の構造と相転移温度を以下に挙げることができる。

（式中、シクロヘキサン環はトランスシクロヘキサン環を表し、数字は相転移温度を表し、Cは結晶相、Nはネマチック相、Sはスメクチック相、Iは等方性液体相をそれぞれ表す。）
また、一般式（V）で表される化合物の具体例を以下に挙げることができる。

（式中、X¹は水素原子又はメチル基を表し、R¹は炭素原子数１から２０のアルキル基表す。）
また、円盤状液晶化合物は、ベンゼン誘導体、トリフェニレン誘導体、トルキセン誘導体、フタロシアニン誘導体又はシクロヘキサン誘導体を分子の中心の母核とし、直鎖のアルキル基、直鎖のアルコキシ基又は置換ベンゾイルオキシ基がその側鎖として放射状に置換した構造を有することが好ましく、一般式（VI）

（式中、R⁵はそれぞれ独立して一般式（VI-a）で表される置換基を表す。）

（式中、R⁶及びR⁷はそれぞれ独立的に水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を表し、R⁸は炭素原子数１〜２０アルコキシ基を表すが、該アルコキシ基中の水素原子は一般式（VI-b）、一般式（VI-c）又は一般式（VI-d）で表される置換基によって置換されていても良い。）

（式中、R⁶¹、R⁶²、R⁶³、R⁷¹、R⁷²、R⁷³、R⁸¹、R⁸²及びR⁸³はそれぞれ独立的に水素原子、ハロゲン原子又は炭素原子数１〜５のアルキル基を表し、nは０又は１を表す。）で表される構造を有することがさらに好ましく、一般式（VI）においてR⁸の内少なくとも一つは一般式（VI-b）、一般式（VI-c）又は一般式（VI-d）で表される置換基によって置換されたアルコキシ基を表すことが好ましく、R⁸の全てが一般式（VI-b）、一般式（VI-c）又は一般式（VI-d）で表される置換基によって置換されたアルコキシ基を表すことが特に好ましい。
更に、一般式(VI-a)は具体的には一般式(VI-e)

（式中nは２〜９の整数を表す。）で表される構造を有することが特に好ましい。
また、以上の重合性液晶組成物中に酸化防止剤の他に重合禁止剤、重合開始剤、界面活性剤、又は紫外線吸収剤などの添加剤を含有しても良い。

以下、実施例を挙げて本願発明を更に詳述するが、本願発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
（実施例１）
式(a)の化合物50質量%

式(b)の化合物50質量%

からなる重合性液晶組成物（A）を調製した。重合性液晶組成物（A）97.5質量％に光重合開始剤Irgacure-651（チバスペシャリティケミカルズ社製）2.0質量%、酸化防止剤（I-1）を0.5質量%添加した本発明の重合性液晶組成物（A1）を調製した。次に重合性液晶組成物（A1）を33質量%含有するキシレン溶液を調製した。このキシレン溶液をポリイミド配向膜付きガラス基板にスピンコート（3000回転/分、30秒）した。スピンコートした基板に窒素雰囲気中で4mW/cm²の紫外線を120秒照射して、重合性液晶組成物（A1）を硬化させた。得られた光学異方体の加熱前の位相差及び230℃で30分加熱後の位相差を測定し、位相差の減少率を算出した。評価結果を表１に示す。

（実施例２〜８）
酸化防止剤として式（I-1）に替えて、式（I-2）〜式（I-8）をそれぞれ用いる以外は実施例１と同様にして重合性液晶組成物（A2）〜（A8）を作製し、同様に光学異方体を作製した。得られた光学異方体の加熱前の位相差及び230℃で30分加熱後の位相差を測定し、位相差の減少率を算出した。評価結果を実施例１と共に表１に示す。

（実施例９）
酸化防止剤の添加量を0.1質量%とした以外は実施例１と同様にして重合性液晶組成物（A9）を作製し、同様に光学異方体を作製した。得られた光学異方体の加熱前の位相差及び230℃で30分加熱後の位相差を測定し、位相差の減少率を算出した。評価結果を実施例１と共に表１に示す。

（実施例１０）
酸化防止剤として式（I-1）に替えて、式（I-5）を用い、添加量を0.1質量%とした以外は実施例１と同様にして重合性液晶組成物（A10）を作製し、同様に光学異方体を作製した。得られた光学異方体の加熱前の位相差及び230℃で30分加熱後の位相差を測定し、位相差の減少率を算出した。評価結果を実施例１と共に表１に示す。

表１より特定の酸化防止剤を0.5質量%添加した重合性液晶組成物（A1）〜（A8）では何れも位相差の減少率が４％以内に抑えられていることがわかる。酸化防止剤の添加量を0.1質量%とした重合性液晶組成物（A9）及び（A10）は、同じ酸化防止剤を用い添加量の多い重合性液晶組成物（A1）及び（A5）には及ばないものの、位相差の減少率が４％以内に抑えられていることがわかる。

（比較例１）
重合性液晶組成物（A）98質量％に光重合開始剤Irgacure-651（チバスペシャリティケミカルズ社製）2.0質量%を添加した本発明の重合性液晶組成物（B1）を調製した。次に重合性液晶組成物（B1）を33質量%含有するキシレン溶液を調製した。このキシレン溶液をポリイミド配向膜付きガラス基板にスピンコート（3000回転/分、30秒）した。スピンコートした基板に窒素雰囲気中で4mW/cm²の紫外線を120秒照射して、重合性液晶組成物（B1）を硬化させた。得られた光学異方体の加熱前の位相差及び230℃で30分加熱後の位相差を測定し、位相差の減少率を算出した。評価結果を表２に示す。表２よりB1の位相差の減少率は10%であり、酸化防止剤として式（I-1）〜式（I-8）を0.5%添加した場合と比較して減少率が大きいことがわかる。

（比較例２）
重合性液晶組成物（A）97.5質量％に光重合開始剤Irgacure-651（チバスペシャリティケミカルズ社製）2.0質量%、式（c）及び式（d）に示す低分子量タイプの酸化防止剤をそれぞれ0.5質量%添加した本発明の重合性液晶組成物（C1）及び(C2)を調製した。

次に重合性液晶組成物（C1）及び(C2)を33質量%含有するキシレン溶液を調製した。このキシレン溶液をポリイミド配向膜付きガラス基板にスピンコート（3000回転/分、30秒）した。スピンコートした基板に窒素雰囲気中で4mW/cm²の紫外線を120秒照射して、重合性液晶組成物（C1）及び(C2)を硬化させた。得られた光学異方体の加熱前の位相差及び230℃で30分加熱後の位相差を測定し、位相差の減少率を算出した。評価結果を表３に示す。表３より低分子量タイプの酸化防止剤として式（c）及び式（d）を添加したC1及びC2の位相差の減少率は8%及び17%であり、高分子量タイプの酸化防止剤として式（I-1）〜式（I-8）を0.5質量%添加した場合と比較して減少率が大きいことがわかる。

Claims

少なくとも１つ以上の水素原子がtert-ブチル基で置換されているフェノール骨格を有する分子量３００以上の酸化防止剤を含有することを特徴とする重合性液晶組成物。
酸化防止剤の含有量が０．１〜５質量％である請求項１記載の重合性液晶組成物。
請求項１記載の重合性液晶組成物及び有機溶媒を含有する重合性組成物。
一般式（I）

（式中、Pは反応性官能基を表し、Spは炭素原子数１〜２０のスペーサー基を表し、mは０又は１を表し、MGはメソゲン基又はメソゲン性支持基を表し、R⁹は、ハロゲン原子、シアノ基又は炭素原子数１〜２５のアルキル基を表すが、該アルキル基は１つ以上のハロゲン原子又はCNにより置換されていても良く、この基中に存在する１つのCH₂基又は隣接していない２つ以上のCH₂基はそれぞれ相互に独立して、酸素原子が相互に直接結合しない形で、-O-、-S-、-NH-、-N(CH₃)-、-CO-、-COO-、-OCO-、-OCOO-、-SCO-、-COS-又は-C≡C-により置き換えられていても良く、あるいはR⁹は一般式（I-a）

（式中、Pは反応性官能基を表し、Spは炭素原子数１〜２０のスペーサー基を表し、mは０又は１を表す。）で表される構造を表す。）で表される化合物を含有する請求項１記載の重合性液晶組成物。
一般式（I）において、Spはアルキレン基を表し、該アルキレン基は１つ以上のハロゲン原子又はCNにより置換されていても良く、この基中に存在する１つのCH₂基又は隣接していない２つ以上のCH₂基はそれぞれ相互に独立して、酸素原子が相互に直接結合しない形で、-O-、-S-、-NH-、-N(CH₃)-、-CO-、-COO-、-OCO-、-OCOO-、-SCO-、-COS-又は-C≡C-により置き換えられていても良い。）で表される構造を表し、MGが一般式（I-b）

（式中、A1、A2及びA3はそれぞれ独立的に、1,4-フェニレン基、1,4-シクロヘキシレン基、1,4-シクロヘキセニル基、テトラヒドロピラン-2,5-ジイル基、1,3-ジオキサン-2,5-ジイル基、テトラヒドロチオピラン-2,5-ジイル基、1,4-ビシクロ(2,2,2)オクチレン基、デカヒドロナフタレン-2,6-ジイル基、ピリジン-2,5-ジイル基、ピリミジン-2,5-ジイル基、ピラジン-2,5-ジイル基、1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-2,6-ジイル基、2,6-ナフチレン基、フェナントレン-2,7-ジイル基、9,10-ジヒドロフェナントレン-2,7-ジイル基、1,2,3,4,4a,9,10a-オクタヒドロフェナントレン2,7-ジイル基、フルオレン2,7-ジイル基を表し、該1,4-フェニレン基、1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-2,6-ジイル基、2,6-ナフチレン基、フェナントレン-2,7-ジイル基、9,10-ジヒドロフェナントレン-2,7-ジイル基、1,2,3,4,4a,9,10a-オクタヒドロフェナントレン2,7-ジイル基及びフルオレン2,7-ジイル基は置換基として１個以上のF、Cl、CF₃、OCF₃、シアノ基、炭素原子数１〜８のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、アルカノイルオキシ基、炭素原子数２〜８のアルケニル基、アルケニルオキシ基、アルケノイル基、アルケノイルオキシ基を有していても良く、Z0、Z1、Z2及びZ3はそれぞれ独立して、-COO-、-OCO-、-CH₂ CH₂-、-OCH₂-、-CH₂O-、-CH=CH-、-C≡C-、-CH=CHCOO-、-OCOCH=CH-、-CH₂CH₂COO-、-CH₂CH₂OCO-、-COO CH₂CH₂-、-OCOCH₂CH₂-、-CONH-、-NHCO-又は単結合を表し、nは０、１又は２を表す。）で表される構造を表し、Pが一般式（I-c）、一般式（I-d）又は一般式（I-e）

（式中、R⁶¹、R⁶²、R⁶³、R⁷¹、R⁷²、R⁷³、R⁸¹、R⁸²及びR⁸³はそれぞれ独立的に水素原子、ハロゲン原子又は炭素原子数１〜５のアルキル基を表し、nは０又は１を表す。）で表される置換基からなる群より選ばれる置換基を表す、請求項４記載の重合性液晶組成物。
一般式（II）

（式中、mは０又は１を表し、W¹及びW²はそれぞれ独立的に単結合、-O-、-COO-又は-OCO-を表し、Y¹及びY²はそれぞれ独立的に-COO-又は-OCO-を表し、r及びsはそれぞれ独立的に２〜１８の整数を表すが、式中に存在する1,4−フェニレン基は炭素原子数１〜７のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、シアノ基、又はハロゲン原子で一つ以上置換されていても良い。）で表される化合物を含有する請求項５記載の重合性液晶組成物。
一般式（III）

（式中、Z¹は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基又は炭素原子数１〜２０の炭化水素基を表し、Z²は水素原子又はメチル基を表し、tは０又は1を表し、A、B及びCはそれぞれ独立的に、1,4−フェニレン基、隣接しないCH基が窒素で置換された1,4−フェニレン基、1,4−シクロヘキシレン基、１つ又は隣接しない２つのCH₂基が酸素又は硫黄原子で置換された1,4−シクロヘキシレン基、1,4−シクロヘキセニレン基を表すが、式中に存在する1,4−フェニレン基は炭素原子数１〜７のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、シアノ基又はハロゲン原子で一つ以上置換されていても良く、Y³及びY⁴はそれぞれ独立的に単結合、-CH₂CH₂-、-CH₂O-、-OCH₂-、-COO-、-OCO-、-C≡C-、-CH=CH-、-CF=CF-、-（CH₂）₄-、-CH₂CH₂CH₂O-、-OCH₂CH₂CH₂-、-CH=CHCH₂CH₂-、-CH₂CH₂CH=CH-、-CH=CHCOO-、-OCOCH=CH-、-CH₂CH₂COO-、-CH₂CH₂OCO-、-COO CH₂CH₂-又は-OCOCH₂CH₂-を表し、Y⁵は単結合、-O-、-COO-、-OCO-又は-CH=CHCOO-を表す。）で表される化合物を含有する請求項５記載の重合性液晶組成物。
一般式（IV）

（式中、Z³は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基又は炭素原子数１〜２０の炭化水素基を表し、Z⁴は水素原子又はメチル基を表し、W³は単結合、-O-、-COO-又は-OCO-を表し、vは２〜１８の整数を表し、uは０又は１を表し、D、E及びFはそれぞれ独立的に、1,4−フェニレン基、隣接しないCH基が窒素で置換された1,4−フェニレン基、1,4−シクロヘキシレン基、１つ又は隣接しない２つのCH₂基が酸素又は硫黄原子で置換された1,4−シクロヘキシレン基、1,4−シクロヘキセニレン基を表すが、式中に存在する1,4−フェニレン基は炭素原子数１〜７のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、シアノ基又はハロゲン原子で一つ以上置換されていても良く、Y⁶及びY⁷はそれぞれ独立的に単結合、-CH₂CH₂-、-CH₂O-、-OCH₂-、-COO-、-OCO-、-C≡C-、-CH=CH-、-CF=CF-、-（CH₂）₄-、-CH₂CH₂CH₂O-、-OCH₂CH₂CH₂-、-CH=CHCH₂CH₂-、-CH₂CH₂CH=CH-、-CH=CHCOO-、-OCOCH=CH-、-CH₂CH₂COO-、-CH₂CH₂OCO-、-COO CH₂CH₂-又は-OCOCH₂CH₂-を表し、Y⁸は単結合、-O-、-COO-、-OCO-又は-CH=CHCOO-を表す。）で表される化合物を含有する請求項５記載の重合性液晶組成物。
ベンゼン誘導体、トリフェニレン誘導体、トルキセン誘導体、フタロシアニン誘導体又はシクロヘキサン誘導体を分子の中心の母核とし、直鎖のアルキル基、直鎖のアルコキシ基又は置換ベンゾイルオキシ基がその側鎖として放射状に置換した構造である円盤状液晶化合物を含有する請求項１記載の重合性液晶組成物。
円盤状液晶化合物が一般式（V）で表される請求項９記載の重合性液晶組成物。

（式中、R⁵はそれぞれ独立して一般式（V-a）で表される置換基を表す。

（式中、R⁶及びR⁷はそれぞれ独立的に水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を表し、R⁸は炭素原子数１〜２０アルコキシ基を表すが、該アルコキシ基中の水素原子は一般式（V-b）、一般式（V-c）又は一般式（V-d）で表される置換基によって置換されていても良い。）

（式中、R⁶¹、R⁶²、R⁶³、R⁷¹、R⁷²、R⁷³、R⁸¹、R⁸²及びR⁸³はそれぞれ独立的に水素原子、ハロゲン原子又は炭素原子数１〜５のアルキル基を表し、nは０又は１を表す。）
請求項１から１０の何れかに記載の重合性液晶組成物の重合体を含有する光学異方体。