JP2007236446A - 断層撮影装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】放射線による被曝を低減させることができる断層撮影装置を提供することを目的とする。
【解決手段】断層撮影を行う前に、受光機構13は被検体Mからの光を受光し、その受光機構13からの被検体Mに関する光学像(可視光線の陰影)に基づいて照射条件設定部6は照射条件を設定するので、従来のように照射条件の設定のための画像(すなわちスカウト画像)を取得するためにX線を照射する必要はなく、その分だけX線による被曝を低減させることができる。
【選択図】図2

Description

この発明は、医療分野や、非破壊検査,RI(Radio isotope)検査などの工業分野などに用いられる断層撮影装置に係り、特に、照射源に対して放射線の照射条件を設定する技術に関する。
従来、この種の装置として、被検体の体軸周りにX線管およびX線検出器を回転させるX線CT(Computed Tomography)装置がある。X線CT装置では、被検体に照射する放射線を低減させて、被検体のX線被曝を低減させるための機構として、CT−AEC(Auto Exposure Control:自動照射制御機構)がある。この機構は、X線CT装置による断層撮影の事前にX線を照射してスカウト画像を取得して、そのスカウト画像からX線吸収の密度マップを取得して、それに基づいて断層撮影のためのX線照射を適切に制御するものである(例えば、特許文献1〜5参照)。なお、スカウト画像は、特許文献1ではスキャノ像、特許文献2ではスカウト像、特許文献3では平面透視画像、特許文献4ではスカウト画像、特許文献5ではスキャノ像である。
特開平1−293844号公報(第1−5頁、第1−3図) 特開平11−104121号公報(第1−6頁、図1−3) 特開平11−206755号号公報(第1−6頁、図1−11,13) 特開2002−306468号公報(第1−6頁、図1,3−7) 特開2003−79611号公報(第1−11頁、図1−10)
しかしながら、これらのCT−AEC機構で用いられるスカウト画像を取得するためにX線照射を行っており、スカウト画像の収集自体においてX線被曝が生じる。そこで、かかるX線被曝をも低減させることが可能な構成が望まれる。
この発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、放射線による被曝を低減させることができる断層撮影装置を提供することを目的とする。
この発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。
すなわち、放射線を被検体に照射する照射源と、前記被検体に照射されて透過された前記放射線を検出する放射線検出手段と、照射源に対して放射線の照射条件を設定する照射条件設定手段とを備え、照射条件設定手段で設定された照射条件の下において放射線検出手段で検出される投影データの一群より断層画像を取得する断層撮影装置であって、被検体からの光を受光する受光手段を備え、受光手段からの被検体に関する光学像に基づいて照射条件設定手段は照射条件を設定することを特徴とするものである。
[作用・効果]請求項1に記載の発明によれば、被検体からの光を受光する受光手段を備えている。断層撮影を行う前に、受光手段は被検体からの光を受光し、その受光手段からの被検体に関する光学像に基づいて照射条件設定手段は照射条件を設定する。このように照射条件設定手段で設定された照射条件の下において、放射線検出手段で検出される投影データの一群より断層画像を取得する。つまり、従来の放射線照射で得られた画像(すなわちスカウト画像)の代わりに、受光手段からの被検体に関する光学像を用いて、断層撮影のための照射条件を設定するので、従来のように照射条件の設定のための画像(スカウト画像)を取得するために放射線を照射する必要はなく、その分だけ放射線による被曝を低減させることができる。
上述した発明において、光の一例は赤外線であって、光の他の一例は可視光線である。赤外線の場合には、受光手段は、被検体から発生した熱輻射による赤外線を受光する(請求項2に記載の発明)。したがって、光を照射する光源が不要である。なお、断層撮影装置は、光を被検体に照射する光源を備え、受光手段は、被検体に照射されて到達した光を受光するように構成してもよい(請求項3に記載の発明)。可視光線の場合には、上述した光源は、可視光線を被検体に照射して、受光手段は、被検体に照射されて到達した可視光線を受光する(請求項4に記載の発明)。
上述したこれらの発明において、受光手段からの被検体に関する光学像に基づいて被検体の厚みである体厚を求める体厚導出手段を備え、照射条件設定手段は、体厚に基づいて照射条件を設定してもよい(請求項5に記載の発明)。かかる体厚導出手段を備えた場合には、照射条件設定手段は、体厚に基づいて照射量の増減を設定する(請求項6に記載の発明)。例えば、体厚が薄ければ照射量を少なくして、体厚が厚ければ照射量を多くする。
この発明に係る断層撮影によれば、断層撮影を行う前に、受光手段は被検体からの光を受光し、その受光手段からの被検体に関する光学像に基づいて照射条件設定手段は照射条件を設定するので、従来のように照射条件の設定のための画像(すなわちスカウト画像)を取得するために放射線を照射する必要はなく、その分だけ放射線による被曝を低減させることができる。
以下、図面を参照してこの発明の実施例1を説明する。
図1は、実施例1に係るX線CT装置の概略斜視図であり、図2は、実施例1に係るX線CT装置の側面図およびブロック図である。
X線CT装置は、図1に示すように、可視光線照射用ガントリ1とX線照射用ガントリ2と天板3とを備えている。天板3についてはベッド状に構成されている。可視光線照射用ガントリ1とX線照射用ガントリ2とは、互いに近接して配設されているとともに、天板3を図中の矢印方向に進出させたときに、天板3に載置された被検体M(図2を参照)が可視光線照射用ガントリ1の開口部11,X線照射用ガントリ2の開口部21の順に通るように配設されている。なお、天板3は、図2に示すように被検体Mを載置し、上下に昇降移動、被検体Mの体軸Zに沿って平行移動するように構成されている。したがって、可視光線照射用ガントリ1を通過することでX線の照射条件の設定のための画像(光学像)が取得され、その後にX線照射用ガントリ2を通過することでX線の照射条件の下における断層画像が取得される。なお、可視光線が天板3によって遮蔽されないように、透光性を有する透明な部材で天板3を構成するのが好ましい。
その他にも、X線CT装置は、天板駆動部4と体厚導出部5と照射条件設定部6とメモリ部7とコントローラ8と入力部9と出力部10とを備えている。天板駆動部4は、天板3の上述した移動を行うように駆動する機構であって、図示を省略するモータなどで構成されている。
体厚導出部5は、後述する受光機構13からの被検体Mに関する光学像(本実施例1では可視光線の陰影)に基づいて被検体Mの厚みである体厚を求める。照射条件設定部6は、体厚に基づいてX線の照射量の増減を設定することでX線の照射条件を設定する。例えば、図6や図7に示すように、体厚hが薄ければX線強度Fを弱くしてX線の照射量を少なくして、体厚hが厚ければX線強度Fを強くして照射量を多くする。体厚導出部5は、この発明における体厚導出手段に相当し、照射条件設定部6は、この発明における照射条件設定手段に相当する。
メモリ部7は、RAM(Random-Access Memory)などに代表される記憶媒体で構成されている。後述する実施例2も含めて本実施例1では、メモリ部7は相関関係メモリ部7aの領域を有している。この相関関係メモリ部7aには、図6や図7に示すような体厚hとX線強度Fとの相関関係を予め記憶している。
コントローラ8は、可視光線照射用ガントリ1やX線照射用ガントリ2内の各構成や、天板駆動部4や照射条件設定部6などを統括制御する。コントローラ8は、中央演算処理装置(CPU)などで構成されている。なお、後述する実施例2も含めて本実施例1ではコントローラ8は、メモリ部7の相関関係メモリ部7aに予め記憶された上述した体厚hとX線強度Fとの相関関係に基づいて、照射条件設定部6を介して照射条件におけるX線の照射量の増減を設定するように制御する。
入力部9は、オペレータが入力したデータや命令をコントローラ8に送り込む。入力部9は、マウスやキーボードやジョイスティックやトラックボールやタッチパネルなどに代表されるポインティングデバイスで構成されている。出力部10はモニタなどに代表される表示部やプリンタなどで構成されている。
可視光線照射用ガントリ1は、上述したように開口部11を有しており、可視光投光機構12と受光機構13とを備えている。可視光投光機構12および受光機構13は、被検体Mを挟んで互いに対向配置されており、可視光線照射用ガントリ1内に埋設されている。ただし、可視光投光機構12および受光機構13付近には、可視光投光機構12から照射された可視光線が被検体Mに照射できて、かつ受光機構13が受光できるように、可視光線照射用ガントリ1の壁部に可視光線用の通過口あるいは透明な窓口をそれぞれ設ける。可視光投光機構12は、この発明における光源に相当し、受光機構13は、この発明における受光手段に相当する。
互いに対向関係を維持させたまま可視光投光機構12と受光機構13とを可視光線照射用ガントリ1内で被検体Mの体軸Z周りに回転させる。可視光投光機構12から被検体Mに照射されて到達した可視光線を受光機構13が受光して被検体Mに関する光学像を出力する。この光学像を上述した体厚導出部5に送り込む。
X線照射用ガントリ2は、上述したように開口部21を有しており、X線管22とX線検出器23とを備えている。X線管22およびX線検出器23は、被検体Mを挟んで互いに対向配置されており、X線照射用ガントリ2内に埋設されている。X線検出器23を構成する多数個の検出素子は被検体Mの体軸Z周りに扇状に並ぶ。なお、X線検出器23は、扇状に並んだ多数列の検出素子列からなるマルチ・ディテクタであってもよいし、1つの検出素子列からなるシングル・ディテクタであってもよい。X線管22は、この発明における放射線検出手段に相当し、X線検出器23は、この発明における放射線検出手段に相当する。
互いに対向関係を維持させたままX線管22とX線検出器23とをX線照射用ガントリ2内で被検体Mの体軸Z周りに回転させる。X線管22から照射されて被検体Mを透過したX線をX線検出器23が検出して電気信号に出力する。この電気信号は投影データである。この投影データを再構成して、CT用の断層画像を求める。
このようにしてX線管22からX線を照射してX線検出器23が検出して断層画像を求める断層撮影が行われる。断層撮影を行う場合には、照射条件設定部6で設定された照射条件の下においてX線管22からX線を照射して、X線検出器23で検出される投影データの一群より断層画像を取得する。
実際には、可視光線照射用ガントリ1およびX線照射用ガントリ2は、一体化して構成されている。図1に示すように、フレームf(図中の二点鎖線を参照)内で可視光線照射用ガントリ1およびX線照射用ガントリ2を配設して一体化している。
次に、可視光線を被検体Mに照射する場合での光学像について図3を参照して説明する。図3は、可視光線を被検体Mに照射して受光機構13が受光した場合を模式的に表した図である。本実施例1の場合には、可視光線が被検体Mに向けて照射されるので、被検体Mに照射される部分では可視光線は被検体Mによって遮蔽されて、被検体Mの輪郭が可視光線の陰影13Mとして受光機構13の受光面13Aに投影される。この陰影13Mが被検体Mに関する光学像に相当する。
次に、可視光線およびX線の投影角度の関係、並びに体厚との関係について、図4および図5を参照して説明する。図4(a)は、可視光線の投影角度が0°のときの照射状況を模式的に表した図であり、図4(b)は、可視光線の投影角度が0°のときの陰影13Mでの体厚hを模式的に表した図であり、図4(c)は、X線の投影角度が270°のときの照射状況を模式的に表した図であり、図4(d)は、X線の投影角度が270°のときの断層画像での体厚hを模式的に表した図である。また、図5(a)は、可視光線の投影角度が90°のときの照射状況を模式的に表した図であり、図5(b)は、可視光線の投影角度が90°のときの陰影13Mでの体厚hを模式的に表した図であり、図5(c)は、X線の投影角度が0°のときの照射状況を模式的に表した図であり、図5(d)は、X線の投影角度が0°のときの断層画像での体厚hを模式的に表した図である。図4、図5では被検体Mを人体として説明する。
ここで、所定の座標軸と可視光線あるいはX線の中心軸とのなす角度を「投影角度」あるいは「回転角度」とする。本明細書では、投影角度(回転角度)に用いられる所定の座標軸として鉛直軸を用いることにする。したがって、鉛直軸と中心軸とのなす角度を「投影角度」あるいは「回転角度」とする。つまり、中心軸と鉛直軸とが平行の場合には投影角度は0°または180°となり、中心軸と水平軸とが平行(すなわち中心軸と鉛直軸とが直交)の場合には投影角度は90°または270°となる。
図4(a)に示すように、投影角度が0°のときに可視光線を照射すると、図4(b)に示すように、そのときの陰影13Mは鉛直方向からの投影像となって、その体厚hは被検体Mの肩幅である。一方、図4(c)に示すように、投影角度が270°(−90°)のときにX線を照射すると、図4(d)に示すように、X線は被検体Mの肩を透過して、その透過幅であるパス長が被検体Mの肩幅となって、図4(b)の可視光線の投影角度が0°のときの陰影13Mでの体厚hと等しくなる。なお、投影角度が90°のときにX線を照射した場合でも、可視光線の投影角度が0°のときの陰影13Mでの体厚hとパス長は等しくなる。
したがって、投影角度が0°で可視光線を被検体Mに照射して、体厚hが被検体Mの肩幅のときの陰影13Mを取得すれば、体厚hが被検体Mの肩幅のときのX線強度F、さらにはそのX線強度のときのX線の照射量を照射条件として照射条件設定部6は設定して、その照射条件の下で投影角度が±90°でX線を被検体Mに照射して断層画像を取得することが可能である。
また、図5(a)に示すように、投影角度が90°のときに可視光線を照射すると、図5(b)に示すように、そのときの陰影13Mは水平方向からの投影像となって、その体厚hは被検体Mの腹部あるいは頭部の厚みである。一方、図5(c)に示すように、投影角度が0°のときにX線を照射すると、図5(d)に示すように、X線は被検体Mの腹部あるいは頭部を透過して、その透過幅であるパス長が被検体Mの腹部あるいは頭部の厚みとなって、図5(b)の可視光線の投影角度が90°のときの陰影13Mでの体厚hと等しくなる。なお、投影角度が180°のときにX線を照射した場合でも、可視光線の投影角度が90°のときの陰影13Mでの体厚hとパス長は等しくなる。
したがって、投影角度が90°で可視光線を被検体Mに照射して、体厚hが被検体Mの腹部あるいは頭部の厚みのときの陰影13Mを取得すれば、体厚hが被検体Mの腹部あるいは頭部の厚みのときのX線強度F、さらにはそのX線強度のときのX線の照射量を照射条件として照射条件設定部6は設定して、その照射条件の下で投影角度が0°、180°でX線を被検体Mに照射して断層画像を取得することが可能である。
以上をまとめると、可視光線の投影角度(回転角度)をαとした場合には、αが上述した0°や90°以外の一般の投影角度(0°〜360°)であっても、投影角度αで可視光線を被検体Mに照射して、そのときの体厚hでの陰影13Mを取得すれば、その体厚hでのX線強度F、さらにはそのX線強度のときのX線の照射量を照射条件として照射条件設定部6は設定して、その照射条件の下で投影角度(α±90°)でX線を被検体Mに照射して断層画像を取得することが可能である。
本実施例1のように、天板1を移動させて断層撮影を行うヘリカルスキャンを行う場合には、ある断層位置をAとすると、以下のように制御するのが好ましい。すなわち、最初に断層位置Aが可視光線照射用ガントリ1を通過したときに投影角度αで可視光線を被検体Mに照射して、その後に断層位置AがX線照射用ガントリ2を通過したときに投影角度(α±90°)でX線を被検体Mに照射するように、天板1の移動速度や、可視光投光機構12および受光機構13の回転速度や、X線管22およびX線検出器23の回転速度などを制御する。このように制御することで、1回のヘリカルスキャンで可視光線の照射による陰影13MやX線の照射による断層画像を取得することができる。もちろん、可視光線の照射・X線の照射と2回に照射を分けてヘリカルスキャンを行ってもよいし、可視光線やX線の投影角度を上述したような角度で制御せずに各々の照射で行ってもよい。
次に、体厚hとX線強度Fとの相関関係について、図6、図7を参照して説明する。図6は、体厚hとX線強度Fとの線形な相関関係を模式的に表したグラフであり、図7は、体厚hとX線強度Fとの非線形な相関関係を模式的に表したグラフである。
図6、図7に示すように、横軸に体厚hをとるとともに、縦軸にX線強度Fをとる。断層撮影よりも事前に(被検体の形状に模したボディ用の)ファントムを用意して、各々の体厚のときのX線強度Fを測定する。このとき、断層画像のS/N比などを考慮して断層画像の画質に悪影響を及ぼさない範囲で最小となるX線強度Fを求め、そのときの体厚hとを対応付ける。線形の場合には図6のようになり、非線形の場合には、図7(a)あるいは図7(b)のようになる。図6、図7に示すように、体厚hが薄ければX線強度Fを弱くしてX線の照射量を少なくして、体厚hが厚ければX線強度Fを強くして照射量を多くする。
また、同じ体厚hであっても断層位置によってはX線の吸収率が異なり、X線強度Fを吸収率に応じて変える場合には、吸収率を考慮して相関関係を求めればよい。具体的には、吸収率の異なるファントムをそれぞれ用意して、同様にX線強度Fを求め、そのときの体厚hとをファントム毎に対応付ける。そして、断層撮影を行う場合には、撮影の対象となる部位に応じて、その部位の吸収率にもっとも近い吸収率での相関関係を選択して、その選択された相関関係に基づいて照射条件設定部6はその吸収率での体厚hに基づくX線の照射量を設定すればよい。例えば肺の場合には空気を多く含んでいるのでX線が透過しやすく吸収率が小さい。この場合には、X線の照射量を少なくする。逆に腹部の場合には臓器などを含んでいるのでX線が透過しにくく吸収率が大きい。この場合には、X線の照射量を多くする
図6あるいは図7に基づいて、陰影13Mでの体厚hに対応したX線強度Fを求め、照射条件設定部6はX線の照射量を設定する。この設定された照射量である照射条件の下においてX線管22からX線を照射して、X線検出器23で検出される投影データの一群より断層画像を取得する。
次に、本実施例1での可視光線の照射による陰影13MやX線の照射による断層画像の取得の流れについて、図8を参照して説明する。図8は、実施例1での可視光線の照射による陰影13MやX線の照射による断層画像の取得の流れを示したフローチャートである。
(ステップS1)天板の移動
被検体Mを天板1に載置した状態で、天板1を可視光線照射用ガントリ1からX線照射用ガントリ2の方向に向かって移動させる。この天板1の移動はステップS2以降でも行われる。
(ステップS2)可視光線の照射
投影角度αで可視光線を可視光投光機構12から被検体Mに照射し、受光面13Aに到達した陰影13Mを受光機構13は求める。実際には、可視光投光機構12および受光機構13が被検体Mの体軸Z周りに回転するので、投影角度αが0°〜360°(あるいはC型アームによる断層撮影の場合には0°〜180°)のときの陰影Mがそれぞれ求められる。
(ステップS3)体厚の導出
体厚導出部5は陰影13Mに基づいて陰影13Mでの体厚hを求める。
(ステップS4)照射量の増減の設定
照射条件設定部6はその体厚hに基づいてX線の照射量の増減を設定することでX線の照射条件を設定する。
(ステップS5)X線の照射
ステップS2〜S4の間でも、天板1は可視光線照射用ガントリ1からX線照射用ガントリ2の方向に向かって移動している。ステップS4で設定された照射条件の下で、投影角度(α±90°)でX線をX線管22から被検体Mに照射して断層撮影を行う。実際には、X線管22およびX線検出器23が被検体Mの体軸Z周りに回転するので、投影角度(α±90°)が0°〜360°(あるいはC型アームによる断層撮影の場合には0°〜180°)のときの断層画像がそれぞれ求められる。
(ステップS6)所定の撮影範囲に達したか?
予め設定された所定の撮影範囲に天板1が達したか否かを判断する。達していなければステップS2に戻って、ステップS2〜S6を繰り返して行うことで、陰影13Mや断層画像を引き続いて取得して、達していれば一連の陰影13Mや断層画像の取得を終了する。
上述した本実施例1に係るX線CT装置によれば、被検体Mからの光を受光する受光機構13を備えている。断層撮影を行う前に、受光機構13は被検体Mからの光を受光し、その受光機構13からの被検体Mに関する光学像(本実施例1では可視光線の陰影13M)に基づいて照射条件設定部6は照射条件を設定する。このように照射条件設定部6で設定された照射条件の下において、X線検出器23で検出される投影データの一群より断層画像を取得する。つまり、従来のX線照射で得られた画像(すなわちスカウト画像)の代わりに、受光機構13からの被検体Mに関する光学像を用いて、断層撮影のための照射条件を設定するので、従来のように照射条件の設定のための画像(スカウト画像)を取得するためにX線を照射する必要はなく、その分だけX線による被曝を低減させることができる。
本実施例1では、光として可視光線を使用している。したがって、本実施例1に係るX線CT装置は、可視光線を被検体Mに照射する可視光投光機構12を備え、受光機構13は、被検体Mに照射されて到達した可視光線を受光するように構成されている。
また、後述する実施例2も含めて、本実施例1に係るX線CT装置は、受光機構13からの被検体Mに関する光学像に基づいて被検体Mの厚みである体厚hを求める体厚導出部5を備え、照射条件設定部6は、体厚hに基づいて照射条件を設定している。具体的には、照射条件設定部6は、体厚hに基づいて照射量の増減を設定する。例えば、図6、図7に示すように、体厚hが薄ければX線の照射量を少なくして、体厚hが厚ければX線の照射量を多くする。
次に、図面を参照してこの発明の実施例2を説明する。
図9は、実施例2に係るX線CT装置の側面図およびブロック図である。実施例1と共通する箇所については、同じ符号を付してその説明を省略する。
本実施例2では、X線CT装置は、実施例1の可視光線照射用ガントリ1の代わりに、赤外線用ガントリ15を備えている。上述した実施例1と同様に、図9に示すように、赤外線用ガントリ15とX線照射用ガントリ2とは、互いに近接して配設されているとともに、天板3を図中の矢印方向に進出させたときに、天板3に載置された被検体Mが赤外線用ガントリ15の開口部16,X線照射用ガントリ2の開口部21の順に通るように配設されている。
天板3や天板駆動部4や体厚導出部5や照射条件設定部6やメモリ部7やコントローラ8や入力部9や出力部10については、上述した実施例1と同じなので、その説明を省略する。
赤外線用ガントリ15は、上述したように開口部16を有しており、赤外線モニタ17を備えている。赤外線モニタ17は、被検体Mから発生した熱輻射による赤外線を受光する。赤外線モニタ17を赤外線用ガントリ15内で被検体Mの体軸Z周りで回転させる。赤外線モニタ17は、この発明における受光手段に相当する。
次に、赤外線を受光した場合での光学像について図10を参照して説明する。図10は、赤外線モニタ17が受光した場合を模式的に表した図である。本実施例2の場合には、被検体Mから発生した熱輻射による赤外線を受光するので、熱輻射による被検体Mの温度分布像17Mとして赤外線モニタ17の受光面(モニタ面)17Aに投影される。この温度分布像17Mがこの発明における被検体に関する光学像に相当する。このとき、温度分布像17Mの幅が体厚hになる。
上述した実施例1と同様に、最初に断層位置Aが赤外線用ガントリ15を通過したときに投影角度αで赤外線モニタ17が赤外線を受光して、その後に断層位置AがX線照射用ガントリ2を通過したときに投影角度(α±90°)でX線を被検体Mに照射するように、天板1の移動速度や、赤外線モニタ17の回転速度や、X線管22およびX線検出器23の回転速度などを制御するのが好ましい。なお、本実施例2の場合には、投影角度αに用いられる中心軸を、天板1の中心点と赤外線モニタ17の受光面17Aでの中心点とを結んだ軸とする。体厚hとX線強度Fとの相関関係については、上述した実施例1と同じなので、その説明を省略する。
次に、本実施例2での赤外線の受光による温度分布像17MやX線の照射による断層画像の取得の流れについて、図11を参照して説明する。図11は、実施例2での赤外線の受光による温度分布像17MやX線の照射による断層画像の取得の流れを示したフローチャートである。
(ステップS11)天板の移動
実施例1のステップS1での天板の移動と同じなので、その説明を省略する。
(ステップS12)赤外線の受光
被検体Mから発生した熱輻射による赤外線を投影角度αで赤外線モニタ17は受光して、熱輻射による被検体Mの温度分布像17Mを求める。実際には、赤外線モニタ17が被検体Mの体軸Z周りで回転するので、投影角度αが0°〜360°(あるいはC型アームによる断層撮影の場合には0°〜180°)のときの温度分布像17Mがそれぞれ求められる。
(ステップS13)体厚の導出
実施例1のステップS3での体厚の導出と同じなので、その説明を省略する。
(ステップS14)照射量の増減の設定
実施例1のステップS4での照射量の増減の設定と同じなので、その説明を省略する。
(ステップS15)X線の照射
実施例1のステップS5でのX線の照射と同じなので、その説明を省略する。
(ステップS16)所定の撮影範囲に達したか?
実施例1のステップS6での所定の撮影範囲に達したか?と同じなので、その説明を省略する。
上述した本実施例2に係るX線CT装置によれば、断層撮影を行う前に、赤外線モニタ17は被検体Mからの光を受光し、その赤外線モニタ17からの被検体Mに関する光学像(本実施例2では温度分布像17M)に基づいて照射条件設定部6は照射条件を設定するので、従来のように照射条件の設定のための画像(すなわちスカウト画像)を取得するためにX線を照射する必要はなく、その分だけX線による被曝を低減させることができる。
本実施例2では、光として赤外線を使用している。赤外線の場合には、赤外線モニタ17は、被検体Mから発生した熱輻射による赤外線を受光する。したがって、本実施例2に係るX線CT装置は、上述した実施例1のような光を照射する光源(実施例1では可視光投光機構12)が不要である。
この発明は、上記実施形態に限られることはなく、下記のように変形実施することができる。
(1)上述した各実施例では、放射線としてX線を例に採って説明したが、この発明は、X線以外の放射線(例えばγ線)による断層撮影にも適用することができる。
(2)上述した各実施例では、X線管22およびX線検出器23を収容するX線照射用ガントリ2を備え、そのX線照射用ガントリ2の開口部11に被検体Mを進入させて、X線照射用ガントリ2内でX線管22およびX線検出器23を被検体Mの体軸Z周りに回転させて断層撮影を行ったが、Cの形状に湾曲されたC型アームによってX線管22およびX線検出器23を被検体Mの体軸Z周りに回転させて断層撮影を行ってもよい。
(3)上述した各実施例では、天板1を移動させて断層撮影を行うヘリカルスキャンを例に採って説明したが、所定の断層位置に固定して断層撮影を行う撮影態様に例示されるように、撮影態様については特に限定されない。
(4)上述した実施例1では、可視光線照射用ガントリ1とX線照射用ガントリ2とを1つずつ備え、上述した実施例2では、赤外線用ガントリ15とX線照射用ガントリ2とを1つずつ備えたが、ガントリの配設態様や個数については特に限定されない。例えば、図12に示すように、可視光線照射用ガントリ1(または赤外線用ガントリ15)を2つ備え、2つの可視光線照射用ガントリ1(または赤外線用ガントリ15)でX線照射用ガントリ2を挟み込んで配設してもよい。図12では、図面から見て図中の右方向に天板1を移動させる場合には、左端の可視光線照射用ガントリ1(または赤外線用ガントリ15)で光を受光して光学像を求めた後に、中央のX線照射用ガントリ2で断層画像を求める。図中の左方向に天板1を移動させる場合には、右端の可視光線照射用ガントリ1(または赤外線用ガントリ15)で光を受光して光学像を求めた後に、中央のX線照射用ガントリ2で断層画像を求める。
(5)上述した実施例1では光として可視光線を例に採って説明し、上述した実施例2では光として赤外線を例に採って説明したが、可視光線や赤外線以外の光にも適用することができる。
(6)図13に示すように、レーザーを照射するレーザー光源18と、そのレーザーを検出することで受光するレーザー検出器19とを備えた断層撮影装置にも適用することができる。図13では、レーザー検出器19として透過型光センサを用いる。すなわち、レーザーが被検体Mによって遮蔽された場合には、レーザー光源18に対して対向位置にあるレーザー検出器19にレーザーが到達しておらず、被検体Mが存在するとレーザー検出器19は検出する。逆に、レーザーがレーザー検出器19に到達した場合には、被検体Mが存在しないとしてレーザー検出器19は検出する。図13のように、レーザー検出器19が1つの受光素子からなる場合には、被検体Mの存在しない一方の端部から他方の端部にまで、レーザー光源18およびレーザー検出器19を受光面に対して平行に移動させて走査を行う。走査後、被検体Mによって遮蔽されずにレーザー検出器19に到達したとき、および被検体Mによって遮蔽されたときのレーザー検出器19から出力された電気信号を走査方向に並べれば光学像として出力されることになる。また、被検体Mによって遮蔽された部分の走査範囲が被検体Mの体厚hになるので、各実施例のような体厚導出部5は必要でなく、レーザー検出器19からの検出結果のみで体厚hを求めることができる。レーザー光源18は、この発明における光源に相当し、レーザー検出器19は、この発明における受光手段に相当する。
(7)上述した変形例(6)では、レーザー検出器19が1つの受光素子からなる場合を例に採って説明したが、図14に示すように、レーザーが光学系(図示省略)によって扇状に拡がって照射される場合には、レーザー検出器19を複数の受光素子で構成すればよい。
(8)上述した変形例(6)では、レーザー検出器19は透過型光センサであったが、反射型光センサであってもよい。この場合には、レーザー検出器19を投光素子と受光素子とで構成して、レーザー光源18の代わりに上述した投光素子を用いる。投光素子から照射されたレーザーが被検体Mによって反射された場合には、投光素子と同じ側にある受光素子に反射光が到達するので、被検体Mが存在するとレーザー検出器19は検出する。逆に、投光素子から照射されたレーザーが受光素子に到達しない場合には、被検体Mが存在しないとしてレーザー検出器19は検出する。
実施例1に係るX線CT装置の概略斜視図である。 実施例1に係るX線CT装置の側面図およびブロック図である。 可視光線を被検体に照射して受光機構が受光した場合を模式的に表した図である。 (a)は、可視光線の投影角度が0°のときの照射状況を模式的に表した図であり、(b)は、可視光線の投影角度が0°のときの陰影での体厚を模式的に表した図であり、(c)は、X線の投影角度が270°のときの照射状況を模式的に表した図であり、(d)は、X線の投影角度が270°のときの断層画像での体厚を模式的に表した図である。 (a)は、可視光線の投影角度が90°のときの照射状況を模式的に表した図であり、(b)は、可視光線の投影角度が90°のときの陰影での体厚を模式的に表した図であり、(c)は、X線の投影角度が0°のときの照射状況を模式的に表した図であり、(d)は、X線の投影角度が0°のときの断層画像での体厚を模式的に表した図である。 体厚とX線強度との線形な相関関係を模式的に表したグラフである。 体厚とX線強度との非線形な相関関係を模式的に表したグラフである。 実施例1での可視光線の照射による陰影やX線の照射による断層画像の取得の流れを示したフローチャートである。 実施例2に係るX線CT装置の側面図およびブロック図である。 赤外線モニタが受光した場合を模式的に表した図である。 実施例2での赤外線の受光による温度分布像やX線の照射による断層画像の取得の流れを示したフローチャートである。 変形例に係るX線CT装置の側面図である。 レーザー検出器が1つの受光素子からなるときのレーザーの照射および受光状況を模式的に表した図である。 (a)、(b)は、レーザー検出器が複数の受光素子からなるときのレーザーの照射および受光状況を模式的に表した図である。
符号の説明
5 … 体厚導出部
6 … 照射条件設定部
12 … 可視光投光機構
13 … 受光機構
13M … 陰影
17 … 赤外線モニタ
17M … 温度分布像
22 … X線管
23 … X線検出器
M … 被検体

Claims (6)

  1. 放射線を被検体に照射する照射源と、前記被検体に照射されて透過された前記放射線を検出する放射線検出手段と、照射源に対して放射線の照射条件を設定する照射条件設定手段とを備え、照射条件設定手段で設定された照射条件の下において放射線検出手段で検出される投影データの一群より断層画像を取得する断層撮影装置であって、被検体からの光を受光する受光手段を備え、受光手段からの被検体に関する光学像に基づいて照射条件設定手段は照射条件を設定することを特徴とする断層撮影装置。
  2. 請求項1に記載の断層撮影装置において、前記光は赤外線であって、前記受光手段は被検体から発生した熱輻射による赤外線を受光することを特徴とする断層撮影装置。
  3. 請求項1に記載の断層撮影装置において、光を被検体に照射する光源を備え、前記受光手段は、被検体に照射されて到達した光を受光することを特徴とする断層撮影装置。
  4. 請求項3に記載の断層撮影装置において、前記光は可視光線であって、前記光源は、可視光線を被検体に照射して、前記受光手段は、被検体に照射されて到達した可視光線を受光することを特徴とする断層撮影装置。
  5. 請求項1から請求項4のいずれかに記載の断層撮影装置において、前記受光手段からの被検体に関する光学像に基づいて被検体の厚みである体厚を求める体厚導出手段を備え、前記照射条件設定手段は、体厚に基づいて照射条件を設定することを特徴とする断層撮影装置。
  6. 請求項5に記載の断層撮影装置において、前記照射条件設定手段は、前記体厚に基づいて照射量の増減を設定することを特徴とする断層撮影装置。

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