JP2007100138A - 硬質皮膜被覆部材およびその製造方法 - Google Patents
硬質皮膜被覆部材およびその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007100138A JP2007100138A JP2005288859A JP2005288859A JP2007100138A JP 2007100138 A JP2007100138 A JP 2007100138A JP 2005288859 A JP2005288859 A JP 2005288859A JP 2005288859 A JP2005288859 A JP 2005288859A JP 2007100138 A JP2007100138 A JP 2007100138A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- nitrogen
- base material
- chromium
- hard
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
【解決手段】チタンまたはチタン合金からなる母材20の表面を処理して、母材20の最大表面粗さを3μm以下にした後、処理装置10の真空処理室12内において、ターゲット22としてクロムターゲットを使用してスパッタリングすることにより、母材20上にクロム皮膜を介して窒素含有クロム皮膜を形成し、その後、表面の硬質皮膜としてDLC皮膜を形成する場合には、ターゲット22としてカーボンターゲットを使用してスパッタリングすることにより、窒素含有クロム皮膜上にDLC皮膜を形成する。
【選択図】図1
Description
まず、処理装置10のターゲット22としてクロムターゲットを使用し、真空ポンプ14を作動させて真空処理室12内の真空排気を行った後、ガス導入パイプ28を介して真空処理室12内にアルゴンガスと窒素ガスを導入して真空処理室12内をスパッタリング雰囲気にする。なお、必要に応じて、スパッタリングを行う前にイオンボンバード処理を行って、母材20の表面を活性化しておくのが好ましい。
まず、処理装置10のターゲット22としてクロムターゲットを使用し、真空ポンプ14を作動させて真空処理室12内の真空排気を行った後、ガス導入パイプ28を介して真空処理室12内にアルゴンガスを導入して真空処理室12内をスパッタリング雰囲気にする。なお、必要に応じて、スパッタリングを行う前にアルゴンガス雰囲気中でイオンボンバード処理を行って、母材20の表面をアルゴンイオンで活性化しておくのが好ましい。
上述したように母材20を窒素含有クロム皮膜IまたはIIで被覆した後、イオンエッチングを行う。次に、硬質皮膜としてDLC皮膜を形成する場合には、処理装置10のクロムターゲット22としてカーボンターゲットを使用し、真空ポンプ14を作動させて真空処理室12内の真空排気を行った後、ガス導入パイプ28を介して真空処理室12内にアルゴンガス(またはアルゴンガスと窒素ガス)を導入して真空処理室12内をスパッタリング雰囲気にする。
まず、チタンからなる母材20の表面をラッピング処理して最大表面粗さを0.8μmにした。このラッピング処理後の母材20の表面のビッカース硬度Hvは約280であった。このようにラッピング処理したチタンからなる母材20を用意し、ターゲット22としてクロムターゲットを使用する処理装置10の真空処理室12に母材20を入れ、この真空処理室12内を2×10−2torrのアルゴンガス雰囲気中として1250V×0.01mAでイオンボンバード処理を約40分間施して、母材20の表面を活性化した。
窒素含有クロム皮膜Iを形成しなかった以外は、実施例1と同様の方法により、母材20上に厚さ5μmのDLC皮膜を形成した。
実施例1と同様に母材20の表面を活性化した後、ターゲット22としてクロムターゲットを使用する処理装置10の真空処理室12内の雰囲気中のアルゴンガスの分圧を1.2×10−3torr、バイアス電圧を−100Vとして、スパッタリングを約7分間行って、母材20上に硬度Hv700程度、厚さ1μm弱のクロム皮膜を形成した。
窒素含有クロム皮膜IIを形成しなかった以外は、実施例2と同様の方法により、母材20上に厚さ5μmのCrN皮膜を形成した。
実施例2と同様の方法により、母材20上に厚さ20μmの窒素含有クロム皮膜IIを形成した後に、実施例1と同様の方法により、厚さ5μmのDLC皮膜を形成した。
チタン合金(Ti−6Al−4V)からなる母材20の表面をラッピング処理し、最大表面粗さを0.7μm(表面のビッカース硬度Hvは350)とした後、実施例3と同様の方法により、母材20上に厚さ20μmの窒素含有クロム皮膜IIおよび厚さ5μmのDLC皮膜を形成した。
窒素含有クロム皮膜IIの成膜時間を1/2にして窒素含有クロム皮膜IIの膜厚を10μmにした以外は、実施例3と同様の方法により、窒素含有クロム皮膜IIおよびDLC皮膜を形成した。
ラッピング処理を行わなかった以外は実施例1と同様の母材(最大表面粗さ4μm)を使用し、実施例3と同様の方法により、窒素含有クロム皮膜IIおよびDLC皮膜を形成した。
12 真空処理室
14 真空ポンプ
16 回転テーブル
18 治具
20 母材
22 ターゲット
24 スパッタ電源
26 イオンボンバードおよびバイアス電源
28 ガス導入パイプ
Claims (15)
- チタンまたはチタン合金からなる母材の表面を処理して最大表面粗さを3μm以下にし、その母材上に窒素含有クロム皮膜を形成した後、この窒素含有クロム皮膜上に硬質皮膜を形成することを特徴とする、硬質皮膜被覆部材の製造方法。
- 前記母材の表面を処理した後の表面のビッカース硬度Hvが280〜420であることを特徴とする、請求項1に記載の硬質皮膜被覆部材の製造方法。
- 前記硬質皮膜が、ダイヤモンドライクカーボン皮膜、窒化クロム皮膜、炭化クロム皮膜またはTiAlN皮膜であることを特徴とする、請求項1または2に記載の硬質皮膜被覆部材の製造方法。
- 前記ダイヤモンドライクカーボン皮膜が、カーボンターゲットを使用してスパッタリングすることによって形成されることを特徴とする、請求項3に記載の硬質皮膜被覆部材の製造方法。
- 前記窒素含有クロム皮膜が、クロムターゲットを使用してアルゴンと窒素を含む雰囲気中でスパッタリングすることによって形成されることを特徴とする、請求項1乃至4のいずれかに記載の硬質皮膜被覆部材の製造方法。
- 前記母材上に窒素含有クロム皮膜を形成する前に、前記母材上にクロム皮膜を形成し、その後、前記窒素含有クロム皮膜を形成することを特徴とする、請求項1乃至5のいずれかに記載の硬質皮膜被覆部材の製造方法。
- 前記窒素含有クロム皮膜が、窒素および窒化クロムの少なくとも一方がクロム皮膜中に略均一に分散した皮膜であることを特徴とする、請求項1乃至6のいずれかに記載の硬質皮膜被覆部材の製造方法。
- 前記窒素含有クロム皮膜が、クロム皮膜中の膜厚方向中央部の窒素濃度がその両側の部分の窒素濃度より高い皮膜であることを特徴とする、請求項1乃至6のいずれかに記載の硬質皮膜被覆部材の製造方法。
- 最大表面粗さが3μm以下であるチタンまたはチタン合金からなる母材上に、窒素含有クロム皮膜が形成され、この窒素含有クロム皮膜上に硬質皮膜が形成されていることを特徴とする、硬質皮膜被覆部材。
- 前記母材の表面のビッカース硬度Hvが280〜420であることを特徴とする、請求項9に記載の硬質皮膜被覆部材。
- 前記硬質皮膜が、ダイヤモンドライクカーボン皮膜、窒化クロム皮膜、炭化クロム皮膜またはTiAlN皮膜であることを特徴とする、請求項9または10に記載の硬質皮膜被覆部材。
- 前記母材と前記窒素含有クロム皮膜の間にクロム皮膜が形成されていることを特徴とする、請求項9乃至11のいずれかに記載の硬質皮膜被覆部材。
- 前記窒素含有クロム皮膜が、窒素および窒化クロムの少なくとも一方がクロム皮膜中に略均一に分散した皮膜であることを特徴とする、請求項9乃至12のいずれかに記載の硬質皮膜被覆部材。
- 前記窒素含有クロム皮膜が、クロム皮膜中の膜厚方向中央部の窒素濃度がその両側の部分の窒素濃度より高い皮膜であることを特徴とする、請求項9乃至12のいずれかに記載の硬質皮膜被覆部材。
- 前記窒素含有クロム皮膜の厚さが25μm以下であることを特徴とする、請求項9乃至14のいずれかに記載の硬質皮膜被覆部材。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005288859A JP4848546B2 (ja) | 2005-09-30 | 2005-09-30 | 硬質皮膜被覆部材およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005288859A JP4848546B2 (ja) | 2005-09-30 | 2005-09-30 | 硬質皮膜被覆部材およびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007100138A true JP2007100138A (ja) | 2007-04-19 |
JP4848546B2 JP4848546B2 (ja) | 2011-12-28 |
Family
ID=38027366
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005288859A Active JP4848546B2 (ja) | 2005-09-30 | 2005-09-30 | 硬質皮膜被覆部材およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4848546B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10181603B2 (en) | 2014-09-19 | 2019-01-15 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Manufacturing method of separator for fuel cell |
US10199661B2 (en) | 2015-04-13 | 2019-02-05 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Fuel cell separator and manufacturing method of fuel cell separator |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6144172A (ja) * | 1984-08-09 | 1986-03-03 | Mansei Kogyo Kk | 装飾品 |
JP2000008155A (ja) * | 1998-06-25 | 2000-01-11 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 硬質炭素膜被覆部材 |
JP2000117681A (ja) * | 1998-10-15 | 2000-04-25 | Mishima Kosan Co Ltd | セラミックコーティング刃物及びその製造方法 |
JP2002030413A (ja) * | 2000-07-19 | 2002-01-31 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 薄膜形成装置および薄膜形成方法 |
JP2004169137A (ja) * | 2002-11-21 | 2004-06-17 | Hitachi Ltd | 摺動部材 |
-
2005
- 2005-09-30 JP JP2005288859A patent/JP4848546B2/ja active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6144172A (ja) * | 1984-08-09 | 1986-03-03 | Mansei Kogyo Kk | 装飾品 |
JP2000008155A (ja) * | 1998-06-25 | 2000-01-11 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 硬質炭素膜被覆部材 |
JP2000117681A (ja) * | 1998-10-15 | 2000-04-25 | Mishima Kosan Co Ltd | セラミックコーティング刃物及びその製造方法 |
JP2002030413A (ja) * | 2000-07-19 | 2002-01-31 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 薄膜形成装置および薄膜形成方法 |
JP2004169137A (ja) * | 2002-11-21 | 2004-06-17 | Hitachi Ltd | 摺動部材 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10181603B2 (en) | 2014-09-19 | 2019-01-15 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Manufacturing method of separator for fuel cell |
US10199661B2 (en) | 2015-04-13 | 2019-02-05 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Fuel cell separator and manufacturing method of fuel cell separator |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4848546B2 (ja) | 2011-12-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4085699B2 (ja) | 摺動部材及びその製造方法 | |
JP3590579B2 (ja) | ダイヤモンド被覆部材およびその製造方法 | |
US7563509B2 (en) | Article with protective film | |
EP1598441B1 (en) | Amorphous carbon film and process for producing the same | |
JP2009167512A (ja) | 摺動部品用ダイヤモンドライクカーボン皮膜およびその製造方法 | |
JP4848545B2 (ja) | 硬質皮膜被覆部材およびその製造方法 | |
KR101750171B1 (ko) | 경질 미끄럼 이동 부재의 제조 방법 | |
CN110004409B (zh) | 具有高硬度和高结合力的CrAlN纳米梯度涂层及其制备工艺 | |
JP7382124B2 (ja) | 改良されたコーティングプロセス | |
JP5145051B2 (ja) | 硬質皮膜被覆部材及びその製造方法 | |
JP4449187B2 (ja) | 薄膜形成方法 | |
CN114231926A (zh) | 一种可延长切削刀具寿命的涂层及其制备方法 | |
JP4984206B2 (ja) | ダイヤモンドライクカーボン皮膜被覆部材およびその製造方法 | |
JP4669992B2 (ja) | 窒素含有クロム被膜、その製造方法及び機械部材 | |
JP4848546B2 (ja) | 硬質皮膜被覆部材およびその製造方法 | |
JP2004137541A (ja) | Dlc傾斜構造硬質被膜及びその製造方法 | |
JP2006161075A (ja) | 硬質炭素膜およびその形成方法 | |
JP4852746B2 (ja) | 窒素含有クロム被膜、その製造方法及び機械部材 | |
JP5924908B2 (ja) | 硬質皮膜被覆部材の製造方法 | |
JP2003247006A (ja) | 超硬質膜被覆部材及びその製造方法 | |
JP2003175406A (ja) | 硬質被膜被覆加工工具 | |
US20240011145A1 (en) | Molybdenum nitride based multilayer coating for wear and friction reduction | |
JP2005187927A (ja) | 窒化クロム膜形成方法および被覆材 | |
JP4257425B2 (ja) | 新規な無機化合物、それを用いた超硬材料及びその製造方法 | |
JP6749134B2 (ja) | 基材とdlc層との間に形成される中間層の形成方法およびdlc膜被覆部材の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080827 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100924 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20101019 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101209 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110906 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20110927 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110928 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20110927 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4848546 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141028 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |