JP2007052900A - 選択された金属酸化物を含み、厚さを低減させた交換ブレーク層上に形成された記録層を有する垂直磁気記録ディスク - Google Patents
選択された金属酸化物を含み、厚さを低減させた交換ブレーク層上に形成された記録層を有する垂直磁気記録ディスク Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007052900A JP2007052900A JP2006208062A JP2006208062A JP2007052900A JP 2007052900 A JP2007052900 A JP 2007052900A JP 2006208062 A JP2006208062 A JP 2006208062A JP 2006208062 A JP2006208062 A JP 2006208062A JP 2007052900 A JP2007052900 A JP 2007052900A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- recording layer
- recording
- disk
- underlayer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 title claims abstract description 65
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 title 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 title 1
- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 claims abstract description 22
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 20
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims abstract description 20
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims abstract description 19
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims abstract description 19
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims abstract description 19
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 15
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims abstract description 15
- 229910000531 Co alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 11
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 20
- 230000005290 antiferromagnetic effect Effects 0.000 claims description 14
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 12
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 12
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 8
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 8
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 230000006911 nucleation Effects 0.000 claims description 5
- 238000010899 nucleation Methods 0.000 claims description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 5
- 229910001030 Iron–nickel alloy Inorganic materials 0.000 claims description 4
- -1 CoNiFe Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910005435 FeTaN Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 230000007704 transition Effects 0.000 claims description 3
- 229910003321 CoFe Inorganic materials 0.000 claims 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 42
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 11
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 9
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 5
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 4
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910000684 Cobalt-chrome Inorganic materials 0.000 description 3
- 241001455617 Sula Species 0.000 description 3
- 239000010952 cobalt-chrome Substances 0.000 description 3
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 3
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 3
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 3
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017150 AlTi Inorganic materials 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019222 CoCrPt Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910019236 CoFeB Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910018979 CoPt Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000929 Ru alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000000609 electron-beam lithography Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 1
- 230000005389 magnetism Effects 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 238000005546 reactive sputtering Methods 0.000 description 1
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 1
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N tantalum pentoxide Inorganic materials O=[Ta](=O)O[Ta](=O)=O PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004627 transmission electron microscopy Methods 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/64—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent
- G11B5/66—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent the record carriers consisting of several layers
- G11B5/676—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent the record carriers consisting of several layers having magnetic layers separated by a nonmagnetic layer, e.g. antiferromagnetic layer, Cu layer or coupling layer
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/73—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
- G11B5/7368—Non-polymeric layer under the lowermost magnetic recording layer
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/73—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
- G11B5/7368—Non-polymeric layer under the lowermost magnetic recording layer
- G11B5/7369—Two or more non-magnetic underlayers, e.g. seed layers or barrier layers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/73—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
- G11B5/7368—Non-polymeric layer under the lowermost magnetic recording layer
- G11B5/7369—Two or more non-magnetic underlayers, e.g. seed layers or barrier layers
- G11B5/737—Physical structure of underlayer, e.g. texture
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/64—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent
- G11B5/66—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent the record carriers consisting of several layers
- G11B5/676—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent the record carriers consisting of several layers having magnetic layers separated by a nonmagnetic layer, e.g. antiferromagnetic layer, Cu layer or coupling layer
- G11B5/678—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent the record carriers consisting of several layers having magnetic layers separated by a nonmagnetic layer, e.g. antiferromagnetic layer, Cu layer or coupling layer having three or more magnetic layers
Abstract
【課題】垂直磁気記録システムでは、望ましいヘッド−軟磁性下地層(SUL)間隔を得るために、薄い交換ブレーク層(EBL)が用いられる。しかしながら、EBLの厚さを薄くすることは記録には好ましいが、EBLの厚さはそのc軸が垂直になるようにhcpコバルト合金記録層(RL)を成長させるテンプレートを設けるのに十分でなければならない。さらに、EBLは、高いHcと固有のノイズを最小限にするのに十分な粒子内交換結合をもたらすだけの厚さをもっていなければならない。
【解決手段】垂直磁気記録ディスクは、基板の上部に、軟磁性下地層(SUL)と、選択された金属(Ta又はNb)の酸化物を含む粒状Co系強磁性合金の記録層(RL)を有し、さらに記録層(RL)と軟磁性下地層(SUL)との間に厚さが小さな交換ブレーク層(EBL)を有する。交換ブレーク層(EBL)の厚さは、8nmより大きく14nm未満である
【選択図】図4
【解決手段】垂直磁気記録ディスクは、基板の上部に、軟磁性下地層(SUL)と、選択された金属(Ta又はNb)の酸化物を含む粒状Co系強磁性合金の記録層(RL)を有し、さらに記録層(RL)と軟磁性下地層(SUL)との間に厚さが小さな交換ブレーク層(EBL)を有する。交換ブレーク層(EBL)の厚さは、8nmより大きく14nm未満である
【選択図】図4
Description
本発明は一般的には垂直磁気記録媒体に関するものであり、より具体的には磁気記録ハード・ディスク・ドライブで使用する垂直磁気記録層を有するディスクに関するものである。
記録されたビットが記録層で垂直方向あるいは面外方向に記憶される垂直磁気記録は、磁気記録ハード・ディスク・ドライブにおける超高記録密度を実現するための有望な方法である。一般的なタイプの垂直磁気記録システムは「二重層」媒体を使用するものである。単一記録磁極タイプの記録ヘッドを有するこのタイプのシステムを図1に示す。二重層媒体は「軟磁性下地層」あるいは比較的低保磁力磁気透過性下地層(SUL)上に形成された垂直記録層(RL)を含んでいる。このSULは記録磁極から記録ヘッドのリターン磁極までのフィールドの磁束リターン経路として機能する。図1で、RLは垂直方向に記録された領域、あるいは磁化された領域を示しており、隣接領域は矢印で示すように反対の磁化方向を有している。隣接する反対方向に磁化された領域間の磁気転移は再生要素あるいはヘッドによって記録済みビットとして検出することができる。
図2は、先行技術に基づく垂直磁気記録ディスクの断面図であり、記録層RL上に記録フィールドHwを示している。このディスクは、ハード・ディスク基板、SULを成長させるためのシード層又は初期層(OL)、SULの磁気透過性膜とRL間の磁気交換結合をブレーク(中断)し、RLのエピタキシャル成長を促進するための非磁***換ブレーク層(EBL)と、そして、保護膜(OC)も含んでいる。図2に示すように、RLは「見かけ」記録ヘッド(ARH)のギャップ内に位置しており、これは縦方向あるいは面内記録と比較してかなり高い記録フィールドを可能にする。ARHは、ディスク上の実際の記録ヘッド(RWH)の磁極とRL下方の有効二次記録磁極(SWP)を含んでいる。SWPは、EBLによりRLから切り離されたSULによって容易になり、その高い透過性によって書き込みプロセス中にRWHの磁気的鏡像をつくりだす。これはRLを効果的にARHのギャップ内に移動させ、RL内に大きな記録フィールドHwを可能にする。
RLの素材の1つは、CoPtCr合金などの粒状の強磁性コバルト合金であり、六方最密(hcp)結晶構造を有する。六方最密結晶構造は、c軸が概ね面外方向、あるいはRLに対して垂直な方向に向いている。この粒状コバルト合金RLは、高保磁力(Hc)媒体をつくりだし、高い固有媒体ノイズに関与する粒子内交換結合を低減するための良く隔離された微粒子構造を有している。従って、粒子境界に沈降するSi、Ta及びNbなどの酸化物を添加することでコバルト合金RL内での粒子分離を向上させることが提唱されている。
RLが、それぞれ垂直な磁気異方性を有し、反強磁性(AF)結合層で分離された2つの強磁性の反強磁性結合(AFC)記録層である垂直磁気記録媒体も提唱されている。図3に示すように、このAF結合層は、AFC RLの各磁化領域内の2つの強磁性層間の逆平行磁化方向によって、上記2つの強磁性層間に垂直強磁***換結合する。上側の強磁性層は、通常、それをより厚くすることで、下側の強磁性層より高い磁気モーメントを有するように形成されるので、AFL RLは磁場がない場合に正味の磁気モーメントを有する。このタイプの媒体においては、特許文献1に述べられているように、第1強磁性層あるいは下部強磁性層と第2強磁性層あるいは上部強磁性層の両方は、CoPtCr合金などの粒状コバルト合金によって形成されており、hcp結晶構造は有しているが、酸化物は含んでいる場合と含まない場合がある。
酸化物を含んでいる、あるいは含まないコバルト合金AFC RLなどのコバルト合金RLは、蒸着中にその層の平面に垂直に成長するhcp結晶構造のc軸により、面外あるいは垂直な磁化異方性を有している。Hcp RLのこうした成長を誘発させるためには、その上にRLが形成されるEBLもhcp物質であることが必要である。AFC RLによる垂直磁気記録装置においては、AFC RLの下層の垂直な磁化異方性を誘発させるために、EBLもhcp結晶構造を有している。図2には示していないが、通常、EBLを成長させやすくするために、SUL上に直接蒸着される。
例えば、1平方インチあたり200ギガビットなどの超高密度で高性能垂直磁気記録ディスクを作成するためには、RLは低い固有媒体ノイズ(高い信号対ノイズ比、あるいはSNR)、5000(Oe)以上の保磁力、そして、約−1500(Oe)より大きな(よりマイナスの)核形成フィールドHnを有していなければならない。核形成フィールドHnはいろいろな意味を有しているが、ここでは反転フィールドを意味し、好ましくはM-Hヒステリシス・ループの第2象限での反転フィールドを意味し、ここで磁化がその飽和値Msと比較して90%に低下する。核形成フィールドがよりマイナスであればある程、残留磁気状態がより安定する。それは、磁化後によりおおきな反転フィールドを必要とするためである。
SiO2が添加されたCoPtCr粒状合金のRLによる垂直磁気記録媒体については、非特許文献1に述べられている。このRLは約4000(Oe)のHcと−700(Oe)のHnであった。Ta2O5を添加したCoPt粒状合金による垂直磁気記録媒体については、非特許文献2に述べられている。このRLはHcがほぼ3000(Oe)であった。
垂直磁気記録システムにおいては、記録媒体は記録ヘッドの部分であり、従って、図2に示すように、単一記録磁極を有するシステム用のヘッド設計に合ったものでなければならない。単一記録磁極ヘッドの場合、記録磁束を集中させて記録フィールドを最大限化するために記録磁極−SUL間隔を最小限にすることが好ましい。このシステムにおいては、最良の記録角度を得るために、記録磁極からトレーリングシールドの距離は、記録磁極−SUL間隔と合致させなければならない。両方のシステムで、望ましいヘッド−SUL間隔を得るために薄いEBLが用いられる。しかしながら、EBLの厚さを薄くすることは記録には好ましいが、EBLの厚さはそのc軸が垂直になるようにhcpコバルト合金RLを成長させるテンプレートを設けるのに十分でなければならない。さらに、EBLは、高いHcと固有のノイズを最小限にするのに十分な粒子内交換結合をもたらすだけの厚さをもっていなければならない。Si酸化物を含むRLに必要なEBLの厚さは通常、約20nmよりは大きい。非特許文献2T. Chibaらによる上の論文に報告されているTa酸化物を含んだRLは、厚さが15nmのRu EBLを有している。
必要とされるものは、CoPtCr粒状合金RLによる、記録性能が最適な薄いEBLを有する、高性能な超高記録密度垂直磁気記録ディスクである。
必要とされるものは、CoPtCr粒状合金RLによる、記録性能が最適な薄いEBLを有する、高性能な超高記録密度垂直磁気記録ディスクである。
本発明は、選択した金属の酸化物を含む記録層(RL)と、厚さを小さくした交換ブレーク層(EBL)を有する垂直磁気記録ディスクであり、また、上記のディスク、記録ヘッド、及び再生ヘッドを含む垂直磁気記録システムである。このディスクは、改良された記録可能性(書き込み可能性)と高い再生信号振幅を有している。このRLは、TaとNbのうちの1つ以上の酸化物を含む粒状Co系強磁性合金である。RLが成長されるEBLは、Ta及びNb以外の分離体酸化物を有するRLにとっての必要最低限のEBL厚さよりかなり小さな厚さを有している。1つの実施の形態において、RLは、Siなどの他の分離体酸化物のRLに同等のHc及びHnを有している。
1つの実施の形態によるディスクでは、Crの1つ以上の酸化物と、選択された単一の分離体、TaかNbの1つ以上の酸化物で構成される粒界物質によるCoPtCr強磁性合金であり、RL内の酸素の量が約22−35原子パーセントである。この実施の形態では、EBLは、厚さが8nm以上、14nm未満のRuである。このディスクの保磁力は、Hcが5000(Oe)、Hnが−1500(Oe)以上である。対照的に、同様の構造を有しているがTaあるいはNbの代わりに分離体としてSiを用いた比較用のディスクは、Hc及びHnは同様の値を示すが、Ru EBLの厚さは約21nmであることを必要とする。EBLの厚さを小さくしたことで改良された記録性に加えて、本発明のディスクは、比較用のディスクと比較してかなり優れたSNR、より高い再生信号振幅、そしてより良いエラー率を有している。
以下の詳細な説明と図面を参照すれば、本発明の性質と利点をよりよく理解することができるであろう。
以下の詳細な説明と図面を参照すれば、本発明の性質と利点をよりよく理解することができるであろう。
本発明によれば、優れたSNR、より高い再生信号振幅、そしてより良いエラー率を有する垂直磁気記録ディスクを提供することができる。
図4に本発明の実施例による垂直磁気記録ディスクを示す。構造は、RLの組成と、それに関連したEBLの厚さが小さくなっていることを除いて、図2の先行技術に基づく構造と同様である。
図4で、ディスクを構成する種々の層がハード・ディスク基板上に配置されている。この基板は市販されているガラス基板であってもよいし、通常のアルミニウム合金基板で表面がNiPあるいは珪素、カナサイト、カーボランダム(炭化珪素)などその他公知のもので表面を被覆されているものであってもよい。SULは直接基板上に、あるいは直接接着層あるいは初期層(OL)上に配置される。OLはSULの成長を容易にするもので、AlTi合金あるいは同様の物質であってよく、厚さは約2−5ナノメートル(nm)の範囲である。SULは積層あるいは多層構造で、SULaとSULbとの間の強磁***換結合を緩和するための反強磁性(AF)結合薄膜として機能する層間薄膜(Ru、Ir、あるいはCrなど)で分離された複数の軟磁性層(SULa及びSULb)で構成されている。このタイプのSULについては特許文献2(米国特許第6,868,070号明細書)及び特許文献3(米国特許第6,835,475号明細書)に開示されている。SULは単層であってもよい。また、SULはSiNなどの薄膜、あるいはAlあるいはCoCrなどの導電性薄膜などの非磁性薄膜によって分離された複数の軟磁性層で形成される積層あるいは多層SULであってもよい。1つあるいは複数のSUL層はCoNiFe、FeCoB、CoCuFe、NiFe、FeAlSi、FeTaN、FeN、FeTaC、CoTaZr、CoFeB及びCoZrNbなどの合金など、アモルファス性かつ透磁性の物質で形成されている。SULの厚さは通常50−400nmである。RL上に形成されるOCは、アモルファス性の「ダイアモンド状」炭素膜あるいは窒化珪素その他の公知の保護膜などである。
SUL上の非磁性EBLは、粒状性RL内でのhcp結晶方向を制御する六方最密(hcp)結晶構造を有する非磁性物質あるいは合金である。EBLは、hcp粒状RLの成長を促進してそのc軸がほぼ垂直方向を向くようにし、それによって垂直磁気異方性を得ることができる。ルテニウム(Ru)は、EBL用に一般的に用いられている素材であるが、Ti,Re及びOsのいずれか1つの金属、そして、Ru系合金などTi,Re,Ru及びOsのいずれかを少なくとも1つ含む合金もその素材として利用可能である。RuをEBLとして用いる場合は、NiFeの1−2nm厚の層、あるいはNiVかNiWの2−4nm厚の層などのSUL上に形成されるシード層(SL)上に直接形成することができる。本発明の好ましい実施の形態では、EBLは、厚さが15nm未満のRuであり、好ましくは厚さが8nmより大きく、14nm未満である。
RLは、粒状強磁性Co合金であり、その粒状強磁性Co合金は、内部粒状物質は1つ以上のM分離体(MはTaかNa)の1つ以上の酸化物で構成されている。好ましくは、上記粒子間物質内の1つまたは複数のM酸化物は1つの元素の酸化物、つまりTa酸化物かNb酸化物のいずれかである。RLは、Crを含み、Crの1つ又は複数の酸化物が粒子間物質として含まれていてもよい。
RL内でTaあるいはNbを用い、さらに異なった厚さのRu EBLを用いたスパッター蒸着で種々のテスト用ディスクを製造した。これらのテスト用ディスクの記録特性を基本的に同じディスクと比較した。ただし、TaあるいはNbの代わりにSiを記録層に用い、Ru EBLが厚さの範囲を広くしたことは除く。これらのディスクは図4に示したのと同様の構造を有しており、SULa及びSULbとしてのCoTaZr層の厚さは75nm、AF結合膜としてのRu層の厚さは0.7nm、Ru EBLを成長させるためのSLとしてのNiVの厚さは2−4nmの範囲、そして、RLの厚さは14nmであった。
RLは、Unaxis Triatron(登録商標)のマルチターゲット・スパッタリング・ソースを用いて、Ar/O2ガス混合物内で、反応性スパッタリングを行うことによってつくられた。スパッタリング・ソースは、図5に示すとおり3つの同心円の標的を有しており、それぞれの標的は独自の電源を備えている。種々の組成物を作成するために、内側の標的はテスト・ディスク用のTa2O5かNb2O5、あるいは比較用ディスクのためのSiO2とした。中央の標的はCrPt合金(例えば、Cr60Pt40、Cr52Pt48、あるいはCr56Pt44。ここで下付の数字は%を示す)であり、外側の標的はCoであった。Co/CoCrPt、CpCr/Pt、CoCr/Cr、及びCoCr/PtなどのCoPtCr合金をつくるための他の標的構成でも同様の結果が得られた。RLの代表的な組成はTa酸化物による4つのテスト用ディスクに関してはCo49-Pt11-Cr10-Ta3-O27、Si酸化物による比較用ディスクの場合はCo49-Pt11-Cr11-Si4-O25であった。従って、Ta酸化物によるテスト用ディスクとSi酸化物による比較用ディスクは同じ厚さ(14nm)のRLと、基本的に同じ量の分離体及び酸素を有していた。
図6はTa酸化物による4つのテスト・ディスクとSi酸化物による3つの比較用ディスクの場合の、Ru EBL厚の関数としての1インチあたり530,000磁束変化(kfci)の線形記録密度でのSNR(dB)を示すグラフである。21nm厚Ru EBLを有するSi酸化物による比較用ディスクは5580(Oe)のHcと−1700(Oe)のHnを有していた。対照的に、Ru EBL厚が10−13nmの範囲のTa酸化物による3つのテスト用ディスクでは、ほぼ同じSNRを有し、Hcは5330(Oe)そしてHnは−1730(Oe)であった。
図7はTa酸化物によるテスト用ディスク(13nm厚Ru EBL)及びSi酸化物による比較用ディスク(21nm厚Ru EBL)の場合の記録電流の関数としての正規化再生信号の比較を示す図である。図7は、Ta酸化物によるテスト用ディスクの改良された書き込み可能性(記録性)を示している。Ta酸化物によるRLは、約20mAの記録電流で飽和磁化を達成するが、Si酸化物による比較用ディスクでは約40mAで飽和磁化で達成する。記録電流がより低いということは、より小さな記録フィールドで書き込みを行うことができ、記録ヘッドをより小さくすることができるということを意味している。
図8は、4つのTa酸化物テスト用ディスクの場合と、21nm厚のRu EBLを有するSi酸化物による比較用ディスクの場合の注入ファクターの関数としての再生信号振幅を示すグラフである。再生信号は注入ファクターに比例しており、注入ファクターはRL厚さで占められるヘッド−SUL間の全間隔の一部である。Ru EBLが10−13nmの範囲のRu EBLを有するTa酸化物によるディスクは、Ru EBLの厚さが21nmであるSi酸化物によるディスクより20%高い再生信号振幅を有している。
図9は、Ru EBLの厚さが21nmのSi酸化物によるディスクと比較しての、EBLの厚さが13nmのTa酸化物によるディスクの場合の改良されたバイト・エラー率を示している。
透過電子顕微鏡(TEM)分析で調べたところ、13nm厚のRu EBLを有するTa酸化物によるディスクの場合の平均的なRL粒子サイズは、21nm厚のRu EBLを有するSi酸化物と比較してかなり小さかった(約6.0nm対7.1nm)。粒子サイズが小さいと、RL内の磁化領域間の磁気転移を促進し、再生信号の質を改善してくれる。
上に述べたデータは、Ta酸化物によるテスト用ディスクに関するものであるが、一般的組成がCo50-Pt11-Cr11-Nb3-O25の Nb酸化物によるテスト用ディスクでも、同様の結果が得られた。従って、本発明はRLにNb酸化物を有し、EBLがかなり薄い垂直磁気記録媒体にも適用可能である。上に述べたデータは、Ruで形成されたEBLに関するものである。しかしながら、本発明はTi、Re、及びOs,そしてRu系合金を含むTi、Re、Ru及びOsの少なくとも1つの元素を含む合金などのその他の非磁性hcp素材で形成されるEBLを備えた垂直磁気記録媒体にも適用できる。
上に述べたデータは、酸素の含有量が比較的高い粒状のCo-Pt-Cr-M-OsのRLを有するテスト用ディスクによるもので、酸素は酸化物標的とAr/O2スパッタリング・ガス混合物の両方によって得られたものである。RL内の酸素の量は化学量論的M-Oを形成するのに必要な量よりかなり大きいので、粒子間ではかなりの量のCr酸化物も形成される。Ta酸化物、Nb酸化物、あるいはSi酸化物によるRLを用い、これら酸化物の含有レベルをかなり高くすることで、超高密度記録に必要なHc及びHnの値を実現することが示された。約5000(Oe)以上のHcと約−1500(Oe)より(マイナス方向で)大きなHnを有するRLをつくりだす酸素含有量範囲は約22−35原子パーセントと判定された。これら高酸素RLの場合の分離帯の最適範囲はSiの場合は約2−9%、Taの場合は2−5%、そしてNbの場合は2−5%であると判定した。従って、上のデータは、これら高酸素Ta酸化物あるいはNb酸化物のRLがSi酸化物による高酸素RLと同等のHc及び/又はHnを有すると同時に、EBLの厚さがかなり小さくなっていることを示している。しかしながら、本発明は、こうした酸素含有量が比較的高いRLだけに限定されるものではない。本発明は、Hc及Hnの値がより低いTa酸化物あるいはNb酸化物によるRLによるディスクにも適用可能である。それは、そうしたディスクはHc及び/又はHnの値は同等であるがTaあるいはNb以外の分離体の酸化物を有するRLを持つディスクに必要なEBLより、EBLの厚さが小さくなっているからである。
図4に示すように、上のデータは単層RLに関するものである。RLは図3に示すタイプや、さらに上に引用した特許文献1(米国特許第6,815,082号明細書)にも開示されているようなタイプのAFC RLであってもよい。AFC RLを用い、厚さを低減させたEBLを有する実施の形態では、少なくとも上側の強磁性層、あるいは上側と下側の両方の強磁性層がTaあるいはNbを含んでいる。
本発明について、好ましい実施の形態を参照して、具体的に示し説明したが、本発明の精神を逸脱せずに形状や詳細において種々の変更が可能であることは当業者には分かるであろう。従って、ここに開示されている発明は単に例示的なものであり、その範囲は特許請求の範囲においてのみ限定されるものである。
OL…初期層、
SUL…軟磁性下地層、
SL…シード層、
ELB…交換ブレーク層、
RL…記録層、
OC…保護膜。
SUL…軟磁性下地層、
SL…シード層、
ELB…交換ブレーク層、
RL…記録層、
OC…保護膜。
Claims (26)
- 基板と、
前記基板上に形成された磁気透過可能物質の下地層と、
前記下地層上に形成され、粒状強磁性Co合金、及びTaとNbの1つ以上を含む1つ以上の酸化物を含む垂直磁気記録層と、
前記下地層と前記記録層の間に配置され、厚さが15nm以下であり、前記記録層と下地層の結合を磁気的に解除するための非磁***換ブレーク層と、
を有することを特徴とする垂直磁気記録媒体。 - 前記記録層は約5000(Oe)より大きな保磁力を有していることを特徴とする請求項1記載の媒体。
- 前記記録層が約−1500(Oe)以下の核形成フィールドHnを有していることを特徴とする請求項1記載の媒体。
- 前記交換ブレーク層が8nmより大きく14nm未満であることを特徴とする請求項1記載の媒体。
- 前記交換ブレーク層がRu、Ti、Re、Os、及びRu、Ti、Re、Osの1つ以上の合金で構成される群から選択される物質で形成されていることを特徴とする請求項1記載の媒体。
- 前記交換ブレーク層が主にRuで構成されていることを特徴とする請求項5記載の媒体。
- 前記下地層と前記交換ブレーク層の間に配置されたシード層を含んでおり、前記交換ブレーク層が前記シード層上に直接配置されていることを特徴とする請求項1記載の媒体。
- 前記記録層内の前記粒状Co合金が粒子間物質によって分離されたCo合金粒子を含んでおり、Ta及びNbの1つ以上を含む1つ以上の前記酸化物が粒子間物質として存在していることを特徴とする請求項1記載の媒体。
- 前記記録層がさらに、Cr及びCrの1つ以上の酸化物を含んでおり、前記記録層内に存在している酸素の量が約22原子パーセントより大きく約35原子パーセント未満であることを特徴とする請求項8記載の媒体。
- 前記記録層がNbを含んでおらず、さらに、前記記録層内に存在しているTaの量が約2原子パーセントより大きく約5原子パーセント未満であることを特徴とする請求項9記載の媒体。
- 前記記録層がTaを含まず、前記記録層内に存在しているNbの量が約2原子パーセントより大きく約5原子パーセント未満であることを特徴とする請求項9記載の媒体。
- 前記記録層が非磁性反強磁性結合層によって分離された第1及び第2の粒状強磁性Co合金層を含む反強磁性結合(AFC)記録層であり、前記第2の層がさらにTaとNbの1つ以上を含む1つあるいは複数の酸化物を含んでおり、前記第1の層が前記交換ブレーク層と前記第2の層の間に配置されており、前記AFC記録層が磁場がかからない状態で実質的な正味の磁気モーメントを有していることを特徴とする請求項1記載の媒体。
- 前記磁気透過性物質の下地層が、CoFe、CoNiFe、NiFe、FeCoB、CoCuFe、FeAlSi、FeTaN、FeN、FeTaC、CoTaZr及びCoZrNbの合金で構成される群から選択される1つの物質で形成されていることを特徴とする請求項1記載の媒体。
- 前記磁気透過性物質の下地層が非磁性膜によって分離された複数の磁気透過性膜の積層体であることを特徴とする請求項1記載の媒体。
- 前記積層体の非磁性膜が当該積層体の磁気透過性膜の反強磁性結合をもたらすことを特徴とする請求項14記載の媒体。
- 請求項1の媒体と、
前記媒体の記録層の領域を磁化するための書き込みヘッドと、
前記磁化領域間の遷移を検出するための再生ヘッドと、
を有することを特徴とする垂直磁気記録システム。 - 基板と、
前記基板上に形成された磁気透過性物質の下地層と、
c軸が記録層に対してほぼ垂直な六方最密(hcp)結晶構造を有するCoPtCr系強磁性合金の粒子と、Crの1つ以上の酸化物とTa及びNbから選択された金属の1つ以上の酸化物とを含む粒内物質を含む垂直磁気記録層と、
前記下地層と前記記録層との結合を磁気的に解除するために前記下地層と前記記録層との間に配置された、Ru及びRu系合金で構成される群から選択される非磁性hcp物質でつくられ、厚さが15nm以下である交換ブレーク層と、
前記下地層と前記交換ブレーク層との間に配置され、前記交換ブレーク層のhcp成長を促進するためのシード層とを有し、
前記交換ブレーク層が前記シード層のすぐ上に、かつ接触して設けられていることを特徴とする垂直磁気記録ディスク。 - 前記記録層が約5000(Oe)より大きな保磁力HCと−1500(Oe)以下の核形成フィールドHnを有していることを特徴とする請求項17記載のディスク。
- 前記交換ブレーク層の厚さが8nmより大きく14nm未満であることを特徴とする請求項17記載のディスク。
- 前記記録層内に存在している酸素の量が約22原子パーセントより大きく約35原子パーセント未満であることを特徴とする請求項17記載のディスク。
- 前記記録層がNbを含まず、記録層内に存在しているTaの量が約2原子パーセントより大きく約5原子パーセント未満であることを特徴とする請求項20記載のディスク。
- 前記記録層がTaを含まず、記録層内に存在しているNbの量が約2原子パーセントより大きく約5原子パーセント未満であることを特徴とする請求項20記載のディスク。
- 前記記録層が非磁性反強磁性結合層によって分離された第1及び第2の粒状強磁性CoPtCr系強磁性合金層を含む反強磁性結合(AFC)記録層であり、前記第2の層がさらに、Ta及びNbの1つ以上の酸化物を含んでおり、前記第1の層が前記交換ブレーク層と前記第2の層の間に配置されており、前記AFC記録層が、磁場がかかっていない状態で実質的な正味の磁気モーメントを有していることを特徴とする請求項17記載のディスク。
- 前記磁気透過性物質の下地層が、CoFe、CoNiFe、NiFe、FeCoB、CoCuFe、FeAlSi、FeTaN、FeN、FeTaC、CoTaZr及びCoZrNbの合金で構成される群から選択される1つの物質で形成されていることを特徴とする請求項17記載のディスク。
- 前記磁気透過性物質の下地層が非磁性薄膜で分離された複数の磁気透過性膜の積層体であることを特徴とする請求項17記載のディスク。
- 前記積層体の非磁性薄膜が当該積層体内の磁気透過性薄膜の反強磁性結合をもたらすことを特徴とする請求項25記載のディスク。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US11/203,360 US7491452B2 (en) | 2005-08-12 | 2005-08-12 | Perpendicular magnetic recording disk with recording layer containing selected metal oxides and formed on a reduced-thickness exchange-break layer |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007052900A true JP2007052900A (ja) | 2007-03-01 |
Family
ID=36889023
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006208062A Pending JP2007052900A (ja) | 2005-08-12 | 2006-07-31 | 選択された金属酸化物を含み、厚さを低減させた交換ブレーク層上に形成された記録層を有する垂直磁気記録ディスク |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7491452B2 (ja) |
EP (1) | EP1755113A1 (ja) |
JP (1) | JP2007052900A (ja) |
CN (1) | CN100424758C (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011129241A (ja) * | 2009-12-16 | 2011-06-30 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands Bv | 垂直型磁気記録ディスクおよび垂直型磁気記録ディスクの製造方法 |
JP2013120608A (ja) * | 2011-12-06 | 2013-06-17 | Hitachi High-Technologies Corp | ヘッドテスタおよびヘッドテスト方法 |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006114162A (ja) * | 2004-10-15 | 2006-04-27 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands Bv | 垂直磁気記録媒体及びそれを用いた磁気記録装置 |
US8119263B2 (en) * | 2005-09-22 | 2012-02-21 | Seagate Technology Llc | Tuning exchange coupling in magnetic recording media |
US20070099032A1 (en) * | 2005-11-02 | 2007-05-03 | Heraeus, Inc., A Corporation Of The State Of Arizona | Deposition of enhanced seed layer using tantalum alloy based sputter target |
US7876529B1 (en) * | 2005-11-03 | 2011-01-25 | Seagate Technology Llc | Recording disk with antiferromagnetically coupled multilayer ferromagnetic island disposed in trench between discrete tracks |
US20070190364A1 (en) * | 2006-02-14 | 2007-08-16 | Heraeus, Inc. | Ruthenium alloy magnetic media and sputter targets |
US20080138662A1 (en) * | 2006-12-07 | 2008-06-12 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Perpendicular magnetic recording medium with multilayer recording structure including intergranular exchange enhancement layer |
JP5174474B2 (ja) * | 2008-01-18 | 2013-04-03 | 昭和電工株式会社 | 磁気記録媒体の製造方法 |
US8697260B2 (en) * | 2008-07-25 | 2014-04-15 | Seagate Technology Llc | Method and manufacture process for exchange decoupled first magnetic layer |
JP5616606B2 (ja) | 2009-10-19 | 2014-10-29 | 昭和電工株式会社 | 磁気記録媒体及び磁気記録再生装置 |
US20120250178A1 (en) * | 2011-03-31 | 2012-10-04 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Magnetic media with thermal insulation layer for thermally assisted magnetic data recording |
US8614862B1 (en) | 2012-12-21 | 2013-12-24 | HGST Netherlands B.V. | Perpendicular magnetic recording media having a cap layer above a granular layer |
US9218850B1 (en) | 2014-12-23 | 2015-12-22 | WD Media, LLC | Exchange break layer for heat-assisted magnetic recording media |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5066552A (en) | 1989-08-16 | 1991-11-19 | International Business Machines Corporation | Low noise thin film metal alloy magnetic recording disk |
US5062938A (en) | 1990-01-16 | 1991-11-05 | International Business Machines Corporation | High coercivity low noise cobalt alloy magnetic recording medium and its manufacturing process |
US5478661A (en) | 1993-04-01 | 1995-12-26 | Ag Technology Co., Ltd. | Magnetic recording medium and method for its production |
US5679473A (en) | 1993-04-01 | 1997-10-21 | Asahi Komag Co., Ltd. | Magnetic recording medium and method for its production |
JP3448698B2 (ja) | 1995-06-27 | 2003-09-22 | 株式会社日立製作所 | 磁気記憶装置及び磁気記録媒体 |
JP3731640B2 (ja) | 1999-11-26 | 2006-01-05 | 株式会社日立グローバルストレージテクノロジーズ | 垂直磁気記録媒体及び磁気記憶装置 |
JP2002133645A (ja) | 2000-10-20 | 2002-05-10 | Fuji Electric Co Ltd | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
KR100387237B1 (ko) | 2001-01-10 | 2003-06-12 | 삼성전자주식회사 | 초고밀도기록을 위한 수직 기록용 자성 박막 |
US6835475B2 (en) | 2001-07-26 | 2004-12-28 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Dual-layer perpendicular magnetic recording media with laminated underlayer formed with antiferromagnetically coupled films |
US7842409B2 (en) | 2001-11-30 | 2010-11-30 | Seagate Technology Llc | Anti-ferromagnetically coupled perpendicular magnetic recording media with oxide |
JP4019703B2 (ja) | 2001-12-07 | 2007-12-12 | 富士電機デバイステクノロジー株式会社 | 垂直磁気記録媒体およびその製造方法 |
JP4582978B2 (ja) | 2001-12-07 | 2010-11-17 | 富士電機デバイステクノロジー株式会社 | 垂直磁気記録媒体の製造方法 |
JP2003217107A (ja) | 2002-01-17 | 2003-07-31 | Fuji Electric Co Ltd | 磁気記録媒体 |
JP4175829B2 (ja) | 2002-04-22 | 2008-11-05 | 株式会社東芝 | 記録媒体用スパッタリングターゲットと磁気記録媒体 |
MY143045A (en) | 2003-01-14 | 2011-02-28 | Showa Denko Kk | Magnetic recording medium, method of manufacturing therefor, and magnetic read/write apparatus |
US7226674B2 (en) | 2003-02-07 | 2007-06-05 | Hitachi Maxell, Ltd. | Magnetic recording medium, method for producing the same, and magnetic recording apparatus |
US7601445B2 (en) | 2003-09-25 | 2009-10-13 | Showa Denko K.K. | Perpendicular magnetic recording medium and magnetic recording/reproducing apparatus |
US7482071B2 (en) * | 2005-05-24 | 2009-01-27 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Perpendicular magnetic recording disk with improved recording layer having high oxygen content |
-
2005
- 2005-08-12 US US11/203,360 patent/US7491452B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2006
- 2006-07-03 EP EP06253484A patent/EP1755113A1/en not_active Withdrawn
- 2006-07-31 JP JP2006208062A patent/JP2007052900A/ja active Pending
- 2006-08-14 CN CNB2006101149396A patent/CN100424758C/zh not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011129241A (ja) * | 2009-12-16 | 2011-06-30 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands Bv | 垂直型磁気記録ディスクおよび垂直型磁気記録ディスクの製造方法 |
JP2013120608A (ja) * | 2011-12-06 | 2013-06-17 | Hitachi High-Technologies Corp | ヘッドテスタおよびヘッドテスト方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1755113A1 (en) | 2007-02-21 |
CN1913004A (zh) | 2007-02-14 |
US7491452B2 (en) | 2009-02-17 |
CN100424758C (zh) | 2008-10-08 |
US20070037016A1 (en) | 2007-02-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2007052900A (ja) | 選択された金属酸化物を含み、厚さを低減させた交換ブレーク層上に形成された記録層を有する垂直磁気記録ディスク | |
JP5103097B2 (ja) | 垂直磁気記録媒体及びそれを用いた磁気記録再生装置 | |
US8119264B2 (en) | Perpendicular magnetic recording disk with ultrathin nucleation film for improved corrosion resistance and method for making the disk | |
US20080144213A1 (en) | Perpendicular magnetic recording medium with laminated magnetic layers separated by a ferromagnetic interlayer for intergranular exchange-coupling enhancement | |
US7514162B2 (en) | Perpendicular magnetic recording medium with metamagnetic antiferromagnetically-coupled layer between the soft underlayer and recording layer | |
JP2006244684A (ja) | 磁気記録媒体およびその製造方法、磁気記憶装置 | |
JP2008071479A (ja) | 粒子間交換結合を増加させる交換スプリング記録構造および水平結合層を備えた垂直磁気記録媒体 | |
US20080138662A1 (en) | Perpendicular magnetic recording medium with multilayer recording structure including intergranular exchange enhancement layer | |
JP2008287829A (ja) | 垂直磁気記録媒体 | |
JP2009087500A (ja) | 垂直磁気記録媒体および磁気記録再生装置 | |
JP2009059433A (ja) | 垂直磁気記録媒体、その製造方法および磁気記録再生装置 | |
JP2009093780A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JP2006331622A (ja) | 高酸素含有量の記録層を有する垂直磁気記録ディスク | |
JP2009059431A (ja) | 磁気記録媒体および磁気記録再生装置 | |
WO2010064409A1 (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法、並びに磁気記録再生装置 | |
JP2009289360A (ja) | 垂直磁気記録媒体及び磁気記憶装置 | |
JP4534711B2 (ja) | 垂直磁気記録媒体 | |
JP2009032356A (ja) | 垂直磁気記録媒体、その製造方法および磁気記録再生装置 | |
JP4772015B2 (ja) | 磁気記録媒体および磁気記録再生装置 | |
JP4771222B2 (ja) | 垂直磁気記録媒体 | |
Lu et al. | Development of Co-alloys for perpendicular magnetic recording media | |
JP3665221B2 (ja) | 面内磁気記録媒体及び磁気記憶装置 | |
US20050153168A1 (en) | Co-based perpendicular magnetic recording media | |
JP2012226792A (ja) | 磁気記録媒体 | |
JP2010027110A (ja) | 垂直磁気記録媒体および磁気記録再生装置 |