JP2007027166A - 半導体装置の製造方法および半導体製造装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 研磨ヘッド20のベース取り付け部23に、研磨当初から、外径側26から内径側27に向けて漸次板厚が厚くなるようにテーパを設けたリテーナリング24を取り付ける。化学的機械的研磨が進行するにつれて、内径側27が偏磨耗して外径側26より薄くなるのを見越して上記テーパを設け、リテーナリング24の交換寿命の延長を図った。
【選択図】 図2
Description
先ず、本発明に係る半導体製造装置としての化学的機械的研磨装置について説明する。
本実施の形態では、前記実施の形態1とは異なり、図7(a)に示すように、ベース取り付け部23のリテーナリング取り付け面23aにテーパが設けられている。外径側28から内径側29に向けて、漸次厚みが増すようなテーパが設けられている。例えば、50μm以上、100μm以下の勾配を設けておけばよい。
本実施の形態では、リテーナリング33は、ベース取り付け部23との間に、Oリング等の介在物を介して取り付けられている。図8に示すように、ベース取り付け部23のリテーナリング取り付け面23aには、外径側28と内径側29とにそれぞれOリング41、42のOリング取り付け溝が設けられている。Oリング取り付け溝は、内径側29の方が太く、外径側28の方が細く形成されている。
11 モータ
12 定盤
13 研磨パッド
14 モータ
15 ノズル
16 取り付け孔
20 研磨ヘッド
21 ハウジングハブ
22 ハウジングプレート
23 ベース取り付け部
23a リテーナリング取り付け面
24 リテーナリング
24a ベース取り付け面
24b 表面
25 可撓膜
25a マウント面
26 外径側
27 内径側
28 外径側
29 内径側
30 リテーナリング
31 リテーナリング
32 リテーナリング
33 リテーナリング
33a ベース取り付け面
41 Oリング
42 Oリング
a 矢印
S スラリー
S100 ステップ
S200 ステップ
S300 ステップ
S400 ステップ
Claims (5)
- 半導体ウエハの化学的機械的研磨による研磨工程を有する半導体装置の製造方法であって、
前記研磨工程では、前記半導体ウエハの周縁に設けるリテーナリングは、新規なリテーナリング取り付け時点においてパッド面に対して、外径側から内径側に向けて厚く形成されており外径側の下面の高さが内径側の下面の高さより高く設定されていることを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 半導体ウエハの化学的機械的研磨による研磨工程を有する半導体装置の製造方法であって、
前記研磨工程では、前記半導体ウエハの周縁に設けるリテーナリングは、研磨当初からパッド面に対して、外径側から内径側に向けて、50μm以上、100μm以下の範囲で厚くなるようにテーパが設けられていることを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 半導体ウエハの化学的機械的研磨による研磨工程を有する半導体装置の製造方法であって、
前記研磨工程では、前記半導体ウエハの周縁に設けるリテーナリングを取り付けるベース部のリテーナリング取り付け面には、研磨当初から、外径側から内径側に向けて漸次厚くなるテーパが設けられていることを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 半導体ウエハの化学的機械的研磨による研磨工程を有する半導体装置の製造方法であって、
前記研磨工程では、前記半導体ウエハの周縁に設けるリテーナリングを取り付けるベース部に対して、内径側が外径側より厚い介在物を介して、前記リテーナリングが取り付けられていることを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 半導体ウエハを化学的機械的研磨により研磨する半導体製造装置であって、
前記半導体製造装置では、前記半導体ウエハの周縁に設けるリテーナリングは、研磨当初からパッド面に対して、外径側から内径側に向けて漸次厚くなるテーパが設けられていることを特徴とする半導体製造装置。
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