JP2007025006A - Method for manufacturing color filter, color filter, and display apparatus - Google Patents

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a color filter by which a pixel pattern of a color filter can be formed with high definition, in particular, a black image can be efficiently formed with extremely little variance of the line width by improving exposure performance without causing an increase in the cost of an apparatus or decrease in an exposure speed. <P>SOLUTION: The method for manufacturing a color filter includes an exposure process and a developing process: the exposure process including at least a step of exposing a photosensitive layer to light which exits from a light irradiating means, is then modulated by a light modulating means, and projected as an image onto the exposure surface of the photosensitive layer through an imaging means and a focus adjusting means; and the exposure is carried out by forming an image of the light modulated by the modulating means onto only a rectangular region including the center part of the imaging means, with a minor side of the rectangular region aligned to an undulating direction of the photosensitive layer. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、携帯端末、携帯ゲーム機、ノートパソコン、テレビモニター等の液晶表示装置（ＬＣＤ）用、ＰＡＬＣ（プラズマアドレス液晶）、プラズマディスプレイなどに好適なカラーフィルタの製造方法、及び該製造方法により製造されたカラーフィルタ並びに該カラーフィルタを用いた表示装置に関する。   The present invention relates to a manufacturing method of a color filter suitable for a liquid crystal display device (LCD) such as a portable terminal, a portable game machine, a notebook computer, a television monitor, a PALC (plasma address liquid crystal), a plasma display, and the like, and the manufacturing method. The present invention relates to a manufactured color filter and a display device using the color filter.

カラーフィルタは、液晶ディスプレイ（以下、「ＬＣＤ」、「液晶表示装置」と称することもある）に不可欠な構成部品である。この液晶ディスプレイは非常にコンパクトであり、性能面でもこれまでのＣＲＴディスプレイと同等以上であり、ＣＲＴディスプレイから置き換わりつつある。
液晶ディスプレイのカラー画素の形成は、カラーフィルタを通過した光がそのままカラーフィルタを構成する各画素の色に着色されて、それらの色の光が合成されてカラー画素を形成する。そして、現在はＲＧＢの三色の画素でカラー画素を形成している。 The color filter is an indispensable component for a liquid crystal display (hereinafter also referred to as “LCD” or “liquid crystal display device”). This liquid crystal display is very compact, is equivalent to or better than conventional CRT displays in terms of performance, and is replacing the CRT displays.
In the formation of the color pixels of the liquid crystal display, the light passing through the color filter is colored as it is into the colors of the pixels constituting the color filter, and the light of those colors is synthesized to form a color pixel. At present, a color pixel is formed by pixels of three colors of RGB.

近年では、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）の大画面化及び高精細化の技術開発が進み、その用途はノートパソコン用ディスプレイからデスクトップパソコン用モニター、更にはテレビモニター（以下、「ＴＶ」と称することもある）まで拡大されてきている。このような背景の下で、ＬＣＤにはコストダウンと表示特性向上が強く要求されるようになってきている。
このコストダウンの方向としては、単に材料のコストダウンにとどまらず、工程の簡素化が進行中であり、特に、露光のためのフォトマスクをなくすことが検討されている。
一方、表示特性向上の方向としては、１インチあたりの画素数を増やしていく高精細化などが検討されている。
特に、ＲＧＢの三色の各画素間を規定するように形成されるブラックマトリクスは、みかけの画素幅を規定しているため、該ブラックマトリクスの線幅のばらつきは、その周期性によって、モアレや、周期ムラなどの表示ムラとなりやすい。このため、ブラックマトリクスを形成するブラック画像の微細パターンを高精細に形成可能な方法が求められている。 In recent years, the development of technology for increasing the screen size and definition of liquid crystal displays (LCDs) has progressed, and the applications are from laptop computer displays to desktop personal computer monitors, and even television monitors (hereinafter sometimes referred to as “TV”). ). Against this background, LCDs are strongly required to reduce costs and improve display characteristics.
As the direction of cost reduction, not only the cost reduction of materials but also the simplification of the process is underway. In particular, the elimination of a photomask for exposure is being studied.
On the other hand, as a direction for improving display characteristics, high definition and the like in which the number of pixels per inch is increased are being studied.
In particular, since the black matrix formed so as to define the pixels of the three colors of RGB regulates the apparent pixel width, the variation in the line width of the black matrix is caused by moiré and It tends to cause display unevenness such as periodic unevenness. Therefore, there is a need for a method that can form a fine pattern of a black image forming a black matrix with high definition.

このようなカラーフィルタの形成方法としては、一般に、感光性組成物を露光、現像することにより微細パターンを形成する、フォトリソグラフィー法が知られている。
前記フォトリソグラフィー法を行う露光装置として、フォトマスクを用いることなく、半導体レーザ、ガスレーザ等のレーザ光を、画素パターン等のデジタルデータに基づいて、感光性組成物上に直接スキャンして、パターニングを行うレーザダイレクトイメージングシステム（以下、「ＬＤＩ」と称することがある）による露光装置が研究されており、（例えば、非特許文献１及び特許文献１参照）、入射された光をパターン情報（画像信号）に基づいて変調し、２次元パターンを形成する空間光変調手段等の光変調手段を備え、形成された２次元パターンを感光材料上に投影して露光する露光装置が知られている。
前記空間光変調手段としては、傾斜角度が変更可能なマイクロミラーを２次元状に多数配列（例えば、１０２４×７５６画素）したデジタル・マイクロミラー・デバイス（以下、「ＤＭＤ」と表記する）が知られている（例えば、特許文献２参照）。 As a method for forming such a color filter, a photolithography method is generally known in which a fine pattern is formed by exposing and developing a photosensitive composition.
As an exposure apparatus for performing the photolithography method, patterning is performed by directly scanning laser light such as a semiconductor laser or a gas laser on the photosensitive composition based on digital data such as a pixel pattern without using a photomask. An exposure apparatus using a laser direct imaging system (hereinafter sometimes referred to as “LDI”) has been studied (for example, see Non-Patent Document 1 and Patent Document 1), and incident light is subjected to pattern information (image signal). And an exposure apparatus that includes a light modulation unit such as a spatial light modulation unit that forms a two-dimensional pattern and projects the formed two-dimensional pattern onto a photosensitive material for exposure.
As the spatial light modulation means, there is known a digital micromirror device (hereinafter referred to as “DMD”) in which a plurality of micromirrors whose tilt angles can be changed are arranged two-dimensionally (for example, 1024 × 756 pixels). (For example, refer to Patent Document 2).

光変調手段としてＤＭＤを備えた露光装置は、２次元パターンの光を結像させるための投影レンズを有する結像手段を備え、該投影レンズは、ＤＭＤの各マイクロミラーのうち、所定角度に傾斜したマイクロミラーによって反射された光のみを感光材料上に結像するように構成されている。すなわち、この露光装置を用いた露光は、感光材料上に投影される２次元パターンを形成する各画素が、各マイクロミラーに対応するようにして行われるものである。   An exposure apparatus provided with a DMD as a light modulation means includes an image forming means having a projection lens for forming an image of a two-dimensional pattern, and the projection lens is inclined at a predetermined angle among the micromirrors of the DMD. Only the light reflected by the micromirror is imaged on the photosensitive material. That is, exposure using this exposure apparatus is performed such that each pixel forming a two-dimensional pattern projected onto the photosensitive material corresponds to each micromirror.

従来の露光装置では、前記結像手段を構成する投影レンズのほぼ全面領域を用い、感光材料上に２次元パターンを結像させていた。この場合、前記投影レンズの全面領域において、像面湾曲、非点隔差、及び歪曲等を抑制し、テレセントリック性を向上させ、高いレンズ光学性能を持たせる必要があった。
しかしながら、ほぼ全面領域において高いレンズ光学性能を持つ投影レンズの製造には、部品精度の向上、より良い部品の選別等の必要があり、また、全面領域において高いレンズ光学性能を持つ大口径の投影レンズの製造は困難であることから、大面積の露光ができず、露光速度の低下に繋がる。
よって、ほぼ全面領域において高いレンズ光学性能を持つ投影レンズを備えた露光装置を用いてパターン形成を行う場合、パターン形成の効率が低下し、さらに、コスト増につながるという問題があった。 In a conventional exposure apparatus, a two-dimensional pattern is imaged on a photosensitive material using almost the entire area of the projection lens constituting the imaging means. In this case, it is necessary to suppress curvature of field, astigmatism, distortion, etc. in the entire area of the projection lens, improve telecentricity, and provide high lens optical performance.
However, the manufacture of projection lenses with high lens optical performance over almost the entire surface area requires improvements in component accuracy, better component selection, etc., and large-diameter projections with high lens optical performance over the entire surface region. Since it is difficult to manufacture a lens, a large area cannot be exposed, leading to a reduction in exposure speed.
Therefore, when pattern formation is performed using an exposure apparatus having a projection lens having high lens optical performance in almost the entire surface area, there is a problem that the efficiency of pattern formation is reduced and the cost is increased.

一方、投影レンズのレンズ光学性能が悪いと、ビーム位置精度が悪化するため、例えば、多重露光の回数を増やす等の方法により、位置精度の悪化の影響を均す必要があるため、光学性能の劣る投影レンズを備えた露光装置を用いてパターン形成を行う場合には、露光速度の低下によるパターン形成効率の低下や、解像度の低下等の問題があった。   On the other hand, if the lens optical performance of the projection lens is poor, the beam position accuracy deteriorates.For example, it is necessary to equalize the influence of the deterioration of the position accuracy by a method such as increasing the number of multiple exposures. When pattern formation is performed using an exposure apparatus having an inferior projection lens, there are problems such as a decrease in pattern formation efficiency due to a decrease in exposure speed and a decrease in resolution.

よって、装置のコストアップや、露光速度の低下を招くことなく、露光性能を向上させることにより、カラーフィルタの画素パターンを高精細に、特にブラック画像の線幅ばらつきを極めて少なく、かつ効率よく形成可能なカラーフィルタの製造方法は、未だ提供されておらず、更なる改良開発が望まれているのが現状である。   Therefore, by improving the exposure performance without increasing the cost of the device or reducing the exposure speed, the pixel pattern of the color filter can be formed with high definition, particularly with very little variation in the line width of the black image and efficiently. A possible color filter manufacturing method has not yet been provided, and the present situation is that further improvement and development are desired.

特開２００４−１２４４号公報JP 2004-1244 A 特開２００１−３０５６６３号公報JP 2001-305663 A 石川明人"マスクレス露光による開発短縮と量産適用化"、「エレクロトニクス実装技術」、株式会社技術調査会、Vol．18、No．6、2002年、p．74〜79Akihito Ishikawa “Development shortening and mass production application by maskless exposure”, “Electronics packaging technology”, Technical Research Committee, Vol. 18, no. 6, 2002, p. 74-79

本発明は、かかる現状に鑑みてなされたものであり、従来における前記諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、装置のコストアップや、露光速度の低下を招くことなく、露光性能を向上させることにより、カラーフィルタの画素パターンを高精細に、特にブラック画像の線幅ばらつきを極めて少なく、かつ効率よく形成可能なカラーフィルタの製造方法、及び該カラーフィルタの製造方法により製造され、表示特性に優れ、携帯端末、携帯ゲーム機、ノートパソコン、テレビモニター等の液晶表示装置（ＬＣＤ）用、ＰＡＬＣ（プラズマアドレス液晶）、プラズマディスプレイなどに好適に用いられるカラーフィルタ、並びに該カラーフィルタを用いた表示装置を提供することを目的とする。   This invention is made | formed in view of this present condition, and makes it a subject to solve the said various problems in the past and to achieve the following objectives. That is, the present invention improves the exposure performance without increasing the cost of the apparatus or lowering the exposure speed, so that the pixel pattern of the color filter is high-definition, in particular, the line width variation of the black image is extremely small, And a color filter manufacturing method that can be formed efficiently, and a color filter manufacturing method that is excellent in display characteristics, for liquid crystal display devices (LCD) such as portable terminals, portable game machines, notebook computers, and TV monitors, It is an object of the present invention to provide a color filter suitably used for PALC (plasma address liquid crystal), a plasma display, and the like, and a display device using the color filter.

前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。即ち、
＜１＞ バインダー、重合性化合物、着色剤、及び光重合開始剤を含む感光性組成物からなり、基材の表面に位置する感光層に対し、
光照射手段からの光を受光してパターン情報に基づいて変調する光変調手段により、前記光照射手段からの光を変調させ、前記光変調手段により変調された光を、結像手段と、焦点調節手段とを介して前記感光層の被露光面上に結像させて露光を行うことを少なくとも含み、
前記露光が、前記結像手段の中央部を含む略矩形状の領域のみにおいて、前記光変調手段により変調された光が結像され、
前記感光層の被露光面上に結像される略矩形状の露光領域が、その短辺方向と前記感光層のうねり方向とがなす角が、その長辺方向と前記感光層のうねり方向とがなす角よりも小さくなるように向けられて行われる露光工程と、
該露光工程により露光された感光層を現像する現像工程と
を含むことを特徴とするカラーフィルタの製造方法である。該＜１＞に記載のカラーフィルタの製造方法においては、前記光変調手段により変調された光が、結像手段と、焦点調節手段とを介して前記感光層の被露光面上に結像されることにより露光が行われる。該露光が、前記結像手段の中央部を含む略矩形状の領域のみにおいて、前記光変調手段により変調された光が結像され、前記感光層の被露光面上に結像される略矩形状の露光領域が、その短辺方向と前記感光層のうねり方向とがなす角が、その長辺方向と前記感光層のうねり方向とがなす角よりも小さくなるように向けられて行われるため、光学性能の良い領域に選択的に照射された光が結像され、焦点位置が適切な位置に調整される。この結果、前記感光層への露光が高精細に行われ、その後、前記感光層を現像することにより、高精細な画素パターンが形成される。
＜２＞ 結像手段が、周辺領域に歪みを持たせ、中央部を含む領域の歪みを少なくして製造された投影レンズから構成される前記＜１＞に記載のカラーフィルタの製造方法である。該＜２＞に記載のカラーフィルタの製造方法においては、前記結像手段が、周辺領域に歪みを持たせ、中央部を含む領域の歪みを少なくして製造された投影レンズから構成されるため、前記投影レンズの光学性能の良い領域に光を選択的に照射することにより、投影レンズの全面領域を使用する場合に比べて焦点調節手段の光学系を小型化することができ、また、変調された光の焦点位置を安定に保ちながら高精度の焦点位置調整が可能になる。この結果、装置コストが低減されるとともに、前記感光層への露光が極めて高精細に行われる。
＜３＞ 結像手段が、長辺の長さが短辺の長さの２倍以上の略矩形状の領域において、光変調手段により変調された光を結像する前記＜１＞から＜２＞に記載のカラーフィルタの製造方法である。 Means for solving the problems are as follows. That is,
<1> A photosensitive composition comprising a binder, a polymerizable compound, a colorant, and a photopolymerization initiator, and for the photosensitive layer located on the surface of the substrate,
The light from the light irradiating means is received and modulated based on the pattern information. The light modulating means modulates the light from the light irradiating means, and the light modulated by the light modulating means And performing exposure by forming an image on an exposed surface of the photosensitive layer through an adjusting means,
In the exposure, light modulated by the light modulation means is imaged only in a substantially rectangular region including the center of the imaging means,
The substantially rectangular exposure region imaged on the exposed surface of the photosensitive layer has an angle formed by the short side direction and the waviness direction of the photosensitive layer, the long side direction and the waviness direction of the photosensitive layer. An exposure process that is directed to be smaller than the angle formed by
And a development step of developing the photosensitive layer exposed in the exposure step. In the method for producing a color filter according to <1>, the light modulated by the light modulating unit is imaged on the exposed surface of the photosensitive layer via an imaging unit and a focus adjusting unit. Thus, exposure is performed. In the exposure, the light modulated by the light modulation means is imaged only in a substantially rectangular area including the central portion of the imaging means, and is formed on the exposed surface of the photosensitive layer. Since the exposure area of the shape is oriented so that the angle formed by the short side direction and the waviness direction of the photosensitive layer is smaller than the angle formed by the long side direction and the waviness direction of the photosensitive layer. The light selectively irradiated on the region with good optical performance is imaged, and the focal position is adjusted to an appropriate position. As a result, the photosensitive layer is exposed with high definition, and then the photosensitive layer is developed to form a high-definition pixel pattern.
<2> The color filter manufacturing method according to <1>, wherein the image forming unit includes a projection lens manufactured by giving distortion to a peripheral region and reducing distortion in a region including a central portion. . In the method for manufacturing a color filter according to <2>, the imaging unit is configured by a projection lens manufactured by giving distortion to a peripheral region and reducing distortion in a region including a central portion. , By selectively irradiating light to the area where the optical performance of the projection lens is good, the optical system of the focus adjustment means can be downsized compared to the case where the entire area of the projection lens is used, and the modulation It is possible to adjust the focus position with high accuracy while keeping the focus position of the emitted light stable. As a result, the apparatus cost is reduced, and the exposure of the photosensitive layer is performed with extremely high definition.
<3> From <1> to <2 above, wherein the imaging means forms an image of light modulated by the light modulation means in a substantially rectangular region having a long side length of twice or more of the short side length. > Is a manufacturing method of the color filter of.

＜４＞ 焦点調節手段が、光変調手段により変調された光の光軸方向の厚さが変化するように形成されたくさび型プリズムペアを有し、
前記くさび型プリズムペアを構成する各くさび型プリズムを移動することによって、前記光変調手段により変調された光を感光層の被露光面上に結像する際の焦点を調節する前記＜１＞から＜３＞のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。
＜５＞ 焦点調節手段が、結像光学系を構成する光学部材と、ピエゾ素子とを有し、
前記光学部材を前記ピエゾ素子により移動させることによって、前記光変調手段により変調された光を感光層の被露光面上に結像する際の焦点を調節する前記＜１＞から＜３＞のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。該＜５＞に記載のカラーフィルタの製造方法においては、前記光学部材を前記ピエゾ素子により移動させることによって、前記光変調手段により変調された光を感光層の被露光面上に結像する際の焦点が調節されるため、焦点方向に対して垂直な方向への微小変位を抑制でき、高ビーム位置精度を保ちながら、極めて高精度に焦点位置が調整される。 <4> The focus adjusting unit has a wedge-shaped prism pair formed so that the thickness of the light modulated by the light modulating unit in the optical axis direction changes.
From <1>, the focus is adjusted when the light modulated by the light modulation means is imaged on the exposed surface of the photosensitive layer by moving each wedge-shaped prism constituting the wedge-shaped prism pair. <3> A method for producing a color filter according to any one of the above.
<5> The focus adjusting means includes an optical member constituting the imaging optical system and a piezo element,
Any one of <1> to <3>, wherein the optical member is moved by the piezo element to adjust a focal point when the light modulated by the light modulation unit is imaged on the exposed surface of the photosensitive layer. A method for producing a color filter according to claim 1. In the color filter manufacturing method according to <5>, when the optical member is moved by the piezo element, the light modulated by the light modulation unit is imaged on the exposed surface of the photosensitive layer. Therefore, a minute displacement in a direction perpendicular to the focal direction can be suppressed, and the focal position can be adjusted with extremely high accuracy while maintaining high beam positional accuracy.

＜６＞ 結像手段が、光変調手段により変調された光の光軸に対し、前記光軸を中心に回転可能なレンズ、及び前記光軸に対して垂直方向に移動可能レンズのいずれかにより構成されてなる前記＜１＞から＜５＞のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。   <6> The imaging means is either a lens that can rotate around the optical axis with respect to the optical axis of the light modulated by the light modulating means, or a lens that can move in a direction perpendicular to the optical axis. The method for producing a color filter according to any one of <1> to <5>, which is configured.

＜７＞ 光変調手段が、ｎ個（ただし、ｎは１以上の自然数）の２次元状に配列された描素部を有する前記＜１＞から＜６＞のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。
＜８＞ 光変調手段が、空間光変調素子である前記＜１＞から＜７＞のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。 <7> The color filter according to any one of <1> to <6>, wherein the light modulation means includes n (where n is a natural number of 1 or more) two-dimensionally arranged pixel parts. It is a manufacturing method.
<8> The color filter manufacturing method according to any one of <1> to <7>, wherein the light modulation unit is a spatial light modulation element.

＜９＞ 光照射手段が、半導体レーザ素子から発せられたレーザ光を出射する前記＜１＞から＜８＞のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。
＜１０＞ 光照射手段が、半導体レーザ素子から発せられたレーザ光を一端から入射し、入射したレーザ光を他端から出射する光ファイバを複数本束ねたバンドル状のファイバ光源である前記＜９＞に記載のカラーフィルタの製造方法である。該＜１０＞に記載のカラーフィルタの製造方法においては、ファイババンドル状の光源として面積あたりの光量の大きい高輝度な光源を用いることで、光パワーを向上させつつ、エタンデュー（Etendue）を小さくすることができるため、前記光変調手段側の開口数を小さくでき、更に、前記結像光学系の焦点深度を大きくすることができる。この結果、前記感光層の被露光面上に結像される画像のピントずれが抑制される。
＜１１＞ 光照射手段が、２以上の光を合成して照射可能である前記＜８＞から＜１０＞のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。該＜１１＞に記載のカラーフィルタの製造方法においては、前記光照射手段が２以上の光を合成して照射可能であることにより、露光が焦点深度の深い露光光で行われる。この結果、前記感光層への露光が極めて高精細に行われ、その後、前記感光層を現像することにより、極めて高精細な画素パターンが形成される。
＜１２＞ 光照射手段が、複数のレーザと、マルチモード光ファイバと、該複数のレーザからそれぞれ照射されたレーザビームを平行光化して集光し、前記マルチモード光ファイバの入射端面に収束させる光源集光光学系とを有する前記＜８＞から＜１１＞のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。該＜１２＞に記載のカラーフィルタの製造方法においては、前記光照射手段により、前記複数のレーザからそれぞれ照射されたレーザビームが前記光源集合光学系により集光され、前記マルチモード光ファーバーに結合可能とすることにより、露光が焦点深度の深い露光光で行われる。この結果、前記感光層への露光が極めて高精細に行われ、その後、前記感光層を現像することにより、極めて高精細な画素パターンが形成される。 <9> The color filter manufacturing method according to any one of <1> to <8>, wherein the light irradiation unit emits laser light emitted from the semiconductor laser element.
<10> The above-mentioned <9>, wherein the light irradiation means is a bundle-like fiber light source in which a plurality of optical fibers that enter laser light emitted from a semiconductor laser element from one end and emit incident laser light from the other end are bundled > Is a manufacturing method of the color filter of. In the method for producing a color filter according to <10>, by using a high-intensity light source having a large light amount per area as a fiber bundle light source, the optical power is improved and Etendue is reduced. Therefore, the numerical aperture on the light modulation means side can be reduced, and the depth of focus of the imaging optical system can be increased. As a result, the focus shift of the image formed on the exposed surface of the photosensitive layer is suppressed.
<11> The method for producing a color filter according to any one of <8> to <10>, wherein the light irradiation unit is capable of combining and irradiating two or more lights. In the method for producing a color filter according to <11>, the light irradiation unit can synthesize and irradiate two or more lights, so that exposure is performed with exposure light having a deep focal depth. As a result, the photosensitive layer is exposed with extremely high definition, and then the photosensitive layer is developed to form a very high definition pixel pattern.
<12> The light irradiating means collimates and condenses the plurality of lasers, the multimode optical fiber, and the laser beams respectively emitted from the plurality of lasers, and converges them on the incident end face of the multimode optical fiber. It is a manufacturing method of the color filter in any one of said <8> to <11> which has a light source condensing optical system. In the method for producing a color filter according to <12>, laser beams emitted from the plurality of lasers are condensed by the light source collective optical system by the light irradiation unit and coupled to the multimode optical fiber. By making it possible, exposure is performed with exposure light having a deep focal depth. As a result, the photosensitive layer is exposed with extremely high definition, and then the photosensitive layer is developed to form a very high definition pixel pattern.

＜１３＞ 感光層が、感光性組成物を基材の表面に塗布し、乾燥することにより形成される前記＜１＞から＜１２＞のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。
＜１４＞ 感光層が、支持体上に感光性組成物からなる感光性転写層を有する感光性転写材料を用いて、該感光性転写層と基材とが当接するように該基材上に積層し、次いで、支持体を剥離することにより形成される前記＜１＞から＜１３＞のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。
＜１５＞ 感光性組成物が、少なくとも、黒色（Ｋ）に着色されている前記＜１＞から＜１４＞のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。
＜１６＞ 少なくとも、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、及び青色（Ｂ）の３原色に着色された感光性組成物を用いて、基材の表面に所定の配置で、Ｒ、Ｇ及びＢの各色毎に、順次、感光層形成工程、露光工程、及び現像工程を繰り返してカラーフィルタを形成する前記＜１＞から＜１５＞のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法である。
＜１７＞ 赤色（Ｒ）着色に少なくとも顔料Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４を、緑色（Ｇ）着色に顔料Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６及び顔料Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９の少なくともいずれかの顔料を、並びに、青色（Ｂ）着色に少なくとも顔料Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６を用いる前記＜１６＞に記載のカラーフィルタの製造方法である。
＜１８＞ 赤色（Ｒ）着色に顔料Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４及び顔料Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７の少なくともいずれかの顔料を、緑色（Ｇ）着色に顔料Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６及び顔料Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５０の少なくともいずれかの顔料を、並びに、青色（Ｂ）着色に顔料Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６及び顔料Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３の少なくともいずれかの顔料を用いる前記＜１６＞に記載のカラーフィルタの製造方法である。 <13> The method for producing a color filter according to any one of <1> to <12>, wherein the photosensitive layer is formed by applying a photosensitive composition to a surface of a substrate and drying.
<14> Using a photosensitive transfer material having a photosensitive transfer layer made of a photosensitive composition on a support, the photosensitive layer is placed on the substrate so that the photosensitive transfer layer and the substrate are in contact with each other. The method for producing a color filter according to any one of <1> to <13>, wherein the color filter is formed by laminating and then peeling off the support.
<15> The method for producing a color filter according to any one of <1> to <14>, wherein the photosensitive composition is colored at least black (K).
<16> Using a photosensitive composition colored in at least three primary colors of red (R), green (G), and blue (B), R, G, and B in a predetermined arrangement on the surface of the substrate. The method for producing a color filter according to any one of <1> to <15>, wherein the color filter is formed by sequentially repeating the photosensitive layer formation step, the exposure step, and the development step for each of the colors.
<17> At least pigment C.I. I. Pigment Red 254 is colored green (G) with pigment C.I. I. Pigment green 36 and pigment C.I. I. Pigment Yellow 139 and at least a pigment C.I. I. It is a manufacturing method of the color filter as described in said <16> using pigment blue 15: 6.
<18> Pigment C.I. I. Pigment red 254 and pigment C.I. I. Pigment Red 177 at least one pigment is changed to a green (G) coloring pigment C.I. I. Pigment green 36 and pigment C.I. I. Pigment Yellow 150 and at least blue (B) pigment C.I. I. Pigment blue 15: 6 and pigment C.I. I. The method for producing a color filter according to <16>, wherein at least one pigment of pigment violet 23 is used.

＜１９＞ 前記＜１＞から＜１８＞のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法により製造されたことを特徴とするカラーフィルタである。
＜２０＞ 前記＜１９＞に記載のカラーフィルタを用いたことを特徴とする表示装置である。 <19> A color filter manufactured by the method for manufacturing a color filter according to any one of <1> to <18>.
<20> A display device using the color filter according to <19>.

本発明によると、従来における問題を解決することができ、装置のコストアップや、露光速度の低下を招くことなく、露光性能を向上させることにより、カラーフィルタの画素パターンを高精細に、特にブラック画像の線幅ばらつきを極めて少なく、かつ効率よく形成可能なカラーフィルタの製造方法、及び該カラーフィルタの製造方法により製造され、表示特性に優れ、携帯端末、携帯ゲーム機、ノートパソコン、テレビモニター等の液晶表示装置（ＬＣＤ）用、ＰＡＬＣ（プラズマアドレス液晶）、プラズマディスプレイなどに好適に用いられるカラーフィルタ、並びに該カラーフィルタを用いた表示装置を提供することができる。   According to the present invention, the conventional problems can be solved, and the pixel pattern of the color filter is made high-definition, in particular, black by improving the exposure performance without increasing the cost of the apparatus or reducing the exposure speed. Color filter manufacturing method capable of forming an image with very little variation in the line width of the image, and the color filter manufacturing method. Excellent display characteristics, portable terminal, portable game machine, notebook computer, TV monitor, etc. The present invention can provide a color filter suitably used for a liquid crystal display device (LCD), a PALC (plasma addressed liquid crystal), a plasma display, and the like, and a display device using the color filter.

（カラーフィルタの製造方法）
本発明のカラーフィルタの製造方法は、感光層形成工程と、露光工程と、現像工程とを少なくとも含んでなり、更に必要に応じて適宜選択されたその他の工程を含んでなる。
本発明のカラーフィルタは、本発明の前記カラーフィルタの製造方法により製造される。
本発明の表示装置は、本発明の前記カラーフィルタを用いてなり、更に必要に応じてその他の手段を有してなる。
以下、本発明のカラーフィルタの製造方法の説明を通じて、本発明のカラーフィルタ及び表示装置の詳細についても明らかにする。 (Color filter manufacturing method)
The method for producing a color filter of the present invention includes at least a photosensitive layer forming step, an exposure step, and a development step, and further includes other steps appropriately selected as necessary.
The color filter of the present invention is manufactured by the method for manufacturing the color filter of the present invention.
The display device of the present invention uses the color filter of the present invention, and further includes other means as necessary.
Hereinafter, the details of the color filter and display device of the present invention will be clarified through the description of the method of manufacturing the color filter of the present invention.

前記感光層は、バインダー、重合性化合物、着色剤、及び光重合開始剤を含む前記感光性組成物からなり、基材の表面に位置する限り特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、バインダー、重合性化合物、着色剤、及び光重合開始剤を含む感光性組成物を用いて基材の表面に形成されてなる。更に、必要に応じて適宜選択されたその他の層が形成される。   The photosensitive layer is composed of the photosensitive composition containing a binder, a polymerizable compound, a colorant, and a photopolymerization initiator, and is not particularly limited as long as it is located on the surface of the substrate, and is appropriately selected according to the purpose. For example, it is formed on the surface of a substrate using a photosensitive composition containing a binder, a polymerizable compound, a colorant, and a photopolymerization initiator. Further, other layers appropriately selected as necessary are formed.

前記感光層を形成する方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、塗布により形成する方法、シート状の前記感光層を加圧及び加熱の少なくともいずれかによりラミネートすることにより形成する方法、それらの併用などが挙げられ、以下に示す第１の態様の感光層形成方法及び第２の態様の感光層形成方法が好適に挙げられる。   The method for forming the photosensitive layer is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. For example, the photosensitive layer may be formed by coating, or the sheet-like photosensitive layer may be pressurized or heated. The method of forming by laminating, combined use thereof, and the like are mentioned, and the photosensitive layer forming method of the first aspect and the photosensitive layer forming method of the second aspect shown below are preferable.

第１の態様の感光層形成方法としては、前記感光性組成物を基材の表面に塗布し、乾燥することにより、基材の表面に、少なくとも、感光層を形成し、更に、適宜選択されたその他の層を形成する方法が挙げられる。   As the photosensitive layer forming method of the first aspect, at least a photosensitive layer is formed on the surface of the base material by applying the photosensitive composition to the surface of the base material and drying, and further appropriately selected. The method of forming the other layer is mentioned.

第２の態様の感光層形成方法としては、前記支持体上に感光性組成物からなる感光性転写層（以下、単に「感光層」と表すことがある）を有する感光性転写材料を用いて、該感光性転写層（感光層）と前記基材とが当接するように、前記感光性転写層（感光層）を基材の表面に加熱及び加圧の少なくともいずれかの下において積層することにより、基材の表面に少なくとも感光層を形成し、更に、適宜選択されたその他の層を形成する方法が挙げられる。   As a photosensitive layer forming method of the second aspect, a photosensitive transfer material having a photosensitive transfer layer (hereinafter sometimes simply referred to as “photosensitive layer”) made of a photosensitive composition on the support is used. The photosensitive transfer layer (photosensitive layer) is laminated on the surface of the substrate under at least one of heating and pressurization so that the photosensitive transfer layer (photosensitive layer) and the substrate are in contact with each other. The method of forming at least the photosensitive layer on the surface of the substrate and further forming other layers appropriately selected can be mentioned.

第１の態様の感光層形成方法において、前記感光性組成物の塗布及び乾燥の方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記基材の表面に、前記感光性組成物を、水又は溶剤に溶解、乳化又は分散させて感光性組成物溶液を調製し、該溶液を直接塗布し、乾燥させることにより積層する方法が挙げられる。   In the photosensitive layer forming method of the first aspect, the method for applying and drying the photosensitive composition is not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose. For example, on the surface of the substrate, Examples include a method in which the photosensitive composition is dissolved, emulsified or dispersed in water or a solvent to prepare a photosensitive composition solution, and the solution is directly applied and dried for lamination.

前記感光性組成物溶液の溶剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。   There is no restriction | limiting in particular as a solvent of the said photosensitive composition solution, According to the objective, it can select suitably.

前記塗布の方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、スピンコーター、スリットスピンコーター、ロールコーター、ダイコーター、カーテンコーターなどを用いて、前記基材に直接塗布する方法が挙げられる。本発明においては、液が吐出する部分にスリット状の穴を有するスリット状ノズルを用いた塗布装置（スリットコータ）によって行うことが好ましい。具体的には、特開２００４−８９８５１号公報、特開２００４−１７０４３号公報、特開２００３−１７００９８号公報、特開２００３−１６４７８７号公報、特開２００３−１０７６７号公報、特開２００２−７９１６３号公報、特開２００１−３１０１４７号公報等に記載のスリット状ノズル、及びスリットコーターが好適に用いられる。
前記乾燥の条件としては、各成分、溶媒の種類、使用割合等によっても異なるが、通常６０〜１１０℃の温度で３０秒間〜１５分間程度である。 The coating method is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the purpose. For example, using a spin coater, a slit spin coater, a roll coater, a die coater, a curtain coater, etc. The method of apply | coating is mentioned. In this invention, it is preferable to carry out by the coating device (slit coater) using the slit-shaped nozzle which has a slit-shaped hole in the part which discharges a liquid. Specifically, JP-A-2004-89851, JP-A-2004-17043, JP-A-2003-170098, JP-A-2003-164787, JP-A-2003-10767, JP-A-2002-79163. Slit nozzles and slit coaters described in Japanese Patent Laid-Open No. 2001-310147 and the like are preferably used.
The drying conditions vary depending on each component, the type of solvent, the use ratio, and the like, but are usually about 60 to 110 ° C. for about 30 seconds to 15 minutes.

前記感光層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、０．５〜１０μｍが好ましく、０．７５〜６μｍがより好ましく、１〜３μｍが特に好ましい。   There is no restriction | limiting in particular as thickness of the said photosensitive layer, According to the objective, it can select suitably, 0.5-10 micrometers is preferable, 0.75-6 micrometers is more preferable, and 1-3 micrometers is especially preferable.

第１の態様の感光層形成方法において形成されるその他の層としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、酸素遮断層、剥離層、接着層、光吸収層、表面保護層などが挙げられる。
前記その他の層の形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記感光層上に塗布する方法、シート状に形成されたその他の層を積層する方法などが挙げられる。 Other layers formed in the photosensitive layer forming method of the first aspect are not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose. For example, an oxygen blocking layer, a release layer, an adhesive layer, a light absorbing layer And a surface protective layer.
There is no restriction | limiting in particular as a formation method of the said other layer, According to the objective, it can select suitably, For example, the method of apply | coating on the said photosensitive layer, The method of laminating | stacking the other layer formed in the sheet form Etc.

前記第２の態様の感光層形成方法において、基材の表面に感光層、及び必要に応じて適宜選択されるその他の層を形成する方法としては、前記基材の表面に、支持体と該支持体上に感光性組成物が積層されてなる感光層と、必要に応じて適宜選択されるその他の層とを有する前記感光性転写材料を、加熱及び加圧の少なくともいずれかを行いながら積層する方法が挙げられ、具体的には、前記支持体上に前記感光性組成物が積層されてなる感光層を有する前記感光性転写材料を用い、前記感光層が基材の表面側となるように積層し、次いで、前記支持体を前記感光層上から剥離する方法が好適に挙げられる。
前記支持体を剥離することにより、前記支持体による光の散乱や屈折の等影響で前記感光層上に結像させる像にボケ像が生じることが防止され、所定のパターンが高解像度で得られる。
なお、前記感光性転写材料が、後述する保護フィルムを有する場合には、該保護フィルムを剥離し、前記基材に前記感光層が重なるようにして積層する。 In the method for forming a photosensitive layer according to the second aspect, as a method for forming a photosensitive layer on the surface of the base material and other layers appropriately selected as necessary, a support and Laminating the photosensitive transfer material having a photosensitive layer formed by laminating a photosensitive composition on a support and other layers appropriately selected as necessary, while performing at least one of heating and pressing. Specifically, using the photosensitive transfer material having a photosensitive layer in which the photosensitive composition is laminated on the support, the photosensitive layer is on the surface side of the substrate. A method of laminating the support and then peeling the support from the photosensitive layer is preferable.
By peeling off the support, it is possible to prevent a blurred image from being formed on the image formed on the photosensitive layer due to light scattering or refraction by the support, and to obtain a predetermined pattern with high resolution. .
In addition, when the said photosensitive transfer material has a protective film mentioned later, this protective film is peeled and it laminates | stacks so that the said photosensitive layer may overlap with the said base material.

前記加熱温度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、７０〜１３０℃が好ましく、８０〜１１０℃がより好ましい。
前記加圧の圧力としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、０．０１〜１．０ＭＰａが好ましく、０．０５〜１．０ＭＰａがより好ましい。 There is no restriction | limiting in particular as said heating temperature, Although it can select suitably according to the objective, For example, 70-130 degreeC is preferable and 80-110 degreeC is more preferable.
There is no restriction | limiting in particular as a pressure of the said pressurization, Although it can select suitably according to the objective, For example, 0.01-1.0 MPa is preferable and 0.05-1.0 MPa is more preferable.

前記加熱及び加圧の少なくともいずれかを行う装置としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ヒートプレス、ヒートロールラミネーター（例えば、（株）日立インダストリイズ社、ＬａｍｉｃII型）、真空ラミネーター（例えば、名機製作所製、ＭＶＬＰ５００）などが好適に挙げられる。   There is no restriction | limiting in particular as an apparatus which performs at least any one of the said heating and pressurization, According to the objective, it can select suitably, For example, a heat press, a heat roll laminator (for example, Hitachi Industries, Ltd.) , Lamic II type), vacuum laminator (for example, MVLP500 manufactured by Meiki Seisakusho) and the like are preferable.

前記支持体としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記感光層を剥離可能であり、かつ光の透過性が良好であるのが好ましく、更に表面の平滑性が良好であるのがより好ましい。   The support is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. However, it is preferable that the photosensitive layer can be peeled off and that light transmittance is good, and that the surface is smooth. Is more preferable.

前記支持体の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、４〜３００μｍが好ましく、５〜１７５μｍがより好ましく、１０〜１００μｍが特に好ましい。   There is no restriction | limiting in particular as thickness of the said support body, According to the objective, it can select suitably, For example, 4-300 micrometers is preferable, 5-175 micrometers is more preferable, and 10-100 micrometers is especially preferable.

前記支持体の形状としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、長尺状が好ましい。前記長尺状の支持体の長さとしては、特に制限はなく、例えば、１０ｍ〜２０，０００ｍの長さのものが挙げられる。   There is no restriction | limiting in particular as a shape of the said support body, Although it can select suitably according to the objective, A long shape is preferable. There is no restriction | limiting in particular as the length of the said elongate support body, For example, the thing of the length of 10m-20,000m is mentioned.

前記支持体は、合成樹脂製であり、かつ透明であるものが好ましく、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリプロピレン、ポリエチレン、三酢酸セルロース、二酢酸セルロース、ポリ（メタ）アクリル酸アルキルエステル、ポリ（メタ）アクリル酸エステル共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、ポリスチレン、セロファン、ポリ塩化ビニリデン共重合体、ポリアミド、ポリイミド、塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体、ポリテトラフルオロエチレン、ポリトリフルオロエチレン、セルロース系フィルム、ナイロンフィルム等の各種のプラスチックフィルムが挙げられ、これらの中でも、ポリエチレンテレフタレートが特に好ましい。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
なお、前記支持体としては、例えば、特開平４−２０８９４０号公報、特開平５−８０５０３号公報、特開平５−１７３３２０号公報、特開平５−７２７２４号公報などに記載の支持体を用いることもできる。 The support is preferably made of synthetic resin and transparent, for example, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polypropylene, polyethylene, cellulose triacetate, cellulose diacetate, poly (meth) acrylic acid alkyl ester, poly (Meth) acrylic acid ester copolymer, polyvinyl chloride, polyvinyl alcohol, polycarbonate, polystyrene, cellophane, polyvinylidene chloride copolymer, polyamide, polyimide, vinyl chloride / vinyl acetate copolymer, polytetrafluoroethylene, polytri Various plastic films such as fluoroethylene, cellulose-based film, nylon film and the like can be mentioned, and among these, polyethylene terephthalate is particularly preferable. These may be used alone or in combination of two or more.
As the support, for example, the support described in JP-A-4-208940, JP-A-5-80503, JP-A-5-173320, JP-A-5-72724, or the like is used. You can also.

前記感光性転写材料における感光層の形成は、前記基材への前記感光性組成物溶液の塗布及び乾燥（前記第１の態様の感光層形成方法）と同様な方法で行うことができる。   Formation of the photosensitive layer in the photosensitive transfer material can be performed by the same method as the application and drying of the photosensitive composition solution to the substrate (the photosensitive layer forming method of the first aspect).

前記保護フィルムは、前記感光層の汚れや損傷を防止し、保護する機能を有するフィルムである。
前記保護フィルムの厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、５〜１００μｍが好ましく、８〜５０μｍがより好ましく、１０〜４０μｍが特に好ましい。 The protective film is a film having a function of preventing and protecting the photosensitive layer from being stained and damaged.
There is no restriction | limiting in particular as thickness of the said protective film, According to the objective, it can select suitably, For example, 5-100 micrometers is preferable, 8-50 micrometers is more preferable, 10-40 micrometers is especially preferable.

前記保護フィルムの前記感光性転写材料において設けられる箇所としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、通常、前記感光層上に設けられる。   There is no restriction | limiting in particular as a location provided in the said photosensitive transfer material of the said protective film, Although it can select suitably according to the objective, Usually, it provides on the said photosensitive layer.

前記保護フィルムを用いる場合、前記感光層及び前記支持体の接着力Ａと、前記感光層及び保護フィルムの接着力Ｂとの関係としては、接着力Ａ＞接着力Ｂであることが好適である。   When the protective film is used, the relationship between the adhesive force A of the photosensitive layer and the support and the adhesive force B of the photosensitive layer and the protective film is preferably adhesive force A> adhesive force B. .

前記支持体と前記保護フィルムとの静摩擦係数としては、０．３〜１．４が好ましく、０．５〜１．２がより好ましい。
前記静摩擦係数が、０．３未満であると、滑り過ぎるため、ロール状にした場合に巻ズレが発生することがあり、１．４を超えると、良好なロール状に巻くことが困難となることがある。 The coefficient of static friction between the support and the protective film is preferably 0.3 to 1.4, and more preferably 0.5 to 1.2.
When the coefficient of static friction is less than 0.3, slipping is excessive, so that winding deviation may occur when the roll is formed. Sometimes.

前記保護フィルムとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記支持体に使用されるもの、シリコーン紙、ポリエチレン、ポリプロピレンがラミネートされた紙、ポリオレフィン又はポリテトラフルオロエチレンシート、などが挙げられ、これらの中でも、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルムなどが特に好ましいものとして挙げられる。
前記支持体と保護フィルムとの組合せ（支持体／保護フィルム）としては、例えば、特開２００５−７０７６７号公報の段落番号０１５１に記載の組合せや、ポリエチレンテレフタレート／ポリエチレンテレフタレート等の組合せが挙げられる。 The protective film is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. Examples thereof include those used for the support, silicone paper, polyethylene, polypropylene laminated paper, polyolefin or polytetrafluoro. An ethylene sheet etc. are mentioned, Among these, a polyethylene film, a polypropylene film, etc. are mentioned as a particularly preferable thing.
Examples of the combination of the support and the protective film (support / protective film) include a combination described in paragraph No. 0151 of JP-A-2005-70767, a combination of polyethylene terephthalate / polyethylene terephthalate, and the like.

前記保護フィルムとしては、上述の接着力の関係を満たすために、前記保護フィルムと前記感光層との接着性を調製するために表面処理することが好ましく、例えば、該表面処理の方法としては、特開２００５−７０７６７号公報の段落番号０１５１に記載の方法等が挙げられる。   As the protective film, in order to satisfy the above-described relationship of adhesive strength, it is preferable to perform surface treatment to adjust the adhesion between the protective film and the photosensitive layer. For example, as a method of the surface treatment, Examples include the method described in paragraph No. 0151 of JP-A-2005-70767.

前記その他の層としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、熱可塑性樹脂層、及び中間層などが挙げられる。   There is no restriction | limiting in particular as said other layer, According to the objective, it can select suitably, For example, a thermoplastic resin layer, an intermediate | middle layer, etc. are mentioned.

−熱可塑性樹脂層−
前記熱可塑性樹脂層（以下、「クッション層」と称することもある）は、アルカリ現像を可能とし、また、転写時にはみ出した該熱可塑性樹脂層により被転写体が汚染されるのを防止可能とする観点からアルカリ可溶性であることが好ましく、前記感光性転写材料を被転写体上に転写させる際、該被転写体上に存在する凹凸に起因して発生する転写不良を効果的に防止するクッション材としての機能を有していることが好ましく、該感光性転写材料を前記被転写体上に加熱密着させた際に該被転写体上に存在する凹凸に応じて変形可能であるのがより好ましい。 -Thermoplastic resin layer-
The thermoplastic resin layer (hereinafter sometimes referred to as a “cushion layer”) enables alkali development, and prevents the transfer target from being contaminated by the thermoplastic resin layer protruding during transfer. In view of the above, it is preferably alkali-soluble, and when transferring the photosensitive transfer material onto the transfer object, a cushion that effectively prevents transfer defects caused by unevenness present on the transfer object It preferably has a function as a material, and is more deformable according to the unevenness present on the transferred body when the photosensitive transfer material is heated and adhered onto the transferred body. preferable.

前記熱可塑性樹脂層に用いる材料としては、例えば、特開平５−７２７２４号公報に記載されている有機高分子物質が好ましく、ヴイカーＶｉｃａｔ法（具体的には、アメリカ材料試験法エーエステーエムデーＡＳＴＭＤ１２３５によるポリマー軟化点測定法）による軟化点が約８０℃以下の有機高分子物質より選択されることが特に好ましい。具体的には、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、エチレンと酢酸ビニル又はそのケン化物の様なエチレン共重合体、エチレンとアクリル酸エステル又はそのケン化物、ポリ塩化ビニル、塩化ビニルと酢酸ビニル又はそのケン化物の様な塩化ビニル共重合体、ポリ塩化ビニリデン、塩化ビニリデン共重合体、ポリスチレン、スチレンと（メタ）アクリル酸エステル又はそのケン化物の様なスチレン共重合体、ポリビニルトルエン、ビニルトルエンと（メタ）アクリル酸エステル又はそのケン化物の様なビニルトルエン共重合体、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸ブチルと酢酸ビニル等の（メタ）アクリル酸エステル共重合体、酢酸ビニル共重合体ナイロン、共重合ナイロン、Ｎ−アルコキシメチル化ナイロン、Ｎ−ジメチルアミノ化ナイロンの様なポリアミド樹脂等の有機高分子などが挙げられる。
前記熱可塑性樹脂層の乾燥厚さは、２〜３０μｍが好ましく、５〜２０μｍがより好ましく、７〜１６μｍが特に好ましい。 As the material used for the thermoplastic resin layer, for example, organic polymer substances described in JP-A-5-72724 are preferable, and the Viker Vicat method (specifically, American Material Testing Method ASTM D1235). It is particularly preferred that the softening point by the polymer softening point measurement method according to (1) is selected from organic polymer substances having a temperature of about 80 ° C. or lower. Specifically, polyolefins such as polyethylene and polypropylene, ethylene copolymers such as ethylene and vinyl acetate or saponified products thereof, ethylene and acrylic acid esters or saponified products thereof, polyvinyl chloride, vinyl chloride and vinyl acetate or saponified products thereof. Vinyl chloride copolymer such as fluoride, polyvinylidene chloride, vinylidene chloride copolymer, polystyrene, styrene copolymer such as styrene and (meth) acrylic acid ester or saponified product thereof, polyvinyl toluene, vinyl toluene and (meta ) Vinyl toluene copolymer such as acrylic ester or saponified product thereof, poly (meth) acrylic ester, (meth) acrylic ester copolymer such as butyl (meth) acrylate and vinyl acetate, vinyl acetate copolymer Combined nylon, copolymer nylon, N-alkoxymethylated sodium Ron, and organic polymers of the polyamide resins, such as N- dimethylamino nylon and the like.
The dry thickness of the thermoplastic resin layer is preferably 2 to 30 μm, more preferably 5 to 20 μm, and particularly preferably 7 to 16 μm.

−中間層−
前記中間層は、前記感光層上に設けられ、前記感光性転写材料が前記熱可塑性樹脂層を有する場合には該感光層と該熱可塑性樹脂層との間に設けられる。該感光層と該熱可塑性樹脂層との形成においては有機溶剤を用いるため、該中間層がその間に位置すると、両層が互いに混ざり合うのを防止することができる。 -Intermediate layer-
The intermediate layer is provided on the photosensitive layer, and is provided between the photosensitive layer and the thermoplastic resin layer when the photosensitive transfer material has the thermoplastic resin layer. In forming the photosensitive layer and the thermoplastic resin layer, an organic solvent is used. Therefore, when the intermediate layer is located between them, the layers can be prevented from being mixed with each other.

前記中間層としては、水又はアルカリ水溶液に分散乃至溶解するものが好ましい。
前記中間層の材料としては、公知のものを使用することができ、例えば、特開昭４６−２１２１号公報及び特公昭５６−４０８２４号公報に記載のポリビニルエーテル／無水マレイン酸重合体、カルボキシアルキルセルロースの水溶性塩、水溶性セルロースエーテル類、カルボキシアルキル澱粉の水溶性塩、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド類、水溶性ポリアミド、ポリアクリル酸の水溶性塩、ゼラチン、エチレンオキサイド重合体、各種澱粉及びその類似物からなる群の水溶性塩、スチレン／マレイン酸の共重合体、マレイネート樹脂、などが挙げられる。
これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。これらの中でも親水性高分子を使用するのが好ましく、該親水性高分子の中でも、少なくともポリビニルアルコールを使用するのが好ましく、ポリビニルアルコールとポリビニルピロリドンとの併用が特に好ましい。 The intermediate layer is preferably dispersed or dissolved in water or an aqueous alkali solution.
As the material for the intermediate layer, known materials can be used. For example, polyvinyl ether / maleic anhydride polymer, carboxyalkyl described in JP-A No. 46-2121 and JP-B No. 56-40824 Water-soluble salt of cellulose, water-soluble cellulose ether, water-soluble salt of carboxyalkyl starch, polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, polyacrylamide, water-soluble polyamide, water-soluble salt of polyacrylic acid, gelatin, ethylene oxide polymer, various Water soluble salts of the group consisting of starch and the like, styrene / maleic acid copolymers, maleate resins, and the like.
These may be used alone or in combination of two or more. Among these, it is preferable to use a hydrophilic polymer, and among these hydrophilic polymers, it is preferable to use at least polyvinyl alcohol, and a combination of polyvinyl alcohol and polyvinyl pyrrolidone is particularly preferable.

前記ポリビニルアルコールとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、その鹸化率は８０％以上が好ましい。
前記ポリビニルピロリドンを使用する場合、その含有量としては、該中間層の固形分に対し、１〜７５体積％が好ましく、１〜６０体積％がより好ましく、１０〜５０体積％が特に好ましい。
前記含有量が、１体積％未満であると、前記感光層との十分な密着性が得られないことがあり、一方、７５体積％を超えると、酸素遮断能が低下することがあり、好ましくない。 There is no restriction | limiting in particular as said polyvinyl alcohol, Although it can select suitably according to the objective, The saponification rate has preferable 80% or more.
When using the said polyvinyl pyrrolidone, as content, 1-75 volume% is preferable with respect to solid content of this intermediate | middle layer, 1-60 volume% is more preferable, 10-50 volume% is especially preferable.
When the content is less than 1% by volume, sufficient adhesion to the photosensitive layer may not be obtained. On the other hand, when the content exceeds 75% by volume, the oxygen-blocking ability may be decreased. Absent.

前記中間層は、酸素透過率が小さいことが好ましい。前記中間層の酸素透過率が大きく酸素遮断能が低い場合には、前記感光層に対する露光時における光量をアップする必要を生じたり、露光時間を長くする必要が生ずることがあり、解像度も低下してしまうことがある。   The intermediate layer preferably has a low oxygen permeability. When the oxygen permeability of the intermediate layer is large and the oxygen blocking ability is low, it may be necessary to increase the amount of light at the time of exposure to the photosensitive layer, or it may be necessary to lengthen the exposure time, and the resolution also decreases. May end up.

前記中間層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、０．１〜５μｍ程度であるのが好ましく、０．５〜２μｍがより好ましい。
前記厚みが、０．１μｍ未満であると、酸素透過性が高過ぎてしまうことがあり、５μｍを超えると、現像時や中間層除去時に長時間を要し、好ましくない。 There is no restriction | limiting in particular as thickness of the said intermediate | middle layer, According to the objective, it can select suitably, It is preferable that it is about 0.1-5 micrometers, and 0.5-2 micrometers is more preferable.
If the thickness is less than 0.1 μm, oxygen permeability may be too high, and if it exceeds 5 μm, it takes a long time for development or removal of the intermediate layer, which is not preferable.

前記感光性転写材料の構造としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記支持体上に、熱可塑性樹脂層と、中間層と、感光層とを、この順に有してなる形態などが挙げられる。なお、前記感光層は、単層であってもよいし、複数層であってもよい。   The structure of the photosensitive transfer material is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the purpose. For example, a thermoplastic resin layer, an intermediate layer, and a photosensitive layer are formed on the support. The form etc. which have in order are mentioned. The photosensitive layer may be a single layer or a plurality of layers.

前記感光性転写材料は、例えば、円筒状の巻芯に巻き取って、長尺状でロール状に巻かれて保管されるのが好ましい。前記長尺状の感光性転写材料の長さとしては、特に制限はなく、例えば、１０ｍ〜２０，０００ｍの範囲から適宜選択することができる。また、ユーザーが使いやすいようにスリット加工し、１００ｍ〜１，０００ｍの範囲の長尺体をロール状にしてもよい。なお、この場合には、前記支持体が一番外側になるように巻き取られるのが好ましい。また、前記ロール状の感光性転写材料をシート状にスリットしてもよい。保管の際、端面の保護、エッジフュージョンを防止する観点から、端面にはセパレーター（特に防湿性のもの、乾燥剤入りのもの）を設置するのが好ましく、また梱包も透湿性の低い素材を用いるのが好ましい。   The photosensitive transfer material is preferably stored, for example, wound around a cylindrical core, wound in a long roll shape. There is no restriction | limiting in particular as the length of the said elongate photosensitive transfer material, For example, it can select suitably from the range of 10m-20,000m. Further, slitting may be performed so that the user can easily use, and a long body in the range of 100 m to 1,000 m may be formed into a roll. In this case, it is preferable that the support is wound up so as to be the outermost side. The roll-shaped photosensitive transfer material may be slit into a sheet shape. When storing, from the viewpoint of protecting the end face and preventing edge fusion, it is preferable to install a separator (particularly moisture-proof and containing a desiccant) on the end face, and use a low moisture-permeable material for packaging. Is preferred.

前記感光性転写材料は、カラーフィルタや柱材、リブ材、スペーサー、隔壁などのディスプレイ用部材などのパターン形成用として広く用いることができ、これらの中でも、本発明のカラーフィルタの製造方法に好適に用いることができる。   The photosensitive transfer material can be widely used for pattern formation of display members such as color filters, pillars, ribs, spacers, partition walls, etc. Among them, suitable for the method for producing a color filter of the present invention. Can be used.

なお、前記第２の態様の感光層形成方法により形成された感光層を有する積層体への露光方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記感光層が支持体上にクッション層を介して存在するフィルム状の感光性転写材料を積層した場合は、前記支持体、必要に応じてクッション層も剥離した後、前記中間層（酸素遮断層）を介して前記感光層を露光することが好ましい。   In addition, there is no restriction | limiting in particular as an exposure method to the laminated body which has the photosensitive layer formed by the photosensitive layer forming method of the said 2nd aspect, According to the objective, it can select suitably, For example, the said photosensitive layer In the case where a film-like photosensitive transfer material is laminated on a support via a cushion layer, the support and, if necessary, the cushion layer are also peeled off, and then the intermediate layer (oxygen barrier layer) is interposed. It is preferable to expose the photosensitive layer.

＜感光層＞
前記感光層形成工程で形成される感光層（カラーレジスト層）としては、少なくともバインダー、着色剤、重合性化合物、及び光重合開始剤を含み、更に必要に応じて適宜選択されるその他の成分を含む感光性組成物を用いて形成されてなる。 <Photosensitive layer>
The photosensitive layer (color resist layer) formed in the photosensitive layer forming step includes at least a binder, a colorant, a polymerizable compound, and a photopolymerization initiator, and further includes other components appropriately selected as necessary. It is formed using the photosensitive composition containing.

＜＜バインダー＞＞
前記バインダーとしては、例えば、アルカリ性水溶液に対して膨潤性であるのが好ましく、アルカリ性水溶液に対して可溶性であるのがより好ましい。
アルカリ性水溶液に対して膨潤性又は溶解性を示すバインダーとしては、例えば、酸性基を有するものが好適に挙げられる。 << Binder >>
For example, the binder is preferably swellable in an alkaline aqueous solution, and more preferably soluble in an alkaline aqueous solution.
As the binder exhibiting swellability or solubility with respect to the alkaline aqueous solution, for example, those having an acidic group are preferably exemplified.

前記酸性基としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基などが挙げられ、これらの中でもカルボキシル基が好ましい。
カルボキシル基を有するバインダーとしては、例えば、カルボキシル基を有するビニル共重合体、ポリウレタン樹脂、ポリアミド酸樹脂、変性エポキシ樹脂などが挙げられ、これらの中でも、塗布溶媒への溶解性、アルカリ現像液への溶解性、合成適性、膜物性の調製の容易さ等の観点からカルボキシル基を有するビニル共重合体が好ましい。 There is no restriction | limiting in particular as said acidic group, According to the objective, it can select suitably, For example, a carboxyl group, a sulfonic acid group, a phosphoric acid group etc. are mentioned, Among these, a carboxyl group is preferable.
Examples of the binder having a carboxyl group include a vinyl copolymer having a carboxyl group, a polyurethane resin, a polyamic acid resin, and a modified epoxy resin. Among these, the solubility in a coating solvent, the solubility in an alkali developer, and the like. From the viewpoints of solubility, suitability for synthesis, ease of preparation of film properties, etc., a vinyl copolymer having a carboxyl group is preferred.

前記カルボキシル基を有するビニル共重合体は、少なくとも（１）カルボキシル基を有するビニルモノマー、及び（２）これらと共重合可能なモノマーとの共重合により得ることができる。   The vinyl copolymer having a carboxyl group can be obtained by copolymerization of at least (1) a vinyl monomer having a carboxyl group, and (2) a monomer copolymerizable therewith.

前記カルボキシル基を有するビニルモノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸、ビニル安息香酸、マレイン酸、マレイン酸モノアルキルエステル、フマル酸、イタコン酸、クロトン酸、桂皮酸、アクリル酸ダイマー、水酸基を有する単量体（例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等）と環状無水物（例えば、無水マレイン酸や無水フタル酸、シクロヘキサンジカルボン酸無水物）との付加反応物、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。これらの中でも、共重合性やコスト、溶解性などの観点から（メタ）アクリル酸が特に好ましい。
また、カルボキシル基の前駆体として無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸等の無水物を有するモノマーを用いてもよい。 Examples of the vinyl monomer having a carboxyl group include (meth) acrylic acid, vinyl benzoic acid, maleic acid, maleic acid monoalkyl ester, fumaric acid, itaconic acid, crotonic acid, cinnamic acid, acrylic acid dimer, and hydroxyl group. An addition reaction product of a monomer (for example, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate) and a cyclic anhydride (for example, maleic anhydride, phthalic anhydride, cyclohexanedicarboxylic anhydride), ω-carboxy-polycaprolactone mono Examples include (meth) acrylate. Among these, (meth) acrylic acid is particularly preferable from the viewpoints of copolymerizability, cost, solubility, and the like.
Moreover, you may use the monomer which has anhydrides, such as maleic anhydride, itaconic anhydride, and citraconic anhydride, as a precursor of a carboxyl group.

前記その他の共重合可能なモノマーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、（メタ）アクリル酸エステル類、クロトン酸エステル類、ビニルエステル類、マレイン酸ジエステル類、フマル酸ジエステル類、イタコン酸ジエステル類、（メタ）アクリルアミド類、ビニルエーテル類、ビニルアルコールのエステル類、スチレン類、（メタ）アクリロニトリル、ビニル基が置換した複素環式基（例えば、ビニルピリジン、ビニルピロリドン、ビニルカルバゾール等）、Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ−ビニルアセトアミド、Ｎ−ビニルイミダゾール、ビニルカプロラクトン、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、リン酸モノ（２―アクリロイルオキシエチルエステル）、リン酸モノ（１−メチル−２―アクリロイルオキシエチルエステル）、官能基（例えば、ウレタン基、ウレア基、スルホンアミド基、フェノール基、イミド基）を有するビニルモノマーなどが挙げられる。   The other copolymerizable monomer is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. Examples thereof include (meth) acrylic acid esters, crotonic acid esters, vinyl esters, and maleic acid diesters. , Fumaric acid diesters, itaconic acid diesters, (meth) acrylamides, vinyl ethers, esters of vinyl alcohol, styrenes, (meth) acrylonitrile, heterocyclic groups substituted with vinyl groups (eg, vinylpyridine, Vinylpyrrolidone, vinylcarbazole, etc.), N-vinylformamide, N-vinylacetamide, N-vinylimidazole, vinylcaprolactone, 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid, phosphoric acid mono (2-acryloyloxyethyl ester), phosphorus Acid mono (1- Chill-2-acryloyloxyethyl ester), functional groups (e.g., a urethane group, a urea group, a sulfonamide group, a phenol group and a vinyl monomer and the like having an imide group).

前記（メタ）アクリル酸エステル類としては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ｔ−オクチル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、オクタデシル（メタ）アクリレート、アセトキシエチル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、２−（２−メトキシエトキシ）エチル（メタ）アクリレート、３−フェノキシ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールモノエチルエーテル（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールモノフェニルエーテル（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールモノエチルエーテル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノエチルエーテル（メタ）アクリレート、β−フェノキシエトキシエチルアクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、オクタフルオロペンチル（メタ）アクリレート、パーフルオロクチルエチル（メタ）アクリレート、トリブロモフェニル（メタ）アクリレート、トリブロモフェニルオキシエチル（メタ）アクリレートなどが挙げられる。   Examples of the (meth) acrylic acid esters include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, and isobutyl (meth) ) Acrylate, t-butyl (meth) acrylate, n-hexyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, t-butylcyclohexyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, t-octyl (meth) acrylate, Dodecyl (meth) acrylate, octadecyl (meth) acrylate, acetoxyethyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-methoxyethyl (meth) acrylate 2-ethoxyethyl (meth) acrylate, 2- (2-methoxyethoxy) ethyl (meth) acrylate, 3-phenoxy-2-hydroxypropyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, diethylene glycol monomethyl ether (meta ) Acrylate, diethylene glycol monoethyl ether (meth) acrylate, diethylene glycol monophenyl ether (meth) acrylate, triethylene glycol monomethyl ether (meth) acrylate, triethylene glycol monoethyl ether (meth) acrylate, polyethylene glycol monomethyl ether (meth) acrylate , Polyethylene glycol monoethyl ether (meth) acrylate, β-phenoxyethoxyethyl acrylate, Nylphenoxypolyethylene glycol (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, trifluoroethyl (meth) acrylate, octafluoropentyl (meth) Examples include acrylate, perfluorooctylethyl (meth) acrylate, tribromophenyl (meth) acrylate, and tribromophenyloxyethyl (meth) acrylate.

前記クロトン酸エステル類としては、例えば、クロトン酸ブチル、クロトン酸ヘキシルなどが挙げられる。   Examples of the crotonic acid esters include butyl crotonate and hexyl crotonate.

前記ビニルエステル類としては、例えば、ビニルアセテート、ビニルプロピオネート、ビニルブチレート、ビニルメトキシアセテート、安息香酸ビニルなどが挙げられる。   Examples of the vinyl esters include vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, vinyl methoxyacetate, vinyl benzoate, and the like.

前記マレイン酸ジエステル類としては、例えば、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、マレイン酸ジブチルなどが挙げられる。   Examples of the maleic acid diesters include dimethyl maleate, diethyl maleate, and dibutyl maleate.

前記フマル酸ジエステル類としては、例えば、フマル酸ジメチル、フマル酸ジエチル、フマル酸ジブチルなどが挙げられる。   Examples of the fumaric acid diesters include dimethyl fumarate, diethyl fumarate, dibutyl fumarate and the like.

前記イタコン酸ジエステル類としては、例えば、イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタコン酸ジブチルなどが挙げられる。   Examples of the itaconic acid diesters include dimethyl itaconate, diethyl itaconate, and dibutyl itaconate.

前記（メタ）アクリルアミド類としては、例えば、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−エチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−プロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ｎ−ブチルアクリル（メタ）アミド、Ｎ−ｔ−ブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（２−メトキシエチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ、Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−フェニル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ベンジル（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリロイルモルホリン、ジアセトンアクリルアミドなどが挙げられる。   Examples of the (meth) acrylamides include (meth) acrylamide, N-methyl (meth) acrylamide, N-ethyl (meth) acrylamide, N-propyl (meth) acrylamide, N-isopropyl (meth) acrylamide, N- n-butyl acrylic (meth) amide, Nt-butyl (meth) acrylamide, N-cyclohexyl (meth) acrylamide, N- (2-methoxyethyl) (meth) acrylamide, N, N-dimethyl (meth) acrylamide, Examples thereof include N, N-diethyl (meth) acrylamide, N-phenyl (meth) acrylamide, N-benzyl (meth) acrylamide, (meth) acryloylmorpholine, diacetone acrylamide and the like.

前記スチレン類としては、例えば、スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、ヒドロキシスチレン、メトキシスチレン、ブトキシスチレン、アセトキシスチレン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、クロロメチルスチレン、酸性物質により脱保護可能な基（例えば、ｔ-Ｂｏｃ等）で保護されたヒドロキシスチレン、ビニル安息香酸メチル、α−メチルスチレンなどが挙げられる。   Examples of the styrenes include styrene, methyl styrene, dimethyl styrene, trimethyl styrene, ethyl styrene, isopropyl styrene, butyl styrene, hydroxy styrene, methoxy styrene, butoxy styrene, acetoxy styrene, chlorostyrene, dichlorostyrene, bromostyrene, chloro Examples include methylstyrene, hydroxystyrene protected with a group that can be deprotected by an acidic substance (for example, t-Boc and the like), methyl vinylbenzoate, α-methylstyrene, and the like.

前記ビニルエーテル類としては、例えば、メチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、ヘキシルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテルなどが挙げられる。   Examples of the vinyl ethers include methyl vinyl ether, butyl vinyl ether, hexyl vinyl ether, and methoxyethyl vinyl ether.

また、上記以外の前記その他の共重合可能なモノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、スチレン、クロルスチレン、ブロモスチレン、ヒドロキシスチレンなどが好適に挙げられる。   Examples of the other copolymerizable monomers other than those described above include, for example, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, and (meth) acrylic. Preferable examples include 2-ethylhexyl acid, styrene, chlorostyrene, bromostyrene, and hydroxystyrene.

前記その他の共重合可能なモノマーは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。   The said other copolymerizable monomer may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

前記ビニル共重合体は、それぞれ相当するモノマーを公知の方法により常法に従って共重合させることで調製することができる。例えば、前記モノマーを適当な溶媒中に溶解し、ここにラジカル重合開始剤を添加して溶液中で重合させる方法（溶液重合法）を利用することにより調製することができる。また、水性媒体中に前記モノマーを分散させた状態でいわゆる乳化重合等で重合を利用することにより調製することができる。   The vinyl copolymer can be prepared by copolymerizing the corresponding monomers by a known method according to a conventional method. For example, it can be prepared by using a method (solution polymerization method) in which the monomer is dissolved in a suitable solvent and a radical polymerization initiator is added thereto to polymerize in a solution. Moreover, it can prepare by utilizing superposition | polymerization by what is called emulsion polymerization etc. in the state which disperse | distributed the said monomer in the aqueous medium.

前記溶液重合法で用いられる適当な溶媒としては、特に制限はなく、使用するモノマー、及び生成する共重合体の溶解性等に応じて適宜選択することができ、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、１−メトキシ−２−プロパノール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メトキシプロピルアセテート、乳酸エチル、酢酸エチル、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、クロロホルム、トルエンなどが挙げられる。これらの溶媒は、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。   The suitable solvent used in the solution polymerization method is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the monomer used and the solubility of the copolymer to be produced. For example, methanol, ethanol, propanol, Examples include isopropanol, 1-methoxy-2-propanol, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, methoxypropyl acetate, ethyl lactate, ethyl acetate, acetonitrile, tetrahydrofuran, dimethylformamide, chloroform, toluene and the like. These solvents may be used alone or in combination of two or more.

前記ラジカル重合開始剤としては、特に制限はなく、例えば、２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）（ＡＩＢＮ）、２，２’−アゾビス−（２，４’−ジメチルバレロニトリル）等のアゾ化合物、ベンゾイルパーオキシド等の過酸化物、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム等の過硫酸塩などが挙げられる。   The radical polymerization initiator is not particularly limited, and examples thereof include 2,2′-azobis (isobutyronitrile) (AIBN) and 2,2′-azobis- (2,4′-dimethylvaleronitrile). Examples thereof include peroxides such as azo compounds and benzoyl peroxide, and persulfates such as potassium persulfate and ammonium persulfate.

前記ビニル共重合体におけるカルボキシル基を有する重合性化合物の含有率としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、５〜５０モル％が好ましく、１０〜４０モル％がより好ましく、１５〜３５モル％が特に好ましい。
前記含有率が、５モル％未満であると、アルカリ水への現像性が不足することがあり、５０モル％を超えると、硬化部（画素部、画像部）の現像液耐性が不足することがある。 There is no restriction | limiting in particular as content rate of the polymeric compound which has a carboxyl group in the said vinyl copolymer, Although it can select suitably according to the objective, For example, 5-50 mol% is preferable, 10-40 mol % Is more preferable, and 15 to 35 mol% is particularly preferable.
If the content is less than 5 mol%, developability to alkaline water may be insufficient, and if it exceeds 50 mol%, the developer resistance of the cured portion (pixel portion, image portion) may be insufficient. There is.

前記カルボキシル基を有するバインダーの分子量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、重量平均分子量として、２，０００〜３００，０００が好ましく、４，０００〜１５０，０００がより好ましい。
前記重量平均分子量が、２，０００未満であると、膜の強度が不足しやすく、また安定な製造が困難になることがあり、３００，０００を超えると、現像性が低下することがある。 There is no restriction | limiting in particular as molecular weight of the binder which has the said carboxyl group, Although it can select suitably according to the objective, For example, 2,000-300,000 are preferable as a weight average molecular weight, 4,000-150 1,000 is more preferable.
When the weight average molecular weight is less than 2,000, the strength of the film tends to be insufficient and stable production may be difficult, and when it exceeds 300,000, developability may be deteriorated.

前記カルボキシル基を有するバインダーは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。前記バインダーを２種以上併用する場合としては、例えば、異なる共重合成分からなる２種以上のバインダー、異なる重量平均分子量の２種以上のバインダー、異なる分散度の２種以上のバインダー、などの組合せが挙げられる。   The binder which has the said carboxyl group may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together. When two or more binders are used in combination, for example, a combination of two or more binders composed of different copolymerization components, two or more binders having different weight average molecular weights, two or more binders having different degrees of dispersion, etc. Is mentioned.

前記カルボキシル基を有するバインダーは、そのカルボキシル基の一部又は全部が塩基性物質で中和されていてもよい。また、前記バインダーは、さらにポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、ポリビニルアルコール、ゼラチン等の構造の異なる樹脂を併用してもよい。   The binder having a carboxyl group may be partially or entirely neutralized with a basic substance. The binder may be used in combination with resins having different structures such as polyester resin, polyamide resin, polyurethane resin, epoxy resin, polyvinyl alcohol, and gelatin.

また、前記バインダーとしては、特許第２８７３８８９号明細書に記載のアルカリ水溶液に可溶な樹脂などを用いることができる。   Moreover, as the binder, a resin soluble in an alkaline aqueous solution described in Japanese Patent No. 2873889 can be used.

前記感光層における前記バインダーの含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、５〜８０質量％が好ましく、１０〜７０質量％がより好ましく、１５〜５０質量％が特に好ましい。
前記含有量が５質量％未満であると、アルカリ現像性が低下することがあり、８０質量％を超えると、現像時間に対する安定性が低下することがある。なお、前記含有量は、前記バインダーと必要に応じて併用される高分子結合剤との合計の含有量であってもよい。 There is no restriction | limiting in particular as content of the said binder in the said photosensitive layer, Although it can select suitably according to the objective, For example, 5-80 mass% is preferable, 10-70 mass% is more preferable, 15-15 50% by mass is particularly preferred.
When the content is less than 5% by mass, the alkali developability may be lowered, and when it exceeds 80% by mass, the stability with respect to the development time may be lowered. The content may be the total content of the binder and the polymer binder used in combination as necessary.

前記バインダーの酸価としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、７０〜２５０ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましく、９０〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇがより好ましく、１００〜１８０ｍｇＫＯＨ／ｇが特に好ましい。
前記酸価が、７０ｍｇＫＯＨ／ｇ未満であると、現像性が不足したり、解像性が劣り、パターンを高精細に得ることができないことがあり、２５０ｍｇＫＯＨ／ｇを超えると、パターンの耐現像液性及び密着性の少なくともいずれかが悪化し、パターンを高精細に得ることができないことがある。 The acid value of the binder is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. For example, it is preferably 70 to 250 mgKOH / g, more preferably 90 to 200 mgKOH / g, and 100 to 180 mgKOH / g. Particularly preferred.
When the acid value is less than 70 mgKOH / g, the developability may be insufficient or the resolution may be inferior, and the pattern may not be obtained with high definition. At least one of the liquidity and the adhesiveness may deteriorate, and the pattern may not be obtained with high definition.

＜＜重合性化合物＞＞
前記重合性化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、分子中に少なくとも１個の付加重合可能な基を有し、沸点が常圧で１００℃以上である化合物が好ましく、例えば、（メタ）アクリル基を有するモノマーから選択される少なくとも１種が好適に挙げられる。 << polymerizable compound >>
The polymerizable compound is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. However, the polymerizable compound has at least one addition-polymerizable group in the molecule and has a boiling point of 100 ° C. or higher at normal pressure. A compound is preferable, for example, at least 1 sort (s) selected from the monomer which has a (meth) acryl group is mentioned suitably.

前記（メタ）アクリル基を有するモノマーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート等の単官能アクリレートや単官能メタクリレート；ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリトリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリトリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリトリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリトリトールペンタ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリ（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、トリ（アクリロイルオキシエチル）シアヌレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンやグリセリン、ビスフェノール等の多官能アルコールに、エチレンオキサイドやプロピレンオキサイドを付加反応した後で（メタ）アクリレート化したもの、特公昭４８−４１７０８号、特公昭５０−６０３４号、特開昭５１−３７１９３号等の各公報に記載されているウレタンアクリレート類；特開昭４８−６４１８３号、特公昭４９−４３１９１号、特公昭５２−３０４９０号等の各公報に記載されているポリエステルアクリレート類；エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸の反応生成物であるエポキシアクリレート類等の多官能アクリレートやメタクリレートなどが挙げられる。これらの中でも、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリトリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリトリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリトリトールペンタ（メタ）アクリレートが特に好ましい。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。   There is no restriction | limiting in particular as a monomer which has the said (meth) acryl group, According to the objective, it can select suitably, For example, polyethyleneglycol mono (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) ) Monofunctional acrylates and monofunctional methacrylates such as acrylates; polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolethane triacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane diacrylate, neopentylglycol di (Meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (Meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, hexanediol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, tri (acryloyloxyethyl) cyanurate, glycerin Poly (functional) alcohols such as tri (meth) acrylate, trimethylolpropane, glycerin, bisphenol, etc., which are subjected to addition reaction with ethylene oxide and propylene oxide, and converted to (meth) acrylate, Japanese Patent Publication No. 48-41708, Japanese Patent Publication No. 50- Urethane acrylates described in JP-A-6034, JP-A-51-37193, etc .; JP-A-48-64183, JP-B-49-43191, JP-B-52-30 Polyester acrylates described in each publication of such 90 No.; and epoxy resin and (meth) polyfunctional acrylates or methacrylates such as epoxy acrylates which are reaction products of acrylic acid. Among these, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, and dipentaerythritol penta (meth) acrylate are particularly preferable. These may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.

前記重合性化合物の前記感光性組成物固形分中の固形分含有量は、１０〜６０質量％が好ましく、１５〜５０質量％がより好ましく、２０〜４０質量％が特に好ましい。該固形分含有量が１０質量％未満であると、現像性の悪化、露光感度の低下などの問題を生ずることがあり、６０質量％を超えると、感光層の粘着性が強くなりすぎることがあり、好ましくない。
前記重合性化合物と前記バインダーの比率は、質量比で、重合性化合物／バインダー＝０．５〜１．５が好ましく、０．６〜１．２がより好ましく、０．６５〜１．１が特に好ましい。この範囲を超えると、現像時に残渣が生じるなどの問題が生じることがあり、この範囲未満では、完成したカラーフィルタの耐性が低下することがある。 10-60 mass% is preferable, as for solid content in the said photosensitive composition solid content of the said polymeric compound, 15-50 mass% is more preferable, and 20-40 mass% is especially preferable. If the solid content is less than 10% by mass, problems such as deterioration in developability and reduction in exposure sensitivity may occur, and if it exceeds 60% by mass, the adhesiveness of the photosensitive layer may become too strong. Yes, not preferred.
The ratio of the polymerizable compound and the binder is a mass ratio, preferably polymerizable compound / binder = 0.5 to 1.5, more preferably 0.6 to 1.2, and 0.65 to 1.1. Particularly preferred. If this range is exceeded, problems such as residues may occur during development, and if it is less than this range, the durability of the completed color filter may be reduced.

＜＜光重合開始剤＞＞
前記光重合開始剤としては、前記重合性化合物の重合を開始する能力を有する限り、特に制限はなく、公知の光重合開始剤の中から適宜選択することができるが、例えば、紫外線領域から可視の光線に対して感光性を有するものが好ましく、光励起された増感剤と何らかの作用を生じ、活性ラジカルを生成する活性剤であってもよく、モノマーの種類に応じてカチオン重合を開始させるような開始剤であってもよい。
また、前記光重合開始剤は、約３００〜８００ｎｍ（より好ましくは３３０〜５００ｎｍ）の範囲内に少なくとも約５０の分子吸光係数を有する成分を少なくとも１種含有していることが好ましい。 << photopolymerization initiator >>
The photopolymerization initiator is not particularly limited as long as it has the ability to initiate polymerization of the polymerizable compound, and can be appropriately selected from known photopolymerization initiators. For example, it is visible from the ultraviolet region. It is preferable to have photosensitivity to the light, and it may be an activator that produces some kind of action with a photoexcited sensitizer and generates active radicals, and initiates cationic polymerization depending on the type of monomer. Initiator may be used.
The photopolymerization initiator preferably contains at least one component having a molecular extinction coefficient of at least about 50 within a range of about 300 to 800 nm (more preferably 330 to 500 nm).

前記光重合開始剤としては、例えば、ハロゲン化炭化水素誘導体（例えば、トリアジン骨格を有するもの、オキサジアゾール骨格を有するもの等）、ホスフィンオキサイド、ヘキサアリールビイミダゾール、オキシム誘導体、有機過酸化物、チオ化合物、ケトン化合物、芳香族オニウム塩、ケトオキシムエーテルなどが挙げられる。   Examples of the photopolymerization initiator include halogenated hydrocarbon derivatives (for example, those having a triazine skeleton, those having an oxadiazole skeleton), phosphine oxide, hexaarylbiimidazole, oxime derivatives, organic peroxides, Examples include thio compounds, ketone compounds, aromatic onium salts, ketoxime ethers, and the like.

前記トリアジン骨格を有するハロゲン化炭化水素化合物としては、例えば、若林ら著、Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｊａｐａｎ、４２、２９２４（１９６９）記載の化合物、英国特許第第１３８８４９２号明細書に記載の化合物、特開昭５３−１３３４２８号公報記載の化合物、独国特許第第３３３７０２４号明細書に記載の化合物、Ｆ．Ｃ．Ｓｃｈａｅｆｅｒ等によるＪ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．；２９、１５２７（１９６４）記載の化合物、特開昭６２−５８２４１号公報記載の化合物、特開平５−２８１７２８号公報記載の化合物、特開平５−３４９２０号公報記載の化合物、米国特許第第４２１２９７６号明細書に記載されている化合物、などが挙げられる。   Examples of the halogenated hydrocarbon compound having a triazine skeleton include those described in Wakabayashi et al., Bull. Chem. Soc. Japan, 42, 2924 (1969), a compound described in British Patent No. 1388492, a compound described in JP-A-53-133428, a compound described in German Patent No. 3333724 , F. C. J. Schaefer et al. Org. Chem. 29, 1527 (1964), a compound described in JP-A-62-258241, a compound described in JP-A-5-281728, a compound described in JP-A-5-34920, and U.S. Pat. No. 4,221,976. Compounds described in the specification, and the like.

更に、米国特許第第２３６７６６０号明細書に記載されているビシナルポリケタルドニル化合物、米国特許第第２４４８８２８号明細書に記載されているアシロインエーテル化合物、米国特許第第２７２２５１２号明細書に記載されているのα−炭化水素で置換された芳香族アシロイン化合物、米国特許第第３０４６１２７号明細書及び米国特許第第２９５１７５８号明細書に記載の多核キノン化合物、特開２００２−２２９１９４号公報に記載の有機ホウ素化合物、ラジカル発生剤、トリアリールスルホニウム塩（例えば、ヘキサフルオロアンチモンやヘキサフルオロホスフェートとの塩）、ホスホニウム塩化合物（例えば、（フェニルチオフェニル）ジフェニルスルホニウム塩等）（カチオン重合開始剤として有効）、国際公開第０１／７１４２８号パンフレットに記載のオニウム塩化合物などが挙げられる。   Further, the vicinal polyketaldonyl compound described in US Pat. No. 2,367,660, the acyloin ether compound described in US Pat. No. 2,448,828, and US Pat. No. 2,722,512 Aromatic acyloin compounds substituted with α-hydrocarbons described above, polynuclear quinone compounds described in US Pat. No. 3,046,127 and US Pat. No. 2,951,758, JP-A-2002-229194 Organic boron compounds, radical generators, triarylsulfonium salts (for example, salts with hexafluoroantimony and hexafluorophosphate), phosphonium salt compounds (for example, (phenylthiophenyl) diphenylsulfonium salts, etc.) (cationic polymerization initiators) Effective), International 01 / Such as onium salt compounds described in 1428 pamphlet can be mentioned.

前記若林ら著、Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｊａｐａｎ、４２、２９２４（１９６９）記載の化合物としては、例えば、２−フェニル−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−クロルフェニル）−４、６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−トリル）−４、６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，４−ジクロルフェニル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−メチル−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−ｎ−ノニル−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、及び２−（α，α，β−トリクロルエチル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジンなどが挙げられる。   Wakabayashi et al., Bull. Chem. Soc. As a compound described in Japan, 42, 2924 (1969), for example, 2-phenyl-4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, 2- (4-chlorophenyl) -4,6 -Bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, 2- (4-tolyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, 2- (4-methoxyphenyl)- 4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, 2- (2,4-dichlorophenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, 2, 4,6-tris (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, 2-methyl-4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, 2-n-nonyl-4,6- Bis (trichloromethyl) 1,3,5-triazine, and 2-(alpha, alpha, beta-trichloroethyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine.

前記英国特許第第１３８８４９２号明細書に記載の化合物としては、例えば、２−スチリル−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−メチルスチリル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−メトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−メトキシスチリル）−４−アミノ−６−トリクロルメチル−１，３，５−トリアジンなどが挙げられる。
前記特開昭５３−１３３４２８号公報に記載の化合物としては、例えば、２−（４−メトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−エトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−〔４−（２−エトキシエチル）−ナフト−１−イル〕−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４，７−ジメトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジン、及び２−（アセナフト−５−イル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−１，３，５−トリアジンなどが挙げられる。 Examples of the compound described in the British Patent No. 1388492 include 2-styryl-4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, 2- (4-methylstyryl) -4. , 6-Bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, 2- (4-methoxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, 2- (4-methoxy) Styryl) -4-amino-6-trichloromethyl-1,3,5-triazine and the like.
Examples of the compound described in JP-A-53-133428 include 2- (4-methoxy-naphth-1-yl) -4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, 2- (4-Ethoxy-naphth-1-yl) -4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, 2- [4- (2-ethoxyethyl) -naphth-1-yl] -4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, 2- (4,7-dimethoxy-naphth-1-yl) -4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5 -Triazine, 2- (acenaphtho-5-yl) -4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine and the like.

前記独国特許第第３３３７０２４号明細書に記載の化合物としては、例えば、２−（４−スチリルフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−（４−メトキシスチリル）フェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（１−ナフチルビニレンフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−クロロスチリルフェニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−チオフェン−２−ビニレンフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−チオフェン−３−ビニレンフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−フラン−２−ビニレンフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、及び２−（４−ベンゾフラン−２−ビニレンフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジンなどが挙げられる。   Examples of the compound described in German Patent No. 3333724 include 2- (4-styrylphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, 2- (4 -(4-methoxystyryl) phenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, 2- (1-naphthylvinylenephenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -1, 3,5-triazine, 2-chlorostyrylphenyl-4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, 2- (4-thiophen-2-vinylenephenyl) -4,6-bis (trichloro Methyl) -1,3,5-triazine, 2- (4-thiophene-3-vinylenephenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, 2- (4-furan -2-vinylenephenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, and 2- (4-benzofuran-2-vinylenephenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -1 , 3,5-triazine and the like.

前記Ｆ．Ｃ．Ｓｃｈａｅｆｅｒ等によるＪ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．；２９、１５２７（１９６４）記載の化合物としては、例えば、２−メチル−４、６−ビス（トリブロモメチル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（トリブロモメチル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（ジブロモメチル）−１，３，５−トリアジン、２−アミノ−４−メチル−６−トリ（ブロモメチル）−１，３，５−トリアジン、及び２−メトキシ−４−メチル−６−トリクロロメチル−１，３，５−トリアジンなどが挙げられる。   F. above. C. J. Schaefer et al. Org. Chem. 29, 1527 (1964) include, for example, 2-methyl-4,6-bis (tribromomethyl) -1,3,5-triazine, 2,4,6-tris (tribromomethyl); -1,3,5-triazine, 2,4,6-tris (dibromomethyl) -1,3,5-triazine, 2-amino-4-methyl-6-tri (bromomethyl) -1,3,5- Examples include triazine and 2-methoxy-4-methyl-6-trichloromethyl-1,3,5-triazine.

前記特開昭６２−５８２４１号公報に記載の化合物としては、例えば、２−（４−フェニルエチニルフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−ナフチル−１−エチニルフェニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−（４−トリルエチニル）フェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−（４−メトキシフェニル）エチニルフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−（４−イソプロピルフェニルエチニル）フェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（４−（４−エチルフェニルエチニル）フェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジンなどが挙げられる。   Examples of the compound described in JP-A-62-258241 include 2- (4-phenylethynylphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, 2- (4 -Naphtyl-1-ethynylphenyl-4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, 2- (4- (4-tolylethynyl) phenyl) -4,6-bis (trichloromethyl)- 1,3,5-triazine, 2- (4- (4-methoxyphenyl) ethynylphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, 2- (4- (4-isopropyl) Phenylethynyl) phenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, 2- (4- (4-ethylphenylethynyl) phenyl) -4,6-bis (trichloro Chill) -1,3,5-triazine.

前記特開平５−２８１７２８号公報に記載の化合物としては、例えば、２−（４−トリフルオロメチルフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，６−ジフルオロフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，６−ジクロロフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，６−ジブロモフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジンなどが挙げられる。   Examples of the compound described in JP-A-5-281728 include 2- (4-trifluoromethylphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, 2- (2 , 6-Difluorophenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, 2- (2,6-dichlorophenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5 -Triazine, 2- (2,6-dibromophenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine and the like.

前記特開平５−３４９２０号公報に記載の化合物としては、例えば、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［４−（Ｎ、Ｎ−ジエトキシカルボニルメチルアミノ）−３−ブロモフェニル］−１，３，５−トリアジン、米国特許第第４２３９８５０号明細書に記載されているトリハロメチル−ｓ−トリアジン化合物、更に２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−クロロフェニル）−４，６−ビス（トリブロモメチル）−ｓ−トリアジンなどが挙げられる。   Examples of the compounds described in JP-A-5-34920 include 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [4- (N, N-diethoxycarbonylmethylamino) -3-bromophenyl]-. 1,3,5-triazine, trihalomethyl-s-triazine compounds described in US Pat. No. 4,239,850, 2,4,6-tris (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4 -Chlorophenyl) -4,6-bis (tribromomethyl) -s-triazine and the like.

前記米国特許第第４２１２９７６号明細書に記載の化合物としては、例えば、オキサジアゾール骨格を有する化合物（例えば、２−トリクロロメチル−５−フェニル−１、３、４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（４−クロロフェニル）−１、３、４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（１−ナフチル）−１、３、４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（２−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリブロモメチル−５−フェニル−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリブロモメチル−５−（２−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール；２−トリクロロメチル−５−スチリル−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（４−クロルスチリル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（４−メトキシスチリル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（１−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（４−ｎ−ブトキシスチリル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリプロメメチル−５−スチリル−１，３，４−オキサジアゾール等）などが挙げられる。   Examples of the compound described in US Pat. No. 4,221,976 include compounds having an oxadiazole skeleton (for example, 2-trichloromethyl-5-phenyl-1,3,4-oxadiazole, 2-trichloro Methyl-5- (4-chlorophenyl) -1,3,4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5- (1-naphthyl) -1,3,4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5 (2-naphthyl) -1,3,4-oxadiazole, 2-tribromomethyl-5-phenyl-1,3,4-oxadiazole, 2-tribromomethyl-5- (2-naphthyl)- 1,3,4-oxadiazole; 2-trichloromethyl-5-styryl-1,3,4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5- (4-chlorostyryl) -1 3,4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5- (4-methoxystyryl) -1,3,4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5- (1-naphthyl) -1,3,4 -Oxadiazole, 2-trichloromethyl-5- (4-n-butoxystyryl) -1,3,4-oxadiazole, 2-tripromemethyl-5-styryl-1,3,4-oxadiazole Etc.).

本発明で好適に用いられるオキシム誘導体としては、例えば、３−ベンゾイロキシイミノブタン−２−オン、３−アセトキシイミノブタン−２−オン、３−プロピオニルオキシイミノブタン−２−オン、２−アセトキシイミノペンタン−３−オン、２−アセトキシイミノ−１−フェニルプロパン−１−オン、２−ベンゾイロキシイミノ−１−フェニルプロパン−１−オン、３−（４−トルエンスルホニルオキシ）イミノブタン−２−オン、及び２−エトキシカルボニルオキシイミノ−１−フェニルプロパン−１−オンなどが挙げられる。   Examples of the oxime derivative suitably used in the present invention include 3-benzoyloxyiminobutan-2-one, 3-acetoxyiminobutan-2-one, 3-propionyloxyiminobutan-2-one, and 2-acetoxy. Iminopentan-3-one, 2-acetoxyimino-1-phenylpropan-1-one, 2-benzoyloxyimino-1-phenylpropan-1-one, 3- (4-toluenesulfonyloxy) iminobutane-2- ON, and 2-ethoxycarbonyloxyimino-1-phenylpropan-1-one.

また、上記以外の光重合開始剤として、アクリジン誘導体（例えば、９−フェニルアクリジン、１，７−ビス（９，９’−アクリジニル）ヘプタン等）、Ｎ−フェニルグリシン等、ポリハロゲン化合物（例えば、四臭化炭素、フェニルトリブロモメチルスルホン、フェニルトリクロロメチルケトン等）、クマリン類（例えば、３−（２−ベンゾフロイル）−７−ジエチルアミノクマリン、３−（２−ベンゾフロイル）−７−（１−ピロリジニル）クマリン、３−ベンゾイル−７−ジエチルアミノクマリン、３−（２−メトキシベンゾイル）−７−ジエチルアミノクマリン、３−（４−ジメチルアミノベンゾイル）−７−ジエチルアミノクマリン、３，３’−カルボニルビス（５，７−ジ−ｎ−プロポキシクマリン）、３，３’−カルボニルビス（７−ジエチルアミノクマリン）、３−ベンゾイル−７−メトキシクマリン、３−（２−フロイル）−７−ジエチルアミノクマリン、３−（４−ジエチルアミノシンナモイル）−７−ジエチルアミノクマリン、７−メトキシ−３−（３−ピリジルカルボニル）クマリン、３−ベンゾイル−５，７−ジプロポキシクマリン、７−ベンゾトリアゾール−２−イルクマリン、また、特開平５−１９４７５号、特開平７−２７１０２８号、特開２００２−３６３２０６号、特開２００２−３６３２０７号、特開２００２−３６３２０８号、特開２００２−３６３２０９号公報等に記載のクマリン化合物など）、アミン類（例えば、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸ｎ−ブチル、４−ジメチルアミノ安息香酸フェネチル、４−ジメチルアミノ安息香酸２−フタルイミドエチル、４−ジメチルアミノ安息香酸２−メタクリロイルオキシエチル、ペンタメチレンビス（４−ジメチルアミノベンゾエート）、３−ジメチルアミノ安息香酸のフェネチル、ペンタメチレンエステル、４−ジメチルアミノベンズアルデヒド、２−クロル−４−ジメチルアミノベンズアルデヒド、４−ジメチルアミノベンジルアルコール、エチル（４−ジメチルアミノベンゾイル）アセテート、４−ピペリジノアセトフェノン、４−ジメチルアミノベンゾイン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−トルイジン、Ｎ，Ｎ−ジエチル−３−フェネチジン、トリベンジルアミン、ジベンジルフェニルアミン、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルベンジルアミン、４−ブロム−Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、トリドデシルアミン、アミノフルオラン類（ＯＤＢ、ＯＤＢＩＩ等）、クリスタルバイオレットラクトン、ロイコクリスタルバイオレット等）、アシルホスフィンオキサイド類（例えば、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチル−ペンチルフェニルホスフィンオキサイド、ＬｕｃｉｒｉｎＴＰＯなど）、メタロセン類（例えば、ビス（η5−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス（２，６−ジフルオロ３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル）チタニウム、η５−シクロペンタジエニル−η６−クメニル−アイアン（１＋）−ヘキサフルオロホスフェート（１−）等）、特開昭５３−１３３４２８号公報、特公昭５７−１８１９号公報、同５７−６０９６号公報、及び米国特許第第３６１５４５５号明細書に記載された化合物などが挙げられる。   Further, as photopolymerization initiators other than the above, acridine derivatives (for example, 9-phenylacridine, 1,7-bis (9,9′-acridinyl) heptane, etc.), N-phenylglycine, and the like, polyhalogen compounds (for example, Carbon tetrabromide, phenyltribromomethylsulfone, phenyltrichloromethylketone, etc.), coumarins (for example, 3- (2-benzofuroyl) -7-diethylaminocoumarin, 3- (2-benzofuroyl) -7- (1-pyrrolidinyl) ) Coumarin, 3-benzoyl-7-diethylaminocoumarin, 3- (2-methoxybenzoyl) -7-diethylaminocoumarin, 3- (4-dimethylaminobenzoyl) -7-diethylaminocoumarin, 3,3′-carbonylbis (5 , 7-di-n-propoxycoumarin), 3,3′-carbonylbi (7-diethylaminocoumarin), 3-benzoyl-7-methoxycoumarin, 3- (2-furoyl) -7-diethylaminocoumarin, 3- (4-diethylaminocinnamoyl) -7-diethylaminocoumarin, 7-methoxy-3- (3-pyridylcarbonyl) coumarin, 3-benzoyl-5,7-dipropoxycoumarin, 7-benzotriazol-2-ylcoumarin, JP-A-5-19475, JP-A-7-271028, JP-A-2002-363206 , Coumarin compounds described in JP-A No. 2002-363207, JP-A No. 2002-363208, JP-A No. 2002-363209, etc.), amines (for example, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, 4-dimethylaminobenzoate) Acid n-butyl, 4-dimethylaminobenzoic acid phenetic acid 4-dimethylaminobenzoic acid 2-phthalimidoethyl, 4-dimethylaminobenzoic acid 2-methacryloyloxyethyl, pentamethylenebis (4-dimethylaminobenzoate), phenethyl of 3-dimethylaminobenzoic acid, pentamethylene ester, 4- Dimethylaminobenzaldehyde, 2-chloro-4-dimethylaminobenzaldehyde, 4-dimethylaminobenzyl alcohol, ethyl (4-dimethylaminobenzoyl) acetate, 4-piperidinoacetophenone, 4-dimethylaminobenzoin, N, N-dimethyl- 4-toluidine, N, N-diethyl-3-phenetidine, tribenzylamine, dibenzylphenylamine, N-methyl-N-phenylbenzylamine, 4-bromo-N, N-dimethylaniline, tridodecyl Amines, aminofluoranes (ODB, ODBII, etc.), crystal violet lactone, leuco crystal violet, etc.), acylphosphine oxides (for example, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide, bis (2, 6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethyl-pentylphenylphosphine oxide, Lucirin TPO, etc.), metallocenes (for example, bis (η5-2,4-cyclopentadien-1-yl) -bis (2,6- Difluoro 3- (1H-pyrrol-1-yl) -phenyl) titanium, η5-cyclopentadienyl-η6-cumenyl-iron (1 +)-hexafluorophosphate (1-), etc.), JP-A-53-133428 Gazette, Japanese Patent Publication No.57-1819 No. 57-6096, and US Pat. No. 3,615,455, and the like.

前記ケトン化合物としては、例えば、ベンゾフェノン、２−メチルベンゾフェノン、３−メチルベンゾフェノン、４−メチルベンゾフェノン、４−メトキシベンゾフェノン、２−クロロベンゾフェノン、４−クロロベンゾフェノン、４−ブロモベンゾフェノン、２−カルボキシベンゾフェノン、２−エトキシカルボニルベンゾルフェノン、ベンゾフェノンテトラカルボン酸又はそのテトラメチルエステル、４，４’−ビス（ジアルキルアミノ）ベンゾフェノン類（例えば、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４、４’−ビスジシクロヘキシルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジヒドロキシエチルアミノ）ベンゾフェノン、４−メトキシ−４’−ジメチルアミノベンゾフェノン、４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、４−ジメチルアミノベンゾフェノン、４−ジメチルアミノアセトフェノン、ベンジル、アントラキノン、２−ｔ−ブチルアントラキノン、２−メチルアントラキノン、フェナントラキノン、キサントン、チオキサントン、２−クロル−チオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、フルオレノン、２−ベンジル−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−１−ブタノン、２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルホリノ−１−プロパノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−〔４−（１−メチルビニル）フェニル〕プロパノールオリゴマー、ベンゾイン、ベンゾインエーテル類（例えば、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル、ベンジルジメチルケタール）、アクリドン、クロロアクリドン、Ｎ−メチルアクリドン、Ｎ−ブチルアクリドン、Ｎ−ブチル−クロロアクリドンなどが挙げられる。   Examples of the ketone compound include benzophenone, 2-methylbenzophenone, 3-methylbenzophenone, 4-methylbenzophenone, 4-methoxybenzophenone, 2-chlorobenzophenone, 4-chlorobenzophenone, 4-bromobenzophenone, 2-carboxybenzophenone, 2-ethoxycarbonylbenzolphenone, benzophenonetetracarboxylic acid or tetramethyl ester thereof, 4,4′-bis (dialkylamino) benzophenone (for example, 4,4′-bis (dimethylamino) benzophenone, 4,4′- Bisdicyclohexylamino) benzophenone, 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone, 4,4′-bis (dihydroxyethylamino) benzophenone, 4-methoxy-4′-dimethylamino Nzophenone, 4,4'-dimethoxybenzophenone, 4-dimethylaminobenzophenone, 4-dimethylaminoacetophenone, benzyl, anthraquinone, 2-t-butylanthraquinone, 2-methylanthraquinone, phenanthraquinone, xanthone, thioxanthone, 2-chloro -Thioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, fluorenone, 2-benzyl-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -1-butanone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino -1-propanone, 2-hydroxy-2-methyl- [4- (1-methylvinyl) phenyl] propanol oligomer, benzoin, benzoin ethers (for example, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, In propyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin phenyl ether, benzyl dimethyl ketal), acridone, chloro acridone, N- methyl acridone, N- butyl acridone, N- butyl - such as chloro acrylic pyrrolidone.

前記ヘキサアリールビイミダゾール化合物としては、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，５，４’，５’−テトラフェニル−１，２’−ビスイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’─テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−フェノキシカルボニルフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−フェノキシカルボニルフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，６−トリクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，６−トリクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−フェノキシカルボニルフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−シアノフェニル）−４，４’，５．５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−シアノフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−フェノキシカルボニルフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−メチルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−メトキシカルボニルフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−メチルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−メチルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−フェノキシカルボニルフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−エチルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−メトキシカルボニルフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−エチルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−エチルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−フェノキシカルボニルフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−フェニルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−メトキシカルボニルフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−フェニルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−フェニルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−フェノキシカルボニルフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’─テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，６−トリクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２−ブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，６−トリブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２−シアノフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジシアノフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，６−トリシアノフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２−メチルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，６−トリメチルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２−エチルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジエチルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，６−トリエチルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２−フェニルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジフェニルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，６−トリフェニルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾールなどが挙げられる。   Examples of the hexaarylbiimidazole compound include 2,2′-bis (o-chlorophenyl) -4,5,4 ′, 5′-tetraphenyl-1,2′-bisimidazole, 2,2′-bis (2 -Chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) biimidazole, 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetrakis (4 -Phenoxycarbonylphenyl) biimidazole, 2,2'-bis (2,4-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) biimidazole, 2,2'-bis ( 2,4-dichlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetrakis (4-phenoxycarbonylphenyl) biimidazole, 2,2′-bis (2,4,6- Lichlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) biimidazole, 2,2′-bis (2,4,6-trichlorophenyl) -4,4 ′, 5,5 '-Tetrakis (4-phenoxycarbonylphenyl) biimidazole, 2,2'-bis (2-cyanophenyl) -4,4', 5.5'-tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) biimidazole, 2,2 '-Bis (2-cyanophenyl) -4,4', 5,5'-tetrakis (4-phenoxycarbonylphenyl) biimidazole, 2,2'-bis (2-methylphenyl) -4,4 ', 5 , 5′-tetrakis (4-methoxycarbonylphenyl) biimidazole, 2,2′-bis (2-methylphenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetrakis (4-e Xoxycarbonylphenyl) biimidazole, 2,2′-bis (2-methylphenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetrakis (4-phenoxycarbonylphenyl) biimidazole, 2,2′-bis (2- Ethylphenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetrakis (4-methoxycarbonylphenyl) biimidazole, 2,2′-bis (2-ethylphenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetrakis ( 4-ethoxycarbonylphenyl) biimidazole, 2,2′-bis (2-ethylphenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetrakis (4-phenoxycarbonylphenyl) biimidazole, 2,2′-bis ( 2-phenylphenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetrakis (4-methoxycarbonylphenyl) biimidazole, 2,2′-bis (2-phenylphenyl) Enyl) -4,4 ′, 5,5′-tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) biimidazole, 2,2′-bis (2-phenylphenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetrakis (4 -Phenoxycarbonylphenyl) biimidazole, 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (2,4-dichlorophenyl) -4 , 4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (2,4,6-trichlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2 ′ -Bis (2-bromophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (2,4-dibromophenyl) -4,4', 5,5'-tetra Phenylbiimi Sol, 2,2′-bis (2,4,6-tribromophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (2-cyanophenyl) -4, 4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (2,4-dicyanophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis ( 2,4,6-tricyanophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (2-methylphenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetra Phenylbiimidazole, 2,2′-bis (2,4-dimethylphenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (2,4,6-trimethylphenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole 2,2′-bis (2-ethylphenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (2,4-diethylphenyl) -4,4 ′ , 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (2,4,6-triethylphenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis ( 2-phenylphenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole, 2,2′-bis (2,4-diphenylphenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole 2,2′-bis (2,4,6-triphenylphenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenylbiimidazole and the like.

前記光重合開始剤の含有量としては、前記感光性組成物中の全固形成分に対し、０．１〜５０質量％が好ましく、０．５〜３０質量％がより好ましく、１〜２０質量％が特に好ましい。
前記光重合開始剤の含有量は、前記重合性化合物との質量比で表すと、光重合開始剤／重合性化合物＝０．０１〜０．２が好ましく、０．０２〜０．１がより好ましく、０．０３〜０．０８が特に好ましい。この範囲を超えると、現像残渣が生じたり、析出故障が生じるという問題があり、この範囲未満であると、十分な感度が得られないことがある。 As content of the said photoinitiator, 0.1-50 mass% is preferable with respect to the total solid component in the said photosensitive composition, 0.5-30 mass% is more preferable, 1-20 mass% Is particularly preferred.
When the content of the photopolymerization initiator is expressed by a mass ratio with the polymerizable compound, the photopolymerization initiator / polymerizable compound is preferably 0.01 to 0.2, more preferably 0.02 to 0.1. Preferably, 0.03 to 0.08 is particularly preferable. If it exceeds this range, there is a problem that a development residue or a precipitation failure occurs. If it is less than this range, sufficient sensitivity may not be obtained.

また、後述する前記感光層への露光における露光感度や感光波長を調製する目的で、前記光重合開始剤に加えて、増感剤を添加することが可能である。
前記増感剤は、後述する光照射手段としての可視光線や紫外光・可視光レーザなどにより適宜選択することができる。
前記増感剤は、活性エネルギー線により励起状態となり、他の物質（例えば、ラジカル発生剤、酸発生剤等）と相互作用（例えば、エネルギー移動、電子移動等）することにより、ラジカルや酸等の有用基を発生することが可能である。 In addition to the photopolymerization initiator, a sensitizer can be added for the purpose of adjusting exposure sensitivity and photosensitive wavelength in exposure to the photosensitive layer described later.
The sensitizer can be appropriately selected by visible light, ultraviolet light, visible light laser, or the like as a light irradiation means described later.
The sensitizer is excited by active energy rays and interacts with other substances (for example, radical generator, acid generator, etc.) (for example, energy transfer, electron transfer, etc.), thereby generating radicals, acids, etc. It is possible to generate a useful group of

前記増感剤としては、特に制限はなく、公知の増感剤の中から目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、公知の多核芳香族類（例えば、ピレン、ペリレン、トリフェニレン）、キサンテン類（例えば、フルオレセイン、エオシン、エリスロシン、ローダミンＢ、ローズベンガル）、シアニン類（例えば、インドカルボシアニン、チアカルボシアニン、オキサカルボシアニン）、メロシアニン類（例えば、メロシアニン、カルボメロシアニン）、チアジン類（例えば、チオニン、メチレンブルー、トルイジンブルー）、アクリジン類（例えば、アクリジンオレンジ、クロロフラビン、アクリフラビン）、アントラキノン類（例えば、アントラキノン）、スクアリウム類（例えば、スクアリウム）、アクリドン類（例えば、アクリドン、クロロアクリドン、Ｎ−メチルアクリドン、Ｎ−ブチルアクリドン、１０−Ｎ−ブチル−２−クロロアクリドン等）、クマリン類（例えば、３−（２−ベンゾフロイル）−７−ジエチルアミノクマリン、３−（２−ベンゾフロイル）−７−（１−ピロリジニル）クマリン、３−ベンゾイル−７−ジエチルアミノクマリン、３−（２−メトキシベンゾイル）−７−ジエチルアミノクマリン、３−（４−ジメチルアミノベンゾイル）−７−ジエチルアミノクマリン、３，３’−カルボニルビス（５、７−ジ−ｎ−プロポキシクマリン）、３、３’−カルボニルビス（７−ジエチルアミノクマリン）、３−ベンゾイル−７−メトキシクマリン、３−（２−フロイル）−７−ジエチルアミノクマリン、３−（４−ジエチルアミノシンナモイル）−７−ジエチルアミノクマリン、７−メトキシ−３−（３−ピリジルカルボニル）クマリン、３−ベンゾイル−５、７−ジプロポキシクマリン等が挙げられ、他に特開平５−１９４７５号、特開平７−２７１０２８号、特開２００２−３６３２０６号、特開２００２−３６３２０７号、特開２００２−３６３２０８号、特開２００２−３６３２０９号等の各公報に記載のクマリン化合物など）が挙げられる。   The sensitizer is not particularly limited and may be appropriately selected from known sensitizers according to the purpose. For example, known polynuclear aromatics (for example, pyrene, perylene, triphenylene), Xanthenes (for example, fluorescein, eosin, erythrosine, rhodamine B, rose bengal), cyanines (for example, indocarbocyanine, thiacarbocyanine, oxacarbocyanine), merocyanines (for example, merocyanine, carbomerocyanine), thiazines ( For example, thionine, methylene blue, toluidine blue), acridines (for example, acridine orange, chloroflavin, acriflavine), anthraquinones (for example, anthraquinone), squariums (for example, squalium), acridones (for example, acridone) Chloroacridone, N-methylacridone, N-butylacridone, 10-N-butyl-2-chloroacridone, etc.), coumarins (for example, 3- (2-benzofuroyl) -7-diethylaminocoumarin, 3- (2-benzofuroyl) -7- (1-pyrrolidinyl) coumarin, 3-benzoyl-7-diethylaminocoumarin, 3- (2-methoxybenzoyl) -7-diethylaminocoumarin, 3- (4-dimethylaminobenzoyl) -7- Diethylaminocoumarin, 3,3′-carbonylbis (5,7-di-n-propoxycoumarin), 3,3′-carbonylbis (7-diethylaminocoumarin), 3-benzoyl-7-methoxycoumarin, 3- (2 -Furoyl) -7-diethylaminocoumarin, 3- (4-diethylaminocinnamoyl) -7 Examples thereof include diethylaminocoumarin, 7-methoxy-3- (3-pyridylcarbonyl) coumarin, 3-benzoyl-5, 7-dipropoxycoumarin, and others, as well as JP-A-5-19475 and JP-A-7-271028. And JP-A 2002-363206, JP-A 2002-363207, JP-A 2002-363208, JP-A 2002-363209, and the like.

前記光重合開始剤と前記増感剤との組合せとしては、例えば、特開２００１−３０５７３４号公報に記載の電子移動型開始系［（１）電子供与型開始剤及び増感色素、（２）電子受容型開始剤及び増感色素、（３）電子供与型開始剤、増感色素及び電子受容型開始剤（三元開始系）］などの組合せが挙げられる。   Examples of the combination of the photopolymerization initiator and the sensitizer include, for example, an electron transfer start system described in JP-A-2001-305734 [(1) an electron donating initiator and a sensitizing dye, (2) A combination of an electron-accepting initiator and a sensitizing dye, (3) an electron-donating initiator, a sensitizing dye and an electron-accepting initiator (ternary initiation system)], and the like.

前記増感剤の含有量としては、前記感光性組成物中の全成分に対し、０．０５〜３０質量％が好ましく、０．１〜２０質量％がより好ましく、０．２〜１０質量％が特に好ましい。該含有量が、０．０５質量％未満であると、活性エネルギー線への感度が低下し、露光プロセスに時間がかかり、生産性が低下することがあり、３０質量％を超えると、保存時に前記感光層から前記増感剤が析出することがある。   As content of the said sensitizer, 0.05-30 mass% is preferable with respect to all the components in the said photosensitive composition, 0.1-20 mass% is more preferable, 0.2-10 mass% Is particularly preferred. When the content is less than 0.05% by mass, the sensitivity to active energy rays is reduced, the exposure process takes time, and productivity may be reduced. The sensitizer may be precipitated from the photosensitive layer.

前記光重合開始剤は、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
前記光重合開始剤の特に好ましい例としては、後述する露光において、波長が４０５ｎｍのレーザ光に対応可能である、前記ホスフィンオキサイド類、前記α−アミノアルキルケトン類、前記トリアジン骨格を有するハロゲン化炭化水素化合物と増感剤としてのアミン化合物とを組合せた複合光開始剤、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、あるいは、チタノセンなどが挙げられる。 The said photoinitiator may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
Particularly preferred examples of the photopolymerization initiator include halogenated carbonization having the phosphine oxides, the α-aminoalkyl ketones, and the triazine skeleton, which can handle laser light having a wavelength of 405 nm in the later-described exposure. Examples thereof include a composite photoinitiator, a hexaarylbiimidazole compound, or titanocene, which is a combination of a hydrogen compound and an amine compound as a sensitizer.

＜＜着色剤＞＞
前記着色剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、有機顔料、無機顔料、染料などが挙げられる。
これら着色剤と別に又は併用して、着色剤として金属イオンを配位した樹状分岐分子、並びに金属粒子及び合金粒子の少なくともいずれかの金属系粒子を含有する樹状分岐分子から選ばれるいずれかの樹状分岐分子を含有することも可能である。 << Colorant >>
There is no restriction | limiting in particular as said coloring agent, According to the objective, it can select suitably, For example, an organic pigment, an inorganic pigment, dye, etc. are mentioned.
Any one selected from dendritic branched molecules in which metal ions are coordinated as a coloring agent and dendritic branched molecules containing at least one metal particle of metal particles and alloy particles, separately or in combination with these colorants It is also possible to contain the following dendritic branched molecules.

前記着色剤としては、黄色顔料、オレンジ顔料、赤色顔料、バイオレット顔料、青色顔料、緑色顔料、ブラウン顔料、黒色顔料などが挙げられるが、カラーフィルタを形成する場合には、前記感光性組成物として、３原色（Ｂ、Ｇ、Ｒ）及び黒色（Ｋ）にそれぞれ着色された複数の着色組成物を用いることから、青色顔料、緑色顔料、赤色顔料、及び黒色顔料等の顔料が好適に用いられる。   Examples of the colorant include yellow pigments, orange pigments, red pigments, violet pigments, blue pigments, green pigments, brown pigments, and black pigments. When forming a color filter, the photosensitive composition Since a plurality of colored compositions colored in three primary colors (B, G, R) and black (K) are used, a pigment such as a blue pigment, a green pigment, a red pigment, and a black pigment is preferably used. .

前記顔料としては、例えば、特開２００５−１７７１６号公報の段落番号００３８から００４０に記載の色材、特開２００５−３６１４４７号公報の段落番号００６８から００７２に記載の顔料、及び特開２００５−１７５２１号公報の段落番号００８０から００８８に記載の着色剤などが好適に挙げられる。   Examples of the pigment include a coloring material described in paragraph Nos. 0038 to 0040 of JP-A No. 2005-17716, a pigment described in paragraph Nos. 0068 to 0072 of JP-A No. 2005-361447, and JP-A No. 2005-17521. Preferable examples include coloring agents described in paragraph numbers 0080 to 0088 of the publication.

なお、前記着色剤は１種を単独で用いてもよく、又は２種以上を組み合わせて用いることもできる。   In addition, the said coloring agent may be used individually by 1 type, or can also be used in combination of 2 or more type.

本発明のカラーフィルタにおいて、携帯端末や携帯ゲーム機等の機器で透過モード、及び反射モードのいずれにおいても良好な表示特性（より色が濃い）を効果的に実現するための前記着色剤の組合せとしては、（ｉ）Ｒの感光性組成物においては顔料Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４を用い、（ii）Ｇの感光性組成物においては顔料Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６及び顔料Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９を併用して用い、（iii）Ｂの感光性組成物においては顔料Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６を用いることが好ましい。   In the color filter of the present invention, the combination of the colorants for effectively realizing good display characteristics (darker color) in both the transmission mode and the reflection mode in a device such as a portable terminal or a portable game machine. (I) In the photosensitive composition of R, the pigment C.I. I. Pigment Red 254, and (ii) the pigment C.I. I. Pigment green 36 and pigment C.I. I. Pigment Yellow 139 is used in combination, and in the photosensitive composition of (iii) B, pigment C.I. I. Pigment Blue 15: 6 is preferably used.

ここで、前記（ｉ）におけるＣ．Ｉ．ピグメントレッド２５４の含有量は、感光性組成物を１〜３μｍの乾燥膜厚で塗布した場合において、０．２７４〜０．３３５ｇ／ｍ^２であることが好ましく、０．２８０〜０．３２９ｇ／ｍ^２であることがより好ましく、０．２９０〜０．３２０ｇ／ｍ^２であることが特に好ましい。
前記（ii）におけるＣ．Ｉ．ピグメントグリーン３６の含有量は、感光性組成物を１〜３μｍの乾燥膜厚で塗布した場合において、０．３５５〜０．４３７ｇ／ｍ^２であることが好ましく、０．３６４〜０．４２８ｇ／ｍ^２であることがより好ましく、０．３７６〜０．４１２ｇ／ｍ^２であることが特に好ましい。
前記（ii）におけるＣ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９の含有量は、０．０５２〜０．０７８ｇ／ｍ^２であることが好ましく、０．０６０〜０．０７０ｇ／ｍ^２であることがより好ましく、０．０６２〜０．０６８ｇ／ｍ^２であることが特に好ましい。なお、（ii）において、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６／Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９比率は、５．４〜６．７であることが好ましく、５．６〜６．６がより好ましく、５．８〜６．４が特に好ましい。
前記（iii）におけるＣ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６の含有量は、感光性組成物を１〜３μｍの乾燥膜厚で塗布した場合において、０．２８〜０．３８ｇ／ｍ^２あることが好ましく、０．２９〜０．３６ｇ／ｍ^２であることがより好ましく、０．３０〜０．３４ｇ／ｍ^２であることが特に好ましい。 Here, the C.I. I. The content of Pigment Red 254 is preferably 0.274 to 0.335 g / m ² when the photosensitive composition is applied with a dry film thickness of 1 to 3 μm, and is preferably 0.280 to 0.329 g / m ^2. m ² is more preferable, and 0.290 to 0.320 g / m ² is particularly preferable.
C. in said (ii). I. The content of Pigment Green 36 is preferably 0.355 to 0.437 g / m ² when the photosensitive composition is applied with a dry film thickness of 1 to 3 μm, and 0.364 to 0.428 g / m ^2. m ² is more preferable, and 0.376 to 0.412 g / m ² is particularly preferable.
C. in said (ii). I. The content of CI Pigment Yellow 139 is preferably 0.052~0.078g / ^{m 2,} more preferably from 0.060~0.070g / ^{m 2,} 0.062~0.068g / ^{m 2} is particularly preferred. In (ii), C.I. I. Pigment green 36 / C.I. I. The pigment yellow 139 ratio is preferably 5.4 to 6.7, more preferably 5.6 to 6.6, and particularly preferably 5.8 to 6.4.
C. in (iii) above. I. The content of Pigment Blue 15: 6 is preferably 0.28 to 0.38 g / m ² when the photosensitive composition is applied with a dry film thickness of 1 to 3 μm, and preferably 0.29 to 0.36 g. / more preferably ^m is ^2, and particularly preferably 0.30～0.34G / ^{m 2.}

また、本発明のカラーフィルタにおいて、ノートパソコン用ディスプレイやテレビモニター等の大画面の表示装置等に用いた場合に高い表示特性（色再現域が広く、色温度が高い）を実現するための前記着色剤の組合せとしては、（Ｉ）赤色（Ｒ）の感光性組成物においては顔料Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４及びＣ．Ｉ．ピグメントレッド１７７の少なくともいずれかを用い、（II）緑色（Ｇ）の感光性組成物においては顔料Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６及び顔料Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５０を併用し、（III）青色（Ｂ）の感光性組成物においては顔料Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６及びＣ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３を併用することが好ましい。   In the color filter of the present invention, when used in a large-screen display device such as a notebook personal computer display or a television monitor, the above-described color filter can realize high display characteristics (wide color reproduction range and high color temperature). As the combination of the colorants, (I) in the red (R) photosensitive composition, pigment C.I. I. Pigment red 254 and C.I. I. Pigment Red 177 is used, and in the photosensitive composition of (II) green (G), pigment C.I. I. Pigment green 36 and pigment C.I. I. Pigment Yellow 150 is used in combination, and in the photosensitive composition of (III) blue (B), pigment C.I. I. Pigment blue 15: 6 and C.I. I. Pigment violet 23 is preferably used in combination.

ここで、前記（Ｉ）におけるＣ．Ｉ．ピグメントレッド２５４の含有量は、感光性組成物を１〜３μｍの乾燥膜厚で塗布した場合において、０．６〜１．１ｇ／ｍ^２であることが好ましく、０．８０〜０．９６ｇ／ｍ^２であることがより好ましく、０．８２〜０．９４ｇ／ｍ^２であることが特に好ましい。
前記（Ｉ）におけるＣ．Ｉ．ピグメントレッド１７７の含有量は、感光性組成物を１〜３μｍの乾燥膜厚で塗布した場合において、０．１０〜０．３０ｇ／ｍ^２であることが好ましく、０．２０〜０．２４ｇ／ｍ^２であることがより好ましく、０．２１〜０．２３ｇ／ｍ^２であることが特に好ましい。
前記（II）におけるＣ．Ｉ．ピグメントグリーン３６の含有量は、感光性組成物を１〜３μｍの乾燥膜厚で塗布した場合において、０．８０〜１．４５ｇ／ｍ^２であることが好ましく、０．９０〜１．３４ｇ／ｍ^２であることがより好ましく、０．９５〜１．２９ｇ／ｍ^２であることが特に好ましい。
前記（II）におけるＣ．Ｉ．ピグメントイエロー１５０の含有量は、０．３０〜０．６５ｇ／ｍ^２であることが好ましく、０．３８〜０．５８ｇ／ｍ^２であることがより好ましい。なお、（II）において、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６／Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５０比率は、０．４０〜０．５０であることが好ましい。
前記（III）におけるＣ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６の含有量は、感光性組成物を１〜３μｍの乾燥膜厚で塗布した場合において、０．５０〜０．７５ｇ／ｍ^２であることが好ましく、０．５９〜０．６７ｇ／ｍ^２であることがより好ましく、０．６０〜０．６６ｇ／ｍ^２であることが特に好ましい。
前記（III）におけるＣ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３の含有量は、感光性組成物を１〜３μｍの乾燥膜厚で塗布した場合において、０．０３〜０．１０ｇ／ｍ^２あることが好ましく、０．０６〜０．０８ｇ／ｍ^２であることがより好ましく、０．０６６〜０．０７４ｇ／ｍ^２であることが特に好ましい。なお、（III）において、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６／Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３比率は、１２〜５０であることが好ましい。 Here, the C.I. I. The content of Pigment Red 254 is preferably 0.6 to 1.1 g / m ² when the photosensitive composition is applied with a dry film thickness of 1 to 3 μm, and 0.80 to 0.96 g / m ^2. m ² is more preferable, and 0.82 to 0.94 g / m ² is particularly preferable.
C. in (I) above. I. The content of Pigment Red 177 is preferably 0.10 to 0.30 g / m ² when the photosensitive composition is applied with a dry film thickness of 1 to 3 μm, and is preferably 0.20 to 0.24 g / m ^2. m ² is more preferable, and 0.21 to 0.23 g / m ² is particularly preferable.
C. in said (II). I. The content of Pigment Green 36 is preferably 0.80 to 1.45 g / m ² when the photosensitive composition is applied with a dry film thickness of 1 to 3 μm, and preferably 0.90 to 1.34 g / m ^2. m ² is more preferable, and 0.95 to 1.29 g / m ² is particularly preferable.
C. in said (II). I. The content of pigment yellow 150 is preferably 0.30~0.65g / ^{m 2,} and more preferably 0.38~0.58g / ^{m 2.} In (II), C.I. I. Pigment green 36 / C.I. I. The pigment yellow 150 ratio is preferably 0.40 to 0.50.
C. in said (III). I. The content of Pigment Blue 15: 6 is preferably 0.50 to 0.75 g / m ² when the photosensitive composition is applied with a dry film thickness of 1 to 3 μm, and is preferably 0.59 to 0.8. It is more preferably 67 g / m ² , and particularly preferably 0.60 to 0.66 g / m ² .
C. in said (III). I. The content of Pigment Violet 23 is preferably 0.03 to 0.10 g / m ² when the photosensitive composition is applied with a dry film thickness of 1 to 3 μm, and preferably 0.06 to 0.08 g / m. ² is more preferable, and 0.066 to 0.074 g / m ² is particularly preferable. In (III), C.I. I. Pigment Blue 15: 6 / C.I. I. It is preferable that the pigment violet 23 ratio is 12-50.

上記のような着色剤を用いる場合、顔料の粒径は、平均粒径１ｎｍ〜２００ｎｍであることが好ましく、１０〜８０ｎｍであることがより好ましく、２０ｎｍ〜７０ｎｍであることが特に好ましく、３０ｎｍ〜６０ｎｍであることが最も好ましい。感光層は薄膜な層であるため、顔料等の粒径が上記の範囲にない場合には、樹脂層中に均一に分散することができず、高品質なカラーフィルタを製造することが困難となるため好ましくない。   When the colorant as described above is used, the particle diameter of the pigment is preferably 1 nm to 200 nm, more preferably 10 to 80 nm, particularly preferably 20 to 70 nm, and particularly preferably 30 nm to 200 nm. Most preferably, it is 60 nm. Since the photosensitive layer is a thin layer, when the particle size of the pigment or the like is not in the above range, it cannot be uniformly dispersed in the resin layer, and it is difficult to produce a high-quality color filter. Therefore, it is not preferable.

＜＜その他の成分＞＞
前記感光性組成物には、その他の成分として、例えば、可塑剤、界面活性剤、紫外線吸収剤、熱重合禁止剤等の成分を含有してもよい。 << Other ingredients >>
In the said photosensitive composition, you may contain components, such as a plasticizer, surfactant, a ultraviolet absorber, a thermal polymerization inhibitor, as another component, for example.

前記可塑剤は、前記感光層の膜物性（可撓性）をコントロールするために添加してもよい。
前記可塑剤としては、例えば、ジメチルフタレート、ジブチルフタレート、ジイソブチルフタレート、ジヘプチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジトリデシルフタレート、ブチルベンジルフタレート、ジイソデシルフタレート、ジフェニルフタレート、ジアリルフタレート、オクチルカプリールフタレート等のフタル酸エステル類；トリエチレングリコールジアセテート、テトラエチレングリコールジアセテート、ジメチルグリコースフタレート、エチルフタリールエチルグリコレート、メチルフタリールエチルグリコレート、ブチルフタリールブチルグリコレート、トリエチレングリコールジカブリル酸エステル等のグリコールエステル類；トリクレジルホスフェート、トリフェニルホスフェート等のリン酸エステル類；４−トルエンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド、Ｎ−ｎ−ブチルベンゼンスルホンアミド、Ｎ−ｎ−ブチルアセトアミド等のアミド類；ジイソブチルアジペート、ジオクチルアジペート、ジメチルセバケート、ジブチルセパケート、ジオクチルセパケート、ジオクチルアゼレート、ジブチルマレート等の脂肪族二塩基酸エステル類；クエン酸トリエチル、クエン酸トリブチル、グリセリントリアセチルエステル、ラウリン酸ブチル、４，５−ジエポキシシクロヘキサン−１，２−ジカルボン酸ジオクチル等、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等のグリコール類が挙げられる。 The plasticizer may be added to control film physical properties (flexibility) of the photosensitive layer.
Examples of the plasticizer include dimethyl phthalate, dibutyl phthalate, diisobutyl phthalate, diheptyl phthalate, dioctyl phthalate, dicyclohexyl phthalate, ditridecyl phthalate, butyl benzyl phthalate, diisodecyl phthalate, diphenyl phthalate, diallyl phthalate, octyl capryl phthalate, and the like. Phthalic acid esters: Triethylene glycol diacetate, tetraethylene glycol diacetate, dimethylglycol phthalate, ethyl phthalyl ethyl glycolate, methyl phthalyl ethyl glycolate, butyl phthalyl butyl glycolate, triethylene glycol dicabrylate, etc. Glycol esters of tricresyl phosphate, triphenyl phosphate, etc. Acid esters; Amides such as 4-toluenesulfonamide, benzenesulfonamide, Nn-butylbenzenesulfonamide, Nn-butylacetamide; diisobutyl adipate, dioctyl adipate, dimethyl sebacate, dibutyl sepacate, dioctyl Aliphatic dibasic acid esters such as sepacate, dioctyl azelate, dibutyl malate; triethyl citrate, tributyl citrate, glycerin triacetyl ester, butyl laurate, 4,5-diepoxycyclohexane-1,2-dicarboxylic acid Examples include glycols such as dioctyl acid, polyethylene glycol, and polypropylene glycol.

前記可塑剤の含有量としては、前記感光層の全成分に対して０．１〜５０質量％が好ましく、０．５〜４０質量％がより好ましく、１〜３０質量％が特に好ましい。   As content of the said plasticizer, 0.1-50 mass% is preferable with respect to all the components of the said photosensitive layer, 0.5-40 mass% is more preferable, 1-30 mass% is especially preferable.

前記界面活性剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、両性界面活性剤などから適宜選択できる。
更に、前記界面活性剤としては、次式（１）
Ｃ_８Ｆ_１７ＳＯ_２Ｎ（Ｒ^１）ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ_ｎＲ^２）・・・（１）
で表されるフッ素系界面活性剤が好適に挙げられる。
但し、前記式中、Ｒ^１及びＲ^２は、各々水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表し、ｎは２〜３０の整数を表す。
前記Ｒ^１としては、メチル基、エチル基、イソプロピル基が好適に挙げられ、前記Ｒ^２としては、水素原子が好適に挙げられる。
前記ｎとしては、１０〜２５が好ましく、１０〜２０がより好ましい。
前記式で表される界面活性剤の具体例としては、メガファックＦ−１４１（ｎ＝５）、Ｆ−１４２（ｎ＝１０）、Ｆ＝１４３（ｎ＝１５）、Ｆ−１４４（ｎ＝２０）（いずれも商品名：大日本インキ化学工業（株）製）が挙げられる。 The surfactant is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. For example, the surfactant is appropriately selected from an anionic surfactant, a cationic surfactant, a nonionic surfactant, an amphoteric surfactant, and the like. You can choose.
Further, as the surfactant, the following formula (1)
^{_{C 8 F 17 SO 2 N (}} R 1) CH 2 CH 2 O (CH 2 CH 2 O n R 2) ··· (1)
Fluorosurfactants represented by the formula are preferred.
However, in the formula, ^{R 1} and ^{R 2} each represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, n is an integer of 2 to 30.
Examples of R ^1, a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group is preferably mentioned, wherein the R ² is a hydrogen atom are preferably exemplified.
As said n, 10-25 are preferable and 10-20 are more preferable.
As specific examples of the surfactant represented by the above formula, Megafac F-141 (n = 5), F-142 (n = 10), F = 143 (n = 15), F-144 (n = 20) (Brand name: Dainippon Ink & Chemicals, Inc.).

更に、前記界面活性剤としては、次式（２）〜（５）で表される界面活性剤が好適に挙げられる。
Ｒｆ１−Ｘ−（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｎＲ^１・・・（２）
Ｒｆ１−Ｘ−（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｎＲ^２・・・（３）
Ｒｆ１−Ｘ−（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｎ（ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｍＲ^１・・・（４）
Ｒｆ１−Ｘ−（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｎ（ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｍＲｆ２・・・（５） Furthermore, as the surfactant, surfactants represented by the following formulas (2) to (5) are preferably exemplified.
_{Rf1-X- (CH 2 CH 2} O) n R 1 ··· (2)
Rf1-X- (CH ₂ CH ₂ O) _n R ² (3)
_{Rf1-X- (CH 2 CH 2} O) n (CH 2 CH 2 CH 2 O) m R 1 ··· (4)
_{Rf1-X- (CH 2 CH 2} O) n (CH 2 CH 2 CH 2 O) m Rf2 ··· (5)

前記式（２）〜（５）において、Ｒ^１及びＲ^２は、炭素素１〜１８、好ましくは、炭素数１〜１０、より好ましくは、炭素数１〜４のアルキル基を表す。
前記アルキル基としては、飽和アルキル基、不飽和アルキル基が挙げられる。
前記アルキル基の構造としては、直鎖構造、分岐構造を有するものが挙げられ、これらの中でも分岐構造を有するものが好適に挙げられる。
前記アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オタタデシル基、エイコサニル基、ドコサニル基、２−クロロエチル基、２−プロモエチル基、２−シアノエチル基、２−メトキシカルボニルエチル基、２−メトキシエチル基、３−プロモプロピル基等が挙げられる。また、これらのアルキル基は、ハロゲン原子、アシル基、アミノ基、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、アルキル若しくはハロアルキルで置換されていてもよいアリール基、アミド基等で置換されていてもよい。
前記式（２）〜（５）において、Ｒｆ１及びＲｆ２は、それぞれ独立して、炭素数１〜１８、好ましく２〜１２、より好ましくは４〜１０のパーフルオロ基を表す。
前記パーフルオロ基としては、飽和パーフルオロ基、不飽和パーフルオロ基が挙げられる。
前記パーフルオロ基の構造としては、直鎖構造、分岐構造を有するものが挙げられ、これらの中でも分岐構造を有するものが好適に挙げられ、前記Ｒｆ１及びＲｆ２の少なくともいずれかが、分岐構造を有するものがより好適に挙げられる。
前記パーフルオロ基としては、例えば、パーフルオロノネニル、パーフルオロメチル、パーフルオロプロピレン、パーフルオロノニネル、パーフルオロ安息香酸、パーフルオロプロピレン、パーフルオロプロピル、パーフルオロ（９−メチルオクチル）、パーフルオロメチルオクチル、パーフルオロブチル、パーフルオロ３−メチルブチル、パーフルオロヘキシル、パーフルオロクチル、パーフルオロ７−オクチルエチル、フルオロヘプチル、パーフルオロデシル、パーフルオロブチルなどが挙げられる。また、これらのパーフルオロ基は、ハロゲン原子、アシル基、アミノ基、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、アルキル若しくはハロアルキルで置換されていてもよく、アリール基、アミド基等で置換されていてもよい。
前記Ｒｆ１及びＲｆ２は互い同じであってもよく、異なっていてもよい。
前記式（２）〜（５）において、ｎは、１〜４０の整数、好ましくは４〜２５の整数を表す。
前記式（２）〜（５）において、ｍは、０〜４０の整数、好ましくは０〜２５の整数を表す。
前記式（２）〜（５）において、−Ｘ−は、−（ＣＨ_２）_ｌ−（ｌは１〜１０、好ましくは、１〜５の整数を表す）、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−、−ＮＨＣＯ−、−ＮＨＣＯＯ−のいずれかを表す。
前記式（２）〜（５）で表される界面活性剤は、１種単独又は２種以上の組合せで用いることができる。 In the formula (2) ~ (5), R 1 and ^{R 2} are Tansomoto 18, preferably 1 to 10 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
Examples of the alkyl group include a saturated alkyl group and an unsaturated alkyl group.
Examples of the structure of the alkyl group include those having a linear structure and a branched structure, and among these, those having a branched structure are preferably exemplified.
Specific examples of the alkyl group include methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, heptyl group, hexyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, hexadecyl group, otatadecyl group Eicosanyl group, docosanyl group, 2-chloroethyl group, 2-promoethyl group, 2-cyanoethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, 2-methoxyethyl group, 3-promopropyl group and the like. In addition, these alkyl groups may be substituted with a halogen atom, an acyl group, an amino group, a cyano group, an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group which may be substituted with alkyl or haloalkyl, an amide group, or the like.
In the formulas (2) to (5), Rf1 and Rf2 each independently represent a perfluoro group having 1 to 18, preferably 2 to 12, more preferably 4 to 10 carbon atoms.
Examples of the perfluoro group include a saturated perfluoro group and an unsaturated perfluoro group.
Examples of the structure of the perfluoro group include those having a linear structure and a branched structure. Among these, those having a branched structure are preferred, and at least one of Rf1 and Rf2 has a branched structure. A thing is mentioned more suitably.
Examples of the perfluoro group include perfluorononenyl, perfluoromethyl, perfluoropropylene, perfluorononinel, perfluorobenzoic acid, perfluoropropylene, perfluoropropyl, perfluoro (9-methyloctyl), perfluoro Fluoromethyloctyl, perfluorobutyl, perfluoro-3-methylbutyl, perfluorohexyl, perfluorooctyl, perfluoro 7-octylethyl, fluoroheptyl, perfluorodecyl, perfluorobutyl and the like can be mentioned. These perfluoro groups may be substituted with a halogen atom, acyl group, amino group, cyano group, alkyl group, alkoxy group, alkyl or haloalkyl, or may be substituted with an aryl group, an amide group, or the like. Good.
Rf1 and Rf2 may be the same as or different from each other.
In said Formula (2)-(5), n represents the integer of 1-40, Preferably the integer of 4-25 is represented.
In said Formula (2)-(5), m represents the integer of 0-40, Preferably the integer of 0-25 is represented.
In the formula (2) ~ (5), -X- _{is, - (CH 2) l -} (l 1 to 10, preferably represents an integer of 1 to 5), - CO-O -, - O -, -NHCO-, or -NHCOO- is represented.
The surfactants represented by the formulas (2) to (5) can be used singly or in combination of two or more.

前記界面活性剤の含有量としては、感光性組成物の固形分に対し、０．００１〜１０質量％が好ましい。
前記含有量が、０．００１質量％未満になると、面状改良の効果が得られなくことがあり、１０質量％を超えると、密着性が低下することがある。 As content of the said surfactant, 0.001-10 mass% is preferable with respect to solid content of the photosensitive composition.
When the content is less than 0.001% by mass, the effect of improving the surface shape may not be obtained, and when it exceeds 10% by mass, the adhesion may be deteriorated.

前記感光性組成物が前記界面活性剤を含有することにより、塗布液としての流動性が良好となり、塗布工程で使用されるスピンコーターやスリットコーターのノズルや配管、容器中での液の付着性が改善され、前記ノズル内に汚れとして残る残渣を効果的に減少させることができるので、塗布液の切り替え時に洗浄に要する洗浄液の量や作業時間を軽減でき、カラーフィルタの生産性を向上させることができる。また、前記カラーレジスト層を形成する際に発生する面状ムラ等を改善することができる。   When the photosensitive composition contains the surfactant, the fluidity as a coating liquid is improved, and the adhesion of the liquid in the nozzles and pipes and containers of spin coaters and slit coaters used in the coating process. Since the residue remaining as dirt in the nozzle can be effectively reduced, the amount of cleaning liquid required for cleaning when switching the coating liquid and the work time can be reduced, and the productivity of the color filter can be improved. Can do. In addition, it is possible to improve surface unevenness that occurs when the color resist layer is formed.

前記熱重合禁止剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、４−メトキシフェノール、ハイドロキノン、アルキル又はアリール置換ハイドロキノン、ｔ−ブチルカテコール、ピロガロール、２−ヒドロキシベンゾフェノン、４−メトキシ−２−ヒドロキシベンゾフェノン、塩化第一銅、フェノチアジン、クロラニル、ナフチルアミン、β−ナフトール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−クレゾール、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、ピリジン、ニトロベンゼン、ジニトロベンゼン、ピクリン酸、４−トルイジン、メチレンブルー、銅と有機キレート剤反応物、サリチル酸メチル、及びフェノチアジン、ニトロソ化合物、ニトロソ化合物とＡｌとのキレート等が挙げられる。
前記熱重合禁止剤の含有量としては、感光性組成物の全成分に対し、０．０００１〜１０質量％が好ましく、０．０００５〜５質量％がより好ましく、０．００１〜１質量％が特に好ましい。 The thermal polymerization inhibitor is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. For example, 4-methoxyphenol, hydroquinone, alkyl or aryl-substituted hydroquinone, t-butylcatechol, pyrogallol, 2-hydroxybenzophenone 4-methoxy-2-hydroxybenzophenone, cuprous chloride, phenothiazine, chloranil, naphthylamine, β-naphthol, 2,6-di-t-butyl-4-cresol, 2,2′-methylenebis (4-methyl- 6-t-butylphenol), pyridine, nitrobenzene, dinitrobenzene, picric acid, 4-toluidine, methylene blue, copper and organic chelating agent reactant, methyl salicylate, phenothiazine, nitroso compound, chelate of nitroso compound and Al, etc. It is done.
As content of the said thermal-polymerization inhibitor, 0.0001-10 mass% is preferable with respect to all the components of a photosensitive composition, 0.0005-5 mass% is more preferable, 0.001-1 mass% is Particularly preferred.

前記紫外線吸収剤としては、特開平５−７２７２４号公報記載の化合物のほか、サリシレート系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、シアノアクリレート系、ニッケルキレート系、ヒンダードアミン系などが挙げられる。
具体的には、フェニルサリシレート、４−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３’，５’−ジ−ｔ−４’−ヒドロキシベンゾエート、４−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、２，４−ジ−ヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、エチル−２−シアノ−３，３−ジ−フェニルアクリレート、２，２’−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、ニッケルジブチルジチオカーバメート、ビス（２，２，６，６−テトラメトル−４−ピリジン）−セバケート、４−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、サルチル酸フェニル、４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン縮合物、コハク酸−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリデニル）−エステル、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、７−｛［４−クロロ−６−（ジエチルアミノ）−５−トリアジン−２−イル］アミノ｝−３−フェニルクマリン等が挙げられる。
なお、感光性組成物の全固形分に対する紫外線吸収剤の含有量は、０．５〜１５質量％が好ましく、１〜１２質量％がより好ましく、１．２〜１０質量％が特に好ましい。 Examples of the ultraviolet absorber include salicylate-based, benzophenone-based, benzotriazole-based, cyanoacrylate-based, nickel chelate-based, hindered amine-based compounds and the like in addition to the compounds described in JP-A-5-72724.
Specifically, phenyl salicylate, 4-t-butylphenyl salicylate, 2,4-di-t-butylphenyl-3 ′, 5′-di-t-4′-hydroxybenzoate, 4-t-butylphenyl salicylate 2,4-di-hydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-n-octoxybenzophenone, 2- (2′-hydroxy-5′-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3'-t-butyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, ethyl-2-cyano-3,3-di-phenyl acrylate, 2,2'-hydroxy-4- Methoxybenzophenone, nickel dibutyldithiocarbamate, bis (2,2,6,6-tetramethol-4-pyridine) -seba 4-t-butylphenyl salicylate, phenyl salicylate, 4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine condensate, succinic acid-bis (2,2,6,6-tetramethyl-4 -Piperenyl) -ester, 2- [2-hydroxy-3,5-bis (α, α-dimethylbenzyl) phenyl] -2H-benzotriazole, 7-{[4-chloro-6- (diethylamino) -5 Triazin-2-yl] amino} -3-phenylcoumarin and the like.
In addition, 0.5-15 mass% is preferable, as for content of the ultraviolet absorber with respect to the total solid of a photosensitive composition, 1-12 mass% is more preferable, and 1.2-10 mass% is especially preferable.

前記感光層を形成する感光性組成物は、溶剤を用いて調製することができる。
前記溶剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｎ−ヘキサノール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジイソブチルケトンなどのケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸−ｎ−アミル、硫酸メチル、プロピオン酸エチル、フタル酸ジメチル、安息香酸エチル、及びメトキシプロピルアセテートなどのエステル類；トルエン、キシレン、ベンゼン、エチルベンゼンなどの芳香族炭化水素類；四塩化炭素、トリクロロエチレン、クロロホルム、１，１，１−トリクロロエタン、塩化メチレン、モノクロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素類；テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、１−メトキシ−２−プロパノールなどのエーテル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホオキサイド、スルホランなどが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。これらの中でも、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、エチルセロソルブアセテート、乳酸エチル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、酢酸ブチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、２−ヘプタノン、シクロヘキサン、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールメチルエーテルアセテートなどが好適に挙げられる。これらの溶剤は、単独又２種以上の組合せで用いることができる。 The photosensitive composition for forming the photosensitive layer can be prepared using a solvent.
There is no restriction | limiting in particular as said solvent, According to the objective, it can select suitably, For example, alcohols, such as methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, sec-butanol, n-hexanol; acetone , Ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, diisobutyl ketone; esters such as ethyl acetate, butyl acetate, n-amyl acetate, methyl sulfate, ethyl propionate, dimethyl phthalate, ethyl benzoate, and methoxypropyl acetate Aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, benzene, ethylbenzene; halogenated carbonization such as carbon tetrachloride, trichloroethylene, chloroform, 1,1,1-trichloroethane, methylene chloride, monochlorobenzene Motorui; tetrahydrofuran, diethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethers such as 1-methoxy-2-propanol; dimethylformamide, dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide, and sulfolane. These may be used alone or in combination of two or more. Among these, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl cellosolve acetate, ethyl lactate, diethylene glycol dimethyl ether, butyl acetate, methyl 3-methoxypropionate, 2-heptanone, cyclohexane, ethyl carbitol acetate, butyl Preferred examples include carbitol acetate and propylene glycol methyl ether acetate. These solvents can be used alone or in combination of two or more.

前記感光性組成物の調製時における前記溶剤の添加量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記感光性組成物の全固形分濃度が５〜８０質量％となるように添加されることが好ましく、１０〜６０質量％となるように添加されることがより好ましく、１５〜５０質量％となるように添加されることが特に好ましい。   There is no restriction | limiting in particular as the addition amount of the said solvent at the time of preparation of the said photosensitive composition, Although it can select suitably according to the objective, The total solid content concentration of the said photosensitive composition is 5-80 mass%. It is preferable to add so that it may become, It is more preferable to add so that it may become 10-60 mass%, It is especially preferable to add so that it may become 15-50 mass%.

前記感光層の層厚は、０．３〜１０μｍが好ましく、０．７５〜６μｍがより好まく、１．０〜３μｍが特に好ましい。
前記層厚が０．３μｍ未満であると、感光層用塗布液の塗布時にピンホールが発生しやすく、製造適性が低下することがあり、１０μｍを超えると、現像時に未露光部を除去するのに長時間を要することがある The thickness of the photosensitive layer is preferably 0.3 to 10 μm, more preferably 0.75 to 6 μm, and particularly preferably 1.0 to 3 μm.
If the layer thickness is less than 0.3 μm, pinholes are likely to occur when the coating solution for the photosensitive layer is applied, and the production suitability may be reduced. If the thickness exceeds 10 μm, unexposed portions are removed during development. May take a long time

＜基材＞
前記感光層形成工程で用いられる前記基材としては、特に制限はなく、公知の材料の中から表面平滑性の高いものから凸凹のある表面を有するものまで、目的に応じて適宜選択することができるが、板状の基材（基板）が好ましく、具体的には、ガラス板（例えば、ソーダガラス板、酸化ケイ素をスパッタしたガラス板、無アルカリガラス板、石英ガラス板等）、合成樹脂性のフィルム、紙、及び金属板などが挙げられる。 <Base material>
The substrate used in the photosensitive layer forming step is not particularly limited and may be appropriately selected from known materials having high surface smoothness to those having an uneven surface according to the purpose. However, a plate-like substrate (substrate) is preferable. Specifically, a glass plate (for example, soda glass plate, glass plate sputtered with silicon oxide, non-alkali glass plate, quartz glass plate, etc.), synthetic resin property Film, paper, and metal plate.

前記基材は、該基材上に前記感光層における感光層が重なるようにして積層してなる積層体を形成して用いることができる。即ち、前記積層体における感光層の前記感光層に対して露光することにより、露光した領域を硬化させ、後述する現像工程によりパターンを形成することができる。   The base material can be used by forming a laminate formed by laminating the photosensitive layer so that the photosensitive layer in the photosensitive layer overlaps the base material. That is, by exposing the photosensitive layer of the laminate to the photosensitive layer, the exposed region can be cured, and a pattern can be formed by a development process described later.

[露光工程]
前記露光工程は、前記光照射手段からの光を受光してパターン情報に基づいて変調する前記光変調手段により、前記光照射手段からの光を変調させ、前記光変調手段により変調された光を、結像手段と、焦点調節手段とを介して前記感光層の被露光面上に結像させて露光を行うことを少なくとも含む工程であり、
前記露光は、前記結像手段の中央部を含む略矩形状の領域のみにおいて、前記光変調手段により変調された光が結像され、
前記感光層の被露光面上に結像される略矩形状の露光領域が、その短辺方向と前記感光層のうねり方向とがなす角が、その長辺方向と前記感光層のうねり方向とがなす角よりも小さくなるように向けられて行われる。 [Exposure process]
In the exposure step, the light from the light irradiation unit is modulated by the light modulation unit that receives light from the light irradiation unit and modulates the light based on the pattern information, and the light modulated by the light modulation unit , And at least including performing exposure by forming an image on an exposed surface of the photosensitive layer via an imaging unit and a focus adjusting unit,
In the exposure, the light modulated by the light modulation means is imaged only in a substantially rectangular area including the central portion of the imaging means,
The substantially rectangular exposure region imaged on the exposed surface of the photosensitive layer has an angle formed by the short side direction and the waviness direction of the photosensitive layer, the long side direction and the waviness direction of the photosensitive layer. It is directed to be smaller than the angle formed by.

本発明のカラーフィルタの製造方法の露光工程に係る露光装置の一例について、以下、図面を参照しながら説明する。前記露光工程における露光方法は、前記露光装置の説明を通じて明らかにする。   Hereinafter, an example of an exposure apparatus according to the exposure process of the method for producing a color filter of the present invention will be described with reference to the drawings. The exposure method in the exposure step will be clarified through the description of the exposure apparatus.

＜露光装置の構成＞
＜＜露光装置の外観＞＞
図１には、本発明のパターン形成方法の露光工程に係る露光装置１０の概略外観図が示されている。露光装置１０は、前記パターン形成材料における前記感光層を、被処理基体上に積層してなるシート状の積層体（以下、「感光材料１２」と表す）を、表面に吸着して保持する平板状の移動ステージ１４を備えている。４本の脚部１６に支持された厚い板状の設置台１８の上面には、ステージ移動方向に沿って延びた２本のガイド２０が設置されている。ステージ１４は、その長手方向がステージ移動方向を向くように配置されると共に、ガイド２０によって往復移動可能に支持されている。更に露光装置１０は、ステージ１４をガイド２０に沿って駆動するステージ駆動装置（不図示）を備えている。 <Configuration of exposure apparatus>
<< Appearance of exposure apparatus >>
FIG. 1 shows a schematic external view of an exposure apparatus 10 relating to the exposure process of the pattern forming method of the present invention. The exposure apparatus 10 is a flat plate for adsorbing and holding a sheet-like laminate (hereinafter referred to as “photosensitive material 12”) formed by laminating the photosensitive layer of the pattern forming material on a substrate to be processed. The moving stage 14 is provided. Two guides 20 extending along the stage moving direction are installed on the upper surface of the thick plate-shaped installation table 18 supported by the four legs 16. The stage 14 is arranged so that the longitudinal direction thereof faces the stage moving direction, and is supported by the guide 20 so as to be reciprocally movable. Further, the exposure apparatus 10 includes a stage driving device (not shown) that drives the stage 14 along the guide 20.

そして、設置台１８の中央部には、ステージ１４の移動経路を跨ぐようにコの字状のゲート２２が設置されている。コの字状のゲート２２の端部の各々は、設置台１８の両側面に固定されている。ゲート２２を挟んで一方側にはスキャナ２４が設置され、他方側には感光材料１２の先端及び後端を検知する複数のセンサ２６が設置されている。スキャナ２４及びセンサ２６はゲート２２に各々固定され、ステージ１４の移動経路の上方に設置されている。尚、スキャナ２４及びセンサ２６はコントローラ（不図示）に電気的に接続されており、コントローラによって動作制御がなされる。   A U-shaped gate 22 is installed at the center of the installation table 18 so as to straddle the movement path of the stage 14. Each end of the U-shaped gate 22 is fixed to both side surfaces of the installation base 18. A scanner 24 is installed on one side of the gate 22 and a plurality of sensors 26 for detecting the front and rear ends of the photosensitive material 12 are installed on the other side. The scanner 24 and the sensor 26 are respectively fixed to the gate 22 and installed above the moving path of the stage 14. The scanner 24 and the sensor 26 are electrically connected to a controller (not shown), and operation control is performed by the controller.

ステージ１４にはスキャナ２４による露光開始の際にスキャナ２４から感光材料１２の被露光面に照射されるレーザ光の光量を検出するための露光面計測センサ２８が設置されている。露光面計測センサ２８は、ステージ１４における感光材料１２の設置面の露光開始側の端部にステージ移動方向に直交する方向に延設されている。   The stage 14 is provided with an exposure surface measurement sensor 28 for detecting the amount of laser light emitted from the scanner 24 to the exposed surface of the photosensitive material 12 when the exposure by the scanner 24 is started. The exposure surface measurement sensor 28 is extended in the direction orthogonal to the stage moving direction at the end of the exposure surface side of the installation surface of the photosensitive material 12 in the stage 14.

図２はスキャナ２４の概略外観図である。
図２に示すように、スキャナ２４は、例えば、２行５列の略マトリクス状に配列された１０個の露光ヘッド３０を備えている。
各露光ヘッド３０は、前記光変調手段として空間変調素子であるＤＭＤを備え、該ＤＭＤによって形成された２次元パターンを感光材料１２上に投影する。
露光エリア３２は各露光ヘッドから射出された２次元パターンが感光材料１２上に投影された時の投影エリアを示す。また、ステージ１４の移動に伴って感光材料１２には露光ヘッド３０による帯状の露光済み領域３４が形成される。 FIG. 2 is a schematic external view of the scanner 24.
As shown in FIG. 2, the scanner 24 includes, for example, ten exposure heads 30 arranged in a substantially matrix of 2 rows and 5 columns.
Each exposure head 30 includes a DMD that is a spatial modulation element as the light modulation unit, and projects a two-dimensional pattern formed by the DMD onto the photosensitive material 12.
An exposure area 32 indicates a projection area when a two-dimensional pattern emitted from each exposure head is projected onto the photosensitive material 12. As the stage 14 moves, a strip-shaped exposed region 34 by the exposure head 30 is formed on the photosensitive material 12.

＜＜露光ヘッド＞＞
図３は露光ヘッド３０の概略構成を説明するための概念図であり、図７は露光ヘッド３０中を伝播するレーザ光の光路に沿って露光ヘッド３０を構成する光学要素を説明するための図である。
露光ヘッド３０は、前記光照射手段として光源ユニット６０と、ＤＭＤ照射光学系７０と、ＤＭＤ８０と、前記結像手段として結像光学系５０と、前記焦点調節手段としてくさび型プリズムペア５４とを備えて構成されている。 << Exposure head >>
3 is a conceptual diagram for explaining a schematic configuration of the exposure head 30, and FIG. 7 is a diagram for explaining optical elements constituting the exposure head 30 along the optical path of laser light propagating through the exposure head 30. As shown in FIG. It is.
The exposure head 30 includes a light source unit 60, a DMD irradiation optical system 70, a DMD 80, an imaging optical system 50 as the imaging means, and a wedge-shaped prism pair 54 as the focusing means. Configured.

光源ユニット６０は、図４に示すように、複数（例えば、１４個）のＬＤモジュール４０を備えており、各ＬＤモジュール４０には、第１マルチモード光ファイバ４１の一端が結合されている。第１マルチモード光ファイバ４１の他端には、第１マルチモード光ファイバより小さいクラッド径を有する第２マルチモード光ファイバ６８が結合されている。   As shown in FIG. 4, the light source unit 60 includes a plurality of (for example, 14) LD modules 40, and one end of a first multimode optical fiber 41 is coupled to each LD module 40. A second multimode optical fiber 68 having a smaller cladding diameter than that of the first multimode optical fiber is coupled to the other end of the first multimode optical fiber 41.

図５に詳しく示すように、第２マルチモード光ファイバ６８の第１マルチモード光ファイバ４１と反対側の端部は走査方向と直交する方向に沿って７個並べられ、それが２列に配列されてレーザ出射部６６が構成されている。   As shown in detail in FIG. 5, seven ends of the second multimode optical fiber 68 opposite to the first multimode optical fiber 41 are arranged along the direction orthogonal to the scanning direction, and they are arranged in two rows. Thus, the laser emitting unit 66 is configured.

第２マルチモード光ファイバ６４の端部で構成されるレーザ出射部６６は、図５に示すように、表面が平坦な２枚の支持板６５に挟み込まれて固定されている。また、第２マルチモード光ファイバ６４の光出射端面には、その保護のために、ガラス等の透明な保護板が配置されるのが望ましい。第２マルチモード光ファイバ６８の光出射端面は、光密度が高いために集塵しやすく劣化しやすいが、上述のような保護板を配置することにより、端面への塵埃の付着を防止し、また劣化を遅らせることができる。   As shown in FIG. 5, the laser emitting portion 66 constituted by the end portion of the second multimode optical fiber 64 is sandwiched and fixed between two support plates 65 having a flat surface. Moreover, it is desirable that a transparent protective plate such as glass is disposed on the light emitting end face of the second multimode optical fiber 64 for protection. The light exit end face of the second multimode optical fiber 68 is likely to collect dust and easily deteriorate due to its high light density, but by arranging the protective plate as described above, it prevents dust from adhering to the end face, Moreover, deterioration can be delayed.

ＬＤモジュール４０は、図６に示す合波レーザ光源によって構成されている。この合波レーザ光源は、ヒートブロック４００上に配列固定された複数の（例えば７個）の半導体レーザ素子であるＬＤチップＬＤ１、ＬＤ２、ＬＤ３、ＬＤ４、ＬＤ５、ＬＤ６及びＬＤ７と、ＬＤチップＬＤ１〜ＬＤ７の各々に対応して設けられたコリメータレンズ４０１、４０２、４０３、４０４、４０５、４０６及び４０７と、１つの集光レンズ９０と、１本の第１マルチモード光ファイバ４１とから構成されている。尚、半導体レーザ素子の個数は７個に限定されるものではなく、その他の個数が採用されてもよい。また、上述のような７個のコリメータレンズ４０１〜４０７に代えて、それらのレンズが一体化されているコリメータレンズアレイを用いてもよい。   The LD module 40 is composed of a combined laser light source shown in FIG. The combined laser light source includes a plurality of (for example, seven) semiconductor laser elements LD chips LD1, LD2, LD3, LD4, LD5, LD6, and LD7 arranged and fixed on the heat block 400, and LD chips LD1 to LD1. The collimator lenses 401, 402, 403, 404, 405, 406 and 407 provided corresponding to each of the LDs 7, one condensing lens 90, and one first multimode optical fiber 41 are configured. Yes. The number of semiconductor laser elements is not limited to seven, and other numbers may be adopted. Further, instead of the seven collimator lenses 401 to 407 as described above, a collimator lens array in which these lenses are integrated may be used.

ＬＤチップＬＤ１〜ＬＤ７は、チップ状の横マルチモード又はシングルモードのＧａＮ系半導体レーザ素子であり、発振波長が全て共通（例えば、４０５［ｎｍ］程度）であり、最大出力も全て共通（例えば、マルチモードレーザでは１００［ｍＷ］、シングルモードレーザでは３０［ｍＷ］）である。尚、３５０［ｎｍ］〜４５０［ｎｍ］の波長範囲であれば、上記４０５［ｎｍ］以外の発振波長を備える半導体レーザ素子をＬＤチップＬＤ１〜ＬＤ７として用いてもよい。   The LD chips LD1 to LD7 are chip-like lateral multimode or single mode GaN-based semiconductor laser elements, all oscillation wavelengths are common (for example, about 405 [nm]), and maximum outputs are all common (for example, 100 [mW] for a multimode laser and 30 [mW] for a single mode laser. If the wavelength range is 350 [nm] to 450 [nm], semiconductor laser elements having oscillation wavelengths other than the above 405 [nm] may be used as the LD chips LD1 to LD7.

このように、複数のＬＤチップＬＤ１〜ＬＤ７から発せられた各レーザ光を１本の第１マルチモード光ファイバ４１に入射させて合波し、さらにファイババンドル状の光源として面積あたりの光量の大きい高輝度な光源を用いることで、光パワーを向上させつつ、エタンデュー（Etendue）を小さくすることができる。
従って、前記結像手段の中央部を含む領域のみにおいて空間光変調手段で空間光変調することで被照明体（光変調手段）側に対する照明領域が小さくなっても、照明ＮＡ値を抑えることができる。これにより、結像光学系が被照明体の下流側に配置された場合でもその結像光学系の焦点深度を大きくすることができ、結像される露光画像のピントずれを抑制することができるという効果が得られる。
尚、エタンデューと焦点深度の詳しい関係については特開２００５−０１８０１３号公報に掲載されている。 In this way, each laser beam emitted from the plurality of LD chips LD1 to LD7 is incident on one first multi-mode optical fiber 41 and multiplexed, and further, the amount of light per area is large as a fiber bundle-shaped light source. By using a high brightness light source, the Etendue can be reduced while improving the optical power.
Accordingly, the spatial light modulation by the spatial light modulator only in the region including the central portion of the imaging means can suppress the illumination NA value even if the illumination area for the illuminated object (light modulator) is reduced. it can. Thereby, even when the imaging optical system is disposed on the downstream side of the illumination object, the depth of focus of the imaging optical system can be increased, and the focus deviation of the formed exposure image can be suppressed. The effect is obtained.
The detailed relationship between etendue and depth of focus is described in Japanese Patent Laid-Open No. 2005-018013.

以上において、複数のＬＤチップＬＤ１〜ＬＤ７を合波することによって光照射手段から出射される光を構成する場合について説明したが、合波せずに、半導体レーザ素子と光ファイバの一端とを１対１で結合し、光ファイバ他端に該光ファイバよりクラッド径の小さい光ファイバを結合してもよい。この場合は、半導体レーザ素子としてマルチモードの高出力レーザを用いることが好ましく、このような高出力レーザを用いることで高輝度な光源を実現できる。   In the above description, the case where the light emitted from the light irradiation unit is configured by combining the plurality of LD chips LD1 to LD7 has been described. However, the semiconductor laser element and one end of the optical fiber are connected to each other without combining. The optical fiber having a smaller cladding diameter than that of the optical fiber may be coupled to the other end of the optical fiber. In this case, it is preferable to use a multimode high-power laser as the semiconductor laser element, and a high-intensity light source can be realized by using such a high-power laser.

ＤＭＤ照射光学系７０は、図７に示すように、コリメータレンズ７１と、マイクロフライアイレンズ７２及び７３と、フィールドレンズ７４と、ミラー７５と、プリズム７６とを備えて構成されている。
コリメータレンズ７１は、レーザ光出射部６１から出射された複数のレーザ光を概略平行光化するためのレンズである。
マイクロフライアイレンズ７２及び７３は、微小レンズセルが縦横に多数配置されてなるものであり、ＤＭＤ８０に照射するレーザ光の光量分布を均一化するためのレンズである。マイクロフライアイレンズ７２及び７３を透過したレーザ光は、フィールドレンズ７４を透過してミラー７５によって反射され、プリズム７６に入射する。
プリズム７６は、ＴＩＲプリズム（全反射プリズム）であり、ミラー７５によって反射されたレーザ光をＤＭＤ８０に向けて全反射する。ＤＭＤ８０の詳細については、後述する。
尚、ＤＭＤ照射光学系７０は、光量分布の均一化の手段として、ロッドインテグレータを備えることとしてもよい。 As shown in FIG. 7, the DMD irradiation optical system 70 includes a collimator lens 71, micro fly's eye lenses 72 and 73, a field lens 74, a mirror 75, and a prism 76.
The collimator lens 71 is a lens for making the plurality of laser beams emitted from the laser beam emitting unit 61 into a substantially parallel beam.
The micro fly's eye lenses 72 and 73 are formed by arranging a large number of microlens cells vertically and horizontally, and are lenses for uniformizing the light quantity distribution of the laser light applied to the DMD 80. The laser light that has passed through the micro fly's eye lenses 72 and 73 passes through the field lens 74, is reflected by the mirror 75, and enters the prism 76.
The prism 76 is a TIR prism (total reflection prism) and totally reflects the laser light reflected by the mirror 75 toward the DMD 80. Details of the DMD 80 will be described later.
The DMD irradiation optical system 70 may include a rod integrator as a means for uniformizing the light amount distribution.

−結像手段−
−−結像光学系−−
結像光学系５０は、前記光照射手段からのレーザ光をＤＭＤ８０で変調されることによって形成された２次元パターンを、感光材料１２上に結像させて投影させるための結像手段である。図７に示すように、結像光学系５０は、第１投影レンズ５１と、第２投影レンズ５２と、マイクロレンズアレイ５５と、アパーチャアレイ５９とを備えて構成されている。
ＤＭＤ８０を構成する各マイクロミラーによって反射されて形成された２次元パターンは、第１投影レンズ５１を透過し、所定倍（例えば、３倍）に拡大されて結像される。ここで、第１投影レンズ５１を透過した光束Ｌａは、第１投影レンズ５１による結像位置の近傍に配設されたマイクロレンズアレイ５５の各マイクロレンズ５５ａによって個別に集光される。この個別に集光された光束がアパーチャ５９ａを通過して結像される。マイクロレンズアレイ５５及びアパーチャアレイ５９を通過して結像された２次元パターンは、第２投影レンズ５２を透過して更に所定倍（例えば、１．６７倍）に拡大され、くさび型プリズムペア５４を透過して感光材料１２上に結像される。最終的には、ＤＭＤ８０によって形成された２次元パターンが、第１投影レンズ５１と第２投影レンズ５２の拡大倍率をそれぞれ乗算した倍率（例えば、３倍×１．６７倍＝５倍）で拡大されて、感光材料１２上に投影される。
なお、結像光学系５０は、必ずしも第２投影レンズ５２を備えた構成としなくてもよい。 -Imaging means-
-Imaging optics-
The image forming optical system 50 is an image forming means for forming an image on the photosensitive material 12 and projecting a two-dimensional pattern formed by modulating the laser light from the light irradiation means by the DMD 80. As shown in FIG. 7, the imaging optical system 50 includes a first projection lens 51, a second projection lens 52, a microlens array 55, and an aperture array 59.
The two-dimensional pattern formed by being reflected by each micromirror that constitutes the DMD 80 is transmitted through the first projection lens 51 and enlarged and imaged by a predetermined magnification (for example, three times). Here, the light beam La transmitted through the first projection lens 51 is individually condensed by each microlens 55 a of the microlens array 55 disposed in the vicinity of the image forming position by the first projection lens 51. The individually condensed light beams pass through the aperture 59a to form an image. The two-dimensional pattern imaged through the microlens array 55 and the aperture array 59 is transmitted through the second projection lens 52 and further magnified to a predetermined magnification (for example, 1.67 times), and the wedge-shaped prism pair 54. And is imaged on the photosensitive material 12. Finally, the two-dimensional pattern formed by the DMD 80 is magnified at a magnification (for example, 3 × 1.67 × = 5 times) obtained by multiplying the magnifications of the first projection lens 51 and the second projection lens 52, respectively. And projected onto the photosensitive material 12.
Note that the imaging optical system 50 is not necessarily provided with the second projection lens 52.

図８Ａ及び図８Ｂは、第１投影レンズ５１、第２投影レンズ５２を構成する投影レンズ３００を示した平面図である。
前記露光装置の露光性能を上げるためには、高いレンズ光学性能（像面湾曲、非点隔差、歪曲等を抑制、高いテレセントリック性）を持つ投影レンズが必要となる。しかしながら、投影レンズの全面領域においてレンズ光学性能を向上させようとすると、レンズのコストアップに繋がり、大口径レンズの製造が困難になるという問題がある。一方、投影レンズの任意の領域のレンズ光学性能を高めるために、故意に所定の領域に歪みを持たせて投影レンズを製造することが可能であることが近年の研究で明らかになった。 8A and 8B are plan views showing a projection lens 300 that constitutes the first projection lens 51 and the second projection lens 52. FIG.
In order to improve the exposure performance of the exposure apparatus, a projection lens having high lens optical performance (suppression of field curvature, astigmatism, distortion, etc., high telecentricity) is required. However, an attempt to improve lens optical performance over the entire area of the projection lens leads to an increase in the cost of the lens, which makes it difficult to manufacture a large-diameter lens. On the other hand, in recent years, it has been clarified that it is possible to manufacture a projection lens by intentionally distorting a predetermined region in order to improve lens optical performance in an arbitrary region of the projection lens.

そこで、例えば、投影レンズの周辺部分に歪みを持たせ、中央部の歪みを少なくして製造することによって、投影レンズの中央部を含む領域のレンズ光学性能を高め、更に中央部を含む領域にてＤＭＤ８０によって形成された２次元パターンを透過させて結像することができる。具体的には、図８Ａに示すように、投影レンズ３００の周辺領域である領域３２０に像面湾曲、領域３３０に歪曲が大きいという特性を持たせ、その分投影レンズ３００の中央部を含む領域の歪みを少なくさせて、レンズ光学性能が高くなるようにして製造することができる。   Therefore, for example, by giving distortion to the peripheral portion of the projection lens and reducing the distortion of the central portion, the lens optical performance in the region including the central portion of the projection lens is improved, and further, in the region including the central portion. The two-dimensional pattern formed by the DMD 80 can be transmitted and imaged. Specifically, as shown in FIG. 8A, a region 320 that is a peripheral region of the projection lens 300 is given a characteristic that the field curvature is large, and the region 330 has a large distortion, and the region including the central portion of the projection lens 300 correspondingly. The lens optical performance can be improved by reducing the distortion of the lens.

しかし、例えば図８Ａに示すように、ＤＭＤ８０によって形成された２次元パターンが投影レンズ３００の領域３１０に照射されて透過される場合には、２次元パターンの一部が像面湾曲や歪曲が大きい特性を含む領域を透過することになるため、２次元パターンは、投影レンズ３００におけるレンズ光学性能の良い領域３４０に照射される必要がある。
そこで、投影レンズ３００のレンズ光学性能の良い領域３４０を選択して２次元パターンを照射するために、例えば、２次元パターンの光の光軸を中心として、図８Ｂに示す矢印Ａの方向に投影レンズ３００を回転させることが好ましい。この回転により、レンズ光学性能の良い領域３４０と２次元パターンが照射される領域３１０を一致させ、レンズ光学性能の良い領域３４０において２次元パターンを透過させることができる。
このように、レンズ光学性能の良い領域において２次元パターンを透過させて結像させることによって、２次元パターンが感光材料１２上に投影される際の画質を向上させることができる。 However, as shown in FIG. 8A, for example, when the two-dimensional pattern formed by the DMD 80 is irradiated and transmitted through the region 310 of the projection lens 300, a part of the two-dimensional pattern has a large curvature of field and distortion. Since the region including the characteristic is transmitted, the two-dimensional pattern needs to be irradiated to the region 340 having good lens optical performance in the projection lens 300.
Therefore, in order to select a region 340 with good lens optical performance of the projection lens 300 and irradiate a two-dimensional pattern, for example, projection is performed in the direction of arrow A shown in FIG. 8B around the optical axis of the light of the two-dimensional pattern. It is preferable to rotate the lens 300. By this rotation, the region 340 with good lens optical performance can coincide with the region 310 irradiated with the two-dimensional pattern, and the two-dimensional pattern can be transmitted through the region 340 with good lens optical performance.
In this way, by forming an image by transmitting a two-dimensional pattern in a region having good lens optical performance, the image quality when the two-dimensional pattern is projected onto the photosensitive material 12 can be improved.

また、大口径の投影レンズを用いる場合、投影レンズの全面領域において十分なレンズ光学性能を得ようとすると製造が困難であるが、前記大口径の投影レンズの周辺領域等の任意の領域にレンズ歪みを持たせて、中央部を含む領域のレンズ歪みを少なくすることによって、高いレンズ光学性能を持たせることができる。このような大口径の投影レンズを用いることによって、露光面積が拡大し、露光速度を速くすることができる。   In addition, when a large-diameter projection lens is used, it is difficult to manufacture if an attempt is made to obtain sufficient lens optical performance in the entire area of the projection lens, but the lens can be placed in an arbitrary area such as a peripheral area of the large-diameter projection lens. By imparting distortion and reducing lens distortion in the region including the central portion, high lens optical performance can be obtained. By using such a large-diameter projection lens, the exposure area can be expanded and the exposure speed can be increased.

尚、ＤＭＤ８０から反射された光を、投影レンズの中央部を含む一部の領域において結像させるために、ＤＭＤ８０によって形成される２次元パターンは、図８Ａ及び図８Ｂに示す領域３１０のように、長辺の長さが短辺の長さより２倍以上長い略矩形状のパターンであることが望ましい。これについては後述のＤＭＤに関する説明において詳述する。   In order to form an image of the light reflected from the DMD 80 in a partial region including the central portion of the projection lens, a two-dimensional pattern formed by the DMD 80 is like a region 310 shown in FIGS. 8A and 8B. It is desirable that the pattern has a substantially rectangular pattern in which the length of the long side is twice or more than the length of the short side. This will be described in detail in the description of DMD described later.

投影レンズ３００のレンズ光学性能の良い領域３４０に２次元パターンを選択的に照射させるために、結像光学系５０は２次元パターンの光の光軸を中心として回転可能な構成であることが好ましい。
図９の上図は、結像光学系５０を備える鏡筒４００の概略側面断面図であり、図９の下図は、上図における矢印Ｂの方向から見た鏡筒４００の概略平面図である。
鏡筒４００は側面につば状のフランジ４１０を備えている。フランジ４１０にはネジ貫通孔４１２がα［°］毎に形成されている。ブラケット４２０にはネジ貫通孔４１２に対応させて雌ネジ孔（不図示）が同じくα［°］毎に形成され、ネジ（不図示）をフランジ４１０のネジ貫通孔４１２に挿通して、ブラケット４２０の対応する雌ネジ孔に螺合させることにより、フランジ４１０とブラケット４２０が固定される。この構造により、鏡筒４００は第１投影レンズ５１及び第２投影レンズ５２の光軸を中心としてα［°］ずつ回転させて任意の角度位置で固定させることができる。またネジによってフランジ４１０とブラケット４２０を固定させる際は、ネジ貫通孔４１２のうち、全てのネジ貫通孔４１２にネジを挿通してブラケット４２０の対応する雌ネジ孔に螺合させてもよいし、例えば対角線上に位置する２箇所のネジ貫通孔４１２にネジを挿通してブラケット４２０の対応する雌ネジ孔に螺合させてもよい。 In order to selectively irradiate the two-dimensional pattern on the region 340 with good lens optical performance of the projection lens 300, the imaging optical system 50 is preferably configured to be rotatable about the optical axis of the light of the two-dimensional pattern. .
9 is a schematic side sectional view of a lens barrel 400 including the imaging optical system 50, and a lower diagram in FIG. 9 is a schematic plan view of the lens barrel 400 viewed from the direction of arrow B in the upper diagram. .
The lens barrel 400 has a flange-like flange 410 on the side surface. A screw through-hole 412 is formed in the flange 410 for each α [°]. A female screw hole (not shown) is also formed in the bracket 420 corresponding to the screw through hole 412 for each α [°], and a screw (not shown) is inserted into the screw through hole 412 of the flange 410 so that the bracket 420 The flange 410 and the bracket 420 are fixed by screwing into the corresponding female screw holes. With this structure, the lens barrel 400 can be fixed at an arbitrary angular position by rotating by α [°] around the optical axes of the first projection lens 51 and the second projection lens 52. Further, when fixing the flange 410 and the bracket 420 with screws, the screws may be inserted into all the screw through holes 412 of the screw through holes 412 and screwed into the corresponding female screw holes of the bracket 420, For example, a screw may be inserted into two screw through holes 412 located on the diagonal line and screwed into corresponding female screw holes of the bracket 420.

鏡筒４００が回転されると、第１投影レンズ５１及び第２投影レンズ５２が共に回転する。そして、感光材料１２上に投影された２次元パターンの焦点、画質（解像度）等の露光性能を計測しながら、最も良い露光性能を示す回転位置でフランジ４１０とブラケット４２０を固定する。   When the lens barrel 400 is rotated, both the first projection lens 51 and the second projection lens 52 are rotated. Then, the flange 410 and the bracket 420 are fixed at the rotational position showing the best exposure performance while measuring the exposure performance such as the focus and image quality (resolution) of the two-dimensional pattern projected on the photosensitive material 12.

このように、鏡筒４００を２次元パターンの光の光軸を中心に回転させることによって第１投影レンズ５１及び第２投影レンズ５２を回転させ、第１投影レンズ５１及び第２投影レンズ５２を構成する投影レンズにおいてレンズ光学性能の良い領域と、光変調手段により形成された２次元パターンの照射領域を一致させることができる。   In this way, the first projection lens 51 and the second projection lens 52 are rotated by rotating the lens barrel 400 around the optical axis of the light of the two-dimensional pattern, and the first projection lens 51 and the second projection lens 52 are rotated. In the constituting projection lens, the region with good lens optical performance can be matched with the irradiation region of the two-dimensional pattern formed by the light modulation means.

なお、第１投影レンズ５１及び第２投影レンズ５２を構成する投影レンズは、各投影レンズ毎に独立して回転可能なように構成してもよい。
また、鏡筒４００は２次元パターンの光軸に垂直方向に移動可能なように構成してもよく、２次元パターンの光軸の垂直方向に、第１投影レンズ５１及び第２投影レンズ５２を構成する各投影レンズが独立して移動可能なように構成してもよい。 In addition, you may comprise the projection lens which comprises the 1st projection lens 51 and the 2nd projection lens 52 so that it can rotate independently for every projection lens.
The lens barrel 400 may be configured to be movable in the direction perpendicular to the optical axis of the two-dimensional pattern, and the first projection lens 51 and the second projection lens 52 may be arranged in the direction perpendicular to the optical axis of the two-dimensional pattern. You may comprise so that each projection lens to comprise can be moved independently.

−光変調手段−
前記光変調手段としては、パターン情報（画像信号）に基づいて２次元パターンの光を形成可能である限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ｎ個（ただし、ｎは１以上の自然数）の２次元状に配列された描素部を有するものが挙げられ、これらの中でも空間光変調素子が好ましく、具体的には、ＤＭＤが好ましい。
以下、前記光変調手段として、ＤＭＤを用いた場合について説明する。 -Light modulation means-
The light modulation means is not particularly limited as long as it can form two-dimensional pattern light based on pattern information (image signal), and can be appropriately selected according to the purpose. , N is a natural number greater than or equal to 1), and those having a picture element portion arranged in a two-dimensional shape. Among these, a spatial light modulator is preferable, and specifically, DMD is preferable.
Hereinafter, the case where DMD is used as the light modulation means will be described.

ＤＭＤ８０の概略斜視図を図１０に示す。ＤＭＤ８０は、ＤＭＤ照射光学系７０から入射された光を、パターン情報（画像信号）に基づいて空間光変調し、２次元パターンを形成する空間光変調手段である。
ＤＭＤ８０は、ｎ個（例えば、１０２４×７５７個）の２次元状に多数配置された描素部（画素）としてのマイクロミラー８１を有している。更にＤＭＤ８０は、データ処理部とミラー駆動制御部を備えたコントローラ（不図示）に接続されている。
データ処理部は、パターン情報（画像信号）に基づいてＤＭＤ８０に配されている各マイクロミラー８１の駆動を制御するための制御信号を生成する。
ミラー駆動制御部は、データ処理部によって生成された制御信号に基づいて、ＤＭＤ８０の各マイクロミラー８１の反射面の角度を制御する。
前記データ処理部及び前記ミラー駆動制御部によって、マイクロミラー８１の反射面が所定の角度に傾斜され、ＤＭＤ８１に照射された光のうち、所定の角度に傾斜されたマイクロミラー８１によって反射された光が２次元パターンとなって結像光学系５０に入射される。 A schematic perspective view of the DMD 80 is shown in FIG. The DMD 80 is a spatial light modulation unit that spatially modulates light incident from the DMD irradiation optical system 70 based on pattern information (image signal) to form a two-dimensional pattern.
The DMD 80 has micromirrors 81 as pixel parts (pixels) arranged in a number of n (for example, 1024 × 757) two-dimensionally. Further, the DMD 80 is connected to a controller (not shown) having a data processing unit and a mirror drive control unit.
The data processing unit generates a control signal for controlling the driving of each micromirror 81 arranged in the DMD 80 based on the pattern information (image signal).
The mirror drive control unit controls the angle of the reflection surface of each micromirror 81 of the DMD 80 based on the control signal generated by the data processing unit.
The light reflected by the micromirror 81 inclined at a predetermined angle out of the light irradiated on the DMD 81 by the data processing unit and the mirror drive control unit being inclined at a predetermined angle by the reflection surface of the micromirror 81. Becomes a two-dimensional pattern and enters the imaging optical system 50.

ところで、上述のとおり、第１投影レンズ５１及び第２投影レンズ５２は、第１投影レンズ５１及び第２投影レンズ５２を構成する投影レンズの周辺部分に歪みを持たせ、中央部の歪みを少なくして製造することによって、上記投影レンズの中央部を含む領域のレンズ光学性能を高め、その中央部を含む領域にて２次元パターンを透過させて結像するものである。このように２次元パターンを投影レンズの中央部を含む一部の領域において結像させるために、ＤＭＤ８０によって形成される２次元パターンは、図８Ｂに示す領域３１０のように、長辺の長さが短辺の長さより２倍以上長い略矩形状のパターンであることが好ましい。そのような略矩形状の２次元パターンを形成するために、ＤＭＤ８０の一部のマイクロミラー８１を駆動制御して、辺の長さが短辺の長さより２倍以上長い略矩形状２次元パターンを形成することが好ましい。   By the way, as described above, the first projection lens 51 and the second projection lens 52 give distortion to the peripheral portions of the projection lenses constituting the first projection lens 51 and the second projection lens 52, and reduce distortion at the center. Thus, the lens optical performance of the region including the central portion of the projection lens is improved, and the two-dimensional pattern is transmitted through the region including the central portion to form an image. In order to image the two-dimensional pattern in a part of the region including the central portion of the projection lens in this way, the two-dimensional pattern formed by the DMD 80 has a long side length like a region 310 shown in FIG. 8B. Is a substantially rectangular pattern that is at least twice as long as the length of the short side. In order to form such a substantially rectangular two-dimensional pattern, a part of the micromirrors 81 of the DMD 80 is driven and controlled so that the length of the side is two times longer than the length of the short side. Is preferably formed.

略矩形状の２次元パターンについて、図１１Ａ及び図１１Ｂを用いて詳しく説明する。
ＤＭＤ８０には、例えば、露光する際の主走査方向、即ち行方向に１０２４画素、更に露光する際の副走査方向、即ち列方向に７５６画素のマイクロミラー８１が２次元状に配置されているが、列方向に７５６画素並ぶマイクロミラー８１のうち、一部のマイクロミラー８１（例えば、２４０画素）を使用して、１０２４×２４０画素の２次元パターンを形成させる。
ここで、列方向に並ぶマイクロミラー８１のうち、使用するマイクロミラー８１の数は、行方向に並ぶマイクロミラー８１の数の１／２〜１／５程度の数であることが望ましい。 The substantially rectangular two-dimensional pattern will be described in detail with reference to FIGS. 11A and 11B.
In the DMD 80, for example, a micromirror 81 having 1024 pixels in the main scanning direction at the time of exposure, that is, the row direction, and 756 pixels in the sub-scanning direction at the time of exposure, that is, the column direction, is two-dimensionally arranged. A 1024 × 240 pixel two-dimensional pattern is formed by using some of the micromirrors 81 (for example, 240 pixels) among the 756 pixels arranged in the column direction.
Here, among the micromirrors 81 arranged in the column direction, the number of micromirrors 81 to be used is desirably about 1/2 to 1/5 of the number of micromirrors 81 arranged in the row direction.

また、ＤＭＤ８０を構成する全てのマイクロミラーに対して、図１１Ａに示す領域８０Ｃのように、ＤＭＤ８０の中央部を占めるマイクロミラーを使用してもよく、図１１Ｂに示す領域８０Ｔのように、ＤＭＤ８０の端部付近を占めるマイクロミラーを使用してもよい。
さらに、使用しているマイクロミラーに欠陥が生じた場合は、欠陥が発生していないマイクロミラーの領域を使用するなどして、状況に応じて使用するマイクロミラーの領域を適宜変更してもよい。 Further, for all the micromirrors constituting the DMD 80, a micromirror that occupies the center of the DMD 80 may be used as in the region 80C shown in FIG. 11A, and the DMD 80 may be used as in the region 80T shown in FIG. 11B. You may use the micromirror which occupies the edge part vicinity of.
Furthermore, when a defect occurs in the micromirror being used, the micromirror region to be used may be appropriately changed depending on the situation, for example, by using a micromirror region in which no defect has occurred. .

このように、ＤＭＤ８０を構成するマイクロミラー８１において、列方向に並ぶマイクロミラー８１のうち一部のマイクロミラー８１を使用することによって、長辺の長さが短辺の長さより長い略矩形状の２次元パターンを形成することができ、第１投影レンズ５１及び第２投影レンズ５２を構成する投影レンズの高いレンズ光学性能を持つ領域のみに２次元パターンを照射させることが容易となる。
また、ＤＭＤ８０のデータ処理速度は、制御するマイクロミラー８１の数（画素数）に比例するため、列方向に並ぶマイクロミラー８１のうち一部のマイクロミラー８１を使用することによって、データ処理速度を速くすることができ、露光速度を速くすることができる。
さらに、ＤＭＤ８０によって形成される２次元パターンを小さくすることによって、マイクロミラー８１にそれぞれ対応するマイクロレンズがアレイ状に配されてなるマイクロレンズアレイ５５を小型化することができる。前記マイクロレンズアレイは高価な光学部材であるため、露光装置のコストを削減することができる。 In this way, in the micromirror 81 constituting the DMD 80, by using a part of the micromirrors 81 arranged in the column direction, the length of the long side is substantially rectangular, which is longer than the length of the short side. A two-dimensional pattern can be formed, and it becomes easy to irradiate only the region having high lens optical performance of the projection lens constituting the first projection lens 51 and the second projection lens 52.
In addition, since the data processing speed of the DMD 80 is proportional to the number of micromirrors 81 to be controlled (number of pixels), the data processing speed can be reduced by using some of the micromirrors 81 arranged in the column direction. The exposure speed can be increased.
Furthermore, by reducing the two-dimensional pattern formed by the DMD 80, the microlens array 55 in which the microlenses corresponding to the micromirrors 81 are arranged in an array can be reduced in size. Since the microlens array is an expensive optical member, the cost of the exposure apparatus can be reduced.

なお、長辺の長さが短辺の長さより長い略矩形状の２次元パターンを形成するために、ＤＭＤ８０において列方向に並ぶマイクロミラー８１のうち、一部のマイクロミラー８１を用いることとして説明したが、予め長辺方向のマイクロミラーの数が短辺方向のマイクロミラーの数より２倍以上多いＤＭＤを用いてもよい。   Note that, in order to form a substantially rectangular two-dimensional pattern in which the length of the long side is longer than the length of the short side, a part of the micromirrors 81 arranged in the column direction in the DMD 80 is used. However, a DMD in which the number of micromirrors in the long side direction is twice or more than the number of micromirrors in the short side direction may be used in advance.

−焦点調節手段−
−−くさび型プリズムペア−−
図１２は、くさび型プリズムペア５４の構成を示す側面図であり、図１３はくさび型プリズムペア５４を示す概略斜視図である。
くさび型プリズムペア５４は、２次元パターンの光の光路長を変更して、２次元パターンを結像させる際の焦点を調節するための焦点調節手段である。
くさび型プリズムペア５４は、くさび型プリズム５４０Ａ及び５４０Ｂと、くさび型プリズム５４０Ａ及び５４０Ｂをそれぞれ固定するベースプリズムホルダ５４１Ａ及び５４１Ｂと、ベースプリズムホルダ５４１Ａの両端に配設されたスライドベース５４２Ａ及びスライドベース５４２Ａ上を移動するスライダ５４２Ｂを含むスライド部５４５と、スライド部５４５を移動させる駆動部５４６とを備えて構成されている。くさび型プリズムペア５４については、図１３に示すように、例えばガラスやアクリル等の透明材料からなる平行平板を、この平行平板の平行平面Ｈ１１及びＨ２２に対して斜めに傾く平面Ｈｋに沿って切断することによって得られる一対のくさび型プリズムＡ及びＢを上記くさび型プリズム５４０Ａ及び５４０Ｂとして使用することができる。 -Focus adjustment means-
--Wedge type prism pair--
FIG. 12 is a side view showing the configuration of the wedge-shaped prism pair 54, and FIG. 13 is a schematic perspective view showing the wedge-shaped prism pair 54.
The wedge-shaped prism pair 54 is a focus adjusting means for adjusting the focal point when the two-dimensional pattern is imaged by changing the optical path length of the light of the two-dimensional pattern.
The wedge prism pair 54 includes wedge prisms 540A and 540B, base prism holders 541A and 541B for fixing the wedge prisms 540A and 540B, and a slide base 542A and a slide base disposed at both ends of the base prism holder 541A. The slide unit 545 includes a slider 542 </ b> B that moves on 542 </ b> A, and a drive unit 546 that moves the slide unit 545. For the wedge-shaped prism pair 54, as shown in FIG. 13, a parallel flat plate made of a transparent material such as glass or acrylic is cut along a plane Hk that is inclined with respect to the parallel planes H11 and H22 of the parallel plate. A pair of wedge prisms A and B obtained by doing so can be used as the wedge prisms 540A and 540B.

図１２に示したくさび型プリズム５４０Ａ及び５４０Ｂは、幅ｔ（例えば、１０［ｕｍ］）の空気層５５０を介してベースプリズムホルダ５４１Ａ及び５４１Ｂに固定されている。また、スライドベース５４２Ａ及びスライダ５４２Ｂとの組み合わせによってリニアスライドが可能であり、駆動部５４６がくさび型プリズム５４０Ａ及び５４０Ｂの互いの位置を空気層５５０の幅ｔが変化しないようにスライド部５４５を１方向（図中矢印ｕの方向）に相対的に移動させる。このスライド部５４５の移動により、くさび型プリズムペア５４の２次元パターンの光軸方向の厚さ（平行平面板の厚さから空気層５５０の幅ｔを除いた厚さ）が変更される。つまり、くさび型プリズムペア５４によって２次元パターンを形成する光の光路長が変更されることになる。   The wedge-shaped prisms 540A and 540B shown in FIG. 12 are fixed to the base prism holders 541A and 541B via an air layer 550 having a width t (for example, 10 [um]). In addition, linear sliding is possible by a combination of the slide base 542A and the slider 542B, and the drive unit 546 moves the positions of the wedge prisms 540A and 540B to each other so that the width t of the air layer 550 does not change. Move relatively in the direction (direction of arrow u in the figure). By the movement of the slide portion 545, the thickness of the wedge-shaped prism pair 54 in the optical axis direction (the thickness obtained by removing the width t of the air layer 550 from the thickness of the plane parallel plate) is changed. That is, the optical path length of the light forming the two-dimensional pattern is changed by the wedge-shaped prism pair 54.

このように、第２投影レンズ５２と感光材料１２の間にくさび型プリズムペア５４を配設することによって、２次元パターンの光の光路長を簡単に調節することができる。
したがって、従来に比べ、第２投影レンズ５２によって結像された２次元パターンを感光材料１２上に結像する際の焦点調整を、簡単に、かつ短時間で行うことができる。 As described above, by arranging the wedge-shaped prism pair 54 between the second projection lens 52 and the photosensitive material 12, the optical path length of the light of the two-dimensional pattern can be easily adjusted.
Therefore, as compared with the prior art, the focus adjustment when the two-dimensional pattern imaged by the second projection lens 52 is imaged on the photosensitive material 12 can be performed easily and in a short time.

なお、図１４に示すように、くさび型プリズムペア５４を、マイクロレンズアレイ５５と第２投影レンズ５２との間に配置することにより、２次元パターンの光の光路長を変更して、２次元パターンの焦点を調節してもよい。   As shown in FIG. 14, the wedge-shaped prism pair 54 is disposed between the microlens array 55 and the second projection lens 52, thereby changing the optical path length of the light of the two-dimensional pattern. The focus of the pattern may be adjusted.

前記焦点調節手段として、くさび型プリズムペア５４を用いた場合を説明したが、前記焦点調節手段はこれに限定されるものではなく、結像光学系５０を構成する投影レンズの位置を変化させずに焦点調節を行う高ビーム位置精度の焦点調節手段であればよい。   Although the case where the wedge-shaped prism pair 54 is used as the focus adjusting means has been described, the focus adjusting means is not limited to this, and the position of the projection lens constituting the imaging optical system 50 is not changed. Any focus adjustment means with high beam position accuracy for performing focus adjustment may be used.

−−結像光学系を構成する光学部材及びピエゾ素子による焦点調節手段−−
前記焦点調節手段としては、例えば、図１５Ａ、図１５Ｂ、図１６Ａ、及び図１６Ｂに示すように、結像光学系を構成する光学部材であるマイクロレンズアレイ５５を、ピエゾ素子６００を用いて焦点方向（図中矢印Ｘの方向）に移動させることにより焦点調整を行ってもよい。
ピエゾ素子６００を用いることによって、マイクロレンズアレイ５５の焦点方向と垂直な方向への変位を抑えつつ、焦点方向への微小移動を行うことができるため、安定したビーム位置精度を保ちながら焦点調整を行うことができる。 --Focus adjustment means using optical member and piezo element constituting imaging optical system--
As the focus adjusting means, for example, as shown in FIGS. 15A, 15B, 16A, and 16B, a microlens array 55 that is an optical member constituting an imaging optical system is focused using a piezo element 600. Focus adjustment may be performed by moving in the direction (the direction of arrow X in the figure).
By using the piezo element 600, it is possible to perform minute movement in the focus direction while suppressing displacement in the direction perpendicular to the focus direction of the microlens array 55, so that focus adjustment is performed while maintaining stable beam position accuracy. It can be carried out.

＜露光方法＞
上述した露光装置１０による露光方法について説明する。
図１７Ａは感光材料１２とＤＭＤ８０の位置関係を概略的に示した斜視図である。なお、図２に示すように、露光装置１０はＤＭＤ８０を有する露光ヘッド３０を１０個備えることとして説明したが、図１７Ａ及び図１７Ｂでは簡略化して１個のＤＭＤ８０にのみ着目して図示及び説明する。 <Exposure method>
An exposure method using the above-described exposure apparatus 10 will be described.
FIG. 17A is a perspective view schematically showing the positional relationship between the photosensitive material 12 and the DMD 80. As shown in FIG. 2, the exposure apparatus 10 has been described as including ten exposure heads 30 having DMDs 80. However, in FIGS. 17A and 17B, the exposure apparatus 10 is simplified and shown and described with a focus on only one DMD 80. To do.

図１７Ａに示すように、ＤＭＤ８０の全てのマイクロミラー８１に対して領域８０Ｔを占めるマイクロミラー８１を使用する場合、領域８０Ｔの短辺方向を感光材料１２のうねり方向に向けて感光材料１２をそのうねり方向に移動させながら（領域８０Ｔの短辺方向を感光材料１２の移動方向に向ける）感光材料１２に対して露光を行うことが好ましい。すなわち、領域８０Ｔにより形成され、前記感光材料の被露光面上に結像される略矩形状の露光領域が、その短辺方向と前記感光層のうねり方向とが略平行となるように露光を行うことが好ましい。
図１７Ａにおいて、露光エリア８１はＤＭＤ８０の全てのマイクロミラー８１を使用して２次元パターンを形成したときの露光エリアであり、露光エリア８１ＴはＤＭＤ８１において領域８０Ｔを占めるマイクロミラー８１を使用して２次元パターンを形成したときの露光エリアである。 As shown in FIG. 17A, when the micromirror 81 occupying the region 80T is used for all the micromirrors 81 of the DMD 80, the photosensitive material 12 is placed with the short side direction of the region 80T facing the waviness direction of the photosensitive material 12. It is preferable to expose the photosensitive material 12 while moving it in the waviness direction (with the short side direction of the region 80T directed to the moving direction of the photosensitive material 12). That is, the exposure is performed so that the substantially rectangular exposure region formed by the region 80T and imaged on the exposed surface of the photosensitive material is substantially parallel to the short side direction and the waviness direction of the photosensitive layer. Preferably it is done.
In FIG. 17A, an exposure area 81 is an exposure area when a two-dimensional pattern is formed using all the micromirrors 81 of the DMD 80, and the exposure area 81T is 2 using the micromirror 81 that occupies the region 80T in the DMD81. This is an exposure area when a dimensional pattern is formed.

図１７Ｂは、図１７Ａにおいて破線の枠Ｐで囲んだ部分を拡大して示した側面図である。図１７Ｂに示すように、ＤＭＤ８０の全てのマイクロミラー８１を使用して２次元パターンを形成した場合、露光エリア８１の感光材料１２に対する最大深度差（露光エリア８１内における、感光材料１２表面の最大高低差）はｄ２となる。
一方、ＤＭＤ８０において領域８０Ｔを占めるマイクロミラー８１を使用した場合、露光エリア８１Ｔの感光材料１２に対する最大深度差はｄ１となる。
図１７Ｂに示すように、ｄ１＜ｄ２であり、深度差が小さいほうが深度差が大きい場合より２次元パターン内における感光材料１２のうねりの度合いが小さい。従って、２次元パターンの焦点位置をより適切な位置に合わせることができる。 FIG. 17B is an enlarged side view showing a portion surrounded by a broken-line frame P in FIG. 17A. As shown in FIG. 17B, when a two-dimensional pattern is formed using all the micromirrors 81 of the DMD 80, the maximum depth difference with respect to the photosensitive material 12 in the exposure area 81 (the maximum of the surface of the photosensitive material 12 in the exposure area 81). The difference in height is d2.
On the other hand, when the micromirror 81 occupying the region 80T is used in the DMD 80, the maximum depth difference with respect to the photosensitive material 12 in the exposure area 81T is d1.
As shown in FIG. 17B, d1 <d2, and the smaller the depth difference, the smaller the degree of undulation of the photosensitive material 12 in the two-dimensional pattern than when the depth difference is large. Therefore, the focal position of the two-dimensional pattern can be adjusted to a more appropriate position.

また、１フレームの露光が終了し、ステージ１４が走査方向に移動することによって感光材料１２が移動すると、露光エリア８１Ｔの位置が変化し、露光エリア８１Ｔ内における感光材料１２のうねりの度合いが変化するため、焦点位置も変化するが、くさび型プリズムペア５４によって焦点調節がなされることにより、焦点位置は即座に調節される。従って、感光材料１２のうねりに対応した長焦点深度を有する露光を行うことができる。   Further, when the exposure of one frame is completed and the photosensitive material 12 is moved by moving the stage 14 in the scanning direction, the position of the exposure area 81T is changed, and the degree of undulation of the photosensitive material 12 in the exposure area 81T is changed. Therefore, although the focal position also changes, the focal position is adjusted immediately by the focus adjustment by the wedge prism pair 54. Therefore, exposure having a long focal depth corresponding to the undulation of the photosensitive material 12 can be performed.

このように、ＤＭＤ８０を構成するマイクロミラー８１において、列方向に並ぶマイクロミラー８１のうち一部のマイクロミラー８１を使用して、略矩形状の２次元パターンを形成させたとき、２次元パターンの短辺方向を感光材料１２のうねり方向に向けて露光を行うことにより、露光エリア８１Ｔ内における感光材料１２のうねりの度合いを少なくすることができる。
このため、２次元パターンの焦点位置を適切な位置に合わせることができ、露光装置１０の焦点深度を従来の露光装置より見かけ上大きくすることができ、この結果、露光画質を向上させることができ、高精細なパターン露光が行われる。 Thus, in the micromirrors 81 constituting the DMD 80, when a part of the micromirrors 81 arranged in the column direction is used to form a substantially rectangular two-dimensional pattern, the two-dimensional pattern By performing exposure with the short side direction facing the waviness direction of the photosensitive material 12, the degree of waviness of the photosensitive material 12 in the exposure area 81T can be reduced.
For this reason, the focal position of the two-dimensional pattern can be adjusted to an appropriate position, and the focal depth of the exposure apparatus 10 can be apparently increased as compared with the conventional exposure apparatus, and as a result, the exposure image quality can be improved. High-definition pattern exposure is performed.

なお、図２に示すように、実際には露光ヘッド３０はＤＭＤ８０の画素列方向が走査方向と所定の設定傾斜角度をなすようにスキャナ２４に取り付けられている。従って、各露光ヘッド３０による露光エリア３２（図１７Ａ及び図１７Ｂにおける露光エリア８１Ｔに相当）は走査方向に対して傾斜した矩形状のエリアとなる。
露光エリア８１Ｔ内の感光材料１２のうねりによる影響の度合いを最小限に抑えるためには、露光エリア８１Ｔの短辺方向と感光材料１２のうねり方向を完全に一致させることが理想であるが、露光エリア８１Ｔが上記所定の設定傾斜角度をなしていても、露光エリア８１Ｔの短辺方向が長辺方向より感光材料１２のうねり方向に向いていれば、すなわち、前記感光材料の被露光面上に結像される略矩形状の露光領域が、その短辺方向と前記感光層のうねり方向とがなす角が、その長辺方向と前記感光層のうねり方向とがなす角よりも小さくなるように向いていればよい。 As shown in FIG. 2, the exposure head 30 is actually attached to the scanner 24 so that the pixel row direction of the DMD 80 forms a predetermined set inclination angle with the scanning direction. Therefore, the exposure area 32 (corresponding to the exposure area 81T in FIGS. 17A and 17B) by each exposure head 30 is a rectangular area inclined with respect to the scanning direction.
In order to minimize the degree of influence due to the waviness of the photosensitive material 12 in the exposure area 81T, it is ideal that the short side direction of the exposure area 81T and the waviness direction of the photosensitive material 12 are perfectly matched. Even if the area 81T has the predetermined set inclination angle, if the short side direction of the exposure area 81T is oriented in the waviness direction of the photosensitive material 12 from the long side direction, that is, on the exposed surface of the photosensitive material. The angle formed by the short side direction and the waviness direction of the photosensitive layer in the substantially rectangular exposure region to be imaged is smaller than the angle formed by the long side direction and the waviness direction of the photosensitive layer. It only has to be suitable.

以上説明したとおり、本発明のパターン形成方法における露光は、結像手段を構成する投影レンズの周辺領域に歪みを持たせ、その分中央部を含む領域の歪みを少なくして、該中央部を含む領域の光学性能を高めた結像手段を備えた露光装置を用いることにより、光学性能の良い領域において空間光変調された光を結像することによって、該空間光変調された光が、感光材料上に投影される際の画質を向上させることができる。   As described above, the exposure in the pattern forming method of the present invention imparts distortion to the peripheral area of the projection lens constituting the imaging means, and reduces the distortion of the area including the central part, thereby reducing the central part. By using an exposure apparatus equipped with an imaging means that improves the optical performance of the included area, the spatially light-modulated light is imaged by imaging the spatially light-modulated light in the area with good optical performance. The image quality when projected on the material can be improved.

また、投影レンズの周辺領域等の任意の領域にレンズ歪みを持たせて、中央部を含む領域のレンズ歪みを少なくすることによって、大口径の投影レンズでも高いレンズ光学性能を持たせることができ、これにより、露光面積が拡大し、露光速度が速くなる。   Also, by giving lens distortion to any area such as the peripheral area of the projection lens and reducing the lens distortion in the area including the central part, even a large aperture projection lens can have high lens optical performance. This increases the exposure area and increases the exposure speed.

そして、前記露光装置における結像手段が、空間光変調された露光光の光軸を中心に回転可能、又は光軸に対して垂直方向に移動可能であることにより、結像手段を構成する投影レンズの光学性能の良い領域に空間光変調された光が選択的に照射される。   The image forming means in the exposure apparatus can rotate around the optical axis of the spatial light modulated exposure light, or can move in the direction perpendicular to the optical axis, thereby forming a projection constituting the image forming means. The region with good optical performance of the lens is selectively irradiated with light subjected to spatial light modulation.

また、投影レンズの周辺領域等にレンズ歪みを持たせて中央部を含むレンズ性能のよい領域のみを使用することにより、前記投影レンズの全面領域を使用する場合に比べて焦点調節手段の光学系を小型化することができ、その結果、高精度な安定保持及び移動機構を実現した露光装置により高精細な露光が行われる。更に、空間変調された露光光の光位置を安定に保ちながら高精度に焦点位置が調整される。   Further, by using only a region having a good lens performance including the central portion by giving lens distortion to the peripheral region or the like of the projection lens, the optical system of the focus adjusting means can be used compared to the case where the entire region of the projection lens is used. As a result, high-definition exposure is performed by an exposure apparatus that realizes a highly accurate stable holding and moving mechanism. Further, the focal position is adjusted with high accuracy while keeping the optical position of the spatially modulated exposure light stable.

また、空間光変調された光をマイクロレンズアレイを通して小さなスポットに集光する場合において、高価なマイクロレンズアレイを小型化できるので、よりピッチ精度が高く低コストなマイクロレンズアレイを採用することができる。更に、焦点調整手段としてピエゾ素子を用いることによって、焦点方向に対して垂直な方向への微小変位を抑制でき、高ビーム位置精度を保ちながら、高精度に焦点位置を調整することができる。   In addition, when concentrating spatially light-modulated light on a small spot through the microlens array, the expensive microlens array can be reduced in size, so that a microlens array with higher pitch accuracy and lower cost can be employed. . Furthermore, by using a piezo element as the focus adjustment means, it is possible to suppress a minute displacement in a direction perpendicular to the focus direction, and to adjust the focus position with high accuracy while maintaining high beam position accuracy.

また、複数の半導体レーザ素子から発せられた各レーザ光を１本の光ファイバに入射させて合波し、さらにファイババンドル状の光源として面積あたりの光量の大きい高輝度な光照射手段を用いることにより、光パワーを向上させつつ、エタンデュー（Etendue）を小さくすることができ、ＤＭＤ側の開口数（ＮＡ）を小さくすることができる。これにより、前記結像手段の中央部を含む略矩計状の領域のみにおいて空間光変調手段で空間光変調する場合であっても、ＤＭＤ側の開口数を小さくでき、更に、結像光学系が被照明体の下流側に配置された場合においても、その結像光学系の焦点深度を大きくすることができ、結像される露光画像のピントずれが抑制される。   Also, each laser beam emitted from a plurality of semiconductor laser elements is incident on one optical fiber and combined, and a high-intensity light irradiation means with a large light amount per area is used as a fiber bundle light source. Thus, the Etendue can be reduced while improving the optical power, and the numerical aperture (NA) on the DMD side can be reduced. Thus, the numerical aperture on the DMD side can be reduced even when spatial light modulation is performed by the spatial light modulation means only in a substantially rectangular area including the central portion of the imaging means, and the imaging optical system Even when is disposed downstream of the illumination object, the depth of focus of the imaging optical system can be increased, and the focus deviation of the imaged exposure image is suppressed.

更に、前記結像手段が長辺の長さが短辺の長さの２倍以上の略矩形状の領域において空間光変調された露光光を結像し感光材料上に投影させる際に、前記感光材料の被露光面上に結像される略矩形状の露光領域が、その短辺方向と前記感光層のうねり方向とがなす角が、その長辺方向と前記感光層のうねり方向とがなす角よりも小さくなるように露光を行うことにより、投影された空間光変調された露光光の投影エリア内における感光材料のうねりの度合いを少なくすることができ、空間光変調された光の焦点位置を調整することができる。これにより、焦点深度を従来の露光装置より見かけ上大きくすることができ、解像度（露光画質）を向上させることができる。   Further, when the imaging means forms an image of the exposure light that has been spatially light-modulated in a substantially rectangular region whose long side is twice or more the length of the short side and projects it onto the photosensitive material, The angle between the short side direction and the waviness direction of the photosensitive layer of the substantially rectangular exposure region imaged on the exposed surface of the photosensitive material is the long side direction and the waviness direction of the photosensitive layer. By performing exposure so that the angle is smaller than the angle formed, the degree of swell of the photosensitive material in the projection area of the projected spatial light modulated exposure light can be reduced, and the focus of the spatial light modulated light is reduced. The position can be adjusted. Thereby, the depth of focus can be apparently increased as compared with the conventional exposure apparatus, and the resolution (exposure image quality) can be improved.

［現像工程］
前記現像工程としては、前記露光工程により前記感光層を露光し、未露光部分を除去することにより現像する工程を有する。
前記未硬化領域の除去方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、現像液を用いて除去する方法などが挙げられる。 [Development process]
The developing step includes a step of developing the photosensitive layer by exposing the photosensitive layer by the exposing step and removing an unexposed portion.
There is no restriction | limiting in particular as the removal method of the said unhardened area | region, According to the objective, it can select suitably, For example, the method etc. which remove using a developing solution are mentioned.

前記現像液としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、アルカリ性水溶液、水系現像液、有機溶剤などが挙げられ、これらの中でも、弱アルカリ性の水溶液が好ましい。該弱アルカリ水溶液の塩基成分としては、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、リン酸ナトリウム、リン酸カリウム、ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム、硼砂などが挙げられる。   There is no restriction | limiting in particular as said developing solution, Although it can select suitably according to the objective, For example, alkaline aqueous solution, an aqueous developing solution, an organic solvent etc. are mentioned, Among these, weakly alkaline aqueous solution is preferable. Examples of the basic component of the weak alkaline aqueous solution include lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate, lithium hydrogen carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, sodium phosphate, phosphorus Examples include potassium acid, sodium pyrophosphate, potassium pyrophosphate, and borax.

前記弱アルカリ性の水溶液のｐＨとしては、例えば、約８〜１２が好ましく、約９〜１１がより好ましい。前記弱アルカリ性の水溶液としては、例えば、０．１〜５質量％の炭酸ナトリウム水溶液又は炭酸カリウム水溶液、０．０１〜０．１質量％の水酸化カリウム水溶液などが挙げられる。
前記現像液の温度としては、前記感光層の現像性に合わせて適宜選択することができるが、例えば、約２５℃〜４０℃が好ましい。 The pH of the weak alkaline aqueous solution is, for example, preferably about 8 to 12, and more preferably about 9 to 11. Examples of the weak alkaline aqueous solution include a 0.1 to 5% by mass sodium carbonate aqueous solution or a potassium carbonate aqueous solution, and a 0.01 to 0.1% by mass potassium hydroxide aqueous solution.
The temperature of the developer can be appropriately selected according to the developability of the photosensitive layer, and is preferably about 25 ° C. to 40 ° C., for example.

前記現像液は、界面活性剤、消泡剤、有機塩基（例えば、エチレンジアミン、エタノールアミン、テトラメチルアンモニウムハイドロキサイド、ジエチレントリアミン、トリエチレンペンタミン、モルホリン、トリエタノールアミン等）や、現像を促進させるため有機溶剤（例えば、アルコール類、ケトン類、エステル類、エーテル類、アミド類、ラクトン類等）などと併用してもよい。また、前記現像液は、水又はアルカリ水溶液と有機溶剤を混合した水系現像液であってもよく、有機溶剤単独であってもよい。   The developer includes a surfactant, an antifoaming agent, an organic base (for example, ethylenediamine, ethanolamine, tetramethylammonium hydroxide, diethylenetriamine, triethylenepentamine, morpholine, triethanolamine, etc.) and development. Therefore, it may be used in combination with an organic solvent (for example, alcohols, ketones, esters, ethers, amides, lactones, etc.). The developer may be an aqueous developer obtained by mixing water or an aqueous alkali solution and an organic solvent, or may be an organic solvent alone.

なお、現像の方式としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、パドル現像、シャワー現像、シャワー＆スピン現像、ディプ現像等が挙げられる。
ここで、上記シャワー現像について説明すると、露光後の感光性樹脂層に現像液をシャワーにより吹き付けることにより、未硬化部分を除去することができる。尚、現像の前に感光性樹脂層の溶解性が低いアルカリ性の液をシャワーなどにより吹き付け、熱可塑性樹脂層、中間層などを除去しておくことが好ましい。また、現像の後に、洗浄剤などをシャワーにより吹き付け、ブラシなどで擦りながら、現像残渣を除去することが好ましい。 The development method is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. Examples thereof include paddle development, shower development, shower & spin development, and dip development.
Here, the shower development will be described. The uncured portion can be removed by spraying a developer onto the exposed photosensitive resin layer by shower. In addition, it is preferable to spray an alkaline solution having low solubility of the photosensitive resin layer by a shower or the like before development to remove the thermoplastic resin layer, the intermediate layer, and the like. Further, after the development, it is preferable to remove the development residue while spraying a cleaning agent or the like with a shower and rubbing with a brush or the like.

［その他の工程］
前記その他の工程としては、特に制限はなく、公知のカラーフィルタ製造方法における工程の中から適宜選択することが挙げられるが、例えば、硬化処理工程、などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。 [Other processes]
There is no restriction | limiting in particular as said other process, Although selecting suitably from the processes in a well-known color filter manufacturing method is mentioned, For example, a hardening process process etc. are mentioned. These may be used alone or in combination of two or more.

−硬化処理工程−
前記現像工程後に、感光層に対して硬化処理を行う硬化処理工程を備えることが好ましい。
前記硬化処理工程としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、全面露光処理、全面加熱処理などが好適に挙げられる。 -Curing process-
It is preferable to provide a curing treatment step for performing a curing treatment on the photosensitive layer after the development step.
There is no restriction | limiting in particular as said hardening process, Although it can select suitably according to the objective, For example, a whole surface exposure process, a whole surface heat processing, etc. are mentioned suitably.

前記全面露光処理の方法としては、例えば、前記現像工程の後に、前記パターンが形成された前記積層体上の全面を露光する方法が挙げられる。該全面露光により、前記感光層を形成する感光性組成物中の樹脂の硬化が促進され、形成されたパターンの表面が硬化される。
前記全面露光を行う装置としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、超高圧水銀灯などのＵＶ露光機が好適に挙げられる。 Examples of the entire surface exposure processing method include a method of exposing the entire surface of the laminate on which the pattern is formed after the developing step. The entire surface exposure accelerates the curing of the resin in the photosensitive composition forming the photosensitive layer, and the surface of the formed pattern is cured.
There is no restriction | limiting in particular as an apparatus which performs the said whole surface exposure, Although it can select suitably according to the objective, For example, UV exposure machines, such as an ultrahigh pressure mercury lamp, are mentioned suitably.

前記全面加熱処理の方法としては、前記現像工程の後に、前記パターンが形成された前記積層体上の全面を加熱する方法が挙げられる。該全面加熱により、前記パターンの表面の膜強度が高められる。
前記全面加熱における加熱温度としては、１２０〜２５０℃が好ましく、１２０〜２００℃がより好ましい。該加熱温度が１２０℃未満であると、加熱処理による膜強度の向上が得られないことがあり、２５０℃を超えると、前記感光性組成物中の樹脂の分解が生じ、膜質が弱く脆くなることがある。
前記全面加熱における加熱時間としては、１０〜１２０分が好ましく、１５〜６０分がより好ましい。
前記全面加熱を行う装置としては、特に制限はなく、公知の装置の中から、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ドライオーブン、ホットプレート、ＩＲヒーターなどが挙げられる。 Examples of the entire surface heat treatment method include a method of heating the entire surface of the laminate on which the pattern is formed after the developing step. The whole surface heating increases the film strength of the surface of the pattern.
As heating temperature in the said whole surface heating, 120-250 degreeC is preferable and 120-200 degreeC is more preferable. When the heating temperature is less than 120 ° C., the film strength may not be improved by heat treatment. When the heating temperature exceeds 250 ° C., the resin in the photosensitive composition is decomposed, and the film quality is weak and brittle. Sometimes.
As heating time in the said whole surface heating, 10 to 120 minutes are preferable and 15 to 60 minutes are more preferable.
There is no restriction | limiting in particular as an apparatus which performs the said whole surface heating, According to the objective, it can select suitably from well-known apparatuses, For example, a dry oven, a hot plate, IR heater etc. are mentioned.

本発明のカラーフィルタの製造方法においては、上述したように、ガラス基板等の透明基板上に、本発明のパターン形成方法により、少なくとも３色から構成される（例えば、ＲＧＢ）画素をモザイク状又はストライプ状に配置することができる。
各画素の寸法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、４０〜２００μｍとすることが好適に挙げられる。ストライプ状であれば４０〜２００μｍ巾が通常用いられる。
前記カラーフィルタの製造方法としては、例えば、透明基板上に黒色に着色された感光層を用いて、露光及び現像を行いブラックマトリックスを形成し、次いで、ＲＧＢの３原色のいずれかに着色された感光層を用いて、前記ブラックマトリックスに対して所定の配置で、各色毎に、順次、露光及び現像を繰り返して、前記透明基板上にＲＧＢの３原色がモザイク状又はストライプ状に配置されたカラーフィルタを形成する方法が挙げられる。 In the method for producing a color filter of the present invention, as described above, a pixel composed of at least three colors (for example, RGB) is formed in a mosaic pattern on a transparent substrate such as a glass substrate by the pattern forming method of the present invention. They can be arranged in stripes.
There is no restriction | limiting in particular as a dimension of each pixel, According to the objective, it can select suitably, For example, it is preferable to set it as 40-200 micrometers. In the case of a stripe shape, a width of 40 to 200 μm is usually used.
As a method for producing the color filter, for example, using a photosensitive layer colored black on a transparent substrate, exposure and development were performed to form a black matrix, and then the color filter was colored in one of the three primary colors of RGB. A color in which the three primary colors of RGB are arranged in a mosaic or stripe pattern on the transparent substrate by repeating exposure and development sequentially for each color in a predetermined arrangement with respect to the black matrix using a photosensitive layer. The method of forming a filter is mentioned.

（カラーフィルタ）
本発明のカラーフィルタは、本発明の前記カラーフィルタの製造方法により製造される。
前記カラーフィルタは、赤色（Ｒ）着色に顔料Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４、緑色（Ｇ）着色に顔料Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６及び顔料Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９、並びに青色（Ｂ）着色に顔料Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６を用いて製造した場合には、Ｄ６５光源によるレッド（Ｒ）、グリーン（Ｇ）及びブルー（Ｂ）のそれぞれ総ての単色の色度が、例えば下記表１に記載の値となる。この範囲であると、反射モードと透過モードの色のバランスがとれたものとなる。 (Color filter)
The color filter of the present invention is manufactured by the method for manufacturing the color filter of the present invention.
The color filter has a pigment C.I. I. Pigment Red 254, green (G) coloring pigment C.I. I. Pigment green 36 and pigment C.I. I. Pigment Yellow 139, as well as blue (B) coloring pigment C.I. I. When manufactured using CI Pigment Blue 15: 6, the chromaticities of all the single colors of red (R), green (G), and blue (B) by the D65 light source are, for example, values shown in Table 1 below. It becomes. Within this range, the colors of the reflection mode and the transmission mode are balanced.

ここで、前記色度は、顕微分光硬度計（オリンパス光学工業株式会社製、ＯＳＰ１００又は２００）により測定し、Ｄ６５光源視野２度の結果として計算して、ｘｙｚ表色系のｘｙＹ値で表す。また、目標色度との差は、Ｌ^＊ａ^＊ｂ^＊表色系のΔＥ^＊ａｂ値で表す。 Here, the chromaticity is measured with a microspectroscopy hardness meter (Olympus Optical Co., Ltd., OSP100 or 200), calculated as a result of a D65 light source field of view of 2 degrees, and expressed as an xyY value of the xyz color system. Further, the difference from the target chromaticity is represented by the ΔE ^* ab value of the L ^* a ^* b ^* color system.

前記カラーフィルタは、赤色（Ｒ）着色に顔料Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４及びＣ．Ｉ．ピグメントレッド１７７の少なくともいずれか、緑色（Ｇ）着色に顔料Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６及び顔料Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５０、並びに青色（Ｂ）着色に顔料Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６及びＣ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３を用いて製造した場合には、Ｆ１０光源によるレッド（Ｒ）、グリーン（Ｇ）及びブルー（Ｂ）のそれぞれ総ての単色の色度が、例えば下記表２に記載の値となる。この範囲であれば、色再現域が広く、色温度が高いＴＶ用のカラーフィルタとして好ましい。   The color filter has a pigment C.I. I. Pigment red 254 and C.I. I. Pigment Red 177, pigment C.I. I. Pigment green 36 and pigment C.I. I. Pigment Yellow 150, and blue (B) coloring pigment C.I. I. Pigment blue 15: 6 and C.I. I. When manufactured using Pigment Violet 23, the chromaticities of all the single colors of red (R), green (G), and blue (B) by the F10 light source are, for example, the values shown in Table 2 below. . If it is this range, it is preferable as a color filter for TV with a wide color reproduction range and high color temperature.

ここで、前記色度は、顕微分光硬度計（オリンパス光学工業株式会社製、ＯＳＰ１００又は２００）により測定し、Ｆ１０光源視野２度の結果として計算して、ｘｙｚ表色系のｘｙＹ値で表す。また、目標色度との差は、Ｌ^＊ａ^＊ｂ^＊表色系のΔＥａｂ値で表す。 Here, the chromaticity is measured with a microspectroscopy hardness meter (manufactured by Olympus Optical Co., Ltd., OSP100 or 200), calculated as a result of the F10 light source field of view of 2 degrees, and expressed as an xyY value of the xyz color system. Further, the difference from the target chromaticity is represented by the ΔEab value of the L ^* a ^* b ^* color system.

（表示装置）
本発明の表示装置は、互いに対向して配される一対の基板間に液晶が封入されてなり、本発明の前記カラーフィルタを有してなり、更に必要に応じてその他の部材を有してなる。
本発明のカラーフィルタは、表示装置の対向基板（ＴＦＴなどの能動素子が無い側の基板）に形成するものを対象としている他、ＴＦＴ基板側に形成するＣＯＡ方式、ＴＦＴ基板側に黒だけを形成するＢＯＡ方式、又はＴＦＴ基板にハイアパーチャー構造を有するＨＡ方式も対象とすることができる。 (Display device)
The display device of the present invention includes a liquid crystal sealed between a pair of substrates arranged opposite to each other, includes the color filter of the present invention, and further includes other members as necessary. Become.
The color filter of the present invention is not only intended to be formed on the counter substrate of the display device (the substrate on the side where there is no active element such as TFT), but also the COA method formed on the TFT substrate side, and only black on the TFT substrate side. The BOA method to be formed or the HA method having a high aperture structure on the TFT substrate can also be targeted.

前記カラーフィルタ上には、更に必要に応じて、オーバーコート膜や透明導電膜を形成することができる。その後、カラーフィルタと対向基板との間に液晶が封入され、表示装置が作製される。
適用される液晶の表示方式としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選定されるが、例えば、ＥＣＢ（Electrically Controlled Birefringence）、ＴＮ（Twisted Nematic）、ＯＣＢ（Optically Compensatory Bend）、ＶＡ（Vertically Aligned）、ＨＡＮ（Hybrid Aligned Nematic）、ＳＴＮ（Supper Twisted Nematic）、ＩＰＳ（In-Plane Switching）、ＧＨ（Guest Host）、ＦＬＣ（強誘電性液晶）、ＡＦＬＣ（反強誘電性液晶）、及びＰＤＬＣ（高分子分散型液晶）などが挙げられる。 An overcoat film or a transparent conductive film can be further formed on the color filter as necessary. After that, liquid crystal is sealed between the color filter and the counter substrate, and a display device is manufactured.
The liquid crystal display method to be applied is not particularly limited and is appropriately selected according to the purpose. For example, ECB (Electrically Controlled Birefringence), TN (Twisted Nematic), OCB (Optically Compensatory Bend), VA (Vertically Aligned), HAN (Hybrid Aligned Nematic), STN (Supper Twisted Nematic), IPS (In-Plane Switching), GH (Guest Host), FLC (ferroelectric liquid crystal), AFLC (antiferroelectric liquid crystal), and PDLC (Polymer dispersed liquid crystal).

前記表示装置の基本的な構成態様としては、（１）薄膜トランジスタ（以下、「ＴＦＴ」という。）等の駆動素子と画素電極（導電層）とが配列形成された駆動側基板と、カラーフィルタ及び対向電極（導電層）を備えるカラーフィルタ側基板とをスペーサーを介在させて対向配置し、その間隙部に液晶材料を封入して構成されるもの、（２）カラーフィルタが前記駆動側基板に直接形成されたカラーフィルタ一体型駆動基板と、対向電極（導電層）を備える対向基板とをスペーサーを介在させて対向配置し、その間隙部に液晶材料を封入して構成されるもの等が挙げられる。   The basic configuration of the display device includes (1) a driving side substrate in which driving elements such as thin film transistors (hereinafter referred to as “TFTs”) and pixel electrodes (conductive layers) are arranged, a color filter, A color filter side substrate provided with a counter electrode (conductive layer) is disposed opposite to each other with a spacer interposed therebetween, and a liquid crystal material is sealed in the gap, and (2) the color filter is directly on the drive side substrate. Examples include a configuration in which the formed color filter integrated drive substrate and a counter substrate including a counter electrode (conductive layer) are arranged to face each other with a spacer interposed therebetween, and a liquid crystal material is sealed in the gap portion. .

本発明の表示装置は、Ｄ６５光源視野２度において良好な色度を有する本発明のカラーフィルタを用いることにより、透過モード及び反射モードのいずれにおいても鮮明な色を表示することができ、透過モードと反射モードを兼用する携帯端末や携帯ゲーム機等の機器に好適に用いることができる。
また、本発明の表示装置は、Ｆ１０光源視野２度において良好な色度を有する本発明のカラーフィルタを用いることにより、高い色純度と色温度を実現でき、例えば、ノートパソコン、テレビモニター等の液晶表示装置などに好適に用いることができる。 The display device of the present invention can display a clear color in both the transmission mode and the reflection mode by using the color filter of the present invention having a good chromaticity in the D65 light source field of view of 2 degrees. And a device such as a portable terminal and a portable game machine that also use the reflection mode.
In addition, the display device of the present invention can achieve high color purity and color temperature by using the color filter of the present invention having good chromaticity in the F10 light source field of view of 2 degrees. It can be suitably used for a liquid crystal display device or the like.

以下、実施例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、以下において「部」、「％」及び「分子量」は、それぞれ「質量部」、「質量％」及び「重量平均分子量」を表す。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples, but the present invention is not limited thereto. Unless otherwise specified, “parts”, “%” and “molecular weight” represent “parts by mass”, “mass%” and “weight average molecular weight”, respectively.

（実施例１）
＜カラーフィルタパターンの形成（塗布法）＞
（１）ブラックマトリクスの形成
無アルカリガラス基板を、ＵＶ洗浄装置で洗浄後、洗浄剤を用いてブラシ洗浄し、更に超純水で超音波洗浄した。該基板を１２０℃にて３分熱処理して表面状態を安定化させた。該基板を冷却し２３℃に温調後、スリット状ノズルを有すガラス基板用コーター（エフ・エー・エス・ジャパン社製、商品名：ＭＨ−１６００）にて、下記表３に記載の組成よりなる感光性組成物Ｋ１を塗布した。引き続きＶＣＤ（真空乾燥装置、東京応化工業（株）製）で３０秒間、溶媒の一部を乾燥して塗布層の流動性を無くした後、ＥＢＲ（エッジ・ビード・リムーバー）にて基板周囲の不要な塗布液を除去し、１２０℃にて３分間プリベークして膜厚２μｍの感光層Ｋ１を形成した。 Example 1
<Color filter pattern formation (coating method)>
(1) Formation of black matrix An alkali-free glass substrate was cleaned with a UV cleaning apparatus, then with a cleaning agent by brush cleaning, and further ultrasonically cleaned with ultra pure water. The substrate was heat-treated at 120 ° C. for 3 minutes to stabilize the surface state. After cooling the substrate and adjusting the temperature to 23 ° C., the composition described in Table 3 below is applied on a glass substrate coater (manufactured by FS Japan Co., Ltd., trade name: MH-1600) having a slit-like nozzle. The photosensitive composition K1 which consists of was apply | coated. Subsequently, after part of the solvent was dried by VCD (vacuum drying device, manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) for 30 seconds to eliminate the fluidity of the coating layer, the substrate was surrounded by EBR (edge bead remover). Unnecessary coating solution was removed and prebaked at 120 ° C. for 3 minutes to form a photosensitive layer K1 having a thickness of 2 μm.

−感光性組成物Ｋ１の調製−
下記表３に記載の量のＫ顔料分散物１、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して、１５０ｒｐｍで１０分間攪拌した。次いで、下記表３に記載の量のメチルエチルケトン、バインダー２、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ＤＰＨＡ液、Ｂ−ＣＩＭ（保土谷化学工業社製）、ＮＢＣＡ（黒金化成社製）、Ｎ−フェニルメルカプトベンズイミダゾール、及び界面活性剤１をはかり取り、温度２５℃（±２℃）でこの順に添加して、温度４０℃（±２℃）、１５０ＲＰＭで３０分間攪拌し、ナイロンメッシュ＃２００で濾過した。以上により、感光性組成物Ｋ１を調製した。 -Preparation of photosensitive composition K1-
K pigment dispersion 1 and propylene glycol monomethyl ether acetate in the amounts shown in Table 3 below were weighed out, mixed at a temperature of 24 ° C. (± 2 ° C.), and stirred at 150 rpm for 10 minutes. Next, methyl ethyl ketone, binder 2, hydroquinone monomethyl ether, DPHA solution, B-CIM (manufactured by Hodogaya Chemical Industry Co., Ltd.), NBCA (manufactured by Kurokin Kasei Co., Ltd.), N-phenyl mercaptobenzimidazole, in amounts shown in Table 3 below. The surfactant 1 was weighed and added in this order at a temperature of 25 ° C. (± 2 ° C.), stirred at a temperature of 40 ° C. (± 2 ° C.) at 150 RPM for 30 minutes, and filtered through a nylon mesh # 200. The photosensitive composition K1 was prepared by the above.

なお、表３に記載の組成物のうち、
・Ｋ顔料分散物１の組成は、カーボンブラック（デグッサ社製）１３．１質量％、下記式（６）で表される分散剤０．６５質量％、ポリマー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比のランダム共重合物、分子量３．７万）６．７２質量％、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート７９．５３質量％からなる。
・バインダー２の組成は、ポリマー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７８／２２モル比のランダム共重合物、分子量３．８万）２７質量％、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート７３質量％からなる。
・ＤＰＨＡ液の組成は、ジペンタエリトリトールヘキサアクリレート（重合禁止剤ＭＥＨＱ ５００ｐｐｍ含有、日本化薬(株)製、商品名：ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ）７６質量％、及びプロピレングリコールモノメチルエーテル２４質量％からなる。
・界面活性剤１の組成は、下記構造物１ ３０質量％、及びメチルエチルケトン（ＭＥＫ）７０質量％からなる。 Of the compositions listed in Table 3,
The composition of K pigment dispersion 1 is 13.1% by mass of carbon black (manufactured by Degussa), 0.65% by mass of a dispersant represented by the following formula (6), polymer (benzyl methacrylate / methacrylic acid = 72 / 28 mol ratio random copolymer, molecular weight 37,000) 6.72% by mass and propylene glycol monomethyl ether acetate 79.53% by mass.
The composition of the binder 2 is composed of 27% by mass of a polymer (random copolymer of benzyl methacrylate / methacrylic acid = 78/22 molar ratio, molecular weight 38,000) and 73% by mass of propylene glycol monomethyl ether acetate.
The composition of the DPHA solution is composed of 76% by mass of dipentaerythritol hexaacrylate (containing 500 ppm of polymerization inhibitor MEHQ, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., trade name: KAYARAD DPHA), and 24% by mass of propylene glycol monomethyl ether.
The composition of the surfactant 1 is composed of 30% by mass of the following structure 1 and 70% by mass of methyl ethyl ketone (MEK).

ただし、前記構造物１の式中、ｘ及びｙの数値はモル比を表す。 However, in the formula of the structure 1, the numerical values of x and y represent a molar ratio.

−露光工程−
基材上の前記感光層Ｋ１に対し、下記に説明する露光装置及び露光方法により、波長が４０５ｎｍのレーザ光により、２０ｍＪ／ｃｍ^２相当のブラックマトリクスパターンの露光を行い、前記感光層の一部の領域を硬化させた。露光は、Ｎ_２雰囲気下で行い、線幅２５μｍのストライプ状パターンが得られるように行った。 -Exposure process-
The photosensitive layer K1 on the substrate is exposed to a black matrix pattern corresponding to 20 mJ / cm ^{2 with} a laser beam having a wavelength of 405 nm by an exposure apparatus and an exposure method described below, and a part of the photosensitive layer is exposed. The area of was cured. The exposure was performed under an N ₂ atmosphere so that a stripe pattern with a line width of 25 μm was obtained.

＜＜露光装置＞＞
図１に外観の概略を示した露光装置１０を用いた。該露光装置の露光ヘッドの構成は図７に示されるとおりであり、具体的には、前記光照射手段として図４〜６に示した合波レーザ光源と、前記光変調手段として図１０に概略図を示したＤＭＤであって、図１１Ａ及び図１１Ｂに示すように主走査方向にマイクロミラーが１０２４個配列されたマイクロミラー列が、副走査方向に７５６組配列された内、１０２４個×２４０列のみを駆動するように制御したＤＭＤと、図８Ａ〜９に示した投影レンズ及び鏡筒から構成される結像光学系と、図１２〜１３に示したくさび型プリズムペアとを有する露光ヘッドを備えた露光装置である。 << Exposure equipment >>
An exposure apparatus 10 whose outline of the appearance is shown in FIG. 1 was used. The configuration of the exposure head of the exposure apparatus is as shown in FIG. 7. Specifically, the combined laser light source shown in FIGS. 4 to 6 as the light irradiation means and the light modulation means as shown in FIG. FIG. 11A and FIG. 11B show a DMD in which 1024 micromirror rows in which 1024 micromirrors are arranged in the main scanning direction are arranged in 756 pairs in the subscanning direction. An exposure head having a DMD controlled to drive only a column, an imaging optical system composed of a projection lens and a lens barrel shown in FIGS. 8A to 9, and a wedge-shaped prism pair shown in FIGS. Is an exposure apparatus.

図９に示した鏡筒４００を回転させ、感光層の被露光面上に投影された２次元パターンの焦点、画質等の露光性能を計測しながら、最も良い露光性能を示す回転位置で、前記鏡筒のフランジ４１０とブラケット４２０とを固定し、投影レンズの向きを固定した。
さらに、１フレームの露光が終了し、ステージが走査方向に移動することによって感光層（積層体）が移動すると、露光エリア内における感光層のうねりの度合いが変化するため、くさび型プリズムペア５４によって焦点調節を行った。 The lens barrel 400 shown in FIG. 9 is rotated to measure the exposure performance such as the focus and image quality of the two-dimensional pattern projected on the exposed surface of the photosensitive layer, and at the rotational position showing the best exposure performance. The lens barrel flange 410 and the bracket 420 were fixed, and the direction of the projection lens was fixed.
Furthermore, when the exposure of one frame is completed and the photosensitive layer (laminated body) moves by moving the stage in the scanning direction, the degree of waviness of the photosensitive layer in the exposure area changes. Focus adjustment was performed.

−現像工程−
露光が終了した前記感光層Ｋ１の表面に、純水をシャワーノズルを用いて噴霧して均一に湿らせた後、ＫＯＨ系現像液（ＫＯＨ、ノニオン界面活性剤含有、商品名：ＣＤＫ−１、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製）にて、２３℃で８０秒間、フラットノズル圧力０，０４ＭＰａでシャワー現像し、次いで超純水を、超高圧洗浄ノズルを用いて９．８ＭＰａの圧力で噴射して残渣の除去を行い、ブラックマトリクスパターンを得た。その後、２２０℃で３０分間熱処理を行った。 -Development process-
After the exposure is completed, pure water is sprayed onto the surface of the photosensitive layer K1 using a shower nozzle so as to be uniformly moistened, and then a KOH developer (KOH, containing a nonionic surfactant, trade name: CDK-1, FUJIFILM Electronics Materials Co., Ltd.) shower development at 23 ° C. for 80 seconds with a flat nozzle pressure of 0.04 MPa, and then spray ultrapure water at a pressure of 9.8 MPa using an ultrahigh pressure cleaning nozzle. The residue was removed to obtain a black matrix pattern. Thereafter, heat treatment was performed at 220 ° C. for 30 minutes.

（２）レッド（Ｒ）画素の形成
前記ブラックマトリクスを形成した基板に、下記表４に記載の組成よりなる下記感光性組成物Ｒ１を用い、前記ブラックマトリクスの形成と同様の工程により、熱処理済みＲ画素を形成した。該Ｒ１感光層膜厚は１．５μｍ、及び顔料（Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４）の塗布量は０．２７４ｇ／ｍ^２であった。 (2) Formation of red (R) pixels The following photosensitive composition R1 having the composition described in Table 4 below is used on the substrate on which the black matrix is formed, and heat treatment is performed by the same process as the formation of the black matrix. An R pixel was formed. The R1 photosensitive layer thickness was 1.5 μm, and the coating amount of the pigment (CI Pigment Red 254) was 0.274 g / m ² .

−感光性組成物Ｒ１の調製−
下記表４に記載の量のＲ顔料分散物１、Ｒ顔料分散物２、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ｒｐｍで１０分間攪拌した。次いで、下記表４に記載の量のメチルエチルケトン、シクロヘキサノン、バインダー１、ＤＰＨＡ液、Ｂ−ＣＩＭ（保土谷化学工業社製）、ＮＢＣＡ（黒金化成社製）、Ｎ−フェニルメルカプトベンズイミダゾール、及びフェノチアジンをはかり取り、温度２４℃（±２℃）でこの順に添加して１５０ｒｐｍで３０分間攪拌した。更に、下記表４に記載の量の界面活性剤１をはかり取り、温度２４℃（±２℃）で添加して３０ｒｐｍで５分間攪拌し、ナイロンメッシュ＃２００で濾過した。以上により、感光性組成物Ｒ１を調製した。 -Preparation of photosensitive composition R1-
R pigment dispersion 1, R pigment dispersion 2, and propylene glycol monomethyl ether acetate in the amounts shown in Table 4 below were weighed out, mixed at a temperature of 24 ° C. (± 2 ° C.), and stirred at 150 rpm for 10 minutes. Subsequently, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, binder 1, DPHA solution, B-CIM (manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.), NBCA (manufactured by Kurokin Kasei Co., Ltd.), N-phenyl mercaptobenzimidazole, and phenothiazine in the amounts shown in Table 4 below. Were added in this order at a temperature of 24 ° C. (± 2 ° C.) and stirred at 150 rpm for 30 minutes. Furthermore, the surfactant 1 in the amount shown in Table 4 below was weighed, added at a temperature of 24 ° C. (± 2 ° C.), stirred at 30 rpm for 5 minutes, and filtered through a nylon mesh # 200. By the above, photosensitive composition R1 was prepared.

なお、表４に記載の組成物のうち、
・Ｒ顔料分散物１の組成は、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４（チバスペシャリティケミカルズ社製）８質量％、前記式（６）で表される分散剤０．８質量％、ポリマー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比のランダム共重合物、分子量３．７万）８質量％、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート８３質量％からなる。
・Ｒ顔料分散物２の組成は、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４（チバスペシャリティケミカルズ社製）５．３質量％、アクリル酸モノ（ジメチルアミノプロピル）アミド／メタクリル酸（ポリエチレングリコールモノメチルエーテル）エステル／メタクリル酸（ポリメチルメタクリレート含有アルコール）エステル１．６質量％、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート９３質量％からなる。
・バインダー１の組成は、ポリマー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸／メチルメタクリレート＝３８／２５／３７のランダム共重合物、分子量３．８万）２７質量％、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート７３質量％からなる。 Of the compositions listed in Table 4,
The composition of R pigment dispersion 1 is C.I. I. Pigment Red 254 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 8% by mass, 0.8% by mass of a dispersant represented by the formula (6), a polymer (benzyl methacrylate / methacrylic acid = 72/28 molar ratio random copolymer, (Molecular weight 37,000) 8% by mass and propylene glycol monomethyl ether acetate 83% by mass.
The composition of R pigment dispersion 2 is C.I. I. Pigment Red 254 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 5.3 mass%, acrylic acid mono (dimethylaminopropyl) amide / methacrylic acid (polyethylene glycol monomethyl ether) ester / methacrylic acid (polymethyl methacrylate-containing alcohol) ester 1.6 mass %, Propylene glycol monomethyl ether acetate 93% by mass.
The composition of the binder 1 is composed of 27% by mass of a polymer (random copolymer of benzyl methacrylate / methacrylic acid / methyl methacrylate = 38/25/37, molecular weight 38,000) and 73% by mass of propylene glycol monomethyl ether acetate.

−露光工程及び現像工程−
基板上の前記感光層Ｒ１に対し、前記感光層Ｋ１と同様に露光した。露光量は２０ｍＪ／ｃｍ^２であった。また、評価のため、ブラックマトリクスを形成しない基板にも、これと同様に前記感光層Ｒ１を形成し、カラーフィルタパターン、感度評価パターン、解像度評価パターン（直径の異なる多数の穴部が形成されたパターン）、及びステップウエッジパターンを用いて同様の処理をした。その後、ブラックマトリクスの作成方法と同様の方法により現像し、熱処理した。 -Exposure process and development process-
The photosensitive layer R1 on the substrate was exposed in the same manner as the photosensitive layer K1. The exposure amount was 20 mJ / cm ² . Further, for the evaluation, the photosensitive layer R1 was similarly formed on a substrate on which a black matrix was not formed, and a color filter pattern, a sensitivity evaluation pattern, and a resolution evaluation pattern (many holes having different diameters were formed. Pattern) and a step wedge pattern were used for the same processing. Then, it developed and heat-processed by the method similar to the preparation method of a black matrix.

［評価］
形成されたレッド（Ｒ）のカラーフィルタパターン（画素）について、以下の方法により露光感度、解像度、及びムラの評価を行った。結果を下記表１０に示す。 [Evaluation]
The formed red (R) color filter pattern (pixel) was evaluated for exposure sensitivity, resolution, and unevenness by the following methods. The results are shown in Table 10 below.

＜露光感度＞
得られた前記レッド（Ｒ）のカラーフィルタパターン（画素）において、残った前記感光層の硬化領域の厚みを測定した。次いで、レーザ光の照射量と、硬化層の厚さとの関係をプロットして感度曲線を得る。こうして得た感度曲線から基板上の硬化領域の厚さが１．５μｍとなり、硬化領域の表面が光沢面である時の光エネルギー量を、感光層を硬化させるために必要な光エネルギー量とした。 <Exposure sensitivity>
In the obtained red (R) color filter pattern (pixel), the thickness of the cured region of the remaining photosensitive layer was measured. Subsequently, a sensitivity curve is obtained by plotting the relationship between the irradiation amount of the laser beam and the thickness of the cured layer. From the sensitivity curve thus obtained, the thickness of the cured region on the substrate is 1.5 μm, and the amount of light energy when the surface of the cured region is a glossy surface is the amount of light energy necessary to cure the photosensitive layer. .

＜解像度＞
得られた前記レッド（Ｒ）の解像度評価パターン形成済みの基板の表面を光学顕微鏡で観察し、硬化層パターンの穴部に残膜が無い、最小の穴径を測定し、これを解像度とした。該解像度は数値が小さいほど良好である。 <Resolution>
The surface of the obtained red (R) resolution evaluation pattern-formed substrate was observed with an optical microscope, and the minimum hole diameter with no residual film in the hole portion of the cured layer pattern was measured. . The smaller the numerical value, the better the resolution.

＜塗布ムラ＞
評価のためレッド（Ｒ）の感光層のみを形成した直後の基板を、暗室でＮａランプを斜めから照射し、目視にて観察し、ムラの発生の有無を判断した。 <Coating unevenness>
For evaluation, the substrate immediately after the formation of only the red (R) photosensitive layer was irradiated with an Na lamp obliquely in a dark room and visually observed to determine the presence or absence of unevenness.

＜表示ムラ＞
パターニングが終了した画素付きの基板（評価のためレッド（Ｒ）の感光層のみを形成した）を、暗室でＮａランプを斜めから照射し、目視にて観察し、ムラの発生の有無を判断した。
なお、これらムラの評価はムラが観察しやすいという観点からレッド（Ｒ）の例を示した。 <Display unevenness>
The substrate with the pixels on which patterning was completed (only the red (R) photosensitive layer was formed for evaluation) was irradiated obliquely with a Na lamp in a dark room and visually observed to determine whether or not unevenness had occurred. .
In addition, evaluation of these nonuniformity showed the example of red (R) from a viewpoint that nonuniformity is easy to observe.

（３）グリーン（Ｇ）画素の形成
前記ブラックマトリクスとレッド（Ｒ）画素を形成した基板に、下記表５に記載の組成よりなる下記感光性組成物Ｇ１を用い、前記ブラックマトリクスの形成と同様の工程により、熱処理済みグリーン（Ｇ）画素を形成した。該Ｇ１感光層膜厚は１．４μｍ、及び顔料（Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６）の塗布量は０．３５５ｇ／ｍ^２、顔料（Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９）の塗布量は０．０５２ｇ／ｍ^２であった。ブラックマトリクスの作製方法と同様にして露光し、現像し、熱処理した。露光量は４０ｍＪ／ｃｍ^２相当であった。 (3) Formation of green (G) pixels The following photosensitive composition G1 having the composition shown in Table 5 below is used on the substrate on which the black matrix and red (R) pixels are formed, and is the same as the formation of the black matrix. Through this process, a heat-treated green (G) pixel was formed. The G1 photosensitive layer thickness is 1.4 μm, the coating amount of the pigment (CI Pigment Green 36) is 0.355 g / m ² , and the coating amount of the pigment (CI Pigment Yellow 139) is 0.052 g. / M ² . Exposure, development, and heat treatment were performed in the same manner as the black matrix manufacturing method. The exposure amount was equivalent to 40 mJ / cm ² .

−感光性組成物Ｇ１の調製−
下記表５に記載の量のＧ顔料分散物１、Ｙ顔料分散物１、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ｒｐｍで１０分間攪拌した。次いで、下記表５に記載の量のメチルエチルケトン、バインダー１、ＤＰＨＡ液、Ｂ−ＣＩＭ（保土谷化学工業社製）、ＮＢＣＡ（黒金化成社製）、Ｎ−フェニルメルカプトベンズイミダゾール、及びフェノチアジンをはかり取り、温度２４℃（±２℃）でこの順に添加して１５０ｒｐｍで３０分間攪拌した。更に、下記表５に記載の量の界面活性剤１をはかり取り、温度２４℃（±２℃）で添加して３０ｒｐｍで５分間攪拌し、ナイロンメッシュ＃２００で濾過した。以上により、感光性組成物Ｇ１を調製した。 -Preparation of photosensitive composition G1-
G pigment dispersion 1, Y pigment dispersion 1 and propylene glycol monomethyl ether acetate in the amounts shown in Table 5 below were weighed out, mixed at a temperature of 24 ° C. (± 2 ° C.), and stirred at 150 rpm for 10 minutes. Next, the amounts of methyl ethyl ketone, binder 1, DPHA solution, B-CIM (Hodogaya Chemical Co., Ltd.), NBCA (Kurokin Kasei Co., Ltd.), N-phenyl mercaptobenzimidazole, and phenothiazine in the amounts shown in Table 5 below are measured. Were added in this order at a temperature of 24 ° C. (± 2 ° C.) and stirred at 150 rpm for 30 minutes. Further, the surfactant 1 in the amount shown in Table 5 below was weighed, added at a temperature of 24 ° C. (± 2 ° C.), stirred at 30 rpm for 5 minutes, and filtered through a nylon mesh # 200. The photosensitive composition G1 was prepared by the above.

なお、表５に記載の組成物のうち、
・Ｇ顔料分散物１の組成は、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６（東洋インキ製造株式会社製、分散物）１８質量％、ポリマー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比のランダム共重合物、分子量３．７万）１２質量％、シクロヘキサノン３５質量％、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート３５質量％からなる。
・Ｙ顔料分散物１の組成は、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９（東洋インキ製造（株）製、商品名：パリオロールエローＬ１８２０）１８質量％、ポリマー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比のランダム共重合物、分子量３．８万）１５質量％、シクロヘキサノン１５質量％、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート５２質量％からなる。 In addition, among the compositions described in Table 5,
The composition of G pigment dispersion 1 is C.I. I. Pigment Green 36 (manufactured by Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd., dispersion) 18% by mass, polymer (random copolymer of benzyl methacrylate / methacrylic acid = 72/28 molar ratio, molecular weight 37,000) 12% by mass, cyclohexanone 35% by mass %, Propylene glycol monomethyl ether acetate 35% by mass.
The composition of the Y pigment dispersion 1 is C.I. I. Pigment Yellow 139 (manufactured by Toyo Ink Mfg. Co., Ltd., trade name: Pariol Yellow L1820) 18% by mass, polymer (random copolymer of benzyl methacrylate / methacrylic acid = 72/28 molar ratio, molecular weight 38,000) 15 It consists of 15% by mass of cyclohexanone, 52% by mass of propylene glycol monomethyl ether acetate.

（４）ブルー（Ｂ）画素の形成
前記ブラックマトリクス、レッド（Ｒ）画素、及びグリーン（Ｇ）画素を形成した基板に、下記表６に記載の組成よりなる下記感光性組成物Ｂ１を用い、前記ブラックマトリクスの形成と同様の工程により、熱処理済みブルー（Ｂ）画素を形成し、目的のカラーフィルタを作製した。
該Ｂ１感光層膜厚は１．４μｍ、及び顔料（Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６）の塗布量は０．２９ｇ／ｍ^２であった。前記Ｋ感光層と同様に露光し、現像し、熱処理した。露光量は５０ｍＪ／ｃｍ^２であった。 (4) Formation of blue (B) pixel On the substrate on which the black matrix, red (R) pixel, and green (G) pixel are formed, the following photosensitive composition B1 having the composition described in Table 6 below is used. Through the same process as the formation of the black matrix, heat-treated blue (B) pixels were formed, and a target color filter was produced.
The film thickness of the B1 photosensitive layer was 1.4 μm, and the coating amount of pigment (CI Pigment Blue 15: 6) was 0.29 g / m ² . Exposure, development, and heat treatment were performed in the same manner as the K photosensitive layer. The exposure amount was 50 mJ / cm ² .

−感光性組成物Ｂ１の調製−
下記表６に記載の量のＢ顔料分散物１、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ｒｐｍで１０分間攪拌した。次いで、下記表６に記載の量のメチルエチルケトン、バインダー２、ＤＰＨＡ液、Ｂ−ＣＩＭ（保土谷化学工業社製）、ＮＢＣＡ（黒金化成社製）、Ｎ−フェニルメルカプトベンズイミダゾール、及びフェノチアジンをはかり取り、温度２５℃（±２℃）でこの順に添加して、温度４０℃（±２℃）で１５０ｒｐｍ、３０分間攪拌した。更に、下記表６に記載の量の界面活性剤１をはかり取り、温度２４℃（±２℃）で添加して３０ＲＰＭで５分間攪拌し、ナイロンメッシュ＃２００で濾過した。以上により、感光性組成物Ｂ１を調製した。 -Preparation of photosensitive composition B1-
B pigment dispersion 1 and propylene glycol monomethyl ether acetate in the amounts shown in Table 6 below were weighed out, mixed at a temperature of 24 ° C. (± 2 ° C.), and stirred at 150 rpm for 10 minutes. Next, the amounts of methyl ethyl ketone, binder 2, DPHA solution, B-CIM (Hodogaya Chemical Co., Ltd.), NBCA (Kurokin Kasei Co., Ltd.), N-phenyl mercaptobenzimidazole, and phenothiazine are measured in the amounts shown in Table 6 below. And added in this order at a temperature of 25 ° C. (± 2 ° C.) and stirred at a temperature of 40 ° C. (± 2 ° C.) at 150 rpm for 30 minutes. Furthermore, the surfactant 1 in the amount shown in Table 6 below was weighed out, added at a temperature of 24 ° C. (± 2 ° C.), stirred at 30 RPM for 5 minutes, and filtered through nylon mesh # 200. By the above, photosensitive composition B1 was prepared.

なお、表６に記載の組成物のうち、
・Ｂ顔料分散物１の組成は、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６（東洋インキ製造（株）製）１０質量％、分散剤１（ＥＦＫＡ−６７４５、ＥＦＫＡ ＡＤＤＩＴＩＶＥＳ Ｂ．Ｖ社製）０．５質量％、分散剤２（ディスパロンＤＡ−７２５、楠本化成（株）製）０．６３質量％、ポリマー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比のランダム共重合物、分子量３．７万）１２．５質量％、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート７６．３７質量％からなる。 Of the compositions listed in Table 6,
The composition of B pigment dispersion 1 is C.I. I. Pigment Blue 15: 6 (manufactured by Toyo Ink Mfg. Co., Ltd.) 10% by mass, Dispersant 1 (EFKA-6745, EFKA ADDITIVES B.V) 0.5% by mass, Dispersant 2 (Disparon DA-725, Enomoto) Kasei Chemical Co., Ltd.) 0.63% by mass, polymer (benzyl methacrylate / methacrylic acid = 72/28 molar ratio random copolymer, molecular weight 37,000) 12.5% by mass, propylene glycol monomethyl ether acetate 76. It consists of 37% by mass.

（実施例２）
［カラーフィルタパターンの形成（フィルム法）］
＜感光性転写材料の作製＞
厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム支持体の上に、スリット状ノズルを用いて、下記処方Ｈ１からなる熱可塑性樹脂層用塗布液を塗布、乾燥させた。次に、下記処方Ｐ１からなる中間層用塗布液を塗布、乾燥させた。更に、前記着色感光性樹脂組成物Ｋ１を塗布、乾燥させ、該支持体の上に乾燥膜厚が１４．６μｍの熱可塑性樹脂層と、乾燥膜厚が１．６μｍの中間層と、乾燥膜厚が２μｍの感光性樹脂層を設け、保護フイルム（厚さ１２μｍポリプロピレンフィルム）を圧着した。
以上により、支持体と熱可塑性樹脂層と中間層（酸素遮断膜）とブラック（Ｋ）の感光性樹脂層とが一体となった感光性樹脂転写材料Ｋ１を作製した。 (Example 2)
[Color filter pattern formation (film method)]
<Production of photosensitive transfer material>
On a polyethylene terephthalate (PET) film support having a thickness of 75 μm, a coating solution for a thermoplastic resin layer having the following formulation H1 was applied and dried using a slit nozzle. Next, an intermediate layer coating solution having the following formulation P1 was applied and dried. Furthermore, the colored photosensitive resin composition K1 is applied and dried, and a thermoplastic resin layer having a dry film thickness of 14.6 μm, an intermediate layer having a dry film thickness of 1.6 μm, and a dry film are formed on the support. A photosensitive resin layer having a thickness of 2 μm was provided, and a protective film (polypropylene film having a thickness of 12 μm) was pressure-bonded.
Thus, a photosensitive resin transfer material K1 in which the support, the thermoplastic resin layer, the intermediate layer (oxygen barrier film), and the black (K) photosensitive resin layer were integrated was produced.

−熱可塑性樹脂層用塗布液：処方Ｈ１の調製−
メタノール１１．１質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート６．３６質量部、メチルエチルケトン５２．４質量部、メチルメタクリレート／２−エチルヘキシルアクリレート／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）＝５５／１１．７／４．５／２８．８、分子量＝１０万、Ｔｇ≒７０℃）５．８３質量部、スチレン／アクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）＝６３／３７、分子量＝１万、Ｔｇ≒１００℃）１３．６質量部、ビスフェノールＡにペンタエチレングリコールモノメタクリートを２当量脱水縮合した化合物（新中村化学工業(株)製、２，２−ビス[４−（メタクリロキシポリエトキシ）フェニル]プロパン）９.１質量部、及び前記界面活性剤１０．５４質量部からなる熱可塑性樹脂層用塗布液を調製した。 -Coating solution for thermoplastic resin layer: Preparation of formulation H1-
11.1 parts by mass of methanol, 6.36 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether acetate, 52.4 parts by mass of methyl ethyl ketone, methyl methacrylate / 2-ethylhexyl acrylate / benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer (copolymerization composition ratio (molar ratio)) = 55 / 11.7 / 4.5 / 28.8, molecular weight = 100,000, Tg≈70 ° C.) 5.83 parts by mass, styrene / acrylic acid copolymer (copolymerization composition ratio (molar ratio)) = 63 / 37, molecular weight = 10,000, Tg≈100 ° C.) 13.6 parts by mass, compound obtained by dehydration condensation of 2 equivalents of bisphenol A and pentaethylene glycol monomethacrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., 2,2-bis [ 4- (methacryloxypolyethoxy) phenyl] propane) 9.1 parts by weight, and 10.54 parts by weight of the surfactant. A thermoplastic resin layer coating liquid was prepared.

−中間層用塗布液：処方Ｐ１の調製−
ＰＶＡ２０５（ポリビニルアルコール、（株）クラレ製、鹸化度＝８８％、重合度５５０）３２．２質量部、ポリビニルピロリドン（アイエスピー・ジャパン（株）製、Ｋ−３０）１４．９質量部、蒸留水５２４質量部、及びメタノール４２９質量部からなる中間層用塗布液を調製した。 -Coating solution for intermediate layer: Preparation of formulation P1-
32.2 parts by mass of PVA205 (polyvinyl alcohol, manufactured by Kuraray Co., Ltd., degree of saponification = 88%, degree of polymerization 550), polyvinylpyrrolidone (manufactured by ASP Japan Co., Ltd., K-30) 14.9 parts by mass, distillation An intermediate layer coating solution comprising 524 parts by mass of water and 429 parts by mass of methanol was prepared.

次に、前記感光性転写材料Ｋ１の作製において用いた前記感光性組成物Ｋ１を、下記表７〜９に記載の組成よりなる下記感光性組成物Ｒ１０１、Ｇ１０１及びＢ１０１に変更した以外は、上記と同様の方法により、感光性転写材料Ｒ１０１、Ｇ１０１及びＢ１０１をそれぞれ作製した。
なお、感光性組成物Ｒ１０１、Ｇ１０１及びＢ１０１の調製方法は、それぞれ前記感光性組成物Ｒ１、Ｇ１及びＢ１の調製方法に準ずる。 Next, except that the photosensitive composition K1 used in the production of the photosensitive transfer material K1 was changed to the following photosensitive compositions R101, G101 and B101 having the compositions shown in Tables 7 to 9 below. Photosensitive transfer materials R101, G101, and B101 were produced by the same method as described above.
In addition, the preparation method of photosensitive composition R101, G101, and B101 is based on the preparation method of the said photosensitive composition R1, G1, and B1, respectively.

（１）レッド（Ｒ）画素の形成
無アルカリガラス基板を、２５℃に調整したガラス洗浄剤液をシャワーにより２０秒間吹き付けながらナイロン毛を有する回転ブラシで洗浄し、純水シャワー洗浄後、シランカップリング液（Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン０．３質量％水溶液、商品名：ＫＢＭ６０３、信越化学工業株式会社製）をシャワーにより２０秒間吹き付け、純水シャワー洗浄した。この基板を基板予備加熱装置で１００℃にて２分加熱して次のラミネーターに送った。
前記感光性樹脂転写材料Ｒ１０１の保護フイルムを剥離後、ラミネーター（（株）日立インダストリイズ社製、ＬａｍｉｃII型）を用い、前記１００℃に加熱した基板に、ゴムローラー温度１３０℃、線圧１００Ｎ／ｃｍ、搬送速度２．２ｍ／分でラミネートした。 (1) Formation of red (R) pixel An alkali-free glass substrate was washed with a rotating brush having nylon hair while spraying a glass detergent solution adjusted to 25 ° C. for 20 seconds by shower, and after washing with pure water shower, a silane cup A ring solution (0.3% by mass aqueous solution of N-β (aminoethyl) γ-aminopropyltrimethoxysilane, trade name: KBM603, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was sprayed with a shower for 20 seconds and washed with pure water by shower. This substrate was heated at 100 ° C. for 2 minutes with a substrate preheating device and sent to the next laminator.
After peeling off the protective film of the photosensitive resin transfer material R101, a laminator (Lamic II type, manufactured by Hitachi Industries, Ltd.) was used to heat the substrate heated to 100 ° C, with a rubber roller temperature of 130 ° C and a linear pressure of 100N. / Cm, laminating at a conveyance speed of 2.2 m / min.

−露光工程−
保護フィルムを剥離後、実施例１の露光装置を用いて、波長が４０５ｎｍのレーザ光を、ストライプ形状及びドット形状に照射して露光し、前記感光層の一部の領域を硬化させた。実施例１と同様にカラーフィルタパターンの他、ブラックマトリクスを形成しない基板にカラーフィルタパターン、感度評価パターン、及び解像度評価パターンも作製した。また、露光量は２０ｍＪ／ｃｍ^２で、大気雰囲気下で行った。 -Exposure process-
After peeling off the protective film, the exposure apparatus of Example 1 was used to irradiate a laser beam having a wavelength of 405 nm to a stripe shape and a dot shape, thereby exposing a part of the photosensitive layer. In the same manner as in Example 1, in addition to the color filter pattern, a color filter pattern, a sensitivity evaluation pattern, and a resolution evaluation pattern were also formed on a substrate on which no black matrix was formed. The exposure amount was 20 mJ / cm ² and was performed in an air atmosphere.

−現像工程−
次に、トリエタノールアミン系現像液（２．５質量％のトリエタノールアミン含有、ノニオン界面活性剤含有、ポリプロピレン系消泡剤含有、商品名：Ｔ−ＰＤ１、富士写真フイルム株式会社製）にて３０℃にて５０秒、フラットノズル圧力０．０４ＭＰａでシャワー現像し熱可塑性樹脂層及び中間層を除去した。
引き続き、炭酸Ｎａ系現像液（０．０６モル／リットルの炭酸水素ナトリウム、同濃度の炭酸ナトリウム、１％のジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム、アニオン界面活性剤、消泡剤、安定剤含有、商品名：Ｔ−ＣＤ１、富士写真フイルム株式会社製）を用い、３５℃にて３５秒、コーン型ノズル圧力０．１５ＭＰａでシャワー現像し感光性樹脂層を現像しパターニング画素を得た。
引き続き、洗浄剤（燐酸塩、珪酸塩、ノニオン界面活性剤、消泡剤、安定剤含有、商品名：Ｔ−ＳＤ１、富士写真フイルム株式会社製、或いは、炭酸ナトリウム、フェノキシオキシエチレン系界面活性剤含有、商品名：Ｔ−ＳＤ２、富士写真フイルム株式会社製）を用い、３３℃にて２０秒、コーン型ノズル圧力０．０２ＭＰａでシャワーとナイロン毛を有す回転ブラシにより残渣除去を行い、レッド（Ｒ）の画素を得た。その後更に、該基板に対して該樹脂層の側から超高圧水銀灯で５００ｍＪ／ｃｍ²の光でポスト露光後、２２０℃、１５分熱処理（ベーク）した。
該Ｒ１０１感光層の膜厚は２．０μｍ、顔料（Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４）の塗布量は０．３１４ｇ／ｍ^２であった。
ここで、実施例１と同様にしてＲのカラーフィルタパターンについて、露光感度、解像度、及びムラを評価した。結果を下記表１０に示す。
このレッド（Ｒ）の画素を形成した基板を再び、前記のようにブラシで洗浄し、純水シャワー洗浄後、シランカップリング液は使用せずに、基板予備加熱装置に送った。 -Development process-
Next, in a triethanolamine developer (2.5% by mass of triethanolamine, nonionic surfactant, polypropylene antifoam, trade name: T-PD1, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) Shower development was performed at 30 ° C. for 50 seconds and a flat nozzle pressure of 0.04 MPa to remove the thermoplastic resin layer and the intermediate layer.
Subsequently, a sodium carbonate-based developer (0.06 mol / liter sodium bicarbonate, sodium carbonate of the same concentration, 1% sodium dibutylnaphthalenesulfonate, anionic surfactant, antifoaming agent, stabilizer, trade name: T-CD1, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) was used for shower development at 35 ° C. for 35 seconds and a cone type nozzle pressure of 0.15 MPa to develop the photosensitive resin layer to obtain a patterned pixel.
Subsequently, detergent (phosphate, silicate, nonionic surfactant, antifoaming agent, stabilizer included, trade name: T-SD1, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd., or sodium carbonate, phenoxyoxyethylene surfactant Containing, product name: T-SD2, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.), removing residue with a rotating brush having a shower and nylon bristles at 33 ° C. for 20 seconds and a cone type nozzle pressure of 0.02 MPa. A pixel of (R) was obtained. Thereafter, the substrate was further post-exposed with light of 500 mJ / cm ^{2 with} an ultrahigh pressure mercury lamp from the resin layer side, and then heat-treated (baked) at 220 ° C. for 15 minutes.
The film thickness of the R101 photosensitive layer was 2.0 μm, and the coating amount of pigment (CI Pigment Red 254) was 0.314 g / m ² .
Here, in the same manner as in Example 1, the exposure sensitivity, resolution, and unevenness of the R color filter pattern were evaluated. The results are shown in Table 10 below.
The substrate on which the red (R) pixels were formed was again cleaned with a brush as described above, and after pure water shower cleaning, the silane coupling liquid was not used and the substrate was sent to a substrate preheating device.

（２）グリーン（Ｇ）画素の形成
前記感光性転写材料Ｇ１０１を用い、前記感光性転写材料Ｒ１０１と同様の工程で、熱処理済みのグリーン（Ｇ）の画素を作製した。露光量は４０ｍＪ／ｃｍ^２とした。
該Ｇ１０１の感光層膜厚は２．０μｍ、及び顔料（Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６）の塗布量０．３９６ｇ／ｍ^２、顔料（Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９）の塗布量は０．０６４８ｇ／ｍ^２であった。
このレッド（Ｒ）とグリーン（Ｇ）の画素を形成した基板を再び、前記のようにブラシで洗浄し、純水シャワー洗浄後、シランカップリング液は使用せずに、基板予備加熱装置に送った。 (2) Formation of Green (G) Pixel Using the photosensitive transfer material G101, a heat-treated green (G) pixel was produced in the same process as the photosensitive transfer material R101. The exposure amount was 40 mJ / cm ² .
The photosensitive layer thickness of G101 is 2.0 μm, the coating amount of pigment (CI Pigment Green 36) is 0.396 g / m ² , and the coating amount of pigment (CI Pigment Yellow 139) is 0.0648 g. / M ² .
The substrate on which the red (R) and green (G) pixels are formed is again cleaned with a brush as described above, and after pure water shower cleaning, the silane coupling solution is not used and sent to the substrate preheating device. It was.

（３）ブルー（Ｂ）画素の形成
前記感光性転写材料Ｂ１０１を用い、前記感光性転写材料Ｒ１０１と同様の工程で、熱処理済みのブルー（Ｂ）の画素を作製した。露光量は５０ｍＪ／ｃｍ^２とした。
該Ｂ１０１感光層膜厚は２．０μｍ、及び顔料（Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６）の塗布量は０．３２ｇ／ｍ^２であった。
このレッド（Ｒ）とグリーン（Ｇ）とブルー（Ｂ）の画素を形成した基板を再び、前記のようにブラシで洗浄し、純水シャワー洗浄後、シランカップリング液は使用せずに、基板予備加熱装置に送った。 (3) Formation of Blue (B) Pixel Using the photosensitive transfer material B101, a heat-treated blue (B) pixel was produced in the same process as the photosensitive transfer material R101. The exposure amount was 50 mJ / cm ² .
The B101 photosensitive layer thickness was 2.0 μm, and the coating amount of the pigment (CI Pigment Blue 15: 6) was 0.32 g / m ² .
The substrate on which the red (R), green (G), and blue (B) pixels are formed is again cleaned with a brush as described above, and after washing with pure water, the substrate is used without using a silane coupling liquid. Sent to preheater.

（４）ブラック（Ｋ）画像及びブラックマトリクスの形成
前記感光性転写材料Ｋ１を用い、前記感光性転写材料Ｒ１０１と同様の工程で、熱処理済みのブラック（Ｋ）の画像（カラーフィルタの額縁部分を形成）及びブラックマトリクス部を作製した。露光量は８０ｍＪ／ｃｍ^２とした。 (4) Formation of Black (K) Image and Black Matrix Using the photosensitive transfer material K1, in the same process as the photosensitive transfer material R101, a heat-treated black (K) image (the frame portion of the color filter) Formation) and a black matrix portion. The exposure amount was 80 mJ / cm ² .

表１０の結果より、実施例１及び２のカラーフィルタパターンは塗布ムラ及び表示ムラが少なく、露光感度及び解像度が高く、良好なカラーフィルタが製造できることが認められた。 From the results in Table 10, it was confirmed that the color filter patterns of Examples 1 and 2 had little coating unevenness and display unevenness, high exposure sensitivity and resolution, and a good color filter could be produced.

［表示装置の作製及び評価］
実施例１〜２のカラーフィルタを用いてＬＥＤバックライトを有する反射、透過兼用の表示装置を作製した。実施例１〜２のカラーフィルタを用いた表示装置が、良好な表示特性を示すことを確認した。 [Production and Evaluation of Display Device]
A reflective / transmissive display device having an LED backlight was produced using the color filters of Examples 1 and 2. It confirmed that the display apparatus using the color filter of Examples 1-2 showed a favorable display characteristic.

（実施例３）
〔カラーフィルタパターンの形成〕（ＴＶ用、塗布法）
（１）ブラックマトリクスの形成
実施例１と同様にして、ブラックマトリクスを形成した。 (Example 3)
[Color filter pattern formation] (for TV, coating method)
(1) Formation of black matrix A black matrix was formed in the same manner as in Example 1.

（２）レッド（Ｒ）画素の形成
下記表１１に記載の組成よりなる感光性組成物Ｒ２を用い、実施例１と同様にして形成した。塗布膜厚は１．６μｍであった。
なお、表１１に記載の組成物のうち、
・Ｒ顔料分散物３の組成は、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７（チバスペシャリティケミカルズ社製）１８部、ポリマー（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比のランダム共重合物）１２部、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート７０部からなる。 (2) Formation of Red (R) Pixel Using the photosensitive composition R2 having the composition described in Table 11 below, it was formed in the same manner as in Example 1. The coating film thickness was 1.6 μm.
Of the compositions listed in Table 11,
The composition of the R pigment dispersion 3 is C.I. I. 18 parts of Pigment Red 177 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals), 12 parts of a polymer (random copolymer of benzyl methacrylate / methacrylic acid = 72/28 molar ratio), and 70 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate.

（３）グリーン（Ｇ）画素の形成
下記表１２に記載の組成よりなる感光性組成物Ｇ２を用い、実施例１と同様にして形成した。塗布膜厚は１．６μｍであった。
なお、表１２に記載の組成物のうち、Ｙ顔料分散物２の組成は、御国色素（株）製、商品名：ＣＦエローＥＸ３３９３を用いた。 (3) Formation of Green (G) Pixel A photosensitive composition G2 having the composition described in Table 12 below was used and formed in the same manner as in Example 1. The coating film thickness was 1.6 μm.
Of the compositions shown in Table 12, Y Pigment Dispersion 2 was manufactured by using Gokoku Color Co., Ltd., trade name: CF Yellow EX3393.

（４）ブルー（Ｂ）画素の形成
下記表１３に記載の組成よりなる感光性組成物Ｂ２を用い、実施例１と同様にして形成した。塗布膜厚は１．６μｍであった。
なお、表１３に記載の組成物のうち、
・Ｂ顔料分散物２は、御国色素（株）製、商品名：ＣＦブルーＥＸ３３５７を用いた。
・Ｂ顔料分散物３は、御国色素（株）製、商品名：ＣＦブルーＥＸ３３８３を用いた。
・バインダー３の組成は、（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸／メチルメタクリレート＝３６／２２／４２モル比のランダム共重合物、分子量３．８万）２７質量％、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート７３質量％からなる。 (4) Formation of Blue (B) Pixels A photosensitive composition B2 having the composition described in Table 13 below was used and formed in the same manner as in Example 1. The coating film thickness was 1.6 μm.
Of the compositions listed in Table 13,
-As the B pigment dispersion 2, the product name: CF Blue EX3357 manufactured by Mikuni Color Co., Ltd. was used.
-As the B pigment dispersion 3, the product name: CF blue EX3383 made from Mikuni Color Co., Ltd. was used.
The composition of the binder 3 is 27% by mass (random copolymer of benzyl methacrylate / methacrylic acid / methyl methacrylate = 36/22/42 molar ratio, molecular weight 38,000), and 73% by mass of propylene glycol monomethyl ether acetate. .

（実施例４）
〔カラーフィルタパターンの形成〕（ＴＶ用、フィルム法）
（１）ブラックマトリクスの形成
実施例２と同様にして、ブラックマトリクスを形成した。ただし、形成順序はブラック（ブラックマトリクス）を最初とし、ブラックマトリクスと周辺額縁部分を形成した。 Example 4
[Color filter pattern formation] (for TV, film method)
(1) Formation of black matrix A black matrix was formed in the same manner as in Example 2. However, the formation order was black (black matrix) first, and the black matrix and the peripheral frame portion were formed.

（２）レッド（Ｒ）画素の形成
下記表１４に記載の組成よりなる感光性組成物Ｒ１０２を用い、実施例２と同様にして形成した。塗布膜厚は２．０μｍであった。
なお、表１４に記載の組成物のうち、燐酸エステル系特殊活性剤１は、楠本化成（株）製、商品名：ＨＩＰＬＡＡＤ ＥＤ１５２を用いた。 (2) Formation of Red (R) Pixel Using the photosensitive composition R102 having the composition described in Table 14 below, the pixel was formed in the same manner as in Example 2. The coating film thickness was 2.0 μm.
In addition, among the compositions described in Table 14, the phosphate ester special activator 1 used was trade name: HIPLAAD ED152 manufactured by Enomoto Kasei Co., Ltd.

（３）グリーン（Ｇ）画素の形成
下記表１５に記載の組成よりなる感光性組成物Ｇ１０２を用い、実施例２と同様にして形成した。塗布膜厚は２．０μｍであった。
(3) Formation of Green (G) Pixel Using the photosensitive composition G102 having the composition described in Table 15 below, it was formed in the same manner as in Example 2. The coating film thickness was 2.0 μm.

（４）ブルー（Ｂ）画素の形成
下記表１６に記載の組成よりなる感光性組成物Ｂ１０２を用い、実施例２と同様にして形成した。塗布膜厚は１．６μｍであった。
(4) Formation of Blue (B) Pixels A photosensitive composition B102 having the composition described in Table 16 below was used and formed in the same manner as in Example 2. The coating film thickness was 1.6 μm.

（実施例５）
実施例３のカラーフィルタの形成において、下記の露光装置を用い下記の方法で露光を行った以外は、実施例３と同様にしてカラーフィルタを形成した。 (Example 5)
In the formation of the color filter of Example 3, a color filter was formed in the same manner as in Example 3 except that exposure was performed by the following method using the following exposure apparatus.

＜＜露光装置＞＞
実施例１で用いた露光装置において、くさび型プリズムペアに代えて、図１５Ａ〜１６Ｂに示すピエゾ素子及びマイクロレンズアレイとの組合せからなる焦点調節手段を備える露光装置を用いた。前記ピエゾ素子により、マイクロレンズアレイの焦点方向と垂直な方向への変位を抑えつつ、焦点方向への微小移動を行うことにより、焦点の調節を行った。その他は実施例１と同様に実施した。 << Exposure equipment >>
In the exposure apparatus used in Example 1, instead of the wedge-shaped prism pair, an exposure apparatus provided with a focus adjusting unit composed of a combination of a piezo element and a microlens array shown in FIGS. 15A to 16B was used. The focus was adjusted by performing a minute movement in the focus direction while suppressing displacement of the microlens array in the direction perpendicular to the focus direction by the piezo element. Others were carried out in the same manner as in Example 1.

実施例３〜５について、実施例１と同様にして、露光感度、解像度、及びムラを評価した。結果を表１７に示す。   About Examples 3-5, it carried out similarly to Example 1, and evaluated the exposure sensitivity, the resolution, and the nonuniformity. The results are shown in Table 17.

表１７の結果より、実施例３〜５のカラーフィルタパターンは塗布ムラ及び表示ムラが少なく、露光感度及び解像度が高く、良好なカラーフィルタが製造できることが認められた。 From the results of Table 17, it was confirmed that the color filter patterns of Examples 3 to 5 had little coating unevenness and display unevenness, high exposure sensitivity and resolution, and a good color filter could be produced.

＜ブラック（Ｋ）画像の線幅ばらつき評価＞
実施例１〜５のストライプ状に形成されたブラックマトリクスにおいて、画面中央付近の１本について、長さ１０ｃｍにわたってレーザ顕微鏡（ＶＫ−９５００、キーエンス（株）製；対物レンズ５０倍）を用いて線幅測定を行い、そのばらつきを求めた。結果を表１８に示す。 <Evaluation of line width variation of black (K) image>
In the black matrix formed in the stripe shape of Examples 1 to 5, a line near the center of the screen was lined using a laser microscope (VK-9500, manufactured by Keyence Corporation; objective lens 50 times) over a length of 10 cm. The width was measured and the variation was obtained. The results are shown in Table 18.

（比較例１）
実施例１において、焦点調節手段としてのくさび型プリズムペアを備えない構成の（又は稼動させないようにした）の露光ヘッドを用いて露光を行った以外は、実施例１と同様にしてカラーフィルタを形成し、上記の方法によりブラックマトリクスの線幅ばらつきを評価した。結果を表１８に示す。 (Comparative Example 1)
In Example 1, a color filter was formed in the same manner as in Example 1 except that exposure was performed using an exposure head having a configuration not including (or not operating) a wedge-shaped prism pair as a focus adjusting unit. Then, the line width variation of the black matrix was evaluated by the above method. The results are shown in Table 18.

（比較例２）
実施例２において、焦点調節手段としてのくさび型プリズムペアを備えない構成の（又は稼動させないようにした）の露光ヘッドを用いて露光を行った以外は、実施例１と同様にしてカラーフィルタを形成し、上記の方法によりブラックマトリクスの線幅ばらつきを評価した。結果を表１８に示す。 (Comparative Example 2)
In Example 2, a color filter was formed in the same manner as in Example 1 except that exposure was performed using an exposure head having a configuration not including (or not operating) a wedge-shaped prism pair as a focus adjusting unit. Then, the line width variation of the black matrix was evaluated by the above method. The results are shown in Table 18.

（比較例３）
実施例１において、露光装置における投影レンズによる結像を、前記投影レンズの全面で行った以外は、実施例１と同様にしてカラーフィルタを形成し、上記の方法によりブラックマトリクスの線幅ばらつきを評価した。結果を表１８に示す。 (Comparative Example 3)
In Example 1, a color filter is formed in the same manner as in Example 1 except that image formation by the projection lens in the exposure apparatus is performed on the entire surface of the projection lens. evaluated. The results are shown in Table 18.

（比較例４）
実施例１において、前記感光層の被露光面上に結像される略矩形状の露光領域の向きを調整せずに露光を行った以外は、実施例１と同様にしてカラーフィルタを形成し、上記の方法によりブラックマトリクスの線幅ばらつきを評価した。結果を表１８に示す。 (Comparative Example 4)
In Example 1, a color filter was formed in the same manner as in Example 1 except that the exposure was performed without adjusting the orientation of the substantially rectangular exposure region imaged on the exposed surface of the photosensitive layer. The line width variation of the black matrix was evaluated by the above method. The results are shown in Table 18.

表１の結果から、比較例１〜４のブラックマトリクスと比較して、実施例１〜５のブラックマトリクスは高精細であり、線幅ばらつきが極めて小さいことがわかった。このことから、また、周辺領域にレンズ歪みを持たせて、中央部を含む領域のレンズ歪みを少なくした投影レンズを用い、該投影レンズを回転可能とした鏡筒を備えた露光ヘッドを使用することにより、低コストで高精細な露光を実現することができ、また、くさび型プリズムペアを備えることにより、簡単かつ短時間で焦点距離を調整することができるため、効率の良い露光ができることがわかった。   From the results in Table 1, it was found that the black matrices of Examples 1 to 5 were high definition and the line width variation was extremely small as compared with the black matrices of Comparative Examples 1 to 4. Therefore, an exposure head having a lens barrel that can rotate the projection lens by using a projection lens in which the peripheral region has lens distortion and the lens distortion in the region including the central portion is reduced is used. Therefore, it is possible to achieve high-definition exposure at low cost, and by providing a wedge-shaped prism pair, the focal length can be adjusted easily and in a short time, so that efficient exposure can be performed. all right.

本発明のカラーフィルタの製造方法は、装置のコストアップや、露光速度の低下を招くことなく、露光性能を向上させることにより、カラーフィルタの画素パターンを高精細に、特にブラック画像の線幅ばらつきを極めて少なく、かつ効率よく形成可能であるため、該カラーフィルタの製造方法により製造されたカラーフィルタは、表示特性に優れ、携帯端末、携帯ゲーム機、ノートパソコン、テレビモニター等の液晶表示装置（ＬＣＤ）用、ＰＡＬＣ（プラズマアドレス液晶）、プラズマディスプレイなどに好適である。   The color filter manufacturing method of the present invention improves the exposure performance without increasing the cost of the apparatus or lowering the exposure speed, so that the pixel pattern of the color filter has a high definition, particularly, the line width variation of the black image. Therefore, the color filter manufactured by the method of manufacturing the color filter has excellent display characteristics, and can be used for liquid crystal display devices such as portable terminals, portable game machines, notebook computers, and TV monitors ( Suitable for LCD), PALC (plasma addressed liquid crystal), plasma display and the like.

図１は、露光装置の概略外観図である。FIG. 1 is a schematic external view of the exposure apparatus. 図２は、スキャナの概略外観図である。FIG. 2 is a schematic external view of the scanner. 図３は、露光ヘッドの内部構成を示した図である。FIG. 3 is a diagram showing the internal configuration of the exposure head. 図４は、光照射手段としての光源ユニットの構成を示した図である。FIG. 4 is a diagram illustrating a configuration of a light source unit as a light irradiation unit. 図５は、光照射手段におけるレーザ出射部の構成を示した図である。FIG. 5 is a diagram showing the configuration of the laser emitting portion in the light irradiation means. 図６は、光照射手段におけるＬＤモジュールの構成を示した図である。FIG. 6 is a diagram showing the configuration of the LD module in the light irradiation means. 図７は、露光ヘッドを構成する光学要素の説明図である。FIG. 7 is an explanatory diagram of optical elements constituting the exposure head. 図８Ａは、投影レンズを示した平面図である。FIG. 8A is a plan view showing a projection lens. 図８Ｂは、投影レンズを示した平面図である。FIG. 8B is a plan view showing the projection lens. 図９は、結像光学系を備える鏡筒の概略側面断面図と鏡筒の概略平面図である。FIG. 9 is a schematic side sectional view of a lens barrel including an imaging optical system and a schematic plan view of the lens barrel. 図１０は、光変調手段であるＤＭＤの概略斜視図である。FIG. 10 is a schematic perspective view of a DMD which is a light modulation means. 図１１Ａは、ＤＭＤを構成するマイクロミラーの使用領域の説明図である。FIG. 11A is an explanatory diagram of a use region of a micromirror that constitutes a DMD. 図１１Ｂは、ＤＭＤを構成するマイクロミラーの使用領域の説明図である。FIG. 11B is an explanatory diagram of a use region of a micromirror that constitutes a DMD. 図１２は、焦点調節手段であるくさび型プリズムペアの構成を示す側面図である。FIG. 12 is a side view showing the configuration of a wedge-shaped prism pair that is a focus adjusting means. 図１３は、焦点調節手段であるくさび型プリズムペアの概略斜視図である。FIG. 13 is a schematic perspective view of a wedge-shaped prism pair which is a focus adjusting means. 図１４は、露光ヘッドを構成する光学要素の説明図である。FIG. 14 is an explanatory diagram of optical elements constituting the exposure head. 図１５Ａは、焦点調節手段の他の一例であるピエゾ素子を備えたマイクロレンズアレイの構成を示す図である。FIG. 15A is a diagram illustrating a configuration of a microlens array including a piezo element, which is another example of the focus adjusting unit. 図１５Ｂは、焦点調節手段の他の一例であるピエゾ素子を備えたマイクロレンズアレイの構成を示す図である。FIG. 15B is a diagram illustrating a configuration of a microlens array including a piezo element, which is another example of the focus adjusting unit. 図１６Ａは、焦点調節手段の他の一例であるピエゾ素子を備えたマイクロレンズアレイの構成を示す図である。FIG. 16A is a diagram illustrating a configuration of a microlens array including a piezo element, which is another example of the focus adjusting unit. 図１６Ｂは、焦点調節手段の他の一例であるピエゾ素子を備えたマイクロレンズアレイの構成を示す図である。FIG. 16B is a diagram illustrating a configuration of a microlens array including a piezo element, which is another example of the focus adjusting unit. 図１７Ａは、感光材料とＤＭＤの位置関係を概略的に示した斜視図である。FIG. 17A is a perspective view schematically showing the positional relationship between the photosensitive material and the DMD. 図１７Ｂは、感光材料とＤＭＤの位置関係を概略的に示した側面図である。FIG. 17B is a side view schematically showing the positional relationship between the photosensitive material and the DMD.

符号の説明Explanation of symbols

１０ 露光装置
３０ 露光ヘッド
８０ ＤＭＤ
５０ 結像光学系
５１ 第１投影レンズ
５２ 第２投影レンズ
５４ くさび型プリズムペア
１２ 感光材料
10 Exposure Device 30 Exposure Head 80 DMD
50 imaging optical system 51 first projection lens 52 second projection lens 54 wedge-shaped prism pair 12 photosensitive material

Claims (18)

バインダー、重合性化合物、着色剤、及び光重合開始剤を含む感光性組成物からなり、基材の表面に位置する感光層に対し、
光照射手段からの光を受光してパターン情報に基づいて変調する光変調手段により、前記光照射手段からの光を変調させ、前記光変調手段により変調された光を、結像手段と、焦点調節手段とを介して前記感光層の被露光面上に結像させて露光を行うことを少なくとも含み、
前記露光が、前記結像手段の中央部を含む略矩形状の領域のみにおいて、前記光変調手段により変調された光が結像され、
前記感光層の被露光面上に結像される略矩形状の露光領域が、その短辺方向と前記感光層のうねり方向とがなす角が、その長辺方向と前記感光層のうねり方向とがなす角よりも小さくなるように向けられて行われる露光工程と、
該露光工程により露光された感光層を現像する現像工程と
を含むことを特徴とするカラーフィルタの製造方法。 Consisting of a photosensitive composition containing a binder, a polymerizable compound, a colorant, and a photopolymerization initiator, for the photosensitive layer located on the surface of the substrate,
The light from the light irradiating means is received and modulated based on the pattern information. The light modulating means modulates the light from the light irradiating means, and the light modulated by the light modulating means And performing exposure by forming an image on an exposed surface of the photosensitive layer through an adjusting means,
In the exposure, light modulated by the light modulation means is imaged only in a substantially rectangular region including the center of the imaging means,
The substantially rectangular exposure region imaged on the exposed surface of the photosensitive layer has an angle formed by the short side direction and the waviness direction of the photosensitive layer, the long side direction and the waviness direction of the photosensitive layer. An exposure process that is directed to be smaller than the angle formed by
And a development step of developing the photosensitive layer exposed in the exposure step. 結像手段が、長辺の長さが短辺の長さの２倍以上の略矩形状の領域において、光変調手段により変調された光を結像する請求項１に記載のカラーフィルタの製造方法。   2. The color filter according to claim 1, wherein the imaging means forms an image of light modulated by the light modulation means in a substantially rectangular region having a long side length of twice or more of the short side length. Method. 焦点調節手段が、光変調手段により変調された光の光軸方向の厚さが変化するように形成されたくさび型プリズムペアを有し、
前記くさび型プリズムペアを構成する各くさび型プリズムを移動することによって、前記光変調手段により変調された光を感光層の被露光面上に結像する際の焦点を調節する請求項１から２のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法。 The focus adjustment means has a wedge-shaped prism pair formed so that the thickness in the optical axis direction of the light modulated by the light modulation means changes,
3. The focal point when the light modulated by the light modulating means is imaged on the exposed surface of a photosensitive layer is adjusted by moving each wedge-shaped prism constituting the wedge-shaped prism pair. The manufacturing method of the color filter in any one of. 焦点調節手段が、結像光学系を構成する光学部材と、ピエゾ素子とを有し、
前記光学部材を前記ピエゾ素子により移動させることによって、前記光変調手段により変調された光を感光層の被露光面上に結像する際の焦点を調節する請求項１から２のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法。 The focus adjusting means has an optical member constituting the imaging optical system and a piezo element,
3. The focal point when the light modulated by the light modulating unit is imaged on the exposed surface of the photosensitive layer is adjusted by moving the optical member by the piezo element. Manufacturing method of color filter. 結像手段が、光変調手段により変調された光の光軸に対し、前記光軸を中心に回転可能なレンズ、及び前記光軸に対して垂直方向に移動可能レンズのいずれかにより構成されてなる請求項１から４のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法。   The imaging means is composed of either a lens that can rotate around the optical axis with respect to the optical axis of the light modulated by the light modulating means, or a lens that can move in a direction perpendicular to the optical axis. The method for producing a color filter according to claim 1. 光変調手段が、空間光変調素子である請求項１から５のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法。   6. The method for producing a color filter according to claim 1, wherein the light modulation means is a spatial light modulation element. 光照射手段が、半導体レーザ素子から発せられたレーザ光を出射する請求項１から６のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法。   The color filter manufacturing method according to claim 1, wherein the light irradiation means emits laser light emitted from the semiconductor laser element. 光照射手段が、半導体レーザ素子から発せられたレーザ光を一端から入射し、入射したレーザ光を他端から出射する光ファイバを複数本束ねたバンドル状のファイバ光源である請求項７に記載のカラーフィルタの製造方法。   8. The bundle-shaped fiber light source according to claim 7, wherein the light irradiating means is a bundled fiber light source in which a plurality of optical fibers that enter the laser light emitted from the semiconductor laser element from one end and emit the incident laser light from the other end are bundled. A method for producing a color filter. 光照射手段が、２以上の光を合成して照射可能である請求項７から８のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法。   The method for producing a color filter according to claim 7, wherein the light irradiating means can synthesize and irradiate two or more lights. 光照射手段が、複数のレーザと、マルチモード光ファイバと、該複数のレーザからそれぞれ照射されたレーザビームを平行光化して集光し、前記マルチモード光ファイバの入射端面に収束させる光源集光光学系とを有する請求項７から９のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法。   The light irradiation means condenses the laser beams emitted from the plurality of lasers, the multimode optical fiber, and the lasers by collimating them, and converges them on the incident end face of the multimode optical fiber. A method for producing a color filter according to claim 7, further comprising an optical system. 感光層が、感光性組成物を基材の表面に塗布し、乾燥することにより形成される請求項１から１０のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法。   The method for producing a color filter according to any one of claims 1 to 10, wherein the photosensitive layer is formed by applying a photosensitive composition to a surface of a substrate and drying the photosensitive composition. 感光層が、支持体上に感光性組成物からなる感光性転写層を有する感光性転写材料を用いて、該感光性転写層と基材とが当接するように該基材上に積層し、次いで、支持体を剥離することにより形成される請求項１から１０のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法。   Using a photosensitive transfer material having a photosensitive transfer layer made of a photosensitive composition on a support, the photosensitive layer is laminated on the substrate so that the photosensitive transfer layer and the substrate are in contact with each other, Then, the manufacturing method of the color filter in any one of Claim 1 to 10 formed by peeling a support body. 感光性組成物が、少なくとも、黒色（Ｋ）に着色されている請求項１から１２のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法。   The method for producing a color filter according to claim 1, wherein the photosensitive composition is colored at least black (K). 少なくとも、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、及び青色（Ｂ）の３原色に着色された感光性組成物を用いて、基材の表面に所定の配置で、Ｒ、Ｇ及びＢの各色毎に、順次、感光層形成工程、露光工程、及び現像工程を繰り返してカラーフィルタを形成する請求項１から１３のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法。   For each color of R, G, and B in a predetermined arrangement on the surface of the substrate, using a photosensitive composition colored in at least three primary colors of red (R), green (G), and blue (B) The method for producing a color filter according to claim 1, wherein the color filter is formed by sequentially repeating the photosensitive layer forming step, the exposure step, and the developing step. 赤色（Ｒ）着色に少なくとも顔料Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４を、緑色（Ｇ）着色に顔料Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６及び顔料Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９の少なくともいずれかの顔料を、並びに、青色（Ｂ）着色に少なくとも顔料Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６を用いる請求項１４に記載のカラーフィルタの製造方法。   At least pigment C.I. I. Pigment Red 254 is colored green (G) with pigment C.I. I. Pigment green 36 and pigment C.I. I. Pigment Yellow 139 and at least a pigment C.I. I. The method for producing a color filter according to claim 14, wherein Pigment Blue 15: 6 is used. 赤色（Ｒ）着色に顔料Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４及び顔料Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７の少なくともいずれかの顔料を、緑色（Ｇ）着色に顔料Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６及び顔料Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５０の少なくともいずれかの顔料を、並びに、青色（Ｂ）着色に顔料Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６及び顔料Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３の少なくともいずれかの顔料を用いる請求項１４に記載のカラーフィルタの製造方法。   Pigment to red (R) coloring C.I. I. Pigment red 254 and pigment C.I. I. Pigment Red 177 at least one pigment is changed to a green (G) coloring pigment C.I. I. Pigment green 36 and pigment C.I. I. Pigment Yellow 150 and at least blue (B) pigment C.I. I. Pigment blue 15: 6 and pigment C.I. I. The method for producing a color filter according to claim 14, wherein at least one pigment of pigment violet 23 is used. 請求項１から１６のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法により製造されたことを特徴とするカラーフィルタ。   A color filter manufactured by the method for manufacturing a color filter according to claim 1. 請求項１７に記載のカラーフィルタを用いたことを特徴とする表示装置。
A display device using the color filter according to claim 17.