JP2006509194A5 - - Google Patents

Claims (24)

1. アーチファクト計測プローブを各々のアーチファクトとの位置計測関係の状態にして位置読み取り値を取得する三次元座標測定装置を使用して、アーチファクトを検査する方法であって、
   接触方式のアーチファクト計測プローブを用いてアーチファクトの表面を測定するステップと、
   非接触方式のアーチファクト計測プローブを用いて前記アーチファクトの前記表面を測定するステップと、
   接触方式の前記アーチファクト計測プローブを用いて取得した測定値と、非接触方式の前記アーチファクト計測プローブを用いて取得した測定値との間の差に対応する誤差マップまたは関数を生成するステップと、
   前記誤差マップまたは関数を使用して、非接触方式の前記アーチファクト計測プローブを用いての次の測定値を補正するステップと、
   を適切ないずれかの順序で含むことを特徴とする方法。
2. 接触方式のアーチファクト計測プローブを用いて前記アーチファクトの前記表面を測定する前記ステップは、前記アーチファクトを走査することを含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
3. 前記アーチファクトの前記表面は、非接触方式の前記アーチファクト計測プローブを用いて、該アーチファクト計測プローブを該アーチファクトの前記表面からわずかに離した状態で測定されることを特徴とする請求項１または２に記載の方法。
4. 前記誤差マップまたは関数を使用して、非接触方式の前記アーチファクト計測プローブを較正し、それにより、前記アーチファクトの前記表面に対する該アーチファクト計測プローブのわずかな距離および方向について半径方向補正を生じさせることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の方法。
5. 非接触方式の前記アーチファクト計測プローブを用いて次のアーチファクトを測定するステップと、
   前記誤差マップまたは関数を使用して次のアーチファクトの該測定値を補正するステップと、
   をさらに含むことを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の方法。
6. 接触方式の前記アーチファクト計測プローブおよび非接触方式の前記アーチファクト計測プローブは、接触方式および非接触方式の両方を備える単一のアーチファクト計測プローブからなることを特徴とする請求項１から５のいずれかに記載の方法。
7. 接触方式の前記アーチファクト計測プローブおよび非接触方式の前記アーチファクト計測プローブは、別個のプローブからなることを特徴とする請求項１から５のいずれかに記載の方法。
8. 前記アーチファクトの前記表面は、接触方式の前記アーチファクト計測モードを低速で用い、非接触方式の前記アーチファクト計測モードを次のアーチファクトの測定における所望の速度で用いて、測定されることを特徴とする請求項１から７のいずれかに記載の方法。
9. 次のアーチファクトの測定における前記速度は高速であることを特徴とする請求項８に記載の方法。
10. 前記アーチファクトの前記表面は、高精度の基準三次元座標測定装置を使用する接触方式の前記アーチファクト計測プローブを用いて測定され、該アーチファクトの該表面は、繰り返しに適した三次元座標測定装置を使用する非接触方式の前記アーチファクト計測プローブを用いて測定されることを特徴とする請求項１から９のいずれかに記載の方法。
11. 接触方式の前記アーチファクト計測プローブを用いる測定から得られた前記アーチファクトの前記表面の前記測定値を使用して、非接触方式の前記アーチファクト計測プローブがたどる経路を計算することを特徴とする請求項１から１０のいずれかに記載の方法。
12. 非接触方式の前記アーチファクト計測プローブについての前記経路は、前記アーチファクトの所定の特徴を使用して確認されることを特徴とする請求項１から１０のいずれかに記載の方法。
13. 非接触方式のアーチファクト計測プローブを用いて前記アーチファクトの表面を測定する前記ステップは、前記アーチファクトの前記表面を走査することを含むことを特徴とする請求項１から１０のいずれかに記載の方法。
14. 三次元座標測定装置と少なくとも１つのアーチファクト計測プローブとを使用してアーチファクトを検査するための装置であって、
    （ａ）接触方式のアーチファクト計測プローブを用いてアーチファクトの表面を測定するステップと、
    （ｂ）非接触方式のアーチファクト計測プローブを用いて前記アーチファクトの前記表面を測定するステップと、
    （ｃ）接触方式の前記アーチファクト計測プローブを用いて取得した測定値と、非接触方式の前記アーチファクト計測プローブを用いて取得した測定値との間の差に対応する誤差マップまたは関数を生成するステップと、
    （ｄ）非接触方式の前記アーチファクト計測プローブを用いて次のアーチファクトを測定するステップと、
    （ｅ）前記誤差マップまたは関数を使用して次のアーチファクトの測定値を補正するステップと、
    を適切ないずれかの順序で実行するのに適合したコントローラを備えることを特徴とする装置。
15. 三次元座標測定装置と少なくとも１つのアーチファクト計測プローブとを使用してアーチファクトを検査するための装置であって、
    接触方式のアーチファクト計測プローブを用いてアーチファクトの表面を測定するステップと、
    非接触方式のアーチファクト計測プローブを用いて前記アーチファクトの前記表面を測定するステップと、
    接触方式の前記アーチファクト計測プローブを用いて取得した測定値と、非接触方式の前記アーチファクト計測プローブを用いて取得した測定値との間の差に対応する誤差マップまたは関数を生成するステップと、
    前記誤差マップまたは関数を使用して、非接触方式の前記アーチファクト計測プローブを用いての次の測定値を補正するステップと、
    を適切ないずれかの順序で実行するのに適合したコントローラを備えることを特徴とする装置。
16. 接触方式のアーチファクト計測プローブを用いて前記アーチファクトを測定する前記ステップは、該アーチファクトを走査することを含むことを特徴とする請求項１５に記載の装置。
17. 前記アーチファクトの前記表面は、非接触方式の前記アーチファクト計測プローブを用いて、該アーチファクト計測プローブを該アーチファクトの該表面からわずかに離した状態で測定されることを特徴とする請求項１５または１６に記載の装置。
18. 前記誤差マップまたは関数を使用して、非接触方式の前記アーチファクト計測プローブを較正し、それにより、前記アーチファクトの表面に対する該アーチファクト計測プローブのわずかな距離および方向について半径方向補正を生じさせることを特徴とする請求項１５から１７のいずれかに記載の装置。
19. 非接触方式の前記アーチファクト計測プローブを用いて次のアーチファクトを測定するステップと、
    前記誤差マップまたは関数を使用して次のアーチファクトの該測定値を補正するステップと、
    をさらに含むことを特徴とする請求項１５から１７のいずれかに記載の装置。
20. 前記アーチファクトの前記表面は、接触方式のアーチファクト計測モードを低速で用い、非接触方式のアーチファクト計測モードを次のアーチファクトの測定における速度で用いて、測定されることを特徴とする請求項１５から１９のいずれかに記載の装置。
21. 次のアーチファクトの測定における前記速度は高速であることを特徴とする請求項２０に記載の装置。
22. 接触方式の前記アーチファクト計測プローブを用いる測定から得られた前記アーチファクトの前記表面の前記測定値を使用して、非接触方式の前記アーチファクト計測プローブがたどる経路を計算することを特徴とする請求項１５から２１のいずれかに記載の装置。
23. 非接触方式の前記アーチファクト計測プローブについての前記経路は、前記アーチファクトの所定の特徴を使用して確認されることを特徴とする請求項１５から２１のいずれかに記載の装置。
24. 非接触方式の前記アーチファクト計測プローブを用いて測定する前記ステップは、該アーチファクトの該表面を走査することを含むことを特徴とする請求項１５から２３のいずれかに記載の装置。