JP2006503146A5

JP2006503146A5 -

Info

Publication number: JP2006503146A5
Application number: JP2004544297A
Authority: JP
Filing date: 2003-10-06
Publication date: 2006-11-16
Anticipated expiration: 2023-10-06

Claims

ＴｉＯ₂／ＳｉＯ_y（０．０３≦ｙ≦１．９５、特に０．０３≦ｙ≦１．８、とりわけ０．７０≦ｙ≦１．８）又はＴｉＯ₂／金属、特にＴｉ、Ｚｒ、Ｃｒ又はＺｎ、とりわけＡｌを非酸化性雰囲気中で焼成することによって得られる層を含む小板形の顔料。
（ａ）ＳｉＯ_z（０．０３≦ｚ≦２．０、特に０．１０≦ｚ≦２．０、とりわけ０．７０≦ｚ≦２．０）の基材層、
（ｂ）ＴｉＯ₂／ＳｉＯ_y（０．０３≦ｙ≦１．８）を非酸化性雰囲気中で焼成することによって得られる中間層、及び
（ｃ）ＴｉＯ₂層
を含む、請求項１記載の顔料。
（ａ）Ａｌの基材層、
（ｂ）ＴｉＯ₂／Ａｌを非酸化性雰囲気中で焼成することによって得られる中間層、及び
（ｃ）ＴｉＯ₂層
を含む、請求項１記載の顔料。
（ａ）ＳｉＯ_x2層もしくはＳｉＯ_y1層を上下の面に有するが、側面には有しないＳｉＯ_x1のコアを有する多層小板形基材層、ＳｉＯ_x1層もしくはＳｉＯ_y1層を上下の面に有するが、側面には有しないＳｉＯ_x2のコアを有する多層小板形基材層、ＳｉＯ_x1層もしくはＳｉＯ_x2層を上下の面に有するが、側面には有しないＳｉＯ_y1のコアを有する多層小板形基材層又はＳｉＯ_x1層、ＳｉＯ_x2層もしくはＳｉＯ_y1層を上下の面に有するが、側面には有しない金属、特にＡｌのコアを有する多層小板形基材層、
（ｂ）ＴｉＯ₂／ＳｉＯ_x1、ＴｉＯ₂／ＳｉＯ_x2又はＴｉＯ₂／ＳｉＯ_y1を非酸化性雰囲気中で焼成することによって得られる中間層、及び
（ｃ）ＴｉＯ₂層
（０．０３≦ｘ１＜０．７０、特に０．０５≦ｘ１≦０．５０、とりわけ０．１０≦ｘ１≦０．３０、０．７０≦ｘ２≦０．９９、１．００≦ｙ１≦１．９５、特に１．０≦ｙ１≦１．８、とりわけ１．１≦ｙ１≦１．８）
を含む、請求項１記載の顔料。
（ａ）ＴｉＯ₂コーティングされたＳｉＯ_y小板（０．０３≦ｙ≦１．９５、特に０．０３≦ｙ≦１．８、とりわけ０．７０≦ｙ≦１．８）又はＴｉＯ₂コーティングされた金属小板、特にＡｌ小板を非酸化性ガス雰囲気中６００℃を超える温度で焼成し、
（ｂ）場合によっては、ＴｉＯ₂コーティングされたＳｉＯ_y小板を、２００℃を超える、好ましくは４００℃を超える、特に５００〜１０００℃の温度で、空気又は他の酸素含有ガスによって処理する、請求項１記載の顔料の製造方法。
請求項５記載の方法によって得ることができる顔料。
請求項１〜４又は６のいずれか１項記載の顔料の、単独で又は工業的に通例の顔料と組み合わせての、塗料、織物、インクジェット印刷、化粧品、コーティング、印刷インク、プラスチック、セラミックス及びガラスのためのうわぐすり、ならびにセキュリティ印刷における使用。
請求項１〜４又は６のいずれか１項記載の顔料を含む化粧品調製物、着色剤、コーティング、印刷インク、プラスチック、又はセラミックス及びガラスのためのうわぐすり。