JP2006294860A - 基板処理装置及び露光装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板(W1又はW2等)が載置され、該基板に対する所定の処理が行われる領域と基板交換が行われる交換位置とを含む所定範囲の領域内で移動可能なウエハステージ(WST)と、所定の搬送経路に沿って前記交換位置に対して基板を搬送するロードスライダ(50)を含む搬送系と、基板に対する前記処理が終了した後に交換位置で基板交換が可能になる第1のタイミングを考慮して、前記処理中の第2のタイミングでロードスライダ(50)による基板交換のための一連の作業が所定位置(52)で開始されるように、搬送系を制御する制御装置(20,21)と、を備えている。
【選択図】図1
Description
差ΔT’は、第1枚目のウエハについて得られた実測値、すなわち露光開始から露光が終了してウエハステージWSTがローディングポジションに到達し、ウエハのロードが可能になるまでの実際の時間Tcと、これに対応する計算値(P.P.の設定情報に基づいて算出される値)、すなわち(Tex+Tb)との差であるから、実際の時間の計算値からのずれに相当する。この場合、この計算値(Tex+Tb)に基づいて算出された第1のタイミングを基準として(図11(C)参照)逆算された計算上の第2のタイミングもそのずれ(ΔT’)分だけずれている。従って、これを補正することで、その補正後の第2のタイミングにクールプレート52からウエハステージWSTに対するウエハのロードのための動作が開始されるようにすることで、ウエハステージWSTに対してウエハのロードの可能となる時点とほぼ同時にローディングポジションへのロードスライダ50の移動を完了させることが可能になるからである。これにより、クールプレート52上からのウエハの搬出を可能な限り遅らせ、かつ極力無駄時間がない状態でのウエハ交換(ウエハステージWST上へのウエハのロード)が可能となる。
Claims (14)
- 複数枚の基板に対して所定処理を行う基板処理装置であって、
基板が載置され、該基板に対する前記処理が行われる領域と基板交換が行われる交換位置とを含む所定範囲の領域内で移動可能な移動体と;
所定の搬送経路に沿って前記交換位置に対して基板を搬送する搬送部材を含む搬送系と;
前記基板に対する前記所定処理が終了した後に前記交換位置で基板交換が可能になる第1のタイミングを考慮して、前記所定処理中の第2のタイミングで前記搬送部材による基板交換のための一連の作業が所定位置で開始されるように、前記搬送系を制御する制御装置と;を備える基板処理装置。 - 前記所定位置は、基板が前記交換位置への搬送の途中で待機される待機位置であることを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記所定位置に設けられ、基板を所定温度に温調する温調装置を更に備える請求項1又は2に記載の基板処理装置。
- 前記制御装置は、前記移動体が前記処理終了位置から前記基板交換位置に移動して基板交換が可能となるまでに要する第1の時間と、前記搬送部材による基板交換のための一連の作業開始から前記基板交換位置へ前記搬送部材が到達するまでの第2の時間との差に基づき、前記第1のタイミングから逆算される前記第2のタイミングで前記搬送部材による基板交換のための一連の作業を開始することを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の基板処理装置。
- 前記第1の時間と前記第2の時間との差は、前記移動体の移動を含む一連の処理条件を設定する条件設定ファイルの情報に基づいて得られるものであることを特徴とする請求項4に記載の基板処理装置。
- 前記第1の時間と前記第2の時間との差は、基板を複数枚連続して処理する際に、前記制御装置により、第1枚目の基板の処理に際して計測された実測値であることを特徴とする請求項4に記載の基板処理装置。
- 前記制御装置は、基板を複数枚連続して処理する際に、第3枚目以降のn枚目の基板の処理に際しては、第(n−1)枚目以前の結果を考慮して、前記第2のタイミングを補正することを特徴とする請求項5又は6に記載の基板処理装置。
- 前記移動体は、基板ステージであり、前記所定の処理は、前記基板ステージ上の基板に対する露光であることを特徴とする請求項1〜7のいずれか一項に記載の基板処理装置。
- 基板が載置され、該基板上の複数の領域に対する一連の露光処理が行われる領域と基板交換が行われる交換位置とを含む所定範囲の領域内で移動可能な基板ステージと;
所定の搬送経路に沿って前記交換位置に対して基板を搬送する搬送部材を含む搬送系と;
前記基板ステージ上の基板に対する露光処理の進行状況を考慮して、前記基板に対する露光処理中に前記搬送部材による基板交換のための一連の作業が所定位置で開始されるように、前記搬送系を制御する制御装置と;を備える露光装置。 - 前記所定位置は、基板が前記交換位置へ搬送される前記搬送経路の途中の位置であり、該位置に設けられ、基板を所定温度に温調する温調装置を更に備える請求項9に記載の露光装置。
- 前記温調装置は、前記基板を冷却するクールプレートであることを特徴とする請求項10に記載の露光装置。
- 前記制御装置は、前記基板ステージが露光終了位置から前記交換位置まで移動し基板交換が可能となるまでに要する第1の時間と、前記搬送部材による基板交換のための一連の作業開始から前記搬送部材が前記基板交換位置へ到達するまでの第2の時間との差に基づき、基板に対する露光処理が終了した後に前記基板ステージが前記交換位置に到達し基板交換が可能となる第1のタイミングから逆算される第2のタイミングで前記搬送部材による基板交換のための一連の作業を開始することを特徴とする請求項9〜11のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記制御装置は、基板を複数枚連続して処理する際に、第3枚目以降のn枚目の基板の処理に際しては、第(n−1)枚目以前の結果を考慮して、前記第2のタイミングを補正することを特徴とする請求項12に記載の露光装置。
- 前記制御装置に接続された記憶装置を更に備え、
前記制御装置は、前記補正後の第2のタイミングを、そのときの露光条件を含む一連の処理条件を設定するプロセスプログラムファイルに対応付けて前記記憶装置に記憶することを特徴とする請求項13に記載の露光装置。
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