JP2006287160A - 露光装置及びデバイスの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】 ステージ装置が収容された空間に、略均一な流れの気体を供給することができると共に、そのメンテナンスが容易な露光装置を提供する。
【解決手段】 露光装置EXは、物体Wを保持して移動可能なステージ22と、ステージ22が配置された空間を、ステージ22が収容される第一空間46bと、気体供給源70から気体Aが流入する第二空間46aとに仕切るシート部材100とを有し、シート部材100は、第一空間46bと第二空間46aとを連通する複数の通気孔を備え、第一空間46bに対して気体Aを供給する気体供給面を形成すると共に、柔軟性のある素材で形成される。
【選択図】 図1
【解決手段】 露光装置EXは、物体Wを保持して移動可能なステージ22と、ステージ22が配置された空間を、ステージ22が収容される第一空間46bと、気体供給源70から気体Aが流入する第二空間46aとに仕切るシート部材100とを有し、シート部材100は、第一空間46bと第二空間46aとを連通する複数の通気孔を備え、第一空間46bに対して気体Aを供給する気体供給面を形成すると共に、柔軟性のある素材で形成される。
【選択図】 図1
Description
本発明は、露光装置及びデバイスの製造方法に関する。
半導体素子、液晶表示素子等を製造するリソグラフィ工程では、ステップ・アンド・リピート方式の縮小投影露光装置(いわゆるステッパ)や、ステップ・アンド・スキャン方式の走査型投影露光装置(いわゆるスキャニング・ステッパ)などの露光装置が用いられている。
これらの露光装置では、半導体素子等の高集積化に伴って、感光基板上に形成する回路パターンの微細化が要請されている。回路パターンの微細化を実現するためには、非常に精密な装置である露光装置の温度状態を一定に制御して、所望の性能を発揮させる必要がある。
このため、例えば、特許文献1に示すように、露光装置では、露光装置本体をチャンバ内に収容し、そのチャンバ内部の空間が均一な温度分布となるように制御している。
国際公開第02/101804号パンフレット
これらの露光装置では、半導体素子等の高集積化に伴って、感光基板上に形成する回路パターンの微細化が要請されている。回路パターンの微細化を実現するためには、非常に精密な装置である露光装置の温度状態を一定に制御して、所望の性能を発揮させる必要がある。
このため、例えば、特許文献1に示すように、露光装置では、露光装置本体をチャンバ内に収容し、そのチャンバ内部の空間が均一な温度分布となるように制御している。
上述した技術では、感光基板を載置する基板ステージが収容された空間に温調気体を供給するために、温調気体が流入するアルミニウム製のダクトをその空間の天井部分等に配置している。このため、基板ステージ等のメンテナンス時には、作業空間を確保するため、ダクトを取り外す必要があり、メンテナンス性に劣るという問題がある。特に、基板ステージが収容された空間の略全体に温調された気体をダウンフローにて供給させる場合には、ダクトが占有する空間が増大して、メンテナンス性が悪化するという問題がある。
また、上述した技術等では、基板ステージが収容された空間の底部や側部の複数箇所に気体を排出する排気部を設けることにより、この空間の略全面に均一なダウンフローを発生させしようとしているが、基板ステージ等が空気の流れの障害物となるため、均一なダウンフローの実現は必ずしも実現されていない。したがって、基板ステージの位置を測定するレーザ干渉計の光路空間から空気の揺らぎ等が発生して、測定誤差の原因となってしまうという問題がある。
また、上述した技術等では、基板ステージが収容された空間の底部や側部の複数箇所に気体を排出する排気部を設けることにより、この空間の略全面に均一なダウンフローを発生させしようとしているが、基板ステージ等が空気の流れの障害物となるため、均一なダウンフローの実現は必ずしも実現されていない。したがって、基板ステージの位置を測定するレーザ干渉計の光路空間から空気の揺らぎ等が発生して、測定誤差の原因となってしまうという問題がある。
本発明は、上述した事情に鑑みてなされたもので、ステージ装置が収容された空間に略均一な流れの気体を供給することができると共に、そのメンテナンスが容易な露光装置を提供することを目的とする。
また、ステージ装置が収容された空間に供給された気体を同一方向に送気することができる露光装置を提供することを目的とする。
また、ステージ装置が収容された空間に供給された気体を同一方向に送気することができる露光装置を提供することを目的とする。
本発明に係る露光装置及びデバイスの製造方法では、上記課題を解決するために以下の手段を採用した。
第1の発明は、露光装置(EX)は、物体(W)を保持して移動可能なステージ(22)と、前記ステージが配置された空間(46)を、前記ステージが収容される第一空間(46b)と、気体供給源(70)から気体(A)が流入する第二空間(46a)とに仕切るシート部材(100)とを有し、前記シート部材は、前記第一空間と前記第二空間とを連通する複数の通気孔(102)を備え、前記第一空間に対して気体を供給する気体供給面(100a)を形成すると共に、柔軟性のある素材で形成されるようにした。
この発明によれば、シート部材が柔軟性のある素材に複数の通気孔を有して形成されると共に、ステージが収容される第一空間に気体を流入させる気体供給面を形成するので、金属製ダクト等に比べて簡易な構造で第一空間に均一な流れの気体を供給できる。
第1の発明は、露光装置(EX)は、物体(W)を保持して移動可能なステージ(22)と、前記ステージが配置された空間(46)を、前記ステージが収容される第一空間(46b)と、気体供給源(70)から気体(A)が流入する第二空間(46a)とに仕切るシート部材(100)とを有し、前記シート部材は、前記第一空間と前記第二空間とを連通する複数の通気孔(102)を備え、前記第一空間に対して気体を供給する気体供給面(100a)を形成すると共に、柔軟性のある素材で形成されるようにした。
この発明によれば、シート部材が柔軟性のある素材に複数の通気孔を有して形成されると共に、ステージが収容される第一空間に気体を流入させる気体供給面を形成するので、金属製ダクト等に比べて簡易な構造で第一空間に均一な流れの気体を供給できる。
また、シート部材(100)が、脱着可能に構成されているものでは、第一空間に配置されたステージのメンテナンス等の際に、柔軟性のある素材からなるシート部材を取り外すだけで、作業空間を確保することができるので、メンテナンスを効率的に行うことが可能となる。
また、通気孔(102)の少なくとも一部は、シート部材(100)の表面に対して傾斜して形成されているものでは、容易に第一空間に供給される気体の送気方向を調整することができる。
また、通気孔(102)が、ステージ(22)の移動軌跡に基づいて、傾斜角、孔径、数、分布のうちの少なくとも一つが規定されているものでは、気体の流れの障害物となりうるステージの移動軌跡を考慮して、第一空間に供給する気体の送気方向、流量等を調整することにより、第一空間内の気体のよどみや揺らぎを排除することができる。
また、通気孔(102)の少なくとも一部は、シート部材(100)の表面に対して傾斜して形成されているものでは、容易に第一空間に供給される気体の送気方向を調整することができる。
また、通気孔(102)が、ステージ(22)の移動軌跡に基づいて、傾斜角、孔径、数、分布のうちの少なくとも一つが規定されているものでは、気体の流れの障害物となりうるステージの移動軌跡を考慮して、第一空間に供給する気体の送気方向、流量等を調整することにより、第一空間内の気体のよどみや揺らぎを排除することができる。
また、ステージ(22)を移動可能に支持する定盤(24)を備え、前記定盤が、シート部材(100)と対向して設けられ、第一空間(46b)の気体(A)を排気する排気部(110)を備えるものでは、定盤上の気体のよどみを排除すると共に、第一空間に安定した気体の流れを発生させることができる。
また、排気部(110)が、ステージ(22)の位置に応じて、定盤(24)上での排気位置を変更可能であるものでは、ステージの位置に関わらず、排気口を確保できるので、ステージの位置を測定するレーザ干渉計の光路空間における気体の流れをステージの位置に関わらず略一定に維持することができる。
また、排気部(110)が、排気位置の変更に関わらず、排気面積が略一定となるように調整可能であるものでは、ステージの周辺における排気量が略一定に維持されるので、ステージの位置を測定するレーザ干渉計の光路空間における気体の流れをステージの位置に関わらず安定化することができる。
また、排気部(110)が、ステージ(22)の位置に応じて、定盤(24)上での排気位置を変更可能であるものでは、ステージの位置に関わらず、排気口を確保できるので、ステージの位置を測定するレーザ干渉計の光路空間における気体の流れをステージの位置に関わらず略一定に維持することができる。
また、排気部(110)が、排気位置の変更に関わらず、排気面積が略一定となるように調整可能であるものでは、ステージの周辺における排気量が略一定に維持されるので、ステージの位置を測定するレーザ干渉計の光路空間における気体の流れをステージの位置に関わらず安定化することができる。
第2の発明は、リソグラフィ工程を含むデバイスの製造方法において、前記リソグラフィ工程において第1の発明の露光装置(EX)を用いるようにした。
この発明によれば、ステージ等が収容される第一空間に略均一な流れの気体が供給されるので、微細な回路パターンを有するデバイスを高精度に製造することができる。
なお、上記各発明をわかりやすく説明するために一実施例を表す図面の符号に対応づけて説明したが、本発明が実施例に限定されるものではないことは言うまでもない。
この発明によれば、ステージ等が収容される第一空間に略均一な流れの気体が供給されるので、微細な回路パターンを有するデバイスを高精度に製造することができる。
なお、上記各発明をわかりやすく説明するために一実施例を表す図面の符号に対応づけて説明したが、本発明が実施例に限定されるものではないことは言うまでもない。
本発明によれば以下の効果を得ることができる。
ステージが収容される第一空間に均一な流れの気体が供給され、更に、ステージの位置を測定するレーザ干渉計の光路空間における気体の流れを安定化することができるので、ステージを高精度に位置決め等することが可能となり、また、均一な流れの気体の下で露光処理を行うことが可能となる。したがって、微細な回路パターン等を感光基板上に高精度に露光することが可能となる。
これにより、効率よく高精度なデバイスを製造することが可能となる。
ステージが収容される第一空間に均一な流れの気体が供給され、更に、ステージの位置を測定するレーザ干渉計の光路空間における気体の流れを安定化することができるので、ステージを高精度に位置決め等することが可能となり、また、均一な流れの気体の下で露光処理を行うことが可能となる。したがって、微細な回路パターン等を感光基板上に高精度に露光することが可能となる。
これにより、効率よく高精度なデバイスを製造することが可能となる。
以下、本発明の露光装置及びデバイスの製造方法の実施形態について図を参照して説明する。
図1は、本実施形態に係る露光装置EXの構成を示す模式図である。
露光装置EXは、レチクルRとウエハWとを一次元方向に同期移動しつつ、レチクルRに形成されたパターンを投影光学系16を介してウエハW上の各ショット領域に転写するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置、すなわち、いわゆるスキャニング・ステッパである。
露光装置EXは、露光装置本体10と、クリーンルーム内の床面F上に設置されると共に露光装置本体10を収容する本体チャンバ40と、本体チャンバ40に隣接して配置された機械室70とを備える。
図1は、本実施形態に係る露光装置EXの構成を示す模式図である。
露光装置EXは、レチクルRとウエハWとを一次元方向に同期移動しつつ、レチクルRに形成されたパターンを投影光学系16を介してウエハW上の各ショット領域に転写するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置、すなわち、いわゆるスキャニング・ステッパである。
露光装置EXは、露光装置本体10と、クリーンルーム内の床面F上に設置されると共に露光装置本体10を収容する本体チャンバ40と、本体チャンバ40に隣接して配置された機械室70とを備える。
露光装置本体10は、露光光ELによりレチクルRを照明する照明光学系12、レチクルRを保持して移動可能なレチクルステージ14、レチクルRから射出される露光光ELをウエハW上に投射する投影光学系16、ウエハWを保持して移動可能なウエハステージ20と、投影光学系16等を保持すると共にウエハステージ20が搭載される本体コラム30、露光装置EXを統括的に制御する不図示の制御装置等を備える。
照明光学系12は、レチクルステージ14に支持されているレチクルRを露光光ELで照明するものであり、不図示の露光用光源から射出された露光光ELの照度を均一化するオプティカルインテグレータ、コンデンサレンズ、リレーレンズ系、レチクルR上の露光光ELによる照明領域をスリット状に設定する可変視野絞り等(いずれも不図示)を有している。
このような構成により、照明光学系12は、レチクルR上の所定の照明領域を、より均一な照度分布の露光光ELで照明可能となっている。
なお、露光用光源から射出される露光光ELとしては、例えば水銀ランプから射出される紫外域の輝線(g線、h線、i線)、KrFエキシマレーザ光(波長248nm)、ArFエキシマレーザ光(波長193nm)等の紫外光が用いられる。
このような構成により、照明光学系12は、レチクルR上の所定の照明領域を、より均一な照度分布の露光光ELで照明可能となっている。
なお、露光用光源から射出される露光光ELとしては、例えば水銀ランプから射出される紫外域の輝線(g線、h線、i線)、KrFエキシマレーザ光(波長248nm)、ArFエキシマレーザ光(波長193nm)等の紫外光が用いられる。
レチクルステージ14は、レチクルRを支持しつつ、投影光学系16の光軸AXに垂直な平面内の2次元移動及び微小回転を行うものである。なお、レチクルRは、レチクルステージ14に形成された矩形開口の周囲に設けられたレチクル吸着機構により真空吸着等される。
レチクルステージ14上のレチクルRの2次元方向の位置及び回転角は、不図示のレーザ干渉計によりリアルタイムで測定され、その測定結果は制御装置に出力される。そして、制御装置がレーザ干渉計の測定結果に基づいてリニアモータ等を駆動することで、レチクルステージ14に支持されているレチクルRの位置決めが行われる。
なお、レチクルステージ14は、サポートコラム36により支持される。
レチクルステージ14上のレチクルRの2次元方向の位置及び回転角は、不図示のレーザ干渉計によりリアルタイムで測定され、その測定結果は制御装置に出力される。そして、制御装置がレーザ干渉計の測定結果に基づいてリニアモータ等を駆動することで、レチクルステージ14に支持されているレチクルRの位置決めが行われる。
なお、レチクルステージ14は、サポートコラム36により支持される。
投影光学系16は、レチクルRに形成されたパターンを所定の投影倍率でウエハWに投影露光するものであって、複数の光学素子で構成される。本実施形態において、投影光学系16は、投影倍率βが例えば1/4あるいは1/5の縮小系である。なお、投影光学系16は等倍系及び拡大系のいずれでもよい。
そして、投影光学系16は、メインコラム34の天板に設けられた穴部34aに、センサコラム35を介して挿入、支持される。なお、センサコラム35には、不図示のFAセンサ等が設置される。
そして、投影光学系16は、メインコラム34の天板に設けられた穴部34aに、センサコラム35を介して挿入、支持される。なお、センサコラム35には、不図示のFAセンサ等が設置される。
ウエハステージ20は、ウエハWを保持しつつ、X方向,Y方向,及びθZ方向の3自由度方向に移動可能なXYテーブル22と、XYテーブル22をXY平面内で移動可能に支持するウエハ定盤24とを備えている。更に、XYテーブル22上に載置したウエハWの露光処理中に他のウエハWを載置してアライメント処理等を行う計測テーブル23を備える。
そして、ウエハステージ20上には移動鏡26が設けられ、これに対向する位置にはレーザ干渉計28が設けられる。そして、ウエハステージ20の2次元方向の位置及び回転角は、レーザ干渉計28によりリアルタイムで測定され、測定結果が制御装置に出力される。そして、制御装置がレーザ干渉計28の測定結果に基づいてリニアモータ等を駆動することで、ウエハステージ20に保持されているウエハWの位置、移動速度等が制御される。
なお、ウエハ定盤24には、空気Aを回収し、機械室70に戻すステージ排気部110が形成される。詳細については、後述する。
そして、ウエハステージ20上には移動鏡26が設けられ、これに対向する位置にはレーザ干渉計28が設けられる。そして、ウエハステージ20の2次元方向の位置及び回転角は、レーザ干渉計28によりリアルタイムで測定され、測定結果が制御装置に出力される。そして、制御装置がレーザ干渉計28の測定結果に基づいてリニアモータ等を駆動することで、ウエハステージ20に保持されているウエハWの位置、移動速度等が制御される。
なお、ウエハ定盤24には、空気Aを回収し、機械室70に戻すステージ排気部110が形成される。詳細については、後述する。
本体コラム30は、本体チャンバ40の底面上に設置されたベースプレート38の上方に、複数の防振台32を介して支持されている。本体コラム30は、防振台32によって支持されたメインコラム34と、このメインコラム34上部に立設されたサポートコラム36とを有している。
そして、メインコラム34の天井部となるメインフレームには、投影光学系16が支持されている。また、サポートコラム36には、レチクルステージ14、照明光学系12が支持されている。
そして、メインコラム34の天井部となるメインフレームには、投影光学系16が支持されている。また、サポートコラム36には、レチクルステージ14、照明光学系12が支持されている。
本体チャンバ40は、環境条件(清浄度、温度、圧力等)がほぼ一定に維持された露光室42と、この露光室42の側部に配置された不図示のレチクルローダ室及びウエハローダ室とを有するように形成されている。なお、露光室42は、その内部に露光装置本体10が配置される。
露光室42の上部側面には、本体チャンバ40内に温調した空気(気体)Aを供給する機械室70に接続される噴出口50が設けられる。そして、機械室70から送気される温調された空気Aが噴出口50からサイドフローにて露光室42の上部空間44に送り込まれるようになっている。
また、露光室42の底部には、リターン部52が設けられ、このリターン部52の下方には、リターンダクト54の一端が接続される。そして、リターンダクト54の他端は、機械室70に接続される。
また、メインコラム34の下端側面及び底面の複数箇所には、リターンダクト56が接続され、このリターンダクト56の他端は機械室70に接続される。つまり、図示は省略されているが、リターンダクト56は、複数の分岐路を備え、それぞれの分岐路がメインコラム34の下端側面及び底面の複数箇所に接続される。
すなわち、露光室42内の空気Aがリターン部52等からリターンダクト54,56を介して機械室70に戻されるようになっている。
露光室42の上部側面には、本体チャンバ40内に温調した空気(気体)Aを供給する機械室70に接続される噴出口50が設けられる。そして、機械室70から送気される温調された空気Aが噴出口50からサイドフローにて露光室42の上部空間44に送り込まれるようになっている。
また、露光室42の底部には、リターン部52が設けられ、このリターン部52の下方には、リターンダクト54の一端が接続される。そして、リターンダクト54の他端は、機械室70に接続される。
また、メインコラム34の下端側面及び底面の複数箇所には、リターンダクト56が接続され、このリターンダクト56の他端は機械室70に接続される。つまり、図示は省略されているが、リターンダクト56は、複数の分岐路を備え、それぞれの分岐路がメインコラム34の下端側面及び底面の複数箇所に接続される。
すなわち、露光室42内の空気Aがリターン部52等からリターンダクト54,56を介して機械室70に戻されるようになっている。
露光室42の側面には、機械室70に接続された給気管路60が接続され、更に、露光室42内に延設されている。その内部には、ヒータ62、送風機64、ケミカルフィルタCF、フィルタボックスAFが順次配置されている。
更に、給気管路60は、2つの分岐路66a,66bに分岐される。一方の分岐路66aは、温度安定化流路装置80aを介して、メインコラム34の内側空間46に接続されている。他方の分岐路66bは、温度安定化流路装置80bを介して、メインコラム34の内側空間46に接続されている。
なお、温度安定化流路装置80a,80bは、給気管路60から送気された空気Aとの間で熱交換を行うことにより、更に空気Aを高精度に温調する装置である。具体的には、特表2002−101804号公報に開示された温度安定化流路装置を用いられる。
そして、温度安定化流路装置80a,80bのそれぞれには、供給管92及び排出管94を介して温調装置90が接続されている。これにより、温調装置90、供給管92、温度安定化流路装置80a,80b、排出管94とからなる温調用媒体Cの循環経路が構成される。
また、温調用媒体Cとしては、例えばフロリナート(登録商標)が用いられ、温調装置90により略一定温度に温度調整される。これにより、温度安定化流路装置80a,80bは、その温度が一定に維持される。温調用媒体Cとしては他に、ハイドロフルオロエーテル(HFE)や水を用いることもできる。
更に、給気管路60は、2つの分岐路66a,66bに分岐される。一方の分岐路66aは、温度安定化流路装置80aを介して、メインコラム34の内側空間46に接続されている。他方の分岐路66bは、温度安定化流路装置80bを介して、メインコラム34の内側空間46に接続されている。
なお、温度安定化流路装置80a,80bは、給気管路60から送気された空気Aとの間で熱交換を行うことにより、更に空気Aを高精度に温調する装置である。具体的には、特表2002−101804号公報に開示された温度安定化流路装置を用いられる。
そして、温度安定化流路装置80a,80bのそれぞれには、供給管92及び排出管94を介して温調装置90が接続されている。これにより、温調装置90、供給管92、温度安定化流路装置80a,80b、排出管94とからなる温調用媒体Cの循環経路が構成される。
また、温調用媒体Cとしては、例えばフロリナート(登録商標)が用いられ、温調装置90により略一定温度に温度調整される。これにより、温度安定化流路装置80a,80bは、その温度が一定に維持される。温調用媒体Cとしては他に、ハイドロフルオロエーテル(HFE)や水を用いることもできる。
メインコラム34の内側空間46の天井近傍には、シート部材100が略水平方向に張設され、これにより内側空間46が、2つの分岐路66a,66bから空気Aが導入される気体導入空間46aと、ウエハステージ20が配置されるステージ空間46bとに、上下に仕切られる。なお、シート部材100の略中央部は、投影光学系16(鏡筒)及び投影光学系16の外周に配置されたセンサコラム35と干渉しないように、開口が設けられる。
シート部材100は、フッ素樹脂(4フッ化エチレン樹脂)等からなり、その表面には、微細な通気孔102が多数形成されている。これにより、機械室70から送気される温調された空気Aは、メインコラム34の内側空間46の気体導入空間46aを経由した後に、シート部材100の多数の通気孔102(図2参照)からダウンフローにて内側空間46のステージ空間46bに送り込まれるようになっている。つまり、シート部材100は、ステージ空間46bに温調された空気Aをダウンフローで供給する気体供給面100aを形成している。なお、シート部材100とメインコラム43、及びシート部材100とセンサコラム35とは、例えばジッパーにより脱着可能に接合されている。これにより、気体導入空間46aの内圧を確保して圧力を均一化することができ、ステージ空間46bの広い範囲に温調された空気Aを供給することができる。また、シート部材100は構造物とは異なり、柔軟性のあるシート状の部材なので、容易に取り外すことができる。したがって、気体導入空間46aに配置された光学ユニット、例えば、ウエハアライメント光学系やオートフォーカス光学系のメンテナンスを行う際に、容易にメンテナンスエリアを確保することができる。なお、シート部材100は、必ずしも一枚で構成する必要はなく、互いに分離・接合可能な複数の分割シートで構成してもよい。
シート部材100は、フッ素樹脂(4フッ化エチレン樹脂)等からなり、その表面には、微細な通気孔102が多数形成されている。これにより、機械室70から送気される温調された空気Aは、メインコラム34の内側空間46の気体導入空間46aを経由した後に、シート部材100の多数の通気孔102(図2参照)からダウンフローにて内側空間46のステージ空間46bに送り込まれるようになっている。つまり、シート部材100は、ステージ空間46bに温調された空気Aをダウンフローで供給する気体供給面100aを形成している。なお、シート部材100とメインコラム43、及びシート部材100とセンサコラム35とは、例えばジッパーにより脱着可能に接合されている。これにより、気体導入空間46aの内圧を確保して圧力を均一化することができ、ステージ空間46bの広い範囲に温調された空気Aを供給することができる。また、シート部材100は構造物とは異なり、柔軟性のあるシート状の部材なので、容易に取り外すことができる。したがって、気体導入空間46aに配置された光学ユニット、例えば、ウエハアライメント光学系やオートフォーカス光学系のメンテナンスを行う際に、容易にメンテナンスエリアを確保することができる。なお、シート部材100は、必ずしも一枚で構成する必要はなく、互いに分離・接合可能な複数の分割シートで構成してもよい。
図2は、シート部材100を示す断面図である。
シート部材100に形成される通気孔102は、レーザ加工を用いて形成されたものであって、例えば、直径10μm程度である。レーザ加工法を用いるのは、通気孔102の孔径、傾斜角度、数、分布等を任意に設定することが容易だからである。なお、傾斜角度とは、シート部材100の表面(気体供給面)100aに対する通気孔102の傾斜角度であって、シート部材100に対してレーザビームを斜め方向から投射することにより形成される。この場合には、通気孔102からステージ空間46bに、斜め下方に向けて空気Aが送り込まれるようになる。
シート部材100に形成される通気孔102は、レーザ加工を用いて形成されたものであって、例えば、直径10μm程度である。レーザ加工法を用いるのは、通気孔102の孔径、傾斜角度、数、分布等を任意に設定することが容易だからである。なお、傾斜角度とは、シート部材100の表面(気体供給面)100aに対する通気孔102の傾斜角度であって、シート部材100に対してレーザビームを斜め方向から投射することにより形成される。この場合には、通気孔102からステージ空間46bに、斜め下方に向けて空気Aが送り込まれるようになる。
通気孔102の孔径、傾斜角度、数、分布等は、ステージ空間46bに配置されるウエハステージ20のXYテーブル22の移動軌跡等によって規定される。例えば、XYテーブル22の位置を測定するレーザ干渉計28の計測ビームが通過する光路空間には、測定誤差の発生を防止するために、一定温度の空気Aを均一な風速でダウンフローにて供給する必要がある。したがって、光路空間の上方に位置するシート部材100の、計測ビームに沿った領域には、傾斜角度のない通気孔102が均一な分布で形成されている。そして、この計測ビームに沿った領域の両脇に隣接する領域には、計測ビームから離れる方向に向かって空気Aを供給するような傾斜した通気孔102が形成されている。温度の異なる空気が光路空間に流入するのを防止するためである。
また、上記の計測ビームに沿った領域以外の領域であって、露光動作中にXYテーブル22が通過する領域では、XYテーブル22上の空気Aが光路空間に流入しないようにするため、計測ビームから離れる方向に空気Aが送られるような傾斜角度を持った通気孔102が形成される。この領域に形成される通気孔102の孔径は、光路空間上の孔径よりも小さく形成される。また、上記以外の領域は、傾斜角度を持たない通気孔102が、上記それぞれの領域の通気孔102よりも小さい孔径かつ粗い分布で形成されている。更に、各領域の間に、孔径、傾斜角度、分布を連続的に変化させる中間領域を設けるようにしてもよい。このように、シート部材100上に形成された複数種類の領域の組み合わせによって、気体供給面100a全体が形成されている。なお、通気孔102の形成にあたっては、計測ケーブル23の位置を測定するレーザ干渉計(不図示)の配置及び計測テーブル23の移動軌跡やXYテーブル22との位置関係も考慮される。
以上、説明した通り、通気孔102の孔径、傾斜角度、数、分布等は、XYテーブル22の位置を計測するレーザ干渉計28の光路空間、及び計測テーブル23の位置を計測するレーザ干渉計の光路空間に温度の異なる空気Aが流入しないように、それぞれのテーブル22,23の移動経路、位置関係、待機位置等に基づいて決定されている。これにより、ステージ空間46b内の空気Aのよどみや揺らぎを排除して、レーザ干渉計28の測定誤差の発生等を防止することが可能となる。
図3は、ウエハステージ20に設けられたステージ排気部110の構成を示す概念図である。
上述したように、ウエハステージ20は、XYテーブル22とウエハ定盤24を備え、ウエハ定盤24上にXYテーブル22が不図示のエアベアリングを介して非接触に支持される。
そして、XYテーブル22の側面には、Y方向に貫通する開口が設けられ、その開口にはYリニアモータを兼ねるYガイドバー122が延設される。すなわち、XYテーブル22は、Yガイドバー122に沿って、Y方向に案内可能に構成される。
また、ウエハステージ20のY方向の両端には、XYテーブル22をX方向に大きく移動させる一対のリニアモータ124が配置される。リニアモータ124は、Yガイドバー122の両端に配置されてコイル巻き線を収納した可動子124Aと、可動子124AのZ方向の面に対向し、かつX方向に積層配置された板状の永久磁石からなる固定子124Bとを組み合わせて構成される。
上述したように、ウエハステージ20は、XYテーブル22とウエハ定盤24を備え、ウエハ定盤24上にXYテーブル22が不図示のエアベアリングを介して非接触に支持される。
そして、XYテーブル22の側面には、Y方向に貫通する開口が設けられ、その開口にはYリニアモータを兼ねるYガイドバー122が延設される。すなわち、XYテーブル22は、Yガイドバー122に沿って、Y方向に案内可能に構成される。
また、ウエハステージ20のY方向の両端には、XYテーブル22をX方向に大きく移動させる一対のリニアモータ124が配置される。リニアモータ124は、Yガイドバー122の両端に配置されてコイル巻き線を収納した可動子124Aと、可動子124AのZ方向の面に対向し、かつX方向に積層配置された板状の永久磁石からなる固定子124Bとを組み合わせて構成される。
ウエハ定盤24上には、図3に示すように、複数の排気口112を有する一対のステージ排気部110が配置される。
ステージ排気部110は、ウエハ定盤24上のリニアモータ124の内側に、X方向に沿って形成された凹形に溝(不図示)に挿入されるようにして配置されている。すなわち、ステージ排気部110は、ウエハ定盤24上におけるXYテーブル22の移動領域とリニアモータ94の配置領域を除く領域に配置される。
各ステージ排気部110のX方向の側面には、それぞれリターンダクト58が接続される。このリターンダクト58は、リターンダクト56に接続される(図1参照)。これにより、ウエハステージ20の近傍の空気Aは、ウエハ定盤24上に形成された複数の排気口112からステージ排気部110内に送気され、リターンダクト58,56を介して、機械室70に戻されるようになっている。
また、ステージ排気部110における各排気口112は、不図示の電磁弁等により開閉可能に構成されている。このように、排気口112を開閉可能に構成するのは、XYテーブル22の移動に合わせて開口させる排気口112を選択可能とするためである。言い換えれば、XYテーブル22が移動したとしても、周辺の空気Aの流れが乱されないようにするためである。なお、ステージ排気部110の排気口112の開閉方法については、後述する。
ステージ排気部110は、ウエハ定盤24上のリニアモータ124の内側に、X方向に沿って形成された凹形に溝(不図示)に挿入されるようにして配置されている。すなわち、ステージ排気部110は、ウエハ定盤24上におけるXYテーブル22の移動領域とリニアモータ94の配置領域を除く領域に配置される。
各ステージ排気部110のX方向の側面には、それぞれリターンダクト58が接続される。このリターンダクト58は、リターンダクト56に接続される(図1参照)。これにより、ウエハステージ20の近傍の空気Aは、ウエハ定盤24上に形成された複数の排気口112からステージ排気部110内に送気され、リターンダクト58,56を介して、機械室70に戻されるようになっている。
また、ステージ排気部110における各排気口112は、不図示の電磁弁等により開閉可能に構成されている。このように、排気口112を開閉可能に構成するのは、XYテーブル22の移動に合わせて開口させる排気口112を選択可能とするためである。言い換えれば、XYテーブル22が移動したとしても、周辺の空気Aの流れが乱されないようにするためである。なお、ステージ排気部110の排気口112の開閉方法については、後述する。
次に、露光装置EXの作用、特に空調方法について説明する。
まず、制御装置により機械室70が作動され、温調された空気Aが、露光室42に向けて送気される。これにより、露光室42内では、噴出口50から露光室42の上部空間44に、温調された空気Aが均一なサイドフローにて送り込まれる。
また、分岐路66a,66bを介して、メインコラム34の内側空間46のうち、シート部材100で仕切られた気体導入空間46aに、温調された空気Aが送り込まれる。そして、気体導入空間46aに送り込まれた空気Aは、シート部材100に形成された複数の通気孔102を通過して、ステージ空間46bに送り込まれる。この際、気体導入空間46aに送り込まれた空気Aは、気体導入空間46a内において略一定の圧力状態となった後に、通気孔102を通過して送気される。したがって、ステージ空間46bには、略一定圧力の空気Aが送り込まれる。
また、シート部材100に形成された複数の通気孔102は、ステージ空間46bに配置されたウエハステージ20のXYテーブル22の移動軌跡等によって規定されているので、ステージ空間46bに送り込まれた空気Aは、ステージ空間46bにおいてよどみや揺らぎを発生させることなく、略下方に向けて円滑に流れる。これにより、レーザ干渉計28等の測定誤差の発生が防止される。また、ステージ空間46bに配置されたウエハステージ20が略均一に温調されるので、ウエハステージ20を高精度に機能(駆動)させることができる。
まず、制御装置により機械室70が作動され、温調された空気Aが、露光室42に向けて送気される。これにより、露光室42内では、噴出口50から露光室42の上部空間44に、温調された空気Aが均一なサイドフローにて送り込まれる。
また、分岐路66a,66bを介して、メインコラム34の内側空間46のうち、シート部材100で仕切られた気体導入空間46aに、温調された空気Aが送り込まれる。そして、気体導入空間46aに送り込まれた空気Aは、シート部材100に形成された複数の通気孔102を通過して、ステージ空間46bに送り込まれる。この際、気体導入空間46aに送り込まれた空気Aは、気体導入空間46a内において略一定の圧力状態となった後に、通気孔102を通過して送気される。したがって、ステージ空間46bには、略一定圧力の空気Aが送り込まれる。
また、シート部材100に形成された複数の通気孔102は、ステージ空間46bに配置されたウエハステージ20のXYテーブル22の移動軌跡等によって規定されているので、ステージ空間46bに送り込まれた空気Aは、ステージ空間46bにおいてよどみや揺らぎを発生させることなく、略下方に向けて円滑に流れる。これにより、レーザ干渉計28等の測定誤差の発生が防止される。また、ステージ空間46bに配置されたウエハステージ20が略均一に温調されるので、ウエハステージ20を高精度に機能(駆動)させることができる。
また、ウエハ定盤24上に一対のステージ排気部110を設けたことにより、気体供給面100aから供給された空気Aは、ウエハ定盤24にぶつかって流れが乱れてよどむことなく排気される。そのため、ステージ空間46bに安定した空気Aの流れを発生させることができる。
また、ステージ排気部110における各排気口112の開閉を制御することにより、XYテーブル22が移動している場合であっても、ウエハステージ20に向けて送気された空気Aが円滑に流れるよう調整される。
図4,5は、ウエハステージ20上における空気Aの流れの変化を説明する図である。なお、図4,5においては、計測テーブル23は省略してある。
図4に示すように、ステージ排気部110の全ての排気口112を常に開放した場合には、XYテーブル22が+X方向に移動すると、ウエハ定盤24の−X方向側では、空気Aを排気する排気口112の数が多くなるので、ステージ空間46bの空気Aが急速に排気され、空気Aの圧力低下と流速上昇が生じる。一方、ウエハ定盤24の+X方向側では、空気Aを排気する排気口112の数が少なくなるので、空気Aを排気しづらくなり、空気Aの圧力上昇と流速低下が生じる。すなわち、XYテーブル22の移動に伴って、XYテーブル22のX方向の両側において、空気Aを排気する排気口112の開口面積が変化してしまうので、空気Aの流れの状態が乱れてしまう。このため、ステージ排気部110の全ての排気口112を常に開放したとしても、XYテーブル22が移動することにより、ステージ空間46bに空気Aのよどみや揺らぎが発生する。
一方、図5に示すように、ステージ排気部110の各排気口112をXYテーブル22の移動に応じて開閉させた場合には、ウエハ定盤24のX方向の両側において、空気Aの圧力や流速に差異が発生することが防止されるので、ステージ空間46bから空気Aのよどみや揺らぎを排除することが可能となる。
すなわち、XYテーブル22の移動に追従するように、ステージ排気部110の各排気口112の開閉を制御する。言い換えれば、XYテーブル22のX方向の両側において、開口する排気口112の位置(排気位置)及び面積(排気面積)が略一定となるように、各排気口112を開閉させる。これにより、XYテーブル22のX方向の両側において、空気Aの流れの方向は多少変化するものの、空気Aの圧力や流速に差異が発生することは確実に防止される。したがって、XYテーブル22の位置を測定するレーザ干渉計28の光路空間等の空気Aが乱されることなく、略一定に維持されるので、測定誤差の発生が防止される。
また、ステージ排気部110における各排気口112の開閉を制御することにより、XYテーブル22が移動している場合であっても、ウエハステージ20に向けて送気された空気Aが円滑に流れるよう調整される。
図4,5は、ウエハステージ20上における空気Aの流れの変化を説明する図である。なお、図4,5においては、計測テーブル23は省略してある。
図4に示すように、ステージ排気部110の全ての排気口112を常に開放した場合には、XYテーブル22が+X方向に移動すると、ウエハ定盤24の−X方向側では、空気Aを排気する排気口112の数が多くなるので、ステージ空間46bの空気Aが急速に排気され、空気Aの圧力低下と流速上昇が生じる。一方、ウエハ定盤24の+X方向側では、空気Aを排気する排気口112の数が少なくなるので、空気Aを排気しづらくなり、空気Aの圧力上昇と流速低下が生じる。すなわち、XYテーブル22の移動に伴って、XYテーブル22のX方向の両側において、空気Aを排気する排気口112の開口面積が変化してしまうので、空気Aの流れの状態が乱れてしまう。このため、ステージ排気部110の全ての排気口112を常に開放したとしても、XYテーブル22が移動することにより、ステージ空間46bに空気Aのよどみや揺らぎが発生する。
一方、図5に示すように、ステージ排気部110の各排気口112をXYテーブル22の移動に応じて開閉させた場合には、ウエハ定盤24のX方向の両側において、空気Aの圧力や流速に差異が発生することが防止されるので、ステージ空間46bから空気Aのよどみや揺らぎを排除することが可能となる。
すなわち、XYテーブル22の移動に追従するように、ステージ排気部110の各排気口112の開閉を制御する。言い換えれば、XYテーブル22のX方向の両側において、開口する排気口112の位置(排気位置)及び面積(排気面積)が略一定となるように、各排気口112を開閉させる。これにより、XYテーブル22のX方向の両側において、空気Aの流れの方向は多少変化するものの、空気Aの圧力や流速に差異が発生することは確実に防止される。したがって、XYテーブル22の位置を測定するレーザ干渉計28の光路空間等の空気Aが乱されることなく、略一定に維持されるので、測定誤差の発生が防止される。
そして、ステージ空間46bに送り込まれた空気Aは、ステージ排気部110からリターンダクト58に排気され、また、メインコラム34の下端側面等からリターンダクト56に排気され、機械室70に戻される。
また、露光室42に送り込まれた空気Aは、リターンダクト54に排気され、機械室70に戻される。
このようにして、露光室42及びメインコラム34の内側空間46が空調される。
また、露光室42に送り込まれた空気Aは、リターンダクト54に排気され、機械室70に戻される。
このようにして、露光室42及びメインコラム34の内側空間46が空調される。
そして、このような温調を行った状態で、露光装置本体10による露光処理が行われる。具体的には、不図示の露光用光源から射出された露光光ELが、各種レンズやミラー等からなる照明光学系12において、必要な大きさ及び照度均一性に整形された後にパターンが形成されたレチクルRを照明し、このレチクルRに形成されたパターンが投影光学系16を介して、ウエハステージ20上に保持されたウエハW上の各ショット領域に、縮小転写される。
これにより、微細なパターンがウエハW上に高精度に形成される。
これにより、微細なパターンがウエハW上に高精度に形成される。
以上、説明したように、本発明の露光装置EXによれば、メインコラム34の内側空間46に、柔軟性のある素材に複数の通気孔102を有して形成されたシート部材100を張設して、気体導入空間46aとステージ空間46bとに仕切ると共に、通気孔102を介してステージ空間46bに空気Aを供給するようにしたので、金属製ダクト等に比べて簡易な構造で、ステージ空間46bに均一な流れの空気Aを供給できようになる。特に、柔軟性のある素材からなるシート部材100を取り外すだけで、ウエハステージ20等の保守を行うための作業空間を確保することができるので、メンテナンスを効率的に行うことが可能となる。
また、通気孔102がウエハステージ20のXYテーブル22の移動軌跡等に基づいて、傾斜角度、孔径、数(配置)等が規定されているので、ステージ空間46bの略全面で空気Aのよどみや揺らぎを効果的に排除することができる。
更に、ウエハ定盤24に複数の排気口112を有するステージ排気部110を設けると共に、排気口112をXYテーブル22の移動に応じて開閉させるようにしたので、XYテーブル22位置を測定するレーザ干渉計28の光路空間における空気Aの流れを略一定に維持することができる。これにより、空気Aの揺らぎなどに起因するレーザ干渉計28の測定誤差の発生を防止することができる。
また、通気孔102がウエハステージ20のXYテーブル22の移動軌跡等に基づいて、傾斜角度、孔径、数(配置)等が規定されているので、ステージ空間46bの略全面で空気Aのよどみや揺らぎを効果的に排除することができる。
更に、ウエハ定盤24に複数の排気口112を有するステージ排気部110を設けると共に、排気口112をXYテーブル22の移動に応じて開閉させるようにしたので、XYテーブル22位置を測定するレーザ干渉計28の光路空間における空気Aの流れを略一定に維持することができる。これにより、空気Aの揺らぎなどに起因するレーザ干渉計28の測定誤差の発生を防止することができる。
以上、本発明の実施の形態について説明したが、上述した実施の形態において示した動作手順、あるいは各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲において設計要求等に基づき種々変更可能である。
本発明は、例えば、以下のような変更をも含むものとする。
本発明は、例えば、以下のような変更をも含むものとする。
例えば、気体導入空間46aに空気Aを導入する分岐路66a,66bとしては、2つに限らない。更に多くの分岐路が連結されることが望ましい。これにより、気体導入空間46aに導入された空気Aが確実に略均一な圧力となるからである。
シート部材100をメインコラム34の内側空間46に張設するために、シート部材100とメインコラム34とをマグネットシートで接合するように構成してもよいし、粘着シールで接合するようにしてもよい。また、予めシート部材100を枠部材に張設し、該枠部材をメインコラム34内に嵌め込むようにしても構わない。
また、通気孔102の形成方法として、レーザ加工法について説明したが、他の方法であってもよい。また、シート部材100の材質は、フッ素樹脂に限られず、他の樹脂材料、柔軟性を有する金属製の薄肉シート、或いはこれらの複合材を用いることもできる。
更に、金属繊維を編んだメッシュシートを用いてもよい。この場合、空気Aの噴き出し方向を規定することはできないが、編み込みの密度を調整することにより、空気Aの風量分布を規定することは可能である。
更に、金属繊維を編んだメッシュシートを用いてもよい。この場合、空気Aの噴き出し方向を規定することはできないが、編み込みの密度を調整することにより、空気Aの風量分布を規定することは可能である。
ステージ排気部110の各排気口112を開閉する方法として、電磁弁を用いる場合について説明したが、これに限らない。例えば、図6に示すように、複数の排気口が形成された帯形のシート部材をモータ等で移動させる形態であってもよい。すなわち、複数の排気口を開閉させるのではなく、複数の排気口をXYテーブル22と共に移動さえてもよい。この場合、モータ等に代えて、リニアモータ124を用いてもよい。
上記実施形態では、光源としてKrFエキシマレーザ、ArFエキシマレーザ等を用いる場合について説明したが、これに限らず、光源としてF2レーザ、Ar2レーザを用いても良く、あるいは金属蒸気レーザやYAGレーザを用い、これらの高調波を露光用照明光としても良い。あるいは、DFB半導体レーザ又はファイバーレーザから発振される赤外域、又は可視域の単一波長レーザ光を、例えばエルビウム(Er)(又はエルビウムとイッテルビウム(Yb)の両方)がドープされたファイバーアンプで増幅し、非線形光学結晶を用いて紫外光に波長変換した高調波を、露光用照明光として用いても良い。
また、上記実施形態ではステップ・アンド・リピート方式の露光装置を例に挙げて説明したが、ステップ・アンド・スキャン方式の露光装置にも本発明を適用することができる。更に、本発明は半導体素子の製造に用いられる露光装置だけではなく、液晶表示素子(LCD)等を含むディスプレイの製造に用いられてデバイスパターンをガラスプレート上へ転写する露光装置、薄膜磁気ヘッドの製造に用いられてデバイスパターンをセラミックウエハ上へ転写する露光装置、及びCCD等の撮像素子の製造に用いられる露光装置等にも適用することができる。
また、投影光学系16は、屈折系、反射屈折系、及び反射系のいずれでも良いし、縮小系、等倍系、及び拡大系のいずれでも良い。
更には、光露光装置、EUV露光装置、X線露光装置、及び電子線露光装置などで使用されるレチクル又はマスクを製造するために、ガラス基板又はシリコンウエハなどに回路パターンを転写する露光装置にも本発明を適用できる。ここで、DUV(遠紫外)光やVUV(真空紫外)光などを用いる露光装置では一般的に透過型レチクルが用いられ、レチクル基板としては石英ガラス、フッ素がドープされた石英ガラス、蛍石、フッ化マグネシウム、又は水晶などが用いられる。また、プロキシミティ方式のX線露光装置、又は電子線露光装置などでは透過型マスク(ステンシルマスク、メンブレンマスク)が用いられ、マスク基板としてはシリコンウエハなどが用いられる。
なお、このような露光装置は、WO99/34255号、WO99/50712号、WO99/66370号、特開平11−194479号、特開2000−12453号、特開2000−29202号等に開示されている。
また、投影光学系16は、屈折系、反射屈折系、及び反射系のいずれでも良いし、縮小系、等倍系、及び拡大系のいずれでも良い。
更には、光露光装置、EUV露光装置、X線露光装置、及び電子線露光装置などで使用されるレチクル又はマスクを製造するために、ガラス基板又はシリコンウエハなどに回路パターンを転写する露光装置にも本発明を適用できる。ここで、DUV(遠紫外)光やVUV(真空紫外)光などを用いる露光装置では一般的に透過型レチクルが用いられ、レチクル基板としては石英ガラス、フッ素がドープされた石英ガラス、蛍石、フッ化マグネシウム、又は水晶などが用いられる。また、プロキシミティ方式のX線露光装置、又は電子線露光装置などでは透過型マスク(ステンシルマスク、メンブレンマスク)が用いられ、マスク基板としてはシリコンウエハなどが用いられる。
なお、このような露光装置は、WO99/34255号、WO99/50712号、WO99/66370号、特開平11−194479号、特開2000−12453号、特開2000−29202号等に開示されている。
また、本発明は、投影光学系と基板(ウエハ)との間に供給された液体を介して基板上に所定のパターンを形成する液浸露光装置にも、必要な液体対策を適宜施したうえで適用可能である。液浸露光装置の構造及び露光動作は、例えば、国際公開第99/49504号パンフレット、特開平6−124873号、及び特開平10−303号に開示されている。また、本発明は、ツインステージ型の露光装置にも適用できる。ツインステージ型の露光装置の構造及び露光動作は、例えば、特開平10−163099号、特開平10−214783号、特表2000−505958号或いは米国特許6,208,407号に開示されている。また、本発明は、特開平11−135400号に開示されているように、ウエハ等の被処理基板を保持して移動可能な露光ステージと、各種計測部材やセンサを備えた計測ステージとを備えた露光装置にも適用することができる。
また、本発明が適用される露光装置は、光透過性の基板上に所定の遮光パターン(または位相パターン・減光パターン)が形成された光透過型マスク、或いは光反射性の基板上に所定の反射パターンが形成された光反射型マスクを用いるものに限らず、例えば、米国特許第6,778,257号公報に開示されているような、露光すべきパターンの電子データに基づいて透過パターン又は反射パターン、或いは発光パターンを形成する電子マスクを用いる露光装置であってもよい。
レチクルステージの移動により発生する反力は、投影光学系に伝わらないように、特開平8−330224号公報(対応USP5,874,820)に記載されているように、フレーム部材を用いて機械的に床(大地)に逃がしてもよい。
また、ウエハステージの移動により発生する反力は、投影光学系に伝わらないように、特開平8−166475号公報(対応USP5,528,126)に記載されているように、フレーム部材を用いて機械的に床(大地)に逃がしてもよい。
また、ウエハステージの移動により発生する反力は、投影光学系に伝わらないように、特開平8−166475号公報(対応USP5,528,126)に記載されているように、フレーム部材を用いて機械的に床(大地)に逃がしてもよい。
次に、本発明の実施形態による露光装置及び露光方法をリソグラフィ工程で使用したマイクロデバイスの製造方法の実施形態について説明する。
図7は、マイクロデバイス(ICやLSI等の半導体チップ、液晶パネル、CCD、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン等)の製造例のフローチャートを示す図である。
まず、ステップS10(設計ステップ)において、マイクロデバイスの機能・性能設計(例えば、半導体デバイスの回路設計等)を行い、その機能を実現するためのパターン設計を行う。引き続き、ステップS11(マスク製作ステップ)において、設計した回路パターンを形成したマスク(レチクル)を製作する。一方、ステップS12(ウエハ製造ステップ)において、シリコン等の材料を用いてウエハを製造する。
図7は、マイクロデバイス(ICやLSI等の半導体チップ、液晶パネル、CCD、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン等)の製造例のフローチャートを示す図である。
まず、ステップS10(設計ステップ)において、マイクロデバイスの機能・性能設計(例えば、半導体デバイスの回路設計等)を行い、その機能を実現するためのパターン設計を行う。引き続き、ステップS11(マスク製作ステップ)において、設計した回路パターンを形成したマスク(レチクル)を製作する。一方、ステップS12(ウエハ製造ステップ)において、シリコン等の材料を用いてウエハを製造する。
次に、ステップS13(ウエハ処理ステップ)において、ステップS10〜ステップS12で用意したマスクとウエハを使用して、後述するように、リソグラフィ技術等によってウエハ上に実際の回路等を形成する。次いで、ステップS14(デバイス組立ステップ)において、ステップS13で処理されたウエハを用いてデバイス組立を行う。このステップS14には、ダイシング工程、ボンティング工程、及びパッケージング工程(チップ封入)等の工程が必要に応じて含まれる。最後に、ステップS15(検査ステップ)において、ステップS14で作製されたマイクロデバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行う。こうした工程を経た後にマイクロデバイスが完成し、これが出荷される。
図8は、半導体デバイスの場合におけるステップS13の詳細工程の一例を示す図である。
ステップS21(酸化ステップ)おいては、ウエハの表面を酸化させる。ステップS22(CVDステップ)においては、ウエハ表面に絶縁膜を形成する。ステップS23(電極形成ステップ)においては、ウエハ上に電極を蒸着によって形成する。ステップS24(イオン打込みステップ)においては、ウエハにイオンを打ち込む。以上のステップS21〜ステップS24のそれぞれは、ウエハ処理の各段階の前処理工程を構成しており、各段階において必要な処理に応じて選択されて実行される。
ステップS21(酸化ステップ)おいては、ウエハの表面を酸化させる。ステップS22(CVDステップ)においては、ウエハ表面に絶縁膜を形成する。ステップS23(電極形成ステップ)においては、ウエハ上に電極を蒸着によって形成する。ステップS24(イオン打込みステップ)においては、ウエハにイオンを打ち込む。以上のステップS21〜ステップS24のそれぞれは、ウエハ処理の各段階の前処理工程を構成しており、各段階において必要な処理に応じて選択されて実行される。
ウエハプロセスの各段階において、上述の前処理工程が終了すると、以下のようにして後処理工程が実行される。この後処理工程では、まず、ステップS25(レジスト形成ステップ)において、ウエハに感光剤を塗布する。引き続き、ステップS26(露光ステップ)において、上で説明したリソグラフィシステム(露光装置)及び露光方法によってマスクの回路パターンをウエハに転写する。次に、ステップS27(現像ステップ)においては露光されたウエハを現像し、ステップS28(エッチングステップ)において、レジストが残存している部分以外の部分の露出部材をエッチングにより取り去る。そして、ステップS29(レジスト除去ステップ)において、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除く。これらの前処理工程と後処理工程とを繰り返し行うことによって、ウエハ上に多重に回路パターンが形成される。
また、半導体素子等のマイクロデバイスだけではなく、光露光装置、EUV露光装置、X線露光装置、及び電子線露光装置等で使用されるレチクル又はマスクの製造にも本発明を適用できる。
EX…露光装置
W…ウエハ
A…空気
22…XYテーブル
24…ウエハ定盤
46…内側空間
46a…気体導入空間
46b…ステージ空間
70…機械室
100…シート部材
100a…表面
102…通気孔
110…ステージ排気部
112…排気口
W…ウエハ
A…空気
22…XYテーブル
24…ウエハ定盤
46…内側空間
46a…気体導入空間
46b…ステージ空間
70…機械室
100…シート部材
100a…表面
102…通気孔
110…ステージ排気部
112…排気口
Claims (8)
- 物体を保持して移動可能なステージと、
前記ステージが配置された空間を、前記ステージが収容される第一空間と、気体供給源から気体が流入する第二空間とに仕切るシート部材とを有し、
前記シート部材は、前記第一空間と前記第二空間とを連通する複数の通気孔を備え、前記第一空間に対して気体を供給する気体供給面を形成すると共に、柔軟性のある素材で形成されていることを特徴とする露光装置。 - 前記シート部材は、脱着可能に構成されていることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記通気孔の少なくとも一部は、前記シート部材の表面に対して傾斜して形成されていることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の露光装置。
- 前記通気孔は、前記ステージの移動軌跡に基づいて、傾斜角、孔径、数、分布のうちの少なくとも一つが規定されていることを特徴とする請求項3に記載の露光装置。
- 前記ステージを移動可能に支持する定盤を備え、
前記定盤は、前記シート部材と対向して設けられ、前記第一空間の気体を排気する排気部を備えることを特徴とする請求項1から請求項4のうちいずれか一項に記載の露光装置。 - 前記排気部は、前記ステージの位置に応じて、前記定盤上での排気位置を変更可能であることを特徴とする請求項5に記載の露光装置。
- 前記排気部は、排気位置の変更に関わらず、排気面積が略一定となるように調整可能であることを特徴とする請求項5に記載の露光装置。
- リソグラフィ工程を含むデバイスの製造方法において、前記リソグラフィ工程において請求項1から請求項7のうちいずれか一項に記載の露光装置を用いることを特徴とするデバイスの製造方法。
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- 2005-04-05 JP JP2005108538A patent/JP2006287160A/ja active Pending
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