JP2006287061A - 露光装置及びそのパラメータ設定方法 - Google Patents

Abstract

【課題】パラメータを効率的に編集でき、編集作業時間を短縮する。
【解決手段】原版のパターンを基板に露光する際の装置に関する情報をパラメータにより設定する露光装置であって、前記パラメータを記憶する記憶手段と、前記パラメータを提示する提示手段と、前記記憶手段に記憶されたパラメータを編集する編集手段とを備え、前記情報は、前記情報の類別に基づいて上位となる複数の第１の情報要素と、当該第１の情報の下位となる第２の情報要素との階層構造とされ、前記編集手段は、前記第１の情報要素と第２の情報要素との間を任意に移動し選択可能とする選択手段を有し、当該選択手段により選択された情報要素に属するパラメータを編集可能とした。
【選択図】 図５

Description

本発明は、例えば、ウエハ上に半導体デバイス用の回路または素子パターンを焼き付ける半導体露光装置やその装置に用いられるパラメータの設定方法に関する。

一般的な半導体露光装置では、その制御方式の切り替えやオフセット値の設定、ウエハに対する露光処理の内容をパラメータで設定しており、各々のパラメータを設定するための手段としての編集画面（ユーザインタフェース）を提供し、オペレータはこの編集画面を介してパラメータの設定を行っている。

上記制御方式の切り替えやオフセット値を設定する装置パラメータ(システムパラメータ)に関する編集画面は、露光装置を利用する作業工程によって編集対象となるパラメータが異なってくるため、工程毎にパラメータを分類している。また、個々の工程においても、複数の機能に対して設定を行う必要があるため機能毎にパラメータが分類されている。

従来のシステムパラメータ編集画面は、上記のように構成されたシステムパラメータを編集するために、個々の工程を上位の親画面とし、その中に含まれる機能を下位の子画面とした階層的な構造となっている。

また、ウエハに対する露光処理の内容であるレシピパラメータは、同一デバイスに用いられるレシピにおいて共通な値を有する場合が多い。しかし、従来のレシピパラメータ編集画面では、個々のレシピを別々で編集することしかできなかった。
特開２０００−３４０５００

上記システムパラメータ編集画面が、工程を親、機能を子とする階層構造となっている場合、画面の遷移は工程から機能へ移る流れとなる。しかし、ある工程に属する機能へ画面を移動した後に、他の工程の機能の画面へ移動するためには、一旦工程画面に戻ってから、他の工程に移動する必要があるため、画面移動の作業負荷が過大となってしまう。

また、レシピパラメータ編集画面では、個々のレシピを別々に編集しているが、同一デバイスで用いられる複数のレシピ間で同じ値のパラメータが複数存在している。このため、レシピ間でパラメータが同じ値であるにも関わらず、レシピ毎にパラメータを設定する必要があるため、従来のレシピ編集画面は改善の余地があると考えられる。

本発明は、前述の従来の問題点を解決するため、パラメータを効率的に編集でき、編集作業時間を短縮することができる露光装置及びそのパラメータ設定方法の提供を目的とする。

上記課題を解決し、目的を達成するために、本発明の第１の態様は、原版のパターンを基板に露光する際の装置に関する情報をパラメータにより設定する露光装置であって、前記パラメータを記憶する記憶手段と、前記パラメータを提示する提示手段と、前記記憶手段に記憶されたパラメータを編集する編集手段とを備え、前記情報は、前記情報の類別に基づいて上位となる複数の第１の情報要素と、当該第１の情報の下位となる第２の情報要素との階層構造とされ、前記編集手段は、前記第１の情報要素と第２の情報要素との間を任意に移動し選択可能とする選択手段を有し、当該選択手段により選択された情報要素に属するパラメータを編集可能とした。

また、上記態様において、前記提示手段は、前記選択手段により選択された第１の情報要素とそれに属する第２の情報要素のパラメータを表示し、当該パラメータを編集するための編集画面を表示する表示手段を有し、前記編集画面は、前記第１の情報要素を選択する選択ツールと、前記第２の情報要素を選択する選択ツールとを有し、当該選択ツールにより選択された第１の情報要素とそれに属する第２の情報要素に含まれるパラメータを表示し、前記編集手段は、前記選択ツールにより前記第１の情報要素と第２の情報要素との間を任意に移動可能である。

また、上記態様において、前記編集手段は、編集主体に付与された権限により編集が不許可とされた第１の情報要素の選択を不可とする。

また、上記態様において、前記提示手段は、前記編集画面において、前記選択手段により選択された第１の情報要素に属する第２の情報要素の選択ツールを識別可能に表示する。

また、本発明の第２の態様は、原版のパターンを繰り返して基板に露光する際の基板に関する情報をパラメータにより設定する露光装置であって、前記基板に繰り返して露光される各レイヤの露光情報を記憶する記憶手段と、前記レイヤの階層順に前記露光情報の一覧を提示する提示手段と、前記記憶手段に記憶された露光情報を編集する編集手段とを具備する。

また、上記態様において、前記提示手段は、前記露光情報を表示し編集するための編集画面を表示する表示手段を有する。

また、上記態様において、所望のレイヤの露光情報を複製し、共通する露光情報を持つレイヤに入力する手段を更に備える。

また、上記態様において、前記編集手段は、前記各レイヤの露光情報を特徴付けるパラメータのまとまりをテンプレートとして定義し、当該テンプレートに含まれるパラメータを、所望のレイヤの露光情報としてまとめて設定する。

また、上記態様において、前記編集手段は、前記テンプレートを編集する手段を有し、当該テンプレートに含まれるパラメータを複数のレイヤに設定する。

また、上記態様において、前記編集手段は、前記テンプレートに含まれるパラメータを編集した際に、当該テンプレートの変更を、そのテンプレートを参照するレイヤの露光情報に自動的に反映させる。

なお、本発明は、上記第１及び第２の態様に対応するパラメータ設定方法や露光装置を用いて半導体デバイスを製造するデバイス製造方法としても成立するものである。

本発明によれば、露光装置や露光基板に関するパラメータを効率的に編集でき、編集作業時間を短縮することができる。

以下に、添付図面を参照して本発明の実施の形態について詳細に説明する。

尚、以下に説明する実施の形態は、本発明の実現手段としての一例であり、本発明が適用される装置の構成や各種条件によって適宜修正又は変更されるべきものである。例えば、本発明は後述する各実施形態の構成に限られず、第１及び第２の実施形態の特徴点を組み合わせて構成した場合も、本発明に含まれることは言うまでもない。

また、本発明は、後述する実施形態であるパラメータ編集方法やデバイス製造方法等を実現するソフトウェアのプログラムコードを記憶した記憶媒体（または記録媒体）を、システムあるいは装置あるいは遠隔から供給し、そのシステムあるいは装置のコンピュータ（またはCPUやMPU）が当該プログラムコードを読み出して実行することによっても、達成される場合を含む。その場合、プログラムの機能を有していれば、形態は、プログラムである必要はない。

従って、本発明の機能処理をコンピュータで実現するために、該コンピュータにインストールされるプログラムコード自体も本発明を実現するものである。つまり、本発明のクレームでは、本発明の機能処理を実現するためのコンピュータプログラム自体も含まれる。

その場合、プログラムの機能を有していれば、オブジェクトコード、インタプリタにより実行されるプログラム、ＯＳに供給するスクリプトデータ等、プログラムの形態を問わない。

プログラムを供給するための記録媒体としては、例えば、フロッピー（登録商標）ディスク、ハードディスク、光ディスク、光磁気ディスク、ＭＯ、ＣＤ−ＲＯＭ、ＣＤ−Ｒ、ＣＤ−ＲＷ、磁気テープ、不揮発性のメモリカード、ＲＯＭ、ＤＶＤ（ＤＶＤ−ＲＯＭ，ＤＶＤ−Ｒ）などがある。
［第１の実施形態］
図１は本発明の一実施形態に係る半導体露光装置の外観斜視図である。

同図に示すように、この半導体露光装置は、装置本体を収容し、その内部環境温度の制御を行なう温調チャンバ101、チャンバ101内部に配置され、装置本体の制御を行なうCPUを有するEWS本体106、ならびに、装置における所定の情報を表示するEWS用ディスプレイ装置102、装置本体において撮像手段を介して得られる画像情報を表示するモニタTV105、装置に対し所定の入力を行なうための操作パネル103、EWS用キーボード104等を含むコンソール部を備えている。図中、107はON-OFFスイッチ、108は非常停止スイッチ、109は各種スイッチ、マウス等、110はLAN通信ケーブル、111はコンソール機能からの発熱の排気ダクト、そして112はチャンバ101の排気装置である。

EWS用ディスプレイ102は、EL、プラズマ、液晶等の薄型フラットタイプのものであり、チャンバ101前面に納められ、LANケーブル110によりEWS本体106と接続される。操作パネル103、キーボード104、モニタTV105等もチャンバ101前面に設置され、チャンバ101前面から従来と同様のコンソール部を介した各種操作が行なえるようになっている。

図２は、図１の装置の内部構造を示す図である。

同図においては、半導体露光装置としてのステッパが示されている。図中、202はレチクル、203はウエハであり、光源装置204から出た光束が照明光学系205を通ってレチクル202を照明するとき、投影レンズ206によりレチクル202上のパターンをウエハ203上の感光層に転写することができる。レチクル202はレチクル202を保持、移動するためのレチクルステージ207により支持されている。ウエハ203はウエハチャック291により真空吸着された状態で露光される。ウエハチャック291はウエハステージ209により各軸方向に移動可能である。レチクル202の上側にはレチクルの位置ずれ量を検出するためのレチクル光学系281が配置される。ウエハステージ209の上方には、投影レンズ206に隣接してオフアクシス顕微鏡282が配置されている。オフアクシス顕微鏡282は本体内部の基準マークとウエハ203上のアライメントマークとの相対位置検出を行なうのが主たる役割である。また、これらステッパ本体に隣接して、周辺装置であるレチクルライブラリ220やウエハキャリアエレベータ230が配置され、必要なレチクルやウエハはレチクル搬送装置221およびウエハ搬送装置231によってステッパ本体に搬送される。

チャンバ101は、主に空気の温度調節を行なう空調機室210および微小異物を濾過し清浄空気の均一な流れを形成するフィルタボックス213、また装置環境を外部と遮断するブース214で構成されている。チャンバ101内では、空調機室210内にある冷却器215および再熱ヒータ216により温度調節された空気が、送風機217によりエアフィルタgを介してブース214内に供給される。このブース214に供給された空気はリターン口raより再度空調機室210に取り込まれチャンバ101内を循環する。通常、このチャンバ101は厳密には完全な循環系ではなく、ブース214内を常時陽圧に保つため循環空気量の約１割の空気をブース214外から空調機室210に設けられた外気導入口oaより送風機を介して導入している。

このようにして、チャンバ101は装置本体が設置される内部の環境温度を一定に保ち、かつ空気を清浄に保つことを可能としている。また光源装置204には超高圧水銀灯の冷却やレーザ異常時の有毒ガス発生に備えて吸気口saと排気口eaが設けられ、ブース214内の空気の一部が光源装置204を経由し、空調機室210に備えられた専用の排気ファンを介して工場設備に強制排気されている。また、空気中の化学物質を除去するための化学吸着フィルタcfが、空調機室210の外気導入口oaおよびリターン口raにそれぞれ接続して備えられている。

図３は、図１の装置の電気回路構成を示すブロック図である。

同図において、321は装置全体の制御を司る、上記EWS本体106に内蔵された本体CPUであり、マイクロコンピュータまたはミニコンピュータ等の中央演算装置からなる。322はウエハステージ駆動装置、323は上記オフアクシス顕微鏡282等からなるアライメント検出系、324はレチクルステージ駆動装置、325は上記光源装置204等の照明系、326はシャッタ駆動装置、327はフォーカス検出系、328はＺ駆動装置であり、これらは、本体CPU321により制御されている。329は上記レチクル搬送装置221、ウエハ搬送装置231等の搬送系である。330は上記ディスプレイ102、キーボード104等を有するコンソールユニットであり、本体CPU321にこの露光装置の動作に関する各種のコマンドやパラメータを与えるためのものである。すなわち、オペレータとの間で情報の授受を行なうためのものである。また、331はコンソールCPU、332は外部メモリである。外部メモリ332は、例えばハードディスクであり、内部にデータベースが構築されており、各種パラメータおよびその管理データ、ならびにオペレータのグループ等が記録されている。

本実施形態は、本発明の特徴の１つであるパラメータの編集手段を実現した態様を例示するものであり、以下では外部メモリ332に格納された露光装置の各種パラメータを変更する例について説明する。

図４は外部メモリ332に格納される露光装置のシステムパラメータの構成概要を示したものである。システムパラメータの構成は、下位層が上位層に属する階層的なツリー構造となっている。上位層400は工程層であり、個々の工程が要素となっている。上位層400の下位の中位層401は機能層であり、個々の機能が要素となっている。中位層401の下位の低位層402はパラメータ層であり、個々のパラメータを構成要素とする。機能層401の要素は、複数の工程層400の要素に属する場合もあり、図4では例として機能Func 2が工程Work 1とWork 2両方に属することを表している。

図５は、図１のディスプレイ102に表示される編集ツール（ユーザインタフェース）としての、外部メモリ322に格納される露光装置のシステムパラメータを編集するためのシステムパラメータエディタ500を例示する図である。このシステムパラメータエディタ500は、工程ボタン表示エリア501と、機能ボタン表示エリア503と、パラメータ編集エリア505と、編集保存ボタン506と、編集キャンセルボタン507とを備える。

工程ボタン表示エリア501には、図４の工程層400に含まれる工程要素に対応した工程切り替えボタン502が配置されている。機能ボタン表示エリア503には、図４の機能層401に含まれる機能要素に対応した機能切り替えボタン504が配置される。パラメータ編集エリア505には、図４のパラメータ層402に含まれる個々のパラメータを配置し、パラメータに対して編集する手段を提供する。編集保存ボタン506は、パラメータ編集エリア505で行ったパラメータ値の変更を外部メモリ322に反映する手段を提供し、編集キャンセルボタン507はパラメータ編集エリア505で行ったパラメータ値の変更をキャンセルする手段を提供する。

このシステムパラメータエディタ500では、工程ボタン表示エリア501に表示される工程切り替えボタン502と、機能ボタン表示エリア503に表示される機能切り替えボタン504を、横並びと縦並びという行列状に配置し、選択された工程切り替えボタン502と機能切り替えボタン504に属するパラメータをパラメータ編集エリア505に表示する。図５のシステムパラメータエディタ500では、工程切り替えボタン502として工程Work 2を選択し、機能切り替えボタン504として機能Func 4を選択しており、パラメータ編集エリア505に工程Work 2と機能Func 4に属するパラメータを表示している。これは、図４のパラメータ構成概要図における、工程層400のWork 2に属し、機能層401のFunc 4に属する、パラメータ層402のパラメータeとfが表示されていることに対応する。

このようにシステムパラメータエディタ500において、工程切り替えボタン502と機能切り替えボタン504が行列状に一覧表示されており、表示を希望する工程切り替えボタン502、若しくは機能切り替えボタン504を選択するのみで、対応するパラメータがパラメータ表示エリア605に表示されるため、画面遷移を容易に行うことができる。

図４のシステムパラメータの構成が示すように、機能層401には、工程層400の各々の工程要素毎に対して属する機能と属さない機能が存在する。このため、システムパラメータエディタ500では、工程要素に属する機能か否かをオペレータが容易に判別できるように、選択されている工程切り替えボタン502に属さない機能切り替えボタン604に対して、工程に属する機能切り替えボタン604とは異なった色彩や模様を用いて表示する。同様に、機能層401の機能に対しても、機能を含む工程層400の工程と属さない工程が存在する。このため、選択されている機能切り替えボタン504が属さない工程切り替えボタン502に対して、機能が属する工程切り替えボタン502とは異なる色彩や模様を用いて表示する。システムパラメータエディタ500では、工程切り替えボタン502としてWork 2が選択された状態において、機能切り替えボタン504におけるFunc 7とFunc 8のボタンの色彩や模様が異なっており、機能Func 7とFunc8が工程Work 2に属していないことを表している。

尚、システムパラメータエディタ500において、パラメータ表示エリア505の構成がタブ構成となっており、また１つのタブ内でもラベルによりパラメータを分類している。このような表示構成を用いることにより、パラメータ表示エリア505において多くのパラメータを表示する場合でも、効果的にパラメータを把握することができる。

システムパラメータエディタ500では、工程切り替えボタン502を操作して任意の工程要素を選択することにより、任意の工程要素に属するパラメータを編集可能となっている。しかし実際は、装置を利用するオペレータが有する権限に従って編集が可能な工程が制限されている。図６は、オペレータ権限により編集可能な工程を制限している場合のシステムパラメータエディタ600を示す図である。このシステムパラメータエディタ600は、Work 2とWork 4のみの工程の編集権限を有するオペレータが操作した場合の状態を表しており、システムパラメータエディタ600における工程ボタン表示エリア601には、オペレータが編集権限を有する工程要素に対応する工程切り替えボタン602（及びその工程要素に属する機能切り替えボタン604）のみが選択可能（つまり、権限を持たない工程の選択及び編集を不許可とする。）に表示されている。このようにシステムパラメータエディタ600では、オペレータの権限に連動して工程切り替えボタン602の表示と非表示の切り替えを行うことにより、オペレータが権限外の編集を行うことを防止している。

なお、図６の画面において、オペレータが編集権限を持たない情報の選択ボタンの表示を行わないようにしてもよい。

上記実施形態によれば、システムパラメータを効率的に編集でき、編集作業時間を短縮することができる。特に、システムパラメータ編集においては複数の工程や機能画面を参照しながら編集する際に効果が顕著に現れる。
［第２の実施形態］
第１の実施形態はシステムパラメータを効率良く編集する手段であるのに対して、第２の実施形態としてレシピパラメータを効率良く編集する手段について以下に説明する。

図７は、図１のディスプレイ102に表示される編集ツールとしての、外部メモリ322に格納される露光装置のレシピをデバイス単位で編集するレイヤエディタ700を示す図である。

このレイヤエディタ700は、レシピ一覧表702、編集の保存ボタン707、パラメータ編集ボタン708、パラメータ複製ボタン709、パラメータ貼り付けボタン710、編集キャンセルボタン711から構成される。レシピ一覧表702は、デバイスに含まれるレシピを一覧表示するものである。レシピ一覧表702の一行毎がデバイスの１レイヤに対するレシピを表しており、レイヤの階層順に従ってレシピ一覧が表示されている。レシピ一覧表702の一行には、レイヤに対するレシピパラメータである、デバイスの階層順を表す番号703と、レシピ名称704と、その他のパラメータが表示される。レシピ一覧表において、レシピに含まれるパラメータが多い場合には、レシピ一覧表701を複数に分割し、タブ701によりレシピ一覧表702の表示部分を切り替えることができる。このようにデバイスのレシピを階層毎に一覧表示することにより設定内容を容易に把握できる。

レシピのパラメータにおいては、レシピを特徴付けるパラメータセットがある。また、このパラメータセットは、デバイス内で共通な値となる場合が多い。このデバイス間で共通なパラメータセットのことをテンプレートと定義し、テンプレートをレシピに設定できるようにする。テンプレートを用いることにより、複数のレシピに跨って、複数パラメータを同値に設定することが可能となる。

レシピ一覧表702に表示されるレイアウト項目705は、レシピで設定しているショットレイアウトのテンプレートを表示している。ショットレイアウトは、露光ショットのサイズや、配置情報などの複数のパラメータから形成されるものであり、このパラメータのまとまりがレイアウトを特徴付けるテンプレートである。

図８は、レシピへ設定するレイアウトテンプレートの選択肢を一覧表示するレイアウトテンプレート選択画面800を表す図である。レイアウトテンプレート一覧表802に、選択できるレイアウトテンプレートが表示される。個々のレイアウトテンプレートは、レイアウト名称803をキー項目として、ステップサイズや、ショットの配置情報など複数のパラメータからなり、レイアウトを形成している。レイアウトビューワ801では、レイアウトテンプレート一覧表802で選択したレイアウトのイメージを表示している。

図７のレシピ一覧表702のレイアウトテンプレート項目へ、レイアウトテンプレートを設定する手段は以下の通りである。編集対象とするレシピのレイアウトテンプレート項目705を選択した後に、Editボタン708を押下すると、図８のテンプレート選択画面800を起動する。テンプレート選択画面800のレイアウトテンプレート一覧表802において、選択したテンプレートがレシピへの設定対象として記憶される。そして、OKボタン804を押下することによりレイアウトテンプレート選択画面800が終了し、選択対象であったレイアウトテンプレート項目705へ、レイアウトテンプレート選択画面800で選択したテンプレートが設定される。このように複数のパラメータセットであるテンプレートを設定する手段を用いることで、容易に複数のレシピに対して共通なテンプレートを設定することが可能となり、レシピの編集効率が向上する。

図７のレシピ一覧表702においてテンプレート以外のパラメータ項目706へ、値を設定する手段は以下の通りである。編集対象とするレシピのパラメータ項目706を選択した後に、Editボタン708を押下すと、図９のパラメータ値入力画面900が起動する。パラメータ値入力画面900の値入力エリア901では、入力された値が記憶される。OKボタン902を押下することにより、パラメータ値入力画面900が終了し、選択対象であったパラメータ項目706へ、パラメータ値入力エリア901で入力した値が設定される。

図７のレイヤエディタ700ではレシピ間でパラメータをコピーする手段も有する。レシピ一覧表702の任意のレシピに対する任意の項目を選択することができ、Copyボタン709を押下することにより、選択された項目の値が記憶される。その後、レシピ一覧表702において複製元と同じ列のレシピ項目を選択することにより、複製先として記憶される。その後、Pasteボタン710を押下することにより、複製元の値が複製先へ反映される。このように、デバイスに含まれるレシピパラメータを一覧しながらレシピパラメータを複製できることにより、共通な値を多く有するレシピ間において、各々のレシピの設定状態を比較しながら、容易に共通な値を反映することが可能である。

図１０は、レイアウトテンプレートを編集するレイアウトテンプレート編集画面1000を表す図である。レイアウトテンプレート編集画面1000は、登録されているテンプレートを表示するレイアウトテンプレート一覧表1002、テンプレートのレイアウトイメージを表示するレイアウトビューア1001、テンプレートのパラメータを編集するEditボタン1003、新規にテンプレートを追加するAddボタン1004、登録しているテンプレートを削除する削除ボタン1005、複製元のテンプレートを記憶するCopyボタン1006、複製元のテンプレートを新規テンプレートとして追加するPasteボタン1007、レイアウトテンプレート編集画面1000を終了するCancelボタン1008から構成される。

レイアウトテンプレート一覧表1002では、一行が１テンプレートを表している。レイアウトテンプレート編集画面1000で作成、編集したテンプレートが、レイアウトテンプレート選択画面800に表示される。また、レイアウトテンプレート編集画面1000において、既にレシピで設定されているテンプレートを編集する場合には、テンプレートに対する変更が、レシピに対しても反映される。この時、テンプレートを参照しているレシピ毎に対して、テンプレートの変更確認が行われる。例えば、レシピにはウエハの位置補正を行うために必要なショット数が指定されている。テンプレートの再編集により、ショット数が必要数に達していない場合には、警告画面を起動して注意を促す。このように、テンプレートがレシピにより参照されている場合でも、テンプレートに対する変更を、参照するレシピへまとめて反映することができ、編集が効率的に行える。

上記実施形態によれば、レシピパラメータを効率的に編集でき、編集作業時間を短縮することができる。特に、レシピパラメータの編集においては多層のレイヤからなるデバイスに対してレシピ作成を行う際に効果が顕著に現れる。
［デバイス製造方法］
次に、図１１及び図１２を参照して、上述の露光装置を利用したデバイス製造方法の実施形態を説明する。図１１は、デバイス（ＩＣやＬＳＩなどの半導体チップ、ＬＣＤ、ＣＣＤ等）の製造を説明するためのフローチャートである。ここでは、半導体チップの製造を例に説明する。ステップＳ１（回路設計）では、デバイスの設計を行う。ステップＳ２（マスク製作）では、設計した回路パターンを形成したマスクを製作する。ステップＳ３（ウエハ製造）では、設計した回路パターンを形成したマスクを製作する。ステップＳ４（ウエハプロセス）は前工程と呼ばれ、マスクとウエハを用いてリソグラフィー技術によってウエハ上に実際の回路を形成する。ステップＳ５（組み立て）は後工程と呼ばれ、ステップＳ４によって作成されたウエハを用いて半導体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）、パッケージング工程（チップ封入）等の工程を含む。ステップＳ６（検査）では、ステップＳ５で作成された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テストなどの検査を行う。こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、これが出荷（ステップＳ７）される。

図１２は、図１１に示すステップＳ４のウエハプロセスの詳細なフローチャートである。ステップＳ１１（酸化）では、ウエハの表面を酸化させる。ステップＳ１２（ＣＶＤ）では、ウエハの表面に絶縁膜を形成する。ステップＳ１３（電極形成）では、ウエハ上に電極を蒸着などによって形成する。ステップＳ１４（イオン打ち込み）では、ウエハにイオンを打ち込む。ステップＳ１５（レジスト処理）では、ウエハに感光剤を塗布する。ステップＳ１６（露光）では、露光装置によってマスクの回路パターンをウエハに露光する。ステップ１７（現像）では、露光したウエハを現像する。ステップＳ１８（エッチング）では、現像したレジスト像以外の部分を削り取る。ステップＳ１９（レジスト剥離）では、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除く。これらのステップを繰り返し行うことによってウエハ上に多重に回路パターンが形成される。

上述した露光装置と同様の効果を奏するデバイス製造方法は、中間及び最終結果物であるデバイス自体をも対象とし、また、このようなデバイスは、ＬＳＩやＶＬＳＩなどの半導体チップ、ＣＣＤ、ＬＣＤ、磁気センサー、薄膜磁気ヘッドなどを含む。

本発明の一実施形態に係る半導体露光装置の外観斜視図である。 図１の装置の内部構造を示す図である。 図１の装置の電気回路構成を示すブロック図である。 図１の装置に用いられるシステムパラメータの構成を示す概念図である。 図１の装置におけるシステムパラメータエディタの表示例を示す図である。 オペレータ権限により編集不可の工程がある場合のシステムパラメータエディタを示す図である。 図１の装置におけるレシピパラメータエディタの表示例を示す図である。 レシピパラメータに設定するテンプレートの選択画面の表示例を表す図である。 レシピパラメータへの値の入力画面の表示例を示す図である。 テンプレートの編集画面の表示構成を表す図である。 本実施形態の露光装置を用いたデバイス製造方法を説明するフローチャートである。 図１１に示すステップＳ４の詳細なフローチャートである。

符号の説明

１０１ 温調チャンバ
１０２ ＥＷＳ用ディスプレイ装置（ディスプレイ）
１０３ 操作パネル
１０４ ＥＷＳ用キーボード
１０５ モニタＴＶ
１０６ ＥＷＳ本体
１０７ ＯＮ−ＯＦＦスイッチ
１０８ 非常停止スイッチ
１０９ 各種スイッチ、マウス等
２０２ レチクル
２０３ ウエハ
２０４ 光源装置
２０５ 照明光学系
２０６ 投影レンズ
２０７ レチクルステージ
２１３ フィルターボックス
３２１ ＣＰＵ本体
３３０ コンソールユニット
３３１ コンソールＣＰＵ
３３２ 外部メモリ

Claims (13)

1. 原版のパターンを基板に露光する際の装置に関する情報をパラメータにより設定する露光装置であって、
   前記パラメータを記憶する記憶手段と、
   前記パラメータを提示する提示手段と、
   前記記憶手段に記憶されたパラメータを編集する編集手段とを備え、
   前記情報は、前記情報の類別に基づいて上位となる複数の第１の情報要素と、当該第１の情報の下位となる第２の情報要素との階層構造とされ、
   前記編集手段は、前記第１の情報要素と第２の情報要素との間を任意に移動し選択可能とする選択手段を有し、当該選択手段により選択された情報要素に属するパラメータを編集可能としたことを特徴とする露光装置。
2. 前記提示手段は、前記選択手段により選択された第１の情報要素とそれに属する第２の情報要素のパラメータを表示し、当該パラメータを編集するための編集画面を表示する表示手段を有し、
   前記編集画面は、前記第１の情報要素を選択する選択ツールと、前記第２の情報要素を選択する選択ツールとを有し、当該選択ツールにより選択された第１の情報要素とそれに属する第２の情報要素に含まれるパラメータを表示し、
   前記編集手段は、前記選択ツールにより前記第１の情報要素と第２の情報要素との間を任意に移動可能であることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
3. 前記編集手段は、編集主体に付与された権限により編集が不許可とされた第１の情報要素の選択を不可とすることを特徴とする請求項１又は２に記載の露光装置。
4. 前記提示手段は、前記編集画面において、前記選択手段により選択された第１の情報要素に属する第２の情報要素の選択ツールを識別可能に表示することを特徴とする請求項３に記載の露光装置。
5. 原版のパターンを繰り返して基板に露光する際の基板に関する情報をパラメータにより設定する露光装置であって、
   前記基板に繰り返して露光される各レイヤの露光情報を記憶する記憶手段と、
   前記レイヤの階層順に前記露光情報の一覧を提示する提示手段と、
   前記記憶手段に記憶された露光情報を編集する編集手段とを具備することを特徴とする露光装置。
6. 前記提示手段は、前記露光情報を表示し編集するための編集画面を表示する表示手段を有することを特徴とする請求項５に記載の露光装置。
7. 所望のレイヤの露光情報を複製し、共通する露光情報を持つレイヤに入力する手段を更に備えることを特徴とする請求項５又は６に記載の露光装置。
8. 前記編集手段は、前記各レイヤの露光情報を特徴付けるパラメータのまとまりをテンプレートとして定義し、当該テンプレートに含まれるパラメータを、所望のレイヤの露光情報としてまとめて設定することを特徴とする請求項５乃至７のいずれか１項に記載の露光装置。
9. 前記編集手段は、前記テンプレートを編集する手段を有し、当該テンプレートに含まれるパラメータを複数のレイヤに設定することを特徴とする請求項８に記載の露光装置。
10. 前記編集手段は、前記テンプレートに含まれるパラメータを編集した際に、当該テンプレートの変更を、そのテンプレートを参照するレイヤの露光情報に自動的に反映させることを特徴とする請求項９に記載の露光装置。
11. 原版のパターンを基板に露光する際の装置に関する情報をパラメータにより設定する露光装置におけるパラメータ設定方法であって、
    前記パラメータを提示する提示工程と、
    前記パラメータを編集する編集工程とを備え、
    前記情報は、前記情報の類別に基づいて上位となる複数の第１の情報要素と、当該第１の情報の下位となる第２の情報要素との階層構造とされ、
    前記編集工程は、前記第１の情報要素と第２の情報要素との間を任意に移動し選択可能とする選択工程を有し、当該選択工程により選択された情報要素に属するパラメータを編集可能としたことを特徴とするパラメータ設定方法。
12. 原版のパターンを繰り返して基板に露光する際の基板に関する情報をパラメータにより設定する露光装置におけるパラメータ設定方法であって、
    前記基板に繰り返して露光される各レイヤの露光情報を、前記レイヤの階層順に前記露光情報の一覧を提示する提示工程と、
    前記露光情報を編集する編集工程とを具備することを特徴とするパラメータ設定方法。
13. 請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の露光装置を用いて半導体デバイスを製造することを特徴とするデバイス製造方法。

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