JP2006261508A - プラズマcvd装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 原料ガスが導入される真空容器内に設けられ、成膜対象の平板部材が固定されるホルダーと、平板部材の平板面に対向させて配置されたアンテナとを備え、アンテナは、表面を誘電体で覆った棒状の導電体からなる複数のアンテナ素子を、間隔を開けて、かつ隣り合う各アンテナ素子の一端に高周波電力を供給する基端部を交互に異なる側に配列してなるプラズマCVD装置において、各アンテナ素子の平板部材の平板面に対する角度を可変に支持する支持部を各アンテナ素子の基端部に設けるようにする。
【選択図】 図2
Description
3 電極
5 基板
7 基板ホルダー
9 ガス供給口
11 ガス排気口
13 電送線路
15 高周波電源
17 支持部
Claims (3)
- 原料ガスが導入される真空容器と、該真空容器内に設けられ成膜対象の平板部材が固定されるホルダーと、前記平板部材の平板面に対向させて配置されたアンテナとを備え、前記アンテナは、表面を誘電体で覆った棒状の導電体からなる複数のアンテナ素子を、間隔を開けて、かつ隣り合う前記各アンテナ素子の一端に高周波電力を供給する基端部を交互に異なる側に配列してなるプラズマCVD装置において、
前記アンテナ素子は、該アンテナ素子の先端側に向かって前記平板面との距離が大きく又は小さくなるように配置することを特徴とするプラズマCVD装置。 - 原料ガスが導入される真空容器と、該真空容器内に設けられ成膜対象の平板部材が固定されるホルダーと、前記平板部材の平板面に対向させて配置されたアンテナとを備え、前記アンテナは、表面を誘電体で覆った棒状の導電体からなる複数のアンテナ素子を、間隔を開けて、かつ隣り合う前記各アンテナ素子の一端に高周波電力を供給する基端部を交互に異なる側に配列してなるプラズマCVD装置において、
前記各アンテナ素子の前記平板部材の平板面に対する角度を可変に支持する支持部を前記各アンテナ素子の前記基端部に設けたことを特徴とするプラズマCVD装置。 - 前記アンテナ素子は、前記基端部から延在する該アンテナ素子の長さを、前記アンテナ素子の一端に供給する高周波電力の波長の(2n+1)/4倍(nはゼロ又は正の整数)とすることを特徴とする請求項1又は2に記載のプラズマCVD装置。
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-
2005
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