JP2006245051A - 基板処理装置及び基板処理方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 水洗処理部の処理チャンバにおいて、搬送中の基板Wの表面に対して、基板搬送方向下流側に向けて入口ノズル20からリンス液を供給して、当該水洗処理部よりも前工程の処理槽へのリンス液の逆流を防止しつつ、前工程で供給された処理液からリンス液への置換を行う。そして、このリンス液が供給された後の基板Wの表面に対して、2流体ノズル21から、基板搬送方向に交差する基板幅の全域に亘って、気体と液体とからなる2流体を供給して、基板表面になお残存する前工程の処理液を除去する。
【選択図】 図3
Description
前記処理槽内において前記リンス液供給手段よりも基板搬送方向下流側に設けられ、当該基板搬送方向に交差する基板幅の全域に亘り、前記基板の表面に対して、気体と液体とからなる2流体を供給する2流体供給手段と
を備える基板処理装置である。
前記処理槽内における前記第1工程によるリンス液供給位置よりも基板搬送方向下流側で、当該基板搬送方向に交差する基板幅の全域に亘り、前記基板の表面に対して、気体と液体とからなる2流体を供給する第2工程と
からなる基板処理方法である。
前記処理槽内において前記リンス液供給手段よりも基板搬送方向下流側に設けられ、当該基板搬送方向に交差する基板幅の全域に亘り、前記基板の表面に対して、高圧流体を供給する高圧流体供給手段と
を備える基板処理装置である。
前記処理槽内における前記第1工程によるリンス液供給位置よりも基板搬送方向下流側で、当該基板搬送方向に交差する基板幅の全域に亘り、前記基板の表面に対して、高圧流体を供給する第2工程と
からなる基板処理方法である。
10,10’ 水洗処理部
12 処理チャンバ
20 入口ノズル
21 2流体ノズル
21’ 高圧スプレイノズル
R1,R2 リンス液噴射領域
W 基板
Claims (5)
- 予め定められた方向に搬送される基板の表面に付着した処理液をリンス液に置換する置換処理を行う処理槽内に配置され、当該搬送中の基板の表面に対して、基板搬送方向下流側に向けてリンス液を供給するリンス液供給手段と、
前記処理槽内において前記リンス液供給手段よりも基板搬送方向下流側に設けられ、当該基板搬送方向に交差する基板幅の全域に亘り、前記基板の表面に対して、気体と液体とからなる2流体を供給する2流体供給手段と
を備える基板処理装置。 - 予め定められた方向に搬送される基板の表面に付着した処理液をリンス液に置換する置換処理を行う処理槽内に配置され、当該搬送中の基板の表面に対して、基板搬送方向下流側に向けてリンス液を供給するリンス液供給手段と、
前記処理槽内において前記リンス液供給手段よりも基板搬送方向下流側に設けられ、当該基板搬送方向に交差する基板幅の全域に亘り、前記基板の表面に対して、高圧流体を供給する高圧流体供給手段と
を備える基板処理装置。 - 前記高圧流体供給手段は、前記高圧流体として高圧の液体を供給する請求項2に記載の基板処理装置。
- 予め定められた方向に搬送される基板の表面に付着した処理液をリンス液に置換する置換処理を行う処理槽内で、当該搬送中の基板の表面に対して、基板搬送方向下流側に向けてリンス液を供給する第1工程と、
前記処理槽内における前記第1工程によるリンス液供給位置よりも基板搬送方向下流側で、当該基板搬送方向に交差する基板幅の全域に亘り、前記基板の表面に対して、気体と液体とからなる2流体を供給する第2工程と
からなる基板処理方法。 - 予め定められた方向に搬送される基板の表面に付着した処理液をリンス液に置換する置換処理を行う処理槽内で、当該搬送中の基板の表面に対して、基板搬送方向下流側に向けてリンス液を供給する第1工程と、
前記処理槽内における前記第1工程によるリンス液供給位置よりも基板搬送方向下流側で、当該基板搬送方向に交差する基板幅の全域に亘り、前記基板の表面に対して、高圧流体を供給する第2工程と
からなる基板処理方法。
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