JP2006215289A - 光回路用基板およびこれを用いた光回路基板の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【構成】基板面に平行な面内の少なくとも一部に、複数のコアがクラッドを介して並列に配置されていて、各コア近傍にはコアを特定するための識別符号が形成されていることを特徴とする光回路用基板であり、またこの光回路用基板に光の入出部を形成する工程を含む光回路基板の製造方法である。
【選択図】 図1
Description
本発明において前記コアが形成されていない面に導体層が形成されていることは好ましい態様である。この導体層はパターニングされてないものでもよく、電気配線がパターニングされていてもよい。
光導波路に利用するコアを特定する方法は、次のような方法がある。
図7に示した光導波路の断面において、コア2はクラッド1に上下を挟まれている(図7(a))。この光導波路の入出力部に斜めからレーザを照射して斜めの穴33を形成してコアを切断する(図7(b))。コアの切断面がミラーとなる。ミラーの傾斜角度を45度にすればコアとコアに対して垂直な方向への光路34を得ることができる(図7(c))。レーザを斜めに照射するのではなく、垂直に照射して穴をあけて、その穴に光ピンとなるミラー付の短い光導波路あるいは光ファイバを挿入することにより、光入出部を形成することもできる。
5インチシリコンウェハ上に2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン二無水物(6FDA)と2,2−ビス(トリフルオロメチル)−4, 4' −ジアミノビフェニル(TFDB)から形成されるポリイミドをクラッドとして、6FDAとTFDBおよび6FDAと4, 4' −オキシジアニリン(ODA)の共重合ポリアミド酸溶液から形成されるポリイミドをコアとして、フォトリソグラフィとドライエッチング技術により埋め込み型光導波路フィルムを作製した。このとき、コアパターンは、7cm角の中に一方向に250μmピッチで並列するコアとこれと交差するコアからなる網の目状のコアパターンを形成した。各コア幅35μm、高さは、30μmとした。また、コアの左側40μmの位置に、1mm周期で、端からそれぞれ1から140までパターンに沿って識別のための番号付けをしておいた。これは、コア形成時のマスクパターンにこの番号を付与しておくことでコアのパターニングと同時に形成された。
実施例1と全く同様の光導波路パターンを形成した。
次に、フレキシブル配線板である片面銅箔付きポリイミドフィルムを二枚用意し、光電気混載基板を作成した。フッ素化ポリイミド光導波路の両面に接着層として、熱可塑性ポリイミドをそれぞれ熱処理後10μmの厚みになるようにスピンコートし、熱処理をした。この熱可塑性ポリイミドはオキシジフタル酸ニ無水物(ODPA)とアミノフェノキシベンゼン(APB)からなるポリイミドを用いた。
次に、二枚の片面銅箔付ポリイミドフィルムを熱可塑性ポリイミド膜がコートされた光導波路フィルムのポリイミドフィルム面両側に加熱プレスにより接着固定した。加熱プレスは、プレス温度250℃、プレス圧力2MPa、プレス時間4時間で行った。
実施例1と全く同様の光導波路パターンを形成した。
次に、この光導波路パターンを用いて、光伝送経路の形成を行った。縦1コアにおいて横1コアとの交差部と横2コアとの交差部の中間に光を入射部を設け、横140コアにおける縦140コアとの交差部と縦139コアとの交差部の中間に光の出射部を設けることを設計した。つまり、縦1のコアを伝搬し、縦1コアと横140コアの交差部で面内で90°光路変換し、横140のコアを伝搬させる光路である。まず、KrFエキシマレーザ加工により、縦1コアと横140コアの交差部に図6に示すようにコアを貫通する穴31をKrFエキシマレーザ加工により垂直にあけた。このとき形成されたコア切断面により面内に90度光路変換できる。穴あけの条件は、光導波路上に1辺が200μmの照射径となるようなマスクを用いた。これで1辺が200μmの穴を明けることができる。200パルス/秒で2秒間、光導波路に対して照射した。照射強度は、光導波路上で約0.4mJ/パルスであった。
11:領域、 12:コア、 13:コアの交差部、 21:クラッド、
22:コア、 31:穴、 32:光入出力部、
33:穴、 34:光路、 35:電気配線層、
36:穴、 41:穴、 42:光路、 43:光路
Claims (5)
- 基板面に平行な面内の少なくとも一部に、複数のコアがクラッドを介して並列に配置されていて、各コア近傍にはコアを特定するための識別符号が形成されていることを特徴とする光回路用基板。
- 前記コアにさらにこれと交差する複数の第2のコアが並列に形成されている請求項1に記載の光回路用基板。
- 前記コアが形成されていない面に導体層が形成されていることを特徴とする請求項1または2に記載の光回路用基板。
- 請求項1乃至請求項3の光回路用基板で光導波をすべきコアを特定し、そのコアに導波すべき光を入射または出射する箇所にコアを切断する穴を設けて反射面を形成する工程を含むことを特徴とする光回路基板の製造方法。
- 基板面に平行な面内の少なくとも一部に、複数のコアがクラッドを介して並列に配置されている光回路用基板に、コアに焦点をあわせた検出光をコアを横切る方向に走査させ反射光または透過光強度の変化をカウントすることによりコアを特定し、特定したコアに導波すべき光を入射または出射する箇所にコアを切断する穴を設けて反射面を形成する工程を含むことを特徴とする光回路基板の製造方法。
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