JP2006213576A - 日射遮蔽用ホウ化物微粒子、このホウ化物微粒子を用いた日射遮蔽体形成用分散液および日射遮蔽体、並びに日射遮蔽用ホウ化物微粒子の製造方法および日射遮蔽体形成用分散液の製造方法 - Google Patents
日射遮蔽用ホウ化物微粒子、このホウ化物微粒子を用いた日射遮蔽体形成用分散液および日射遮蔽体、並びに日射遮蔽用ホウ化物微粒子の製造方法および日射遮蔽体形成用分散液の製造方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】 ホウ化物微粒子が、一般式XBm(但し、X元素は、Y、La、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Zr、Ba、SrおよびCaから選択される少なくとも1種以上、4≦m≦6.3)で表され、かつSb、Zn、Mg、Sn、B、Zr、Mo、Al、およびSiから選択される少なくとも1種の添加元素を含有することを特徴とするものであり、上記添加元素によりホウ化物微粒子の自然発火性が除去される。
【選択図】図1
Description
上記日射遮蔽用微粒子が第1乃至5のいずれかの構成に記載の日射遮蔽用ホウ化物微粒子で構成され、かつ、溶媒中に分散されたホウ化物微粒子の分散粒子径が800nm以下であることを特徴とする日射遮蔽体形成用分散液である。
X元素を含む化合物とSb、Zn、Mg、Sn、B、Zr、Mo、Al、およびSiから選択される少なくとも1種の添加元素を含有する化合物との溶液と、アルカリ溶液とを、攪拌しながら反応させて沈殿物を得る工程と、
前記沈殿物を乾燥して、X元素とSb、Zn、Mg、Sn、B、Zr、Mo、Al、およびSiから選択される少なくとも1種の添加元素との水酸化物粒子および/または水和物粒子を得る工程と、
前記X元素とSb、Zn、Mg、Sn、B、Zr、Mo、Al、およびSiから選択される少なくとも1種の添加元素との水酸化物粒子および/または水和物粒子を熱処理して、前記X元素とSb、Zn、Mg、Sn、B、Zr、Mo、Al、およびSiから選択される少なくとも1種の添加元素との酸化物の粒子を得る工程と、
前記X元素とSb、Zn、Mg、Sn、B、Zr、Mo、Al、およびSiから選択される少なくとも1種の添加元素との酸化物の粒子と、B4Cの粒子とを混合し、前記X元素とSb、Zn、Mg、Sn、B、Zr、Mo、Al、およびSiから選択される少なくとも1種の添加元素との酸化物の粒子と、B4Cの粒子との混合物を得る工程と、
前記混合物を、真空または不活性ガス雰囲気下において1600℃未満で熱処理して、Sb、Zn、Mg、Sn、B、Zr、Mo、Al、およびSiから選択される少なくとも1種の添加元素を含有する一般式XBm(4≦m≦6.3)で表される日射遮蔽用ホウ化物微粒子を得る工程と、を具備することを特徴とする日射遮蔽用ホウ化物微粒子の製造方法である。
X元素を含む化合物とSb、Zn、Mg、Sn、B、Zr、Mo、Al、およびSiから選択される少なくとも1種の添加元素を含有する化合物との溶液と、アルカリ溶液とを攪拌しながら反応させて沈殿物を得る工程と、
前記沈殿物を乾燥して、X元素とSb、Zn、Mg、Sn、B、Zr、Mo、Al、およびSiから選択される少なくと1種の添加元素との水酸化物粒子および/または水和物粒子を得る工程と、
前記X元素とSb、Zn、Mg、Sn、B、Zr、Mo、Al、およびSiから選択される少なくとも1種の添加元素との水酸化物および/または水和物粒子と、B4Cの粒子とを混合し、前記X元素とSb、Zn、Mg、Sn、B、Zr、Mo、Al、およびSiから選択される少なくとも1種の添加元素との水酸化物粒子および/または水和物粒子と、B4Cの粒子との混合物を得る工程と、
前記混合物を、真空または不活性ガス雰囲気下において1600℃未満で熱処理して、Sb、Zn、Mg、Sn、B、Zr、Mo、Al、およびSiから選択される少なくとも1種の添加元素を含有する一般式XBm(4≦m≦6.3)で表される日射遮蔽用ホウ化物微粒子を得る工程と、を具備することを特徴とする日射遮蔽用ホウ化物微粒子の製造方法である。
前記X元素と添加元素との水酸化物粒子および/または水和物粒子、または、前記X元素と添加元素との酸化物の粒子と、B4Cの粒子とを混合する際、両者の混合割合を、X元素:ホウ素の原子数比が1:4〜1:6.3となるように混合することを特徴とする日射遮蔽用ホウ化物微粒子の製造方法である。
前記X元素と添加元素との水酸化物粒子および/または水和物粒子、または、前記X元素と添加元素との酸化物の粒子と、B4Cの粒子とを混合する際、両者の混合割合を、X元素:ホウ素の原子数比が概ね1:6となるように混合することを特徴とする日射遮蔽用ホウ化物微粒子の製造方法である。
前記添加元素の含有量は、当該添加元素をAとしたとき、A/(A+XBm)で表される重量比が0.001〜0.5であることを特徴とする日射遮蔽用ホウ化物微粒子の製造方法である。
平均粒径が0.1μm以下である前記X元素と添加元素との水酸化物粒子および/または水和物粒子、または、平均粒子径が20μm以下である前記X元素と添加元素との酸化物の粒子と、平均粒子径が60μm以下である前記B4Cの粒子とを混合することを特徴とする日射遮蔽用ホウ化物微粒子の製造方法である。
当該自然発火性のない日射遮蔽用ホウ化物微粒子は、微粒子化しても大気中に取り出したときに自然発火しないことから作業の安全性に優れ、不活性ガス雰囲気下での取り扱いが不要となることから作業が容易である。
X元素を含む化合物とSb、Zn、Mg、Sn、B、Zr、Mo、Al、およびSiから選択される少なくとも1種の添加元素を含有する化合物との溶液と、アルカリ溶液とを攪拌しながら反応させて沈殿物を得る工程と、
前記沈殿物を乾燥して、X元素とSb、Zn、Mg、Sn、B、Zr、Mo、Al、およびSiから選択される少なくとも1種の添加元素との水酸化物粒子および/または水和物粒子を得る工程と、
前記X元素とSb、Zn、Mg、Sn、B、Zr、Mo、Al、およびSiから選択される少なくとも1種の添加元素との水酸化物粒子および/または水和物粒子を熱処理して、前記X元素とSb、Zn、Mg、Sn、B、Zr、Mo、Al、およびSiから選択される少なくとも1種の添加元素との酸化物の粒子を得る工程と、
前記X元素とSb、Zn、Mg、Sn、B、Zr、Mo、Al、およびSiから選択される少なくとも1種の添加元素との酸化物の粒子と、B4Cの粒子とを混合し、前記X元素とSb、Zn、Mg、Sn、B、Zr、Mo、Al、およびSiから選択される少なくとも1種の添加元素との酸化物の粒子と、B4Cの粒子との混合物を得る工程と、
前記混合物を、真空または不活性ガス雰囲気下において1600℃未満で熱処理して、Sb、Zn、Mg、Sn、B、Zr、Mo、Al、およびSiから選択される少なくとも1種の添加元素を含有する一般式XBm(4≦m≦6.3)で表される自然発火性のない日射遮蔽用ホウ化物微粒子を得る工程と、を具備することを特徴とする自然発火性のない日射遮蔽用ホウ化物微粒子の製造方法である。
X元素を含む化合物とSb、Zn、Mg、Sn、B、Zr、Mo、Al、およびSiから選択される少なくと1種の添加元素を含有する化合物との溶液と、アルカリ溶液とを攪拌しながら反応させて沈殿物を得る工程と、
前記沈殿物を乾燥して、X元素とSb、Zn、Mg、Sn、B、Zr、Mo、Al、およびSiから選択される少なくと1種の添加元素との水酸化物粒子および/または水和物粒子を得る工程と、
前記X元素とSb、Zn、Mg、Sn、B、Zr、Mo、Al、およびSiから選択される少なくと1種の添加元素との水酸化物および/または水和物粒子と、B4Cの粒子とを混合し、前記X元素とSb、Zn、Mg、Sn、B、Zr、Mo、Al、およびSiから選択される少なくと1種の添加元素との水酸化物粒子および/または水和物粒子と、B4Cの粒子との混合物を得る工程と、
前記混合物を、真空または不活性ガス雰囲気下において1600℃未満で熱処理して、Sb、Zn、Mg、Sn、B、Zr、Mo、Al、およびSiから選択される少なくとも1種の添加元素を含有する一般式XBm(4≦m≦6.3)で表される自然発火性のない日射遮蔽用ホウ化物微粒子を得る工程と、を具備することを特徴とする自然発火性のない日射遮蔽用ホウ化物微粒子の製造方法である。
図1は、本発明に係るSb、Zn、Mg、Sn、B、Zr、Mo、Al、およびSiから選択される少なくとも1種の添加元素を含有する、一般式XBmで表される自然発火性のない日射遮蔽用ホウ化物微粒子の製造工程、および日射遮蔽体形成用分散液の製造工程を示すフロ−図である。
ホウ化物微粒子(6)は一般式XBmで表され、XB4、XB6、XB12等で表されるホウ化物が挙げられるが、日射遮蔽体の材料としては、4≦m<6.3であることが好ましい。すなわち、ホウ化物微粒子としては、上記ホウ化物のうちXB4、XB6が主体となっていることが好ましく、さらに一部XB12を含んでいても良い。ここで、mとは、得られたホウ化物微粒子(6)を含む粉体を化学分析し、X元素の1原子に対するBの原子数比を示すものである。
また、日射遮蔽体形成用分散液(10)中におけるホウ化物微粒子(6)の分散安定性を一層向上させるためには、各種の界面活性剤、カップリング剤などの添加も勿論可能である。
[1]ホウ化物微粒子
ホウ化物微粒子としては、一般式XBm(但し、X元素は、Y、La、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Zr、Ba、SrおよびCaから選択される少なくとも1種以上、4≦m≦6.3)で表され、かつ、Sb、Zn、Mg、Sn、B、Zr、Mo、Al、およびSiから選択される少なくとも1種の添加元素を含有することを特徴としている。
以上のことから、X元素とBの原子数比が1:4〜1:6.3、さらに好ましくは、概ね1:6となるように均一混合物とすることが好ましい。
d=6/ρ×SA(ここで、dは平均1次粒子径、ρはホウ化物密度、SAは比表面積である)。
日射遮蔽体形成用分散液は、溶媒と、この溶媒中に分散された自然発火性のない日射遮蔽用ホウ化物微粒子で構成される。そして、上記溶媒中に分散される上記日射遮蔽用ホウ化物微粒子の分散粒子径が800nm以下まで十分細かく、かつ、均一に分散した日射遮蔽体形成用分散液を適用することにより、優れた日射遮蔽特性を有する日射遮蔽体を得ることができる。
日射遮蔽体は、上述したように日射遮蔽体形成用分散液を適宜透明基板(ガラスまたはプラスチックなど)上に塗布して皮膜としたり、あるいは、上記日射遮蔽体形成用分散液を日射遮蔽体形成用母材に練り込んで板状、板状、シ−ト状もしくはフィルム状などに製造される。
尚、以下の各実施例および比較例において適用している微粒子e〜lの粉体色(標準光源D65、10。視野)や、各微粒子が分散された分散液を用いて得られた日射遮蔽体A〜Lの光学特性については、日立製作所(株)製の分光光度計U−4000を用いて測定した。また、日射遮蔽特性については、各日射遮蔽体の透過プロファイルから透過率の極大値P、極小値Bおよび可視光透過率VLTを求めた。また分散粒子径は、大塚電子(株)製のELS−800を用いて測定した。
10%La(NO3)36H2O水溶液424.8gと10%Zn(NO3)26H2O水溶液109.6gの混合溶液に、室温で攪拌しながら15%NH4OH溶液をpH8.6まで25分かけて滴下して沈殿を生成させ、滴下後さらに10分間攪拌を継続した。
次に、純水を用い、デカンテ−ションにて生成した沈殿の洗浄を行い、上澄み液の電導度が1mS/cm以下になるまで、これを繰り返した。洗浄後の沈殿を105℃で乾燥し、大気中600℃で1時間焼成した。
得られたLaおよびZnの水酸化物と、平均粒子径が約22μmのB4C粒子とを、La元素とB元素との原子数比が1:6となるよう混合して均一混合物とした後、この均一混合物を真空雰囲気下(約0.02Pa)、1350℃で3時間焼成してZn含有LaB6粒子を得た。
このZn含有LaB6粒子a13重量%、イソプロピルアルコ−ル87重量%、0.3mmφZrO2ビ−ズと共に容器に充填し、4時間のビ−ズミル分散処理を施してZn含有LaB6粒子分散液を調製した。該分散液からイソプロピルアルコ−ルを真空下80℃の条件で除去した後、Zn含有LaB6微粒子を大気中に取り出したが自然発火せず安定であった。これを、図2中に○印で表した。
次に、バ−NO.24(JIS K5400)のバ−コ−タ−を用いて、膜厚50μmのPET(ポリエチレンテレフタレ−ト)フィルム上へ上記日射遮蔽体形成用分散液(A液)を塗布した後、70℃、1分の条件で高圧水銀ランプを照射し、実施例1に係る日射遮蔽体Aを得た。
大気中600℃で1時間の焼成をしなかった以外は、実施例1と同様にして実施例2に係るZn含有LaB6粒子b、Zn含有LaB6分散液Bおよび日射遮蔽体Bを得た。
分散液Bから、イソプロピルアルコ−ルを真空下80℃の条件で除去した後、LaB6粒子を大気中に取り出したが自然発火せず安定であった。これを、図2中に○印で表した。
図2に示すように、実施例1と同様に、日射遮蔽体Bの可視光透過率と日射遮蔽特性とを測定した結果、日射遮蔽体Bは、可視光透過率69.1%、透過率の極大値Pと極小値Bとの差51.6ポイントの値を得た。
実施例1において、La(NO3)36H2Oの替わりにCe(NO3)36H2Oを用い、10%Ce(NO3)36H2O12.36kg、10%Zn(NO3)26H2O水溶液1.02kg、15%NH4OH溶液4.91kgを用いた以外は、実施例1と同様にして実施例3に係るZn含有LaB6粒子c、Zn含有LaB6分散液Cおよび日射遮蔽体Cを得た。分散液C内におけるZn含有LaB6粒子cの分散粒子径は、85nmであった。
分散液Cから、イソプロピルアルコ−ルを真空下80℃の条件で除去した後、LaB6粒子を大気中に取り出したが自然発火せず安定であった。これを、図2中に○印で表した。
図2に示すように、実施例1と同様に、日射遮蔽体Cの可視光透過率と日射遮蔽特性とを測定した結果、日射遮蔽体Cは、可視光透過率69.5%、透過率の極大値Pと極小値Bとの差は43.7ポイントの値を得た。
実施例1において、Zn(OH)2を用いない以外は実施例1と同様にして比較例1に係るLaB6粒子d、LaB6分散液Dおよび日射遮蔽体Dを得た。分散液D内におけるLaB6粒子dの分散粒子径は、85nmであった。
分散液Dから、イソプロピルアルコ−ルを真空下80℃の条件で除去した後、LaB6粒子を大気中に取り出した途端に自然発火した。これを、図2中に×印で表した。
図2に示すように、実施例1と同様に、日射遮蔽体Dの可視光透過率と日射遮蔽特性とを測定した結果、日射遮蔽体Dは、可視光透過率51.5%、透過率の極大値Pと極小値Bとの差48.8ポイントの値を得た。
実施例1〜3および比較例1の結果(図2)から明らかなように、実施例1〜3に係るすべての粒子は、大気中に取り出しても自然発火せず、また日射遮蔽体の透過率の極大値Pと極小値Bとの差がすべて40ポイント以上であった。一方、比較例1の日射遮蔽体Dの透過率の極大値Pと極小値Bとの差は40ポイント以上であったが、LaB6粒子dは大気中に取り出した途端に自然発火した。
以上のことより、本実施例に係る製造方法により得られた日射遮蔽用ホウ化物微粒子は自然発火せず、該粒子から調製した日射遮蔽体は、透過率の極大値Pと極小値Bとの差が40ポイント以上であるという優れた光学特性を有していることが判明した。
La(OH)3540.5gとZn(OH)231.6gを十分混合した後、大気中600℃で1時間焼成した。得られたLaおよびZnの酸化物と、平均粒子径が約22μmのB4C粒子とを、La元素とB元素との原子数比が1:6となるよう混合して均一混合物とした後、この均一混合物を真空雰囲気下(約0.02Pa)、1400℃で2時間焼成して3.5%Zn含有LaB6粒子eを得た。そして、このZn含有LaB6粒子eのL*a*b*表色系における粉体色を測定し、図3中に記した。このZn含有LaB6粒子e13重量%、イソプロピルアルコ−ル87重量%、0.3mmφZrO2ビ−ズと共に容器に充填し、4時間のビ−ズミル分散処理を施してZn含有LaB6粒子分散液を調製した。
該分散液からイソプロピルアルコ−ルを真空下80℃の条件で除去した後、Zn含有LaB6微粒子を大気中に取り出したが自然発火せず安定であった。これを、図3中に○印で表した。
次に、バ−NO.8(JIS K5400)のバ−コ−タ−を用いて厚さ50μmのPET(ポリエチレンテレフタレ−ト)フィルム上へ上記日射遮蔽体形成用分散液(E液)を塗布した後、70℃、1分の条件で高圧水銀ランプを照射し、実施例1に係る日射遮蔽体Eを得た。
Zn(OH)2を66.8gとした以外は、実施例4と同様にしてZn含有LaB6粒子f、Zn含有LaB6分散液Fおよび実施例5に係る日射遮蔽体Fを得た。
また、Zn(OH)2の替わりにAl(OH)360.1gを用いた以外は、実施例4と同様にしてAl含有LaB6粒子g、Al含有LaB6分散液Gおよび実施例6に係る日射遮蔽体Gを得た。
Zn(OH)2の替わりにMg(OH)2を49.9gとした以外は、実施例4と同様にしてMg含有LaB6粒子h、Mg含有LaB6分散液Hおよび実施例7に係る日射遮蔽体Hを得た。
なお、分散液F液〜H液中のZrO2含有量は137%であった。
各分散液F〜Hから、イソプロピルアルコ−ルを真空下80℃の条件で除去した後、Zn含有LaB6粒子f、Al含有LaB6粒子gおよびMg含有LaB6粒子hを大気中に取り出したがすべて自然発火せず安定であった。これを、図3中に○印で表した。
実施例4におけるLa(OH)3の替わりにCe(OH)4 30.9gを用いた以外は、実施例4と同様にしてZn含有CeB6分散液I(実施例8)を得た。分散液I内におけるZn含有CeB6粒子iの分散粒子径は、85nmであった。また、Zn含有CeB6粒子iの平均1次粒子径は38nmであった。そして、このZn含有CeB6粒子iのL*a*b*表色系における粉体色を測定し、図3中に記した。なお、分散液I液中のZrO2含有量は139%であった。
分散液Iから、イソプロピルアルコ−ルを真空下80℃の条件で除去した後、Zn含有CeB6粒子iを大気中に取り出したが自然発火せず安定であった。これを、図3中に○印で表した。
そして、実施例4と同様に、日射遮蔽体Iの可視光透過率と日射遮蔽特性とを測定した結果、日射遮蔽体Iは、可視光透過率71.9%、透過率の極大値Pと極小値Bとの差43.9ポイントの値を得た。
実施例4のZn含有LaB6粒子e20重量%、高分子系分散剤5重量%、トルエン75重量%を、0.3mmφZrO2ビ−ズを入れたペイントシェ−カ−で24時間分散処理することにより、平均分散粒子径82nmのZn含有LaB6分散液Jを調製した。なお、分散液J液中のZrO2含有量は137%であった。
次に、得られた分散液Jをポリビニルブチラ−ルに添加し、そこへ可塑剤としてトリエチレングリコール−ジ−2−エチルブチレートを加え、Zn含有LaB6粒子eの濃度が0.02重量%、ポリビニルブチラール濃度が71.1重量%となるように中間膜用組成物を調製した。調製された該組成物をロールで混練して、0.76mm厚のシート状に成形し中間膜を作製した。作製された中間膜を、100mm×100mm×約2mm厚の2枚のグリーンガラス基板の間に挟み込み、80℃に加熱して仮接着した後、140℃、14kg/cm2のオートクレーブにより本接着を行い、日射遮蔽体Jを作製した。
そして、実施例4と同様に、日射遮蔽体Jの可視光透過率と日射遮蔽特性とを測定した結果、日射遮蔽体Jは、可視光透過率73.0%、透過率の極大値Pと極小値Bとの差50.9ポイントの値を得た。
実施例4のZn含有LaB6分散液(E液)をポリカ−ボネ−ト樹脂にLaB6濃度が0.005重量%となるように添加し、ブレンダ−、二軸押し出し機で均一に溶融混合した後、Tダイを用いて厚さ2mmに押し出し成形し、LaB6微粒子が樹脂全体に均一に分散した日射遮蔽体(熱線遮蔽ポリカ−ボネ−トシ−ト)を得た。該日射遮蔽体と、もう一方のグリーンガラス基板との間に0.76mm厚の中間膜用ポリビニルブチラ−ルシ−トで挟み込んだ以外は、実施例4と同様にして日射遮蔽体Kを作製した。
そして、実施例4と同様に、日射遮蔽体Kの可視光透過率と日射遮蔽特性とを測定した結果、日射遮蔽体Kは、可視光透過率74.0%、透過率の極大値Pと極小値Bとの差51.3ポイントの値を得た。
実施例4におけるZn(OH)2を添加しない以外は、実施例4と同様にしてLaB6分散液Lを調製した。そして、このLaB6粒子lのL*a*b*表色系における粉体色を測定し、図3中に記した。
分散液L内におけるLaB6粒子lの分散粒子径は、85nmであった。
分散液Lから、イソプロピルアルコ−ルを真空下80℃の条件で除去した後、LaB6粒子を大気中に取り出した途端に自然発火した。これを、図3中に×印で表した。
そして、実施例4と同様に、日射遮蔽体Lの可視光透過率と日射遮蔽特性とを測定した結果、日射遮蔽体Lは、可視光透過率71.7%、透過率の極大値Pと極小値Bとの差49.0ポイントの値を得た。
図3に示した結果から明らかなように、実施例4〜10に係るすべての粒子は、大気中に取り出しても自然発火せず、また日射遮蔽体の透過率の極大値Pと極小値Bとの差がすべて40ポイント以上であった。
一方、比較例2の日射遮蔽体Lの透過率の極大値Pと極小値Bとの差は40ポイント以上であったが、LaB6粒子lは大気中に取り出した途端に自然発火した。
以上のことより、本発明に係るホウ化物微粒子は自然発火せず、該粒子から調製した日射遮蔽体は、透過率の極大値Pと極小値Bとの差が40ポイント以上であるという優れた光学特性を有していることが判明した。
Claims (20)
- ホウ化物微粒子が、一般式XBm(但し、X元素は、Y、La、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Zr、Ba、SrおよびCaから選択される少なくとも1種以上、4≦m≦6.3)で表され、かつSb、Zn、Mg、Sn、B、Zr、Mo、Al、およびSiから選択される少なくとも1種の添加元素を含有することを特徴とする日射遮蔽用ホウ化物微粒子。
- 上記ホウ化物微粒子が、XB6(但し、X元素は、Y、La、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Zr、Ba、SrおよびCaから選択される少なくとも1種以上)で表され、かつ、Sb、Zn、Mg、Sn、B、Zr、Mo、Al、およびSiから選択される少なくとも1種の添加元素を含有する六ホウ化物微粒子であることを特徴とする請求項1に記載の日射遮蔽用ホウ化物微粒子。
- 上記添加元素の含有量は、当該添加元素をAとしたとき、A/(A+XBm)またはA/(A+XB6)で表される重量比が0.001〜0.5であることを特徴とする請求項1または2に記載の日射遮蔽用ホウ化物微粒子。
- 平均1次粒子径が400nm以下で、かつ、L*a*b*表色系における粉体色L*が30〜60、a*が−5〜10、b*が−10〜2であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の日射遮蔽用ホウ化物微粒子。
- 上記日射遮蔽用ホウ化物微粒子の表面が、Si、Ti、Zr、Alから選択された少なくとも1種の元素を含有する酸化物で被覆されていることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の日射遮蔽用ホウ化物微粒子。
- 溶媒とこの溶媒中に分散された日射遮蔽用微粒子を含有し、日射遮蔽体の形成に適用される日射遮蔽体形成用分散液において、
上記日射遮蔽用微粒子が請求項1乃至5のいずれかに記載の日射遮蔽用ホウ化物微粒子で構成され、かつ、溶媒中に分散されたホウ化物微粒子の分散粒子径が800nm以下であることを特徴とする日射遮蔽体形成用分散液。 - ZrO2、TiO2、Si3N4、SiC、SiO2、Al2O3、Y2O3から選択された少なくとも1種の化合物を含有することを特徴とする請求項6記載の日射遮蔽体形成用分散液。
- 請求項6または7に記載の日射遮蔽体形成用分散液を用いて形成されたことを特徴とする日射遮蔽体。
- 透明基材上に、請求項6または7に記載の日射遮蔽体形成用分散液を塗布して形成されたことを特徴とする日射遮蔽体。
- 請求項1乃至5のいずれかに記載の日射遮蔽用ホウ化物微粒子、若しくは請求項6または7に記載の日射遮蔽体形成用分散液を、日射遮蔽体形成用母材に練り込み、板状、シ−ト状、またはフィルム状に成形したことを特徴とする日射遮蔽体。
- 上記日射遮蔽体形成用母材が、ポリエチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリビニルアルコ−ル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、エチレン酢酸ビニル共重合体、ポリエステル樹脂、ポリエチレンテレフタレ−ト樹脂、フッ素樹脂、ポリカ−ボネ−ト樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルブチラ−ル樹脂から選択された少なくとも1種以上であることを特徴とする請求項10に記載の日射遮蔽体。
- 請求項9に記載の日射遮蔽体を挟み込むように他の基材を前記日射遮蔽体に積層させるか、または請求項10または11に記載の日射遮蔽体を他の基材によって挟み込んで積層させたことを特徴とする日射遮蔽体。
- Sb、Zn、Mg、Sn、B、Zr、Mo、Al、およびSiから選択される少なくとも1種の添加元素を含有する一般式XBm(但し、X元素は、Y、La、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Zr、Ba、SrおよびCaから選択される少なくとも1種以上、4≦m≦6.3)で表される日射遮蔽用ホウ化物微粒子の製造方法であって、
X元素を含む化合物とSb、Zn、Mg、Sn、B、Zr、Mo、Al、およびSiから選択される少なくとも1種の添加元素を含有する化合物との溶液と、アルカリ溶液とを攪拌しながら反応させて沈殿物を得る工程と、
前記沈殿物を乾燥して、X元素とSb、Zn、Mg、Sn、B、Zr、Mo、Al、およびSiから選択される少なくとも1種の添加元素との水酸化物粒子および/または水和物粒子を得る工程と、
前記X元素とSb、Zn、Mg、Sn、B、Zr、Mo、Al、およびSiから選択される少なくとも1種の添加元素との水酸化物粒子および/または水和物粒子を熱処理して、前記X元素とSb、Zn、Mg、Sn、B、Zr、Mo、Al、およびSiから選択される少なくとも1種の添加元素との酸化物の粒子を得る工程と、
前記X元素とSb、Zn、Mg、Sn、B、Zr、Mo、Al、およびSiから選択される少なくとも1種の添加元素との酸化物の粒子と、B4Cの粒子とを混合し、前記X元素とSb、Zn、Mg、Sn、B、Zr、Mo、Al、およびSiから選択される少なくとも1種の添加元素との酸化物の粒子と、B4Cの粒子との混合物を得る工程と、
前記混合物を、真空または不活性ガス雰囲気下において1600℃未満で熱処理して、Sb、Zn、Mg、Sn、B、Zr、Mo、Al、およびSiから選択される少なくとも1種の添加元素を含有する一般式XBm(4≦m≦6.3)で表される日射遮蔽用ホウ化物微粒子を得る工程と、を具備することを特徴とする日射遮蔽用ホウ化物微粒子の製造方法。 - Sb、Zn、Mg、Sn、B、Zr、Mo、Al、およびSiから選択される少なくとも1種の添加元素を含有する一般式XBm(但し、X元素は、Y、La、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Zr、Ba、SrおよびCaから選択される少なくとも1種以上、4≦m≦6.3)で表される日射遮蔽用ホウ化物微粒子の製造方法であって、
X元素を含む化合物とSb、Zn、Mg、Sn、B、Zr、Mo、Al、およびSiから選択される少なくとも1種の添加元素を含有する化合物との溶液と、アルカリ溶液とを攪拌しながら反応させて沈殿物を得る工程と、
前記沈殿物を乾燥して、X元素とSb、Zn、Mg、Sn、B、Zr、Mo、Al、およびSiから選択される少なくと1種の添加元素との水酸化物粒子および/または水和物粒子を得る工程と、
前記X元素とSb、Zn、Mg、Sn、B、Zr、Mo、Al、およびSiから選択される少なくとも1種の添加元素との水酸化物および/または水和物粒子と、B4Cの粒子とを混合し、前記X元素とSb、Zn、Mg、Sn、B、Zr、Mo、Al、およびSiから選択される少なくとも1種の添加元素との水酸化物粒子および/または水和物粒子と、B4Cの粒子との混合物を得る工程と、
前記混合物を、真空または不活性ガス雰囲気下において1600℃未満で熱処理して、Sb、Zn、Mg、Sn、B、Zr、Mo、Al、およびSiから選択される少なくとも1種の添加元素を含有する一般式XBm(4≦m≦6.3)で表される日射遮蔽用ホウ化物微粒子を得る工程と、を具備することを特徴とする日射遮蔽用ホウ化物微粒子の製造方法。 - 前記X元素と添加元素との水酸化物粒子および/または水和物粒子、または、前記X元素と添加元素との酸化物の粒子と、B4Cの粒子とを混合する際、両者の混合割合を、X元素:ホウ素の原子数比が1:4〜1:6.3となるように混合することを特徴とする請求項13または14に記載の日射遮蔽用ホウ化物微粒子の製造方法。
- 前記X元素と添加元素との水酸化物粒子および/または水和物粒子、または、前記X元素と添加元素との酸化物の粒子と、B4Cの粒子とを混合する際、両者の混合割合を、X元素:ホウ素の原子数比が概ね1:6となるように混合することを特徴とする請求項13または14に記載の日射遮蔽用ホウ化物微粒子の製造方法。
- 前記添加元素の含有量は、当該添加元素をAとしたとき、A/(A+XBm)で表される重量比が0.001〜0.5であることを特徴とする請求項13乃至16のいずれかに記載の日射遮蔽用ホウ化物微粒子の製造方法。
- 平均粒径が0.1μm以下である前記X元素と添加元素との水酸化物粒子および/または水和物粒子、または、平均粒子径が20μm以下である前記X元素と添加元素との酸化物の粒子と、平均粒子径が60μm以下である前記B4Cの粒子とを混合することを特徴とする請求項13乃至17のいずれかに記載の日射遮蔽用ホウ化物微粒子の製造方法。
- 請求項13乃至18のいずれかに記載の日射遮蔽用ホウ化物微粒子の製造方法によって製造された、日射遮蔽用ホウ化物微粒子を、ジェット気流中で相互に衝突させて粉砕することを特徴とする日射遮蔽用ホウ化物微粒子の製造方法。
- 請求項13乃至19のいずれかに記載の日射遮蔽用ホウ化物微粒子と溶媒とを混合したスラリ−を、ビ−ズとともに媒体攪拌ミルに投入して、さらに粉砕し分散処理することを特徴とする日射遮蔽体形成用分散液の製造方法。
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