JP4737419B2 - ホウ化物粒子とその製造方法、および当該ホウ化物粒子を用いたホウ化物微粒子分散液並びに日射遮蔽体 - Google Patents
ホウ化物粒子とその製造方法、および当該ホウ化物粒子を用いたホウ化物微粒子分散液並びに日射遮蔽体 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4737419B2 JP4737419B2 JP2006012678A JP2006012678A JP4737419B2 JP 4737419 B2 JP4737419 B2 JP 4737419B2 JP 2006012678 A JP2006012678 A JP 2006012678A JP 2006012678 A JP2006012678 A JP 2006012678A JP 4737419 B2 JP4737419 B2 JP 4737419B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- particles
- boride
- less
- hydrate
- fine
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Pigments, Carbon Blacks, Or Wood Stains (AREA)
Description
六ホウ化物粒子は、製造条件により灰黒色、茶黒色、緑黒色などに着色した粉体であるが、粉体の粒子径を可視光波長に比べて十分小さくし、中間膜中あるいは日射遮蔽体中に均一に分散すると、赤外光遮蔽能を十分強く保持させながら可視光透過性を確保することができる。
この理由は、詳細には判明していないが、これら六ホウ化物は、粒子中の自由電子の量が多く、微粒子内部および表面の自由電子によるバンド間間接遷移の吸収エネルギーが、丁度可視〜近赤外領域の付近にあるために、この波長領域の熱線が選択的に反射・吸収されるものと考えられる。
さらに加えて、六ホウ化物粒子は可視光領域にも吸収を有するため、日射遮蔽体への添加量を制御することにより、その日射遮蔽体の可視光領域の吸収を自由に制御することができ、明るさ調整やプライバシー保護などの付加機能を持たせることも可能となる。
一般式XBm(但し、Xは、アルカリ土類元素、またはイットリウム(Y)を含む希土類元素から選ばれた金属元素、Bはホウ素、4≦m≦6.3)で表されるホウ化物粒子であって、
A(但し、Aは、Zn、In、Sn、Ga、Ge、Cd、Tl、PbおよびBiから選択される少なくとも1種の金属元素)を含み、
当該ホウ化物粒子中におけるXの原子数をNX、Aの原子数をNAとしたとき、0.0001≦NA/(NA+NX)≦0.5であることを特徴とするホウ化物粒子である。
第1の発明に記載のホウ化物粒子の微粒子が溶媒中に分散していることを特徴とする日射遮蔽体形成用ホウ化物微粒子分散液である。
前記ホウ化物の微粒子の平均分散粒子径が800nm以下であることを特徴とする第2の発明に記載の日射遮蔽体形成用ホウ化物微粒子分散液である。
前記ホウ化物の微粒子の平均分散粒子径が100nm以下であることを特徴とする第2の発明に記載の日射遮蔽体形成用ホウ化物微粒子分散液である。
第1の発明に記載のホウ化物粒子を含み、当該ホウ化物粒子は平均分散粒子径が800nm以下のホウ化物微粒子であることを特徴とする日射遮蔽体である。
A(但し、Aは、Zn、In、Sn、Ga、Ge、Cd、Tl、PbおよびBiから選択される少なくとも1種の金属元素)を含み、一般式XBm(但し、Xは、アルカリ土類元素、またはイットリウム(Y)を含む希土類元素から選ばれた金属元素、Bはホウ素、4≦m≦6.3)で表されるホウ化物粒子の製造方法であって、
Aを含む化合物とXを含む化合物との溶液と、アルカリ溶液とを、攪拌しながら反応させて沈殿物を得る工程と、
前記沈殿物を乾燥して、AとXとの、水酸化物粒子および/または水和物粒子を得る工程と、
前記AとXとの、水酸化物粒子および/または水和物粒子を熱処理して、前記AとXとの酸化物の粒子を得る工程と、
前記AとXとの酸化物の粒子と、B4C(但し、Cは炭素)の粒子とを混合し、前記AとXとの酸化物の粒子と、B4Cの粒子との混合物を得る工程と、
前記混合物を、真空または不活性ガス雰囲気下において1600℃未満で熱処理して、Aを含む一般式XBmで表されるホウ化物粒子を得る工程と、を具備することを特徴とするホウ化物粒子の製造方法である。
A(但し、Aは、Zn、In、Sn、Ga、Ge、Cd、Tl、PbおよびBiから選択される少なくとも1種の金属元素)を含み、一般式XBm(但し、Xは、アルカリ土類元素、またはイットリウム(Y)を含む希土類元素から選ばれた金属元素、Bはホウ素、4≦m≦6.3)で表されるホウ化物粒子の製造方法であって、
Aを含む化合物と、Xを含む化合物との溶液と、アルカリ溶液とを、攪拌しながら反応させて沈殿物を得る工程と、
前記沈殿物を乾燥して、AとXとの、水酸化物粒子および/または水和物粒子を得る工程と、
前記AとXとの、水酸化物粒子および/または水和物粒子と、B4C(但し、Cは炭素)の粒子と、を混合し、前記AとXとの、水酸化物粒子および/または水和物粒子と、B4Cの粒子との混合物を得る工程と、
前記混合物を、真空または不活性ガス雰囲気下において1600℃未満で熱処理して、Aを含む一般式XBmで表されるホウ化物粒子を得る工程と、を具備することを特徴とするホウ化物粒子の製造方法である。
第6または第7の発明に記載のホウ化物粒子の製造方法であって、
前記AとXとの水酸化物粒子および/または水和物粒子、または、前記AとXとの酸化物の粒子と、B4Cの粒子とを混合し、当該混合物中のX元素の原子数をNX、B元素の原子数をNBとしたとき、4≦NB/NX≦6.3であることを特徴とするホウ化物粒子の製造方法である。
第6または第7の発明に記載のホウ化物粒子の製造方法であって、
前記AとXとの水酸化物粒子および/または水和物粒子、または、前記AとXとの酸化物の粒子と、B4Cの粒子とを混合し、当該混合物中のX元素の原子数をNX、B元素の原子数をNBとしたとき、5.8<NB/NX<6.2であることを特徴とするホウ化物粒子の製造方法である。
第6から第9の発明のいずれかに記載のホウ化物粒子の製造方法であって、
平均粒径が0.1μm以下である前記AとXとの水酸化物粒子および/または水和物粒子、または、平均粒子径が20μm以下である前記AとXとの酸化物の粒子と、平均粒子径が60μm以下である前記B4Cの粒子と、を混合することを特徴とするホウ化物粒子の製造方法である。
第6から第10の発明のいずれかに記載のホウ化物粒子の製造方法で得られるホウ化物粒子を、ジェット気流中で相互に衝突させて粉砕することを特徴とするホウ化物粒子の製造方法である。
本発明に係るホウ化物粒子は一般式XBmで表され、例えば、XB4、XB6、XB12で表記されるホウ化物が挙げられる。そして、日射遮蔽体の材料として用いられるホウ化物粒子としては4≦m≦6.3であることが好ましい。すなわち、ホウ化物粒子としては、上記ホウ化物のうちXB4、XB6で表記されるホウ化物が主体となっていることが好ましく、さらに一部XB12を含んでいても良い。ここで、mとは、当該ホウ化物粒子を含む粉体を化学分析し、X元素の1原子に対するBの原子数比を示すものである。
本発明に係る日射遮蔽体形成用ホウ化物微粒子分散液は、本発明に係るホウ化物粒子を溶媒中に混合して得たスラリーを、ビーズと伴に媒体攪拌ミルへ装填して攪拌してさらに粉砕した後、溶媒中に分散したものである。
上記溶媒中に分散されるホウ化物の微粒子の分散粒子径が800nm以下で、且つ、均一に分散した日射遮蔽体形成用ホウ化物微粒子分散液を用い、例えば、透明基材上に日射遮蔽膜を形成したり、透明基材内部にホウ化物の微粒子を含有させることにより、本発明に係る日射遮蔽体を得ることができる。
以下、本発明に係るホウ化物粒子の製造方法について、図面を参照しながら説明する。
図1は、本発明に係るZn、In、Sn、Ga、Ge、Cd、Tl、PbおよびBiから選択される少なくとも1種の元素を含有する一般式XBmで表されるホウ化物粒子の製造工程を示すフロー図である。
洗浄13の完了した沈殿物を乾燥14すると、XとAとを含む水酸化物および/または水和物3の粒子が得られる。乾燥14において、その温度や時間は、特に限定されるものではない。
得られたXとAとを含む水酸化物および/または水和物3の粒子を用いて、このまま後工程に進んでも良いが、このXとAとを含む水酸化物および/または水和物3の粒子を、さらに熱処理15して、XとAとを含む酸化物5としてから後工程に進んでも良い。XとAとを含む水酸化物および/または水和物3の粒子を熱処理15する場合は、生成するXとAとを含む酸化物5の粒子が粗大化するのを回避する観点より、熱処理温度を400℃〜1000℃とし、熱処理時間は30分以上あれば特に限定されないが、生産性の観点から30分〜4時間とすることが好ましい。
上述の生産工程を採ることにより、得られたXとAとを含む水酸化物および/または水和物3の粒子径、および、XとAとを含む酸化物5の粒子径を、例えば優れた日射遮蔽機能を発揮するホウ化物微粒子を製造するために、必要とされる範囲のものとすることができる。
得られたXとAとを含む水酸化物および/または水和物3の粒子、または、XとAとを含む酸化物5の粒子と、B4Cの粒子4とを混合16する。この混合16の際、当該混合物中のX元素の原子数をNX、B元素の原子数をNBとしたとき、4≦NB/NX≦6.3、さらに好ましくは、5.8<NB/NX<6.2、となるように均一に混合する。このとき、B4Cの粒子4の平均粒子径は、XB4、XB6等の微粒子生成の観点から、60μm以下、好ましくは40μm以下、さらに好ましくは30μm以下となっていることが好ましい。これは、各原料粉体の粒子径を特定することで、溶媒中での分散粒子径が800nm以下のホウ化物微粒子6を低コストで、容易に製造できるからである。
XとAとを含む水酸化物および/または水和物3の粒子、または、XとAとを含む酸化物5の粒子と、B4Cの粒子4との均一混合物を、熱処理17する際の雰囲気は、真空または不活性ガス雰囲気とすることが好ましい。雰囲気を真空とするなら、真空度はホウ化物微粒子の安定性の観点から高い方が好ましい。また、雰囲気を不活性ガスとするなら、ホウ素の窒化物の生成を回避する観点から窒素以外のガスを用いることが好ましい。
熱処理の温度は1600℃未満とすることが好ましい。1600℃未満であればホウ化物粒子6の粗大化を回避できるからである。また、焼成時間は、ホウ化物微粒子6において、所望の平均粒子径等が得られるよう適宜選択すれば良い。
このようにして本発明に係るホウ化物粒子を得ることが出来る。
上述のようにして得られたホウ化物粒子を用いてホウ化物粒子分散液を製造する方法について説明する。
まず、当該ホウ化物粒子分散液を製造する際に用いる媒体攪拌ミルについて説明する。
媒体攪拌ミルは、球状のビーズと被粉砕物となる粉体のスラリーを粉砕容器に投入し強制的に攪拌させ主にビーズのせん断応力を利用してスラリー中の粒子を粉砕、分散するミルである。尤も、媒体攪拌ミルの攪拌機構は、ビーズのせん断応力がスラリーに効率よく伝達されれば良く、その機構、形状は特に限定されない。
本発明の日射遮蔽体はホウ化物粒子分散体で、上述したように日射遮蔽体形成用分散液を、適宜透明基板上に塗布したり、または、上記日射遮蔽体形成用分散液を樹脂バインダーなどに練り込み、これを板、シ−ト、フィルムに成形することで製造される。
さらに、本発明に係る日射遮蔽効果を発揮するホウ化物粒子は無機材料であるので、有機材料と比べて耐候性に優れており、例えば、太陽光線(紫外線)の当たる部位に使用しても色や諸機能の劣化はほとんど生じない。
尚、当該実施例および比較例において得られる粒子の分散粒子径は、大塚電子株式会社製のELS−800を用いて測定した。
10%La(NO3)36H2O水溶液12.33kgと10%Zn(NO3)26H2O水溶液1.01kgとの混合溶液へ、室温で攪拌しながら15%NH4OH溶液4.91kgを20分間かけて滴下して沈殿を生成させ、当該滴下完了後さらに10分間攪拌を継続した。
生成した沈殿を収集し、純水を用いたデカンテーションにて洗浄を行い、当該デカンテーションにおける上澄み液の電導度が1mS/cm以下になるまで、これを繰り返した。洗浄後の沈殿を105℃で乾燥した後、大気中にて600℃で1時間焼成し、LaおよびZnの酸化物を得た。当該LaおよびZnの酸化物と、平均粒子径が約22μmのB4C粒子とを、La元素とB元素との原子数比が1:6となるよう混合して均一混合物とした。そして、当該均一混合物を、真空雰囲気下(約0.02Pa)1500℃で3時間焼成してZn含有LaB6粒子を得た。
得られたZn含有LaB6微粒子2重量%と、高分子系分散剤4重量%と、トルエン94重量%とを混合して混合物とし、当該混合物と、0.3mmφZrO2ビ−ズとを、ペイントシェーカーへ装填し、24時間まで粉砕と分散処理を継続して、Zn含有LaB6分散液Aを調製した。
La(NO3)36H2Oの替わりにCe(NO3)36H2Oを用い、10%Ce(NO3)36H2O水溶液12.36kgと、10%Zn(NO3)26H2O水溶液1.02kgとの混合溶液へ、15%NH4OH溶液4.91kgを滴下した以外は、実施例1と同様にしてZn含有CeB6分散液Bを得た。
La(NO3)36H2Oの替わりにNd(NO3)36H2Oを用い、10%Nd(NO3)36H2O水溶液12.47kgと、10%Zn(NO3)26H2O水溶液1.05kgとの混合溶液へ、15%NH4OH溶液4.92kgを滴下した以外は、実施例1と同様にしてZn含有NdB6分散液Cを得た。
Zn(NO3)26H2Oの替わりにIn(NO3)26H2Oを用い、10%In(NO3)26H2O水溶液0.69kgと、10%La(NO3)26H2O水溶液12.33kgとの混合溶液へ、15%NH4OH溶液4.85kgを滴下した以外は、実施例1と同様にしてIn含有LaB6分散液Dを得た。
1500℃で3時間焼成して得られたZn含有LaB6粒子を、ジェットミルを使用し、ガス圧0.6MPa/cm2、使用空気量0.8m3/minの条件で粉砕した以外は、実施例1と同様にしてZn含有LaB6分散液Eを調製した。
10%La(NO3)36H2O水溶液12.32kgに、室温で攪拌しながら15%NH4OH溶液4.50kgを20分間かけて滴下して沈殿を生成させた以外は、実施例1と同様にしてLaB6分散液Fを調製した。
実施例1〜5、および、比較例1にて得られた分散液A〜Fにおいて、分散処理時間毎のホウ化物粒子の分散粒径変化の状態を測定し、当該測定結果を表1および図2に示した。
図2は、縦軸にホウ化物粒子の分散粒径を採り、横軸に分散処理時間を採り、実施例1を□でプロットし2点鎖線で結び、実施例2を▽でプロットし太破線で結び、実施例3を+でプロットし1点鎖線で結び、実施例4を△でプロットし細実線で結び、比較例1を●でプロットし太実線で結んだグラフである。
表1および図2の結果から明らかなように、例えば、ホウ化物粒子の分散粒径を100nm以下とするのに要する時間は、実施例1〜5が17時間以内であるのに対して、比較例1は20時間を越える。さらに、ジェットミルを併用した実施例5では、分散処理時間13時間で分散粒子径が100nmとなった。
以上のことから、実施例1〜5に係るホウ化物粒子の分散粒子径は、比較例1に比べ、より短時間の分散処理で微粒子化されることが判明した。
Claims (11)
- 一般式XBm(但し、Xは、アルカリ土類元素、またはイットリウム(Y)を含む希土類元素から選ばれた金属元素、Bはホウ素、4≦m≦6.3)で表されるホウ化物粒子であって、
A(但し、Aは、Zn、In、Sn、Ga、Ge、Cd、Tl、PbおよびBiから選択される少なくとも1種の金属元素)を含み、
当該ホウ化物粒子中におけるXの原子数をNX、Aの原子数をNAとしたとき、0.0001≦NA/(NA+NX)≦0.5であることを特徴とするホウ化物粒子。 - 請求項1に記載のホウ化物粒子の微粒子が溶媒中に分散していることを特徴とする日射遮蔽体形成用ホウ化物微粒子分散液。
- 前記ホウ化物の微粒子の平均分散粒子径が800nm以下であることを特徴とする請求項2に記載の日射遮蔽体形成用ホウ化物微粒子分散液。
- 前記ホウ化物の微粒子の平均分散粒子径が100nm以下であることを特徴とする請求項2に記載の日射遮蔽体形成用ホウ化物微粒子分散液。
- 請求項1に記載のホウ化物粒子を含み、当該ホウ化物粒子は平均分散粒子径が800nm以下のホウ化物微粒子であることを特徴とする日射遮蔽体。
- A(但し、Aは、Zn、In、Sn、Ga、Ge、Cd、Tl、PbおよびBiから選択される少なくとも1種の金属元素)を含み、一般式XBm(但し、Xは、アルカリ土類元素、またはイットリウム(Y)を含む希土類元素から選ばれた金属元素、Bはホウ素、4≦m≦6.3)で表されるホウ化物粒子の製造方法であって、
Aを含む化合物とXを含む化合物との溶液と、アルカリ溶液とを、攪拌しながら反応させて沈殿物を得る工程と、
前記沈殿物を乾燥して、AとXとの、水酸化物粒子および/または水和物粒子を得る工程と、
前記AとXとの、水酸化物粒子および/または水和物粒子を熱処理して、前記AとXとの酸化物の粒子を得る工程と、
前記AとXとの酸化物の粒子と、B4C(但し、Cは炭素)の粒子とを混合し、前記AとXとの酸化物の粒子と、B4Cの粒子との混合物を得る工程と、
前記混合物を、真空または不活性ガス雰囲気下において1600℃未満で熱処理して、Aを含む一般式XBmで表されるホウ化物粒子を得る工程と、を具備することを特徴とするホウ化物粒子の製造方法。 - A(但し、Aは、Zn、In、Sn、Ga、Ge、Cd、Tl、PbおよびBiから選択される少なくとも1種の金属元素)を含み、一般式XBm(但し、Xは、アルカリ土類元素、またはイットリウム(Y)を含む希土類元素から選ばれた金属元素、Bはホウ素、4≦m≦6.3)で表されるホウ化物粒子の製造方法であって、
Aを含む化合物と、Xを含む化合物との溶液と、アルカリ溶液とを、攪拌しながら反応させて沈殿物を得る工程と、
前記沈殿物を乾燥して、AとXとの、水酸化物粒子および/または水和物粒子を得る工程と、
前記AとXとの、水酸化物粒子および/または水和物粒子と、B4C(但し、Cは炭素)の粒子と、を混合し、前記AとXとの、水酸化物粒子および/または水和物粒子と、B4Cの粒子との混合物を得る工程と、
前記混合物を、真空または不活性ガス雰囲気下において1600℃未満で熱処理して、Aを含む一般式XBmで表されるホウ化物粒子を得る工程と、を具備することを特徴とするホウ化物粒子の製造方法。 - 請求項6または7に記載のホウ化物粒子の製造方法であって、
前記AとXとの水酸化物粒子および/または水和物粒子、または、前記AとXとの酸化物の粒子と、B4Cの粒子とを混合し、当該混合物中のX元素の原子数をNX、B元素の原子数をNBとしたとき、4≦NB/NX≦6.3であることを特徴とするホウ化物粒子の製造方法。 - 請求項6または7に記載のホウ化物粒子の製造方法であって、
前記AとXとの水酸化物粒子および/または水和物粒子、または、前記AとXとの酸化物の粒子と、B4Cの粒子とを混合し、当該混合物中のX元素の原子数をNX、B元素の原子数をNBとしたとき、5.8<NB/NX<6.2であることを特徴とするホウ化物粒子の製造方法。 - 請求項6から9のいずれかに記載のホウ化物粒子の製造方法であって、
平均粒径が0.1μm以下である前記AとXとの水酸化物粒子および/または水和物粒子、または、平均粒子径が20μm以下である前記AとXとの酸化物の粒子と、平均粒子径が60μm以下である前記B4Cの粒子と、を混合することを特徴とするホウ化物粒子の製造方法。 - 請求項6から10のいずれかに記載のホウ化物粒子の製造方法で得られるホウ化物粒子を、ジェット気流中で相互に衝突させて粉砕することを特徴とするホウ化物粒子の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006012678A JP4737419B2 (ja) | 2006-01-20 | 2006-01-20 | ホウ化物粒子とその製造方法、および当該ホウ化物粒子を用いたホウ化物微粒子分散液並びに日射遮蔽体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006012678A JP4737419B2 (ja) | 2006-01-20 | 2006-01-20 | ホウ化物粒子とその製造方法、および当該ホウ化物粒子を用いたホウ化物微粒子分散液並びに日射遮蔽体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007191368A JP2007191368A (ja) | 2007-08-02 |
JP4737419B2 true JP4737419B2 (ja) | 2011-08-03 |
Family
ID=38447356
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006012678A Active JP4737419B2 (ja) | 2006-01-20 | 2006-01-20 | ホウ化物粒子とその製造方法、および当該ホウ化物粒子を用いたホウ化物微粒子分散液並びに日射遮蔽体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4737419B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6627556B2 (ja) * | 2016-02-16 | 2020-01-08 | 住友金属鉱山株式会社 | ホウ化物粒子の製造方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000096034A (ja) * | 1998-09-22 | 2000-04-04 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 日射遮蔽材料、日射遮蔽膜用塗布液、及び、日射遮蔽膜 |
JP2000169765A (ja) * | 1998-12-10 | 2000-06-20 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 日射遮蔽膜用塗布液及びこれを用いた日射遮蔽膜 |
JP2004237250A (ja) * | 2003-02-07 | 2004-08-26 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | ホウ化物粒子の粉砕分散方法及び分散液 |
JP2004277274A (ja) * | 2003-01-24 | 2004-10-07 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | ホウ化物微粒子の製造方法、ホウ化物微粒子およびそれを用いた日射遮蔽体形成用分散液 |
JP2005001918A (ja) * | 2003-06-10 | 2005-01-06 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | ホウ化物微粒子の製造方法、ホウ化物微粒子および日射遮蔽体形成用分散液 |
-
2006
- 2006-01-20 JP JP2006012678A patent/JP4737419B2/ja active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000096034A (ja) * | 1998-09-22 | 2000-04-04 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 日射遮蔽材料、日射遮蔽膜用塗布液、及び、日射遮蔽膜 |
JP2000169765A (ja) * | 1998-12-10 | 2000-06-20 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 日射遮蔽膜用塗布液及びこれを用いた日射遮蔽膜 |
JP2004277274A (ja) * | 2003-01-24 | 2004-10-07 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | ホウ化物微粒子の製造方法、ホウ化物微粒子およびそれを用いた日射遮蔽体形成用分散液 |
JP2004237250A (ja) * | 2003-02-07 | 2004-08-26 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | ホウ化物粒子の粉砕分散方法及び分散液 |
JP2005001918A (ja) * | 2003-06-10 | 2005-01-06 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | ホウ化物微粒子の製造方法、ホウ化物微粒子および日射遮蔽体形成用分散液 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007191368A (ja) | 2007-08-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6950691B2 (ja) | 近赤外線吸収微粒子分散液、近赤外線吸収微粒子分散体、近赤外線吸収透明基材、近赤外線吸収合わせ透明基材 | |
KR102620283B1 (ko) | 근적외선 차폐 초미립자 분산체, 일사 차폐용 중간막, 적외선 차폐 적층 구조체, 및 근적외선 차폐 초미립자 분산체의 제조 방법 | |
JP4626284B2 (ja) | 日射遮蔽体形成用タングステン酸化物微粒子の製造方法、および日射遮蔽体形成用タングステン酸化物微粒子 | |
JP5120661B2 (ja) | 合わせ構造体 | |
JP2008101111A (ja) | 日射遮蔽膜形成用塗布液および日射遮蔽膜ならびに日射遮蔽機能を有する基材 | |
JP2022041986A (ja) | 赤外線吸収粒子の製造方法 | |
JP6828514B2 (ja) | 熱線遮蔽微粒子、熱線遮蔽微粒子分散液、熱線遮蔽膜用塗布液、およびこれらを用いた熱線遮蔽膜、熱線遮蔽樹脂フィルム、熱線遮蔽微粒子分散体 | |
JP2005226008A (ja) | 日射遮蔽体形成用分散液及び日射遮蔽体並びにその製造方法 | |
JP4487787B2 (ja) | 日射遮蔽用ホウ化物微粒子、このホウ化物微粒子を用いた日射遮蔽体形成用分散液および日射遮蔽体、並びに日射遮蔽用ホウ化物微粒子の製造方法および日射遮蔽体形成用分散液の製造方法 | |
JP2008230954A (ja) | 日射遮蔽体形成用アンチモン含有酸化錫微粒子の製造方法、日射遮蔽体形成用分散液、日射遮蔽体、および、日射遮蔽用基材 | |
JP4941637B2 (ja) | ホウ化物粒子の製造方法、およびホウ化物粒子 | |
EP1967495B1 (en) | Manufacturing method for antimony-containing tin oxide fine particles for forming solar radiation shielding body, dispersion for forming solar radiation shielding body, solar radiation sheilding body, and solar radiation shielding base material | |
TW201934338A (zh) | 日照遮蔽用夾層構造體及其製造方法 | |
JP4120887B2 (ja) | 日射遮蔽用In4Sn3O12複合酸化物微粒子及びその製造方法並びに日射遮蔽膜形成用塗布液及び日射遮蔽膜及び日射遮蔽用基材 | |
JP6413969B2 (ja) | 日射遮蔽体形成用分散液および当該分散液を用いた日射遮蔽体 | |
WO2004002894A1 (ja) | 日射遮蔽用アンチモン錫酸化物微粒子とこれを用いた日射遮蔽体形成用分散液および日射遮蔽体並びに日射遮蔽用透明基材 | |
JP4737419B2 (ja) | ホウ化物粒子とその製造方法、および当該ホウ化物粒子を用いたホウ化物微粒子分散液並びに日射遮蔽体 | |
JP4375531B2 (ja) | ホウ化物微粒子の製造方法 | |
JP4399707B2 (ja) | 日射遮蔽体用ホウ化物微粒子の製造方法 | |
JP4200424B2 (ja) | 日射遮蔽材料の製造方法、日射遮蔽膜形成用塗布液および日射遮蔽膜並びに日射遮蔽用透明基材 | |
JP2004244613A (ja) | 日射遮蔽体と日射遮蔽体形成用分散液 | |
KR102575326B1 (ko) | 근적외선 흡수 재료 미립자 분산체, 근적외선 흡수체, 근적외선 흡수물 적층체 및 근적외선 흡수용 접합 구조체 | |
JP6575443B2 (ja) | 熱線遮蔽フィルムおよび熱線遮蔽ガラス | |
JP2012082109A (ja) | 高耐熱性熱線遮蔽体形成用タングステン酸化物微粒子の製造方法、高耐熱性熱線遮蔽体形成用タングステン酸化物微粒子および高耐熱性熱線遮蔽体形成用分散液、並びに高耐熱性熱線遮蔽体 | |
JP2002138271A (ja) | 熱線遮蔽用微粒子の製造方法およびこの方法により製造された微粒子を用いた熱線遮蔽膜形成用塗布液の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080520 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110113 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110125 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110318 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110406 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110419 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4737419 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140513 Year of fee payment: 3 |