JP2006196535A - 多層配線基板及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 セラミックグリーンシート11〜14と内部導体層21〜24と段差整合層31〜33とで構成され、上面にチップ型電子部品を実装するための搭載面10aを有する積層基板本体10と、搭載面10a上に形成された複数のランド25〜28と備えた多層配線基板。段差整合層31〜33は、ランド25,27,28が形成されている領域a,c,dの下方に対応する積層基板本体10の内部に、少なくとも一対のランド25,26及び27,28の高さがそれぞれ実質的に同じになるように形成されている。
【選択図】 図1
Description
図1に示す多層配線基板は、本発明に係る第1の方法によって製造された第1実施例であり、図3に示した従来の多層配線基板と同じ回路を構成するものとして示している。なお、内部回路の構成は模式的に簡略化して示している。
第2実施例は、基本的には図1に示した多層配線基板と同様の構成及び同様の製造工程からなる。異なるのは、段差整合層31〜33としてセラミックグリーンシート11〜14と同一組成のセラミックペーストを用いた点である。
第3実施例は、図2に示すように、ランド25,26を設けた領域a,bを同じ高さとし、ランド27,28を設けた領域c,dは同じ高さではあるが領域a,bよりも低く形成した。具体的には、前記第1実施例における段差整合層32を省略した。なお、段差整合用ペーストは内部導体用ペーストと同じ組成物でも、あるいは、セラミックグリーンシートと実質的に同じ組成物のいずれであってもよい。
なお、本発明に係る多層配線基板及びその製造方法は前記実施例に限定するものではなく、その要旨の範囲内で種々に変更することができる。
10a…搭載面
11〜14…セラミックグリーンシート
21〜24…内部導体層
25〜28…ランド
31〜33…段差整合層
40…はんだ印刷用メタルマスク
Claims (11)
- 少なくともセラミック層と内部導体層と段差整合層とで構成され、一主面にチップ型電子部品のための搭載面を有する積層基板本体と、
前記搭載面上に形成された複数のランドと、を備え、
前記段差整合層は、前記ランドが形成されている領域の下方に対応する前記積層基板本体の内部に、少なくとも一対のランドの高さが実質的に同じになるように形成されていること、
を特徴とする多層配線基板。 - 前記段差整合層は前記内部導体層と同一組成からなることを特徴とする請求項1に記載の多層配線基板。
- 前記段差整合層は前記セラミック層と実質的に同一組成からなることを特徴とする請求項1に記載の多層配線基板の製造方法。
- 一のチップ型電子部品を搭載するためのランドの高さが同じであり、かつ、他のチップ型電子部品を搭載するためのランドの高さとは異なっていることを特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれかに記載の多層配線基板。
- 高い位置のランドは小さな面積に形成され、低い位置のランドは大きな面積に形成されていることを特徴とする請求項4に記載の多層配線基板。
- 少なくともセラミック層と内部導体層と段差整合層とで構成され、一主面にチップ型電子部品のための搭載面を有する積層基板本体と、前記搭載面上に形成された複数のランドとを備えた多層配線基板の製造方法であって、
セラミックグリーンシートを用意する工程と、
セラミックグリーンシートに内部導体用ペーストを印刷する工程と、
セラミックグリーンシート又は該シートの積層体にランドを形成する工程と、
ランドが形成される領域の下方に対応する位置に合わせてセラミックグリーンシートに少なくとも一対のランドの高さが実質的に同じになるように段差整合用ペーストを印刷する工程と、
前記セラミックグリーンシートを積層する工程と、
を備えたことを特徴とする多層配線基板の製造方法。 - 前記段差整合用ペーストは前記内部導体用ペーストと同一組成からなることを特徴とする請求項6に記載の多層配線基板の製造方法。
- 前記段差整合用ペーストは前記セラミックグリーンシートと実質的に同一組成からなることを特徴とする請求項6に記載の多層配線基板の製造方法。
- 一対のランドが形成される領域において前記積層基板本体の厚み方向に存在する前記内部導体層の層数に基づいて段差量を算出するステップと、
算出された前記段差量に基づいて一対のランドの高さを実質的に同じとするのに必要な段差整合用ペーストの量を算出するステップと、
を経て前記段差整合用ペーストを所定のセラミックグリーンシート上に印刷することを特徴とする請求項6ないし請求項8のいずれかに記載の多層配線基板の製造方法。 - 一のチップ型電子部品を搭載するためのランドの高さと同一に、かつ、他のチップ型電子部品を搭載するためのランドの高さとは異ならせて形成することを特徴とする請求項6ないし請求項9のいずれかに記載の多層配線基板の製造方法。
- 高い位置のランドは小さな面積で形成し、低い位置のランドは大きな面積で形成することを特徴とする請求項10に記載の多層配線基板の製造方法。
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Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
2005
- 2005-01-11 JP JP2005004134A patent/JP2006196535A/ja active Pending
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