JP2006194620A - プローブカード及び検査用接触構造体 - Google Patents

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Abstract

【課題】 極めて微細で狭ピッチの電極を有するウェハに対する電気特性の検査を安定的に行う。
【解決手段】 プローブカード2における回路基板10の下面側に,検査用接触構造体12が取付けられる。検査用接触構造体12には,シリコン基板20の両側に,弾性を有し凸状の導電部30を備えたシート21,22が取付けられる。シリコン基板20には,垂直方向に貫通する通電路23が形成され,各シート21,22の導電部30は,通電路23に上下から接触している。上側の導電部30は,回路基板10の接続端子に接触している。ウェハWの電気特性の検査時には,ウェハ上の電極パットUが下側の各導電部30に押圧されて接触される。下側の導電部30により電極パットUの高さのばらつきが吸収され,上側の導電部30により回路基板10側の歪みや撓みが吸収され,導電部30と電極パットUの接触が維持される。
【選択図】 図1

Description

本発明は,被検査体に接触して被検査体の電気的特性を検査するための検査用接触構造体及びプローブカードに関する。
例えば半導体ウェハ上に形成されたIC,LSIなどの電子回路の電気的特性の検査は,例えばプローブカードの下面に配列された複数のプローブ針を,ウェハ上の電子回路の各電極パットに電気的に接触させることにより行われている。このため,プローブ針は,各電極パットの位置に合わせて配置する必要がある。
しかしながら,近年は,電子回路のパターンの微細化が進み,電極パットが微細化し電極パットの間隔がさらに狭くなっているため,例えば幅寸法が100μm以下で,ピッチが180μm以下の微細で狭ピッチの接触部を形成することが要求されている。そこで,異方導電性シートをプローブ針の代わりに用いることが提案されている(例えば,特許文献1参照)。異方導電性シートは,絶縁部となるシートの一面から弾性を有する複数の導電部が突出したもので,導電部を極めて微細で狭ピッチに形成することができる。
しかしながら,上述のような異方導電性シートを単純に用いた場合,導電部が狭ピッチで微細であるため,導電部の高さ方向の寸法に限界があり,導電部の弾性による高さ方向の変位量が小さくなる。このため,例えばウェハ表面上の多数の電極パットの高さのばらつきを導電部の弾性によって十分に吸収することができず,導電部と電極パットと接触がウェハ面内において不安定になる。また,プローブカードの取り付けや熱膨張などによって発生するプローブカード側の傾きや歪みについても,導電部の弾性により十分に吸収できないので,ウェハ面内において電極パットの接触が不安定になる。
特許第3038859号公報
本発明は,かかる点に鑑みてなされたものであり,ウェハなどの被検査体に対する接触部を極めて微細で狭ピッチにし,なおかつ被検査体との接触を安定して行うことができる検査用接触構造体と,プローブカードを提供することをその目的とする。
上記目的を達成するために,本発明は,被検査体と電気的に接触して被検査体の電気的特性を検査する検査用接触構造体であって,平板状の基板と,前記基板の両面に取り付けられ,弾性を有する複数の導電部と前記導電部相互間を接続する絶縁部から構成されるシートと,を有し,前記導電部は,前記シートを貫通し,シートの両面から突出するように形成されており,前記基板には,厚み方向に直線状に貫通する複数の通電路が,前記導電部に対応するように形成されており,前記基板の両面のシートの導電部は,前記通電路を挟むようにして,各々対応する前記通電路の端部に接触していることを特徴とする。
本発明によれば,シート面内に多数の導電部を形成したシートを用いるので,極めて微細で狭ピッチの接触部を実現できる。そしてシートが基板の両面に取付けられるので,被検査体側のシートの導電部が被検査体に対し接触し,その導電部の弾性により被検査体の高さのばらつきを吸収できる。また,被検査体と反対側のシートの導電部が例えばプローブカード側の検査用の電気信号を付与する回路基板の接続端子に接触し,その導電部の弾性によりプローブカード全体或いは回路基板の歪みや傾きを吸収できる。したがって,接触部が微細で狭ピッチであっても,被検査体との接触が安定し,電気特性の検査が適正に行われる。
前記基板の両面のシートの導電部と前記基板の通電路は,同軸上に配置されていてもよい。かかる場合,一方のシートの導電部に被検査体が押圧されて接触したときに,基板には,両面の導電部から通電路を通る同軸上に力が働く。それ故,基板内には,厚み方向の対向する偶力のみが作用し,曲げモーメントが作用しないので,基板の破損を防止できる。特に,1mm以下の極めて薄い基板を用いる場合にその効果は大きい。
前記シートは,シートの外周部に沿って形成されたフレームに固定され,当該フレームにより前記基板に固定されていてもよい。かかる場合,シート自体の撓みや歪みが押えられ,シートを基板の面に追従させることができる。この結果,シート面内の導電部による接触を均一に行うことができる。
前記フレームは,シリコン製の接着剤により前記基板に接着されていてもよい。かかる場合,フレームを比較的簡単に基板から取り外すことができるので,シートの取替えやメンテナンスを容易に行うことができる。
被検査体側に位置する前記シートの導電部の先端部には,被検査体に接触する先細の接触子が取り付けられていてもよい。かかる場合,被検査体に対する接触圧が増大するので,被検査体に対する電気的接触をさらに安定させることができる。また,導電部が直接被検査体に接触しないので,導電部の磨耗を防止できる。
別の観点による本発明は,被検査体の電気的特性を検査するためのプローブカードであって,回路基板と,回路基板と被検査体との間に設けられ,前記被検査体と前記回路基板と間を通電させるための検査用接触構造体と,を有し,前記検査用接触構造体は,平板状の基板と,前記基板の両面に取り付けられ,弾性を有する複数の導電部と前記導電部相互間を接続する絶縁部から構成されるシートと,を有し,前記導電部は,前記シートを貫通し,シートの両面から突出するように形成されており,前記基板には,厚み方向に直線状に貫通する複数の通電路が,前記導電部に対応するように形成されており,前記基板の両面のシートの導電部は,前記通電路を挟むようにして,各々対応する前記通電路の端部に接触しており,前記検査用接触構造体は,前記回路基板に着脱自在に構成されていることを特徴とする。
かかる場合,上述の検査用接触構造体が回路基板に対して着脱自在であるので,検査用接触構造体を取り外して,例えばシートの取替えなどの検査用接触構造体のメンテナンスを容易に行うことができる。
前記検査用接触構造体は,前記回路基板にシリコン製の接着剤により接着されていてもよい。かかる場合,検査用接触構造体を回路基板から容易に取り外すことができる。
また,前記回路基板には,前記検査用接触構造体の前記回路基板を吸着するための吸引口が形成されていてもよい。かかる場合,吸引口からの吸引を動停止させることにより,検査用接触構造体を回路基板に対し着脱自在にできる。
本発明によれば,被検査体の電気特性の検査が安定して行われるので,電子デバイスの不良を確実に検出し,品質を向上できる。
以下,本発明の好ましい実施の形態について説明する。図1は,本実施の形態にかかる検査用接触構造体が用いられるプローブ装置1の内部の構成の概略を示す縦断面の説明図である。
プローブ装置1には,例えばプローブカード2と,被検査体としてのウェハWを載置する載置台3が設けられている。プローブカード2は,例えば載置台3上のウェハWの電極パットUに対し電気信号を送るための回路基板10と,当該回路基板10の外周部を保持するホルダ11と,回路基板10のウェハW側に装着され,ウェハW上の電極パットUに接触して回路基板10と電極パットUとの間を通電させるための検査用接触構造体12を備えている。
回路基板10は,例えば略円盤状に形成されている。回路基板10の下面には,検査用接触構造体12と導通させるための複数の接続端子10aが形成されている。
検査用接触構造体12は,例えば平板状のシリコン基板20と,シリコン基板20の上面に取付けられた第1のシート21と,シリコン基板20の下面に取付けられた第2のシート22を備えている。
シリコン基板20は,例えば200μm〜400μm程度の薄い方形の平板形状に形成されている。シリコン基板20には,例えば図2に示すように上下面に垂直に貫通する複数の通電路23が形成されている。この各通電路23は,例えばウェハW上の複数の電極パットUに一対一で対応するように形成されている。通電路23の上端部には,上部接続端子23aが形成され,通電路23の下端部には,下部接続端子23bが形成されている。なお,例えばシリコン基板20の加工は,フォトリソグラフィー技術を用いてエッチング加工により行われる。
第1のシート21と第2のシート22は,図3に示すように全体が例えば方形に形成された伸縮性を有するゴム製シートであり,シート面内に密に配置された複数の導電部30と,導電部30間を接続している絶縁部31から構成されている。複数の導電部30は,図2に示すようにウェハWの電極パットU及びシリコン基板20の通電路23に対し一対一で対応する位置に配置されている。絶縁部31は,例えば絶縁性及び弾性を有する高分子物質により形成されている。導電部30は,例えば図4に示すように絶縁性及び弾性を有する高分子物質内に導電性粒子Aが密に充填されて形成されている。各導電部30は,シートを貫通し,シートの両面から突出するような四角柱形状に形成されている。かかる構成により,導電部30は,加圧状態で導電性を有し,シートの両面の突出方向に弾性を有する。例えば絶縁部31の厚みTは,例えば100μm程度に設定され,導電部30のシート面からの高さHは,絶縁膜31の厚みの0.3倍程度の30μm程度に形成されている。また,導電部30の幅Dは,例えば85μm程度に形成され,隣り合う導電部30間のピッチPは,180μm程度に設定されている。
図3に示すように第1のシート21と第2のシート22の外周部は,例えば金属フレーム40に固定されている。金属フレーム40は,シート21,22の外周部に沿った枠形状を有している。図2に示すようにシリコン基板20の外周部の両面には,シリコン製の接着剤からなる支持部41が形成されている。シリコン基板20の上面の支持部41には,第1のシート21の金属フレーム40が固定されている。シリコン基板20の下面の支持部41には,第2のシート22の金属フレーム40が固定されている。支持部41の高さは,例えばシート21,22の各導電部30がシリコン基板20の通電路23の接続端子に加圧状態で接触するように,高さが調整されている。つまり,第1のシート21は,シリコン基板20の上面側に固定された状態で,各導電部30が対応する各上部接続端子23aに当接している。第2のシート22は,シリコン基板20の下面側に固定された状態で,各導電部30が対応する各下部接続端子23bに当接している。したがって,第1のシート21の導電部30,第2のシート22の導電部30及び導電路21が垂直方向に同軸上に接続されている。
図1に示すようにシリコン基板20は,シリコン基板20の上面の支持部40よりもさらに外側に配置された支持体50によって,回路基板10の下面に支持されている。支持体50は,例えばシリコン製の接着剤から構成されている。支持体50の高さは,例えば第1のシート21の導電部30の上端面が回路基板10の接続端子10aに加圧した状態で接触するように,調整されている。
載置台3は,例えば左右及び上下に移動自在に構成されており,載置したウェハWを三次元移動可能である。
以上のように構成されたプローブ装置1においては,ウェハWが載置台3上の所定の位置に載置され,載置台3が移動され,図5に示すようにウェハW上の各電極パットUが第2のシート22の対応する各導電部30に接触される。そして,回路基板10から検査用の電気信号が,検査用接触構造体12における第1のシート21の導電部30,通電路23及び第2のシート22の導電部30を順に通じて電極パットUに供給され,ウェハW上の回路の電気的特性が検査される。
以上の実施の形態で記載した上記プローブ装置1は,シート21,22がシリコン基板20の両面に配置され,第2のシート22の導電部30をウェハW上の電極パットUに接触するようにしたので,180μm以下のピッチで100μm以下の微細な接触部を実現できる。そして,このように狭ピッチで微細な接触部を実現しても,例えばシリコン基板20の下面側の第2のシート22の導電部30が,その弾性によりウェハW上の電極パットUの高さのばらつきを吸収できる。また,シリコン基板20の上側の第1のシート21の導電部30が,その弾性により回路基板10の歪みや傾きを吸収でき,検査用接触構造体12の水平度が維持される。この結果,ウェハ面内の電極パットUとプローブカード2の導電部30との接触を安定的に行い,ウェハ面内の検査を適正に行うことができる。
また,第1のシート21と第2のシート22の導電部30と,シリコン基板20の導電路21が垂直方向に一直線上に配置されているので,ウェハWの各電極パットUが導電部30に押圧された際に,シリコン基板20には,厚み方向の対向する応力のみが作用し,曲げモーメントが作用しないので,極めて薄いシリコン基板20の破損を防止できる。
第1のシート21と第2のシート22の外周部が,金属フレーム40により固定され,その金属フレーム40がシリコン基板20の支持部41に取り付けたので,シート21,22自体の歪みや撓みが防止しつつ,シート21,22をシリコン基板20の面に追従させることができる。この結果,シート21,22面内における導電部30の接触を均一に行うことができる。
第1のシート21と第2のシート22の金属フレーム40をシリコン製の接着剤によりシリコン基板20に固定したので,第1のシート21と第2のシート22をシリコン基板20から容易に取り外すことができる。それ故,第1のシート21と第2のシート22のメンテナンスや取り換えを容易に行うことができる。
また,シリコン基板20をシリコン製の接着剤により回路基板10に固定したので,検査用接触構造体12が回路基板10に対し着脱自在になり,検査用接触構造体12を回路基板10から容易に取り外すことができる。この結果,検査用接触構造体12のメンテナンスや取替えを容易に行うことができる。
以上の実施の形態では,シート21,22を固定する基板にシリコン基板20を用いたので,フォトリソグラフィー技術により,例えばシリコン基板20の上面又は下面の少なくともいずれかにおいて所定の接続端子同士を金属線で接続する所定の配線パターンを形成することができる。例えば図6に示すようにシリコン基板20の上面において特定の上部接続端子23a同士を金属線60により接続してもよいし,図7に示すように所定方向の一直線上の上部接続端子23a同士を金属線60により接続し,平行な接続線が形成されるようにしてもよい。かかる場合,ウェハWの電子回路のパターンに応じて,上部接続端子23a同士が接続されている複数の導電部30を例えば同じ電極の検査に用いることができる。この場合,複数の導電部30を用いて一つの電極の検査が行われるので,検査がより確実に行われる。また,電子回路のパターンに応じて,シリコン基板20における上部接続端子23aの接続配線パターンを作成することができるので,回路基板10内の配線パターンを変えるよりも比較的簡単に配線パターンを形成でき,あらゆる電子回路のパターンに適切に対応できる。なお,シリコン基板20の下面において特定の下部接続端子23b同士を接続する配線パターンを形成してもよい。
なお,シリコン基板20を吸着により回路基板10に固定してもよい。かかる場合,例えば図8に示すように回路基板10の下面には,下端に吸引口70が開口した管路71が設けられている。例えば管路71は,プローブカード2の回路基板10内を通過して,例えばプローブカード2の外部に設置された負圧発生装置72に接続されている。そして,検査用接触構造体12を回路基板10に取り付ける際には,負圧発生装置72により吸引口70から吸引し,その吸引力によりシリコン基板20が回路基板10に固定される。検査用接触構造体12を回路基板10から取り外す際には,負圧発生装置72により吸引を停止する。かかる場合,検査用接触構造体12の回路基板10からの取り外しを簡単に行うことができる。その他,例えば磁力により,検査接触構造体12を回路基板10に着脱自在にしてもよい。
以上の実施の形態で記載した第2のシート22の導電部30の先端部に,ウェハWの電極パットUに接触させるための接触子を取り付けてもよい。かかる場合,例えば図9に示すように先端が尖った先細形状の複数の接触子80が,各導電部30に対応するように配置され,ホルダ81に保持されている。接触子80は,例えば導電性のある金属により形成されている。ホルダ81は,例えば平板状に形成され,絶縁材料で形成されている。ホルダ81の外周部は,例えば支持部材82によってシリコン基板20の下面に支持され,接触子80の上端面は,導電部30の下端面に加圧された状態で当接されている。ウェハWの回路の電気特性を検査する際には,ウェハW上の電極パットUが接触子80の先端部に押し付けられ,回路基板10の電気信号が接触子80を通じて電極パットUに供給される。かかる場合,接触子80と電極パットUとの接触圧が大きくなるので,接触をより安定させることができる。また,導電部30が直接電極パットUに接触しないので,導電部30の磨耗や破損を防止できる。
以上,本発明の実施の形態の一例について説明したが,本発明はこの例に限らず種々の態様を採りうるものである。例えば上記実施の形態で記載した導電部30の形状,数及び配置は,適宜選択できる。また,検査用接触構造体12を構成する基板は,シリコン基板に限られず,例えばエッチング加工が可能な有機物基板,二酸化シリコン基板,ガラス基板などであってもよい。さらに本発明は,被検査体がウェハW以外のFPD(フラットパネルディスプレイ),フォトマスク用のマスクレチクルなどの他の基板である場合にも適用できる。
本発明は,微細で狭ピッチの被検査部に対する電気特性の検査を安定的に行う際に有用である。
プローブ装置の構成の概略を示す縦断面の説明図である。 検査用接触構造体の構成を示す縦断面の説明図である。 シートと平面図である。 シートの構造の説明図である。 導電部と電極パットが接触した状態を示すプローブ装置の縦断面の説明図である。 上面に配線パターンを形成した場合のシリコン基板の平面図である。 上面に配線パターンを形成した場合のシリコン基板の平面図である。 吸引口を有する配管を備えたプローブ装置の縦断面の説明図である。 先細の接触子を装着した検査用接触構造体の縦断面の説明図である。
符号の説明
1 プローブ装置
2 プローブカード
10 回路基板
12 検査用接触構造体
20 シリコン基板
21 第1のシート
22 第2のシート
23 通電路
30 導電部
U 電極パット
W ウェハ

Claims (8)

  1. 被検査体と電気的に接触して被検査体の電気的特性を検査する検査用接触構造体であって,
    平板状の基板と,
    前記基板の両面に取り付けられ,弾性を有する複数の導電部と前記導電部相互間を接続する絶縁部から構成されるシートと,を有し,
    前記導電部は,前記シートを貫通し,シートの両面から突出するように形成されており,
    前記基板には,厚み方向に直線状に貫通する複数の通電路が,前記導電部に対応するように形成されており,
    前記基板の両面のシートの導電部は,前記通電路を挟むようにして,各々対応する前記通電路の端部に接触していることを特徴とする,検査用接触構造体。
  2. 前記基板の両面のシートの導電部と前記基板の通電路は,同軸上に配置されていることを特徴とする,請求項1に記載の検査用接触構造体。
  3. 前記シートは,シートの外周部に沿って形成されたフレームに固定され,当該フレームにより前記基板に固定されていることを特徴とする,請求項1又は2のいずれかに記載の検査用接触構造体。
  4. 前記フレームは,シリコン製の接着剤により前記基板に接着されていることを特徴とする,請求項3に記載の検査用接触構造体。
  5. 被検査体側に位置する前記シートの導電部の先端部には,被検査体に接触する先細の接触子が取付けられていることを特徴とする,請求項1〜4のいずれかに記載の検査用接触構造体。
  6. 被検査体の電気的特性を検査するためのプローブカードであって,
    回路基板と,
    回路基板と被検査体との間に設けられ,前記被検査体と前記回路基板と間を通電させるための検査用接触構造体と,を有し,
    前記検査用接触構造体は,
    平板状の基板と,
    前記基板の両面に取り付けられ,弾性を有する複数の導電部と前記導電部相互間を接続する絶縁部から構成されるシートと,を有し,
    前記導電部は,前記シートを貫通し,シートの両面から突出するように形成されており,
    前記基板には,厚み方向に直線状に貫通する複数の通電路が,前記導電部に対応するように形成されており,
    前記基板の両面のシートの導電部は,前記通電路を挟むようにして,各々対応する前記通電路の端部に接触しており,
    前記検査用接触構造体は,前記回路基板に着脱自在に構成されていることを特徴とする,プローブカード。
  7. 前記検査用接触構造体は,前記回路基板にシリコン製の接着剤により接着されていることを特徴とする,請求項6に記載のプローブカード。
  8. 前記回路基板には,前記検査用接触構造体の前記回路基板を吸着するための吸引口が形成されていることを特徴とする,請求項6に記載のプローブカード。
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