JP2006178123A - 反射防止積層体、偏光板及び、液晶表示装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】
吸湿による寸法変化が小さく、表面硬度が高く、透明性、帯電防止性能、反射防止性能に優れ、カールの少ない反射防止積層体、並びにこの反射防止積層体を用いる液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】
曲げ弾性率が、1〜3GPaである透明樹脂からなる基材フィルム(a)上に、少なくともハードコート層(b)及び、低屈折率層(c)が順次積層されてなる反射防止積層体であって、基材フィルム(a)の湿度膨張係数が1×10−5cm/cm%RH以下であり、ハードコート層(b)の厚みが10〜30μmであり、低屈折率層(c)が屈折率1.37以下で、且つエアロゲルからなることを特徴とする反射防止積層体。
【選択図】
図1

Description

本発明は、脂環式構造含有重合体樹脂からなる基材フィルムにハードコート層、及び低屈折率層が順次積層されてなる反射防止積層体であり、それを偏光子の視認側に張り合わせてなる偏光板、及びこれを備える液晶表示装置に関する。
液晶表示装置(以下、「LCD」という。)は、薄型で、軽量、また消費電力が小さいという特徴がある。LCDはその使用分野も従来の電卓や時計などから、耐久性、耐熱性の要求される自動車用途、たとえば、カーナビ、自動車用インナーパネルといった用途に拡大されつつある。
LCDは、一般に、電場の印加により液晶分子の配向方向を制御することで偏光の通過、遮断を切り換える機能を持つ液晶セルと、それを挟む状態で透過軸を直角に配置された二枚の偏光板から構成される。
偏光板としては、偏光子の両面に偏光板保護フィルムを積層したものが用いられる。前記保護フィルムは液晶表示素子の耐傷性、反射防止性等のため、偏光子の外側に張り合わせるフィルムである。
前記保護フィルムとしては、光学特性に優れていることから、セルロースエステルフィルム、特にトリアセチルセルロース(以下、「TAC」と示す。)が用いられていた。
しかし、TACは吸湿性が高いため、湿度により伸縮して、応力歪みによるむらを発生しやすい。そのため、吸湿による歪みは内部応力を発生させ、色むらを引き起こすことになる。しかし、偏光板の耐久性向上が従来以上に要求されつつある中で、上記TACの保護層は、それを満足するに十分な防湿性を有していないという問題があった。
一方で、ノルボルネン系重合体樹脂フィルムは、吸湿性が低いことで知られているが、他の透明プラスチックフィルム、例えばTACフィルムやポリエステル系樹脂フィルム等と比較して、曲げ弾性率が低いため、表面硬度が高くならず、耐擦傷性がフィルム自体の変形により、十分でないことがある。(特許文献1)
また、TACフィルム、あるいはポリエステル系樹脂フィルムは、弾性率が高く、積層フィルムの表面硬度を高くするためには有効であり、ハードコート層、帯電防止層、反射防止層を積層した積層体を偏光板保護フィルムとして用い表面硬度を高くするという提案がなされている。しかしながら、上記積層体は、形成するときに硬化収縮によって、フィルムが大きくカールしてしまったり、ハードコート層にヒビが入ったり、等の困難があった(特許文献2、3、4)。
特開2001-272534号公報 特開2001-228303号公報 特開2001-243841号公報 特開2000−112379号公報
本発明は、かかる従来技術の実情に鑑みてなされたものであり、吸湿による寸法変化が小さく、表面硬度が高く、透明性、帯電防止性能、反射防止性能に優れ、カールの少ない反射防止積層体、並びにこの反射防止積層体を用いる液晶表示装置を提供することを課題とする。
本発明者らは上記課題を解決すべく鋭意研究した結果、曲げ弾性率が、1〜3GPa、湿度膨張係数が1×10−5%RH以下である脂環式構造含有重合体樹脂からなる基材フィルム(a)に、厚みが10〜30μmのハードコート層(b)、低屈折率層(c)を順次積層することにより、表面硬度が高く、透明性、帯電防止性能、反射防止性能に優れ、カールの少ない反射防止積層体を得ることができることを見出し、本発明を完成するに到った。
かくして本発明によれば、曲げ弾性率が、1〜3GPaである脂環式構造含有重合体樹脂からなる基材フィルム(a)上に、少なくともハードコート層(b)及び、低屈折率層(c)が順次積層されてなる反射防止積層体であって、基材フィルム(a)の湿度膨張係数が1×10−5%RH以下であり、ハードコート層(b)の厚みが10〜30μmであり、低屈折率層(c)が屈折率1.37以下で、且つエアロゲルからなることを特徴とする反射防止積層体が提供される。
本発明の反射防止積層体は、表面硬度が高く、透明性に優れ、帯電防止性能、反射防止性能に優れ、カールの少ない反射防止積層体が得られる。
また、上記反射防止積層体を用いた偏光板を組み込んだ液晶表示装置は、表面硬度、透明性、機械的強度、視認性、帯電防止性能及び反射防止性能に優れたものである。
本発明の反射防止積層体は、曲げ弾性率が、1〜3GPaである脂環式構造含有重合体樹脂からなる基材フィルム(a)上に、少なくともハードコート層(b)及び、低屈折率層(c)が順次積層されてなる反射防止積層体であって、基材フィルム(a)の湿度膨張係数が1×10−5%RH以下であり、基材フィルム(a)上に積層された前記ハードコート層(b)の厚みが10〜30μmであり、低屈折率層(c)が屈折率1.37以下で、且つエアロゲルからなることを特徴とする。
本発明に用いる基材フィルム(a)は、脂環式構造含有重合体樹脂からなるものである。特に、1mm厚さの板に成形したときの全光線透過率が80%以上となるものが好ましい。
脂環式構造含有重合体樹脂は、重合体樹脂の繰り返し単位中に脂環式構造を有するものであり、主鎖中に脂環式構造を有する重合体樹脂及び側鎖に脂環式構造を有する重合体樹脂のいずれも用いることができる。
脂環式構造としては、例えば、シクロアルカン構造、シクロアルケン構造等が挙げられるが、熱安定性等の観点からシクロアルカン構造が好ましい。脂環式構造を構成する炭素数に特に制限はないが、通常4〜30個、好ましくは5〜20個、より好ましくは5〜15個である。脂環式構造を構成する炭素原子数がこの範囲にあると、耐熱性及び柔軟性に優れた積層体を得ることができる。
脂環式構造含有重合体樹脂中の脂環式構造を有する繰り返し単位の割合は、使用目的に応じて適宜選択されればよいが、通常50重量%以上、好ましくは70重量%以上、より好ましくは90重量%以上である。脂環式構造を有する繰り返し単位が過度に少ないと耐熱性が低下し好ましくない。なお、脂環式構造含有重合体樹脂における脂環式構造を有する繰り返し単位以外の繰り返し単位は、使用目的に応じて適宜選択される。
脂環式構造含有重合体樹脂の具体例としては、ノルボルネン系重合体、単環の環状オレフィン系重合体、環状共役ジエン系重合体、ビニル脂環式炭化水素重合体、及びこれらの水素化物等が挙げられる。これらの中でも、透明性や成形性の観点から、ノルボルネン系重合体が好ましい。
ノルボルネン系重合体としては、ノルボルネン系単量体の開環重合体、ノルボルネン系単量体と開環共重合可能なその他の単量体との開環共重合体、ノルボルネン系単量体の付加重合体、ノルボルネン系単量体と共重合可能なその他の単量体との付加共重合体及びこれらの水素化物が挙げられる。これらの中でも、透明性の観点から、ノルボルネン系単量体の開環重合体の水素化物が特に好ましい。
ノルボルネン系単量体としては、例えば、ビシクロ[2.2.1]ヘプト-2-エン(慣用名:ノルボルネン)、トリシクロ[4.3.0.12,5]デカ-3,7-ジエン(慣用名:ジシクロペンタジエン)、7,8-ベンゾトリシクロ[4.3.0.12,5]デカ-3-エン(慣用名:メタノテトラヒドロフルオレン)、テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ-3-エン(慣用名:テトラシクロドデセン)、及びこれらの化合物の誘導体(例えば、環に置換基を有するもの)等を挙げることができる。ここで、置換基としては、例えばアルキル基、アルキレン基、アルコキシカルボニル基、カルボキシル基等を挙げることができる。また、これらの置換基は、同一又は相異なって複数個が環に結合していてもよい。ノルボルネン系単量体は1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
ノルボルネン系単量体と開環共重合可能なその他の単量体としては、例えば、シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロオクテン等のモノ環状オレフィン類及びその誘導体;シクロヘキサジエン、シクロヘプタジエン等の環状共役ジエン及びその誘導体;等が挙げられる。
ノルボルネン系単量体の開環重合体及びノルボルネン系単量体とこれと共重合可能なその他の単量体との開環共重合体は、単量体を開環重合触媒の存在下に重合することにより得ることができる。
開環重合触媒としては、通常使用される公知のものを使用できる。
ノルボルネン系単量体と付加共重合可能なその他の単量体としては、例えば、エチレン、プロピレン等の炭素数2〜20のα-オレフィン及びこれらの誘導体;シクロブテン、シクロペンテン等のシクロオレフィン及びこれらの誘導体;1,4-ヘキサジエン等の非共役ジエン等が挙げられる。これらの単量体は1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中では、α-オレフィンが好ましく、エチレンがより好ましい。
ノルボルネン系単量体の付加重合体及びノルボルネン系単量体とこれと共重合可能な他の単量体との付加共重合体は、単量体を付加重合触媒の存在下に重合することにより得ることができる。付加重合触媒としては、通常使用される公知のものを使用できる。
ノルボルネン系重合体の水素化物は、公知の水素化触媒の存在下でノルボルネン系重合体の炭素-炭素不飽和結合を好ましくは90%以上水素化することによって得ることができる。
単環の環状オレフィン系重合体としては、例えば、シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロオクテン等の付加重合体を挙げることができる。
また、環状共役ジエン系重合体としては、例えば、シクロペンタジエン、シクロヘキサジエン等の環状共役ジエン系単量体を1,2-付加重合又は1,4-付加重合した重合体を挙げることができる。
ビニル脂環式炭化水素重合体は、ビニルシクロアルカン又はビニルシクロアルケン由来の繰り返し単位を有する重合体である。ビニル脂環式炭化水素重合体としては、例えば、ビニルシクロヘキサン等のビニルシクロアルカンや、ビニルシクロヘキセン等のビニルシクロアルケンのごときビニル脂環式炭化水素化合物の重合体及びその水素化物;スチレン、α-メチルスチレン等、ビニル芳香族炭化水素化合物を重合し、そして芳香環部分を水素化した物等が挙げられる。
また、ビニル脂環式炭化水素重合体は、ビニル脂環式炭化水素化合物の単量体単位、ビニル芳香族炭化水素化合物の芳香環を水素化した単量体単位を含む。これらの単量体と共重合可能な他の単量体とのランダム共重合体、ブロック共重合体等の共重合体及びその水素化物であってもよい。ブロック共重合体としては、ジブロック、トリブロック、又はそれ以上のマルチブロックや傾斜ブロック共重合体等が挙げられるが、特に制限はない。
脂環式構造含有重合体樹脂は、溶媒としてシクロヘキサン(重合体樹脂が溶解しない場合はトルエン)を用いたゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーにより測定したポリスチレン換算の重量平均分子量が、通常10,000〜300,000、好ましくは15,000〜250,000、より好ましくは20,000〜200,000の範囲である。この範囲の重量平均分子量を持つ該樹脂は、基材フィルムの機械的強度及び成形加工性を高度にバランスするので好適である。
前記脂環式構造含有重合体樹脂は、その分子量分布(重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn))によって特に制限されないが、通常1〜10、好ましくは1〜6、より好ましくは1.1〜4の範囲である。このような範囲に分子量分布を調整することによって、基材フィルムの機械的強度と成形加工性が良好にバランスする。
また、脂環式構造含有重合体樹脂には、所望により各種配合剤を添加することができる。配合剤としては、熱可塑性樹脂材料で通常用いられるものであれば格別な制限はなく、例えば、フェノール系酸化防止剤、リン酸系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤等の酸化防止剤;
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾエート系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、アクリレート系紫外線吸収剤、金属錯体系紫外線吸収剤等の紫外線吸収剤;
ヒンダードアミン系光安定剤等の光安定剤;染料や顔料等の着色剤;
脂肪族アルコールのエステル、多価アルコールのエステル、脂肪酸アミド、無機粒子等の滑剤;トリエステル系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、脂肪酸-塩基酸エステル系可塑剤、オキシ酸エステル系可塑剤等の可塑剤;多価アルコールの脂肪酸エステル等の帯電防止剤;等が挙げられる。
本発明に用いる基材フィルム(a)は、上記脂環式構造含有重合体樹脂を公知の成形方法によりフィルム状に成形することにより得ることができる。
成形方法としては、フィルム中の揮発性成分の含有量や厚さむらを少なくできる点から、溶融押出成形法が好ましい。溶融押出成形法としては、Tダイ等のダイスを用いる方法やインフレーション法等が挙げられるが、生産性や厚さ精度に優れる点でTダイを用いる方法が好ましい。
また、本発明に用いる基材フィルム(a)としては、片面又は両面に表面改質処理を施したものを使用することができる。表面改質処理を行うことにより、ハードコート層や偏光子との密着性を向上させることができる。表面改質処理としては、エネルギー線照射処理や薬品処理等が挙げられる。
エネルギー線照射処理としては、コロナ放電処理、プラズマ処理、電子線照射処理、紫外線照射処理等が挙げられる。処理効率の点等から、コロナ放電処理、プラズマ処理が好ましく、コロナ放電処理が特に好ましい。薬品処理としては、重クロム酸カリウム溶液、濃硫酸等の酸化剤水溶液中に、浸漬し、その後、水で洗浄する方法が挙げられる。
基材フィルム(a)の厚みは、通常5〜300μm、より好ましくは40〜200μmである。さらに好ましくは、50〜100μmである。基材フィルムの厚みが上記範囲にあると、耐久性、機械的強度、耐擦傷性及び光学性能に優れた偏光板が得られる。
本発明に用いることのできる、基材フィルム(a)の湿度膨張係数は、通常1×10−5%RH以下、好ましくは、5×10−6%RH以下である。基材フィルムの湿度膨張係数が上記以下であると、吸湿による基材フィルムの変形がなく、紫外線等のエネルギーを照射した時の硬化収縮によるカールが防止できる。さらに、本発明における反射防止積層体を偏光子に貼り付けて作成した偏光板は、吸湿による偏光板の変形が極めて小さいので、液晶表示装置に組み込んだときに、安定した画像を供給でき、視認性の安定化、額縁故障等を防止できる。
湿度膨張係数αh(%RH)は、基材フィルムを縦方向(MD)及び横方向(TD)に、長さ15cm、幅5cmに2枚切り出し、真空理工製TMA3000にセットし、湿度10%RH、及び湿度80%RHの一定に保ち、それぞれの場合の、サンプルの長さを測定し、次式にて湿度膨張係数を算出する。湿度膨張係数は、縦方向(MD)及び横方向(TD)で測定した値のうち大きい方の値とする。
αh={(L2 −L1 )×/(L1 ×ΔH)}
ここで、L1は湿度10%RH時のサンプル長(cm)、L2は湿度80%RH時のサンプル長(cm)およびΔHは70(=80−10%RH)である。
本発明に用いることのできる、基材フィルム(a)の曲げ弾性率は、1〜3GPaであることが好ましい。基材フィルム(a)の曲げ弾性率が、1GPa未満であると、積層体の表面硬度は、高くならない。
また、曲げ弾性率が、3GPaを超えると基材フィルム(a)上にハードコート層等を積層させ、硬化したときにカールやヒビ割れが起こることがあり、ハードコート層の厚みを大きくできないことがある。
曲げ弾性率が上記好ましい範囲にあることにより、ハードコート層を積層したときに、ハードコート層の硬化収縮を緩和できカールを防止することができる。
上記ハードコート層(b)の形成材料としては、基材フィルム(a)にハードコート層(b)、低屈折率層(c)を順次積層したときに、JIS K5600−5−4に規定される鉛筆硬度試験で、「H」以上の硬度を示すものであれば特に制限されない。
鉛筆硬度試験においては、ハードコート層(b)、低屈折率層(c)を積層した基材フィルム(a)上に鉛筆をある角度で突き立て、一定荷重をかけ、鉛筆を一定速度で移動させ、そのときフィルム上に傷ができないときの硬度を、鉛筆硬度とする。
ハードコート層の平均厚みは特に限定されないが、通常7〜30μm、好ましくは10〜30μmであり、より好ましくは13〜20μmである。
ハードコート層は、その屈折率が1.45以上であることが好ましく、1.50以上であることがより好ましい。ハードコート層の屈折率が1.45以上であると、広帯域における反射防止性能及び耐擦傷性が向上し、ハードコート層の上に積層する低屈折率層の設計が容易になる。屈折率は、例えば、公知の分光エリプソメーターを用いて測定し求めることができる。
ハードコート層の形成材料としては、活性エネルギー硬化型樹脂を用いることができる。例えば、前記、有機シリコーン系、メラミン系、エポキシ系、アクリル系、ウレタンアクリレート系等の有機活性エネルギー硬化性樹脂;二酸化ケイ素等の無機活性エネルギー硬化性樹脂材料;等が挙げられる。なかでも、接着力が良好であり、生産性に優れる観点から、ウレタンアクリレート系、又は多官能アクリレート系の活性エネルギー硬化性樹脂が好ましい。高屈折率層の形成材料には酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、染料や顔料等の着色剤、可塑剤、滑剤、界面活性剤、帯電防止剤等が含まれていても良い。
活性エネルギー線硬化型樹脂の硬化が紫外線照射により行われるときは、光重合開始剤や光重合促進剤を塗工液に配合する。光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等のラジカル重合性開始剤;芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタセロン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等のカチオン重合性開始剤;等が挙げられる。これらは一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いることができる。
光重合開始剤の量は、活性エネルギー線硬化型樹脂100重量部に対し、通常、0.1〜10重量部である。
活性エネルギー線硬化型樹脂塗工液に用いることができる溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、n-ブタノール、イソブタノール等のアルコール類;エチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジアセトングリコール等のグリコール類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;n-ヘキサン、n-ヘプタン等の脂肪族炭化水素;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類;メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類;メチルエチルケトオキシム等のオキシム類;及びこれらの2種以上からなる組み合わせ;等が挙げられる。
活性エネルギー線硬化型樹脂塗工液を基材フィルム上に塗工する方法は特に限定されず、公知の塗工法を採用することができる。塗工法としては、ワイヤーバーコート法、ディップ法、スプレー法、スピンコート法、ロールコート法、グラビアコート法等が挙げられる。
活性エネルギー線硬化型樹脂塗工液を塗工して塗膜を得た後、乾燥し、活性エネルギー線を照射して、硬化させることにより高硬度なハードコート層を形成することができる。
活性エネルギー線の照射強度及び照射時間は特に限定されず、用いる活性エネルギー線硬化型樹脂に応じて適宜、照射強度、照射時間などの照射条件を設定することができる。
ハードコート層の形成方法は特に制限されず、活性エネルギー線硬化型樹脂の溶液を公知の塗工方法により基材フィルム上に塗工して、紫外線等のエネルギー線を照射し硬化させて形成する方法が挙げられる。
活性エネルギー線硬化性樹脂を用いることにより、十分な強度、耐久性、密着性、透明性を兼ね備える高屈折率層を容易に得ることができる。
ハードコート層は、前記基材フィルムに、前記ハードコート材を塗布、乾燥し、硬化させることによって得られる。ハードコート材を塗布する前に、基材フィルムの表面にプラズマ処理、プライマー処理などを施し、ハードコート層の剥離強度を高めることができる。硬化方法としては熱硬化法と、紫外線硬化法とがあるが、本発明においては紫外線硬化法が好ましい。
本発明においては、ハードコート層(b)と低屈折率層(c)の間に、高屈折率層(d)が形成されていることが好ましい。
高屈折率層を形成することで、反射防止積層体に、導電性を付与することができる。
高屈折率層の形成方法は特に制限されず、前記ハードコート層(b)を形成するものと同様の活性エネルギー線硬化型樹脂を用いることができる。例えば、高屈折率層の形成方法は活性エネルギー線硬化型樹脂の溶液を、公知の塗工方法により基材フィルム上に塗工して、紫外線等のエネルギー線を照射し硬化させて形成する方法が挙げられる。
活性エネルギー線硬化型樹脂を用いることにより、十分な強度、耐久性、密着性、透明性を兼ね備える高屈折率層を容易に得ることができる。
高屈折率層(d)の平均厚みは特に限定されないが、通常0.3〜20μm、好ましくは1〜15μmであり、より好ましくは3〜10μmである。
高屈折率層に用いることができる金属酸化物粒子としては、屈折率が高いものが好ましい。具体的には、屈折率が1.6以上、特に1.6〜2.3である金属酸化物粒子が好ましい。
このような屈折率の高い金属酸化物粒子としては、例えば、チタニア(酸化チタン)、二酸化チタン、ジルコニア(酸化ジルコニウム)、酸化亜鉛、酸化錫、酸化セリウム、五酸化アンチモン、スズをドープした酸化インジウム(ITO)、アンチモンをドープした酸化スズ(ATO)、リンをドープした酸化錫(PTO)、亜鉛をドープした酸化インジウム(IZO)、アルミニウムをドープした酸化亜鉛(AZO)、フッ素をドープした酸化スズ(FTO)等が挙げられる。
これらの中でも、二酸化チタン、リンをドープした酸化錫(PTO)、五酸化アンチモンは、屈折率が高く、導電性と透明性のバランスに優れるので、屈折率を調節するための成分として適している。
金属酸化物粒子は、高屈折率層の透明性を低下させないために、いわゆる超微粒子サイズ、より具体的には、一次粒子径が1nm〜100nm、好ましくは1nm〜50nmのものを用いるのが好ましい。
金属酸化物粒子の一次粒子径は、走査型電子顕微鏡(SEM)等により得られる二次電子放出のイメージ写真から目視計測してもよいし、動的光散乱法や静的光散乱法等を利用する粒度分布計等により機械計測してもよい。
また、本発明に用いることができる金属酸化物粒子は、高屈折率層に均一に分散させるために、その表面の少なくとも一部がアニオン性の極性基を有する有機化合物又は有機金属化合物により被覆されていることが好ましい。
前記アニオン性の極性基を有する有機化合物としては、カルボキシル基、リン酸基、又は、水酸基のようなアニオン性の極性基を有するものを用いることができる。例えば、ステアリン酸、ラウリン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレイン酸、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、エチレンオキサイド、変性リン酸トリアクリレート、エピクロロヒドリン変性グリセロールトリアクリレート等が挙げられる。
また、アニオン性の極性基を有する有機金属化合物としては、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、2-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリエトキシシラン、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-(2-アミノエチル)3-アミノプロピルメチルジエトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(2-メトキシエトキシ)シラン、3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤;KR-TTS、KR-46B、KR-55、KR-41B、KR-38S、KR-138S、KR-238S、338X、KR-44、KR-9SA、KR-ET(以上、味の素ファインテクノ(株)製のチタネートカップリング剤)、テトラメトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトライソプロポキシチタン、テトラn-プロポキシチタン、テトラn-ブトキシチタン、テトラsec-ブトキシチタン、テトラtert-ブトキシチタン等のチタネートカップリング剤;等が挙げられる。
表面を有機化合物及び/又は有機金属化合物により被覆して疎水性を付与した金属酸化物粒子は、前記アニオン性の極性基を有する有機化合物及び/又は有機金属化合物を有機溶剤中に溶解させておき、この溶液中に金属酸化物を分散させた後に有機溶剤を完全に蒸発除去することにより得ることができる。
金属酸化物粒子は、2種以上を組み合わせて用いてもよい。主となる機能が異なる金属酸化物粒子同士を組み合わせることにより、複数の機能をバランスよく備えた高屈折率層を形成することができる。例えば、屈折率は極めて大きいが導電性の小さいルチル型酸化チタン微粒子と、導電性は極めて大きいが屈折率はルチル型酸化チタンよりも小さい導電性金属酸化物を組み合わせて、所定の屈折率と良好な帯電防止性能を兼ね備えた高屈折率層を形成することが可能である。
また、金属酸化物微粒子の配合量は、特に制限されないが、優れた耐擦傷性を有し、屈折率が1.60以上の高屈折率層が容易に得られる観点から、活性エネルギー線硬化型樹脂100重量部に対して、通常300〜1000重量部であり、好ましくは400〜900重量部、より好ましくは、500〜800重量部である。
本発明における、低屈折率層(c)は、屈折率が、1.37以下である。好適には、1.37〜1.25であることがさらに好ましく、1.36〜1.32であることが特に好ましい。
上記好ましい条件であることにより、視認性と耐擦傷性、強度のバランスに優れる反射防止積層体が得られる。
低屈折率層の厚さは、10〜1,000nmであることが好ましく、30〜500nmであることがより好ましい。低屈折率層を構成する材料は、エアロゲルである。エアロゲルは、マトリックスの中に微小な気泡が分散した透明性多孔質体であり、気泡の直径は大部分が200nm以下である。エアロゲルの気泡の含有量は、10〜60体積%であることが好ましく、20〜40体積%であることがより好ましい。エアロゲルとしては、シリカエアロゲル、中空粒子がマトリックス中に分散された多孔質体を挙げることができる。
エアロゲルは、アルコキシシランの加水分解重合反応によって得られるシリカ骨格からなる湿潤状態のゲル状物質を、超臨界乾燥することにより製造することができる。超臨界乾燥は、例えば、ゲル状物質を液化二酸化炭素中に浸漬し、ゲル状物質が含む溶媒の全部又は一部をこの溶媒よりも臨界点が低い液化二酸化炭素、アルコールなどの乾燥液に置換し、その後、混合系の超臨界条件下で乾燥液を除去することによって行うことができる。また、シリカエアロゲルは、ケイ酸ナトリウムを原料として、上記と同様にして製造することもできる。エアロゲルの屈折率は、エアロゲルの原料配合比により自由に変化させることができる。
また、もう一つの態様として、中空粒子がマトリックス中に分散された多孔質体としては、微粒子の内部に空隙を有する中空微粒子を、バインダー樹脂に分散させた多孔質体を挙げることができる。バインダー樹脂は、中空微粒子の分散性、多孔質体の透明性、多孔質体の強度などの条件に適合するように、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、塩化ビニル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、フッ素樹脂、シリコーン樹脂、ブチラール樹脂、フェノール樹脂、酢酸ビニル樹脂、紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂、エマルジョン樹脂、水溶性樹脂、親水性樹脂、これらの樹脂の混合物、さらにはこれら樹脂の変性体などの塗料用樹脂、又はアルコキシシランなどの加水分解性有機珪素化合物・及びその加水分解物などを挙げることができる。これらの中で、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂、アルコキシシランなどの加水分解性有機珪素化合物・及びその加水分解物は、微粒子の分散性が良好であり、多孔質体の強度が大きいので、好適に用いることができる。
前記アルコキシシラン等の加水分解性有機珪素化合物およびその加水分解物は、下記(a)〜(c)からなる群から選ばれる1種以上の化合物から形成されたものであって、分子中に、−(O−Si)−O−(式中、mは自然数を表す。)結合を有するものである。
(a)式(1):SiX4で表される化合物。
(b)前記式(1)で表される化合物の少なくとも1種の部分加水分解生成物。
(c)前記式(1)で表される化合物の少なくとも1種の完全加水分解生成物。
中空微粒子は、無機化合物の微粒子を特に制限なく使用することができるが、外殻の内部に空洞が形成された無機中空微粒子であることが好ましく、シリカ系
中空微粒子を特に好適に用いることができる。無機中空微粒子としては、(A)無機酸化物単一層、(B)数種類の無機酸化物からなる複合酸化物の単一層及び(C)上記(A)と(B)との二重層を包含するものを用いることができる。
外殻は細孔を有する多孔質なものであってもよく、あるいは細孔が閉塞されて空孔が外殻の外側に対して密封されているものであってもよい。外殻は、内側の第1無機酸化物被覆層及び外側の第2無機酸化物被覆層からなる複数の無機酸化物被覆層であることが好ましい。外側に第2無機酸化物被覆層を設けることにより、外殻の細孔を閉塞させて外殻を緻密化させたり、さらには、内部の空孔を密封した無機中空微粒子を得ることができる。特に第2無機酸化物被覆層の形成に含フッ素有機珪素化合物を用いる場合は、屈折率が低くなるとともに、有機溶媒への分散性もよくなり、さらに防汚性が付与されるので好ましい。このような含フッ素有機珪素化合物としては、3,3,3-トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、メチル-3,3,3-トリフルオロプロピルジメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルメチルジメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリクロロシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン等を挙げることが出来る。
無機中空微粒子の平均粒子径に特に制限はないが、5〜2,000nmであることが好ましく、20〜100nmであることがより好ましい。平均粒子径が5nm未満であると、中空によって低屈折率になる効果が小さくなるおそれがある。平均粒子径が、2,000nmを超えると、透明性が極端に悪くなり、拡散反射による寄与が大きくなるおそれがある。平均粒子径は、透過型電子顕微鏡観察により、数平均粒子径として求めることができる。
低屈折率層(c)は、前記エアロゲルの材料を保護フィルムまたはハードコート層を積層した基材フィルムに塗布し、乾燥することによって得ることができる。
本発明の反射防止積層体は、入射角5度の波長430nm〜700nmでの反射率の最大値が、通常1.4%以下であり、好ましくは1.3%以下である。入射角5度の波長550nmでの反射率が、通常0.7%以下であり、好ましくは0.6%以下である。反射率が上記の範囲にあることにより、外部光の映りこみ及びギラツキがなく、視認性に優れた液晶表示装置とすることができる。反射率は、分光光度計(紫外可視近赤外分光光度計V-550、日本分光社製)を用いる。
本発明の反射防止積層体は、スチールウール試験前後の全光線透過率の低下が10%以内であり、好ましくは8%以内、より好ましくは6%以内である。
スチールウール試験前後の全光線透過率の変動は下記式で求めた。Rbはスチールウール試験前の全光線透過率、Raはスチールウール後の全光線透過率試験率を表す。
ΔR=(Rb−Ra)/Rb×100(%) (i)
全光線透過率は、日本電色工業(株)社製、「濁度計NDH-300A」を用いてASTM D1003に準拠して測定する。同様の測定を面内の異なる任意の場所5箇所で5回測定し、それらの算術平均値を全光線透過率の値として算出する。
また本発明の反射防止積層体は、スチールウール試験前後の反射率の変動が、通常10%以下、好ましくは8%以下である。反射率の変動が10%を超えると、画面のぼやけ、ギラツキが発生することがある。スチールウール試験は、スチールウール#0000に荷重0.025MPaをかけた状態で、反射防止積層体表面を10回往復させる試験である。反射率は、面内の任意の場所5箇所で5回測定し、それら測定値の算術平均値から算出する。
スチールウール試験前後の反射率の変動は下記式で求めた。Rはスチールウール試験前の反射率Rはスチールウール後の反射率を表す。
ΔR=(R−R)/R×100(%) (ii)
また、本発明の偏光板は、基材フィルム側に、偏光子を積層してなることを特徴とする。
偏光子は、偏光機能を有するものであれば、特に限定はされない。例えば、ポリビニルアルコール(PVA)系やポリエン系の偏光子が挙げられる。
偏光子の製造方法は特に限定されない。PVA系の偏光子を製造する方法としては、PVA系フィルムにヨウ素イオンを吸着させた後に一軸に延伸する方法、PVA系フィルムを一軸に延伸した後にヨウ素イオンを吸着させる方法、PVA系フィルムへのヨウ素イオン吸着と一軸延伸とを同時に行う方法、PVA系フィルムを二色性染料で染色した後に一軸に延伸する方法、PVA系フィルムを一軸に延伸した後に二色性染料で吸着する方法、PVA系フィルムへの二色性染料での染色と一軸延伸とを同時に行う方法が挙げられる。
また、ポリエン系の偏光板を製造する方法としては、PVA系フィルムを一軸に延伸した後に脱水触媒存在下で加熱・脱水する方法、ポリ塩化ビニル系フィルムを一軸に延伸した後に脱塩酸触媒存在下で加熱・脱水する方法等の公知の方法が挙げられる。
本発明の反射防止積層体の基材フィルム側と偏光子との間に、プライマー層を、形成することができる。プライマー層により反射防止積層体と偏光子との接着強度が高くなる。プライマー層を構成する材料としては、例えば、ポリエステルウレタン系樹脂、ポリエーテルウレタン系樹脂、ポリイソシアネート系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、主鎖に炭化水素骨格を有する樹脂、ポリアミド樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体、塩化ゴム、環化ゴム、これらの重合体に極性基を導入した変性物等が挙げられる。これらの中で、主鎖に炭化水素骨格を有する樹脂の変性物及び環化ゴムの変性物を好適に用いることができる。
主鎖に炭化水素骨格を有する樹脂としては、ポリブタジエン骨格又は少なくともその一部に水素添加したポリブタジエン骨格を有する樹脂が挙げられ、具体的には、ポリブタジエン樹脂、水添ポリブタジエン樹脂、スチレン・ブタジエン・スチレンブロック共重合体(SBS共重合体)、その水素添加物(SEBS共重合体)等が挙げられる。なかでも、スチレン・ブタジエン・スチレンブロック共重合体の水素添加物の変性物を好適に用いることができる。
重合体の変性物を得るために用いる極性基を導入するための化合物としては、カルボン酸又はその誘導体が好ましい。例えば、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマール酸等の不飽和カルボン酸;塩化マレイル、マレイミド、無水マレイン酸、無水シトラコン酸等の不飽和カルボン酸のハロゲン化物、アミド、イミド、無水物、エステル等の誘導体;等が挙げられる。これらの中でも、不飽和カルボン酸又は不飽和カルボン酸無水物による変性物は、密着性に優れるので、好適に用いることができる。不飽和カルボン酸又はその無水物の中では、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸がより好ましく、マレイン酸、無水マレイン酸が特に好ましい。これらの不飽和カルボン酸等は、2種以上を混合して用い、変性することもできる。
プライマー層の形成方法は特に制限されず、例えば、プライマー層形成用塗工液を公知の塗工方法により、基材フィルム上に塗工して形成する方法が挙げられる。プライマー層の厚みは特に制限されないが、通常0.01〜5μm、好ましくは0.1〜2μmである。
本発明の偏光板においては、本発明の反射防止積層体が積層されていない偏光子側の面に、プライマー層を介して、保護フィルムが積層されていてもよい。
保護フィルムとしては、複屈折率性を有する材料からなるものが好ましい。複屈折率性を有する材料としては、特に制限されず、例えばトリアセチルセルロース等のセルロースエステルや脂環式構造含有重合体等から形成されるフィルムが挙げられるが、透明性、複屈折性、寸法安定性等に優れる点から脂環式構造含有重合体が好ましい。脂環式構造含有重合体としては、前記基材フィルムの説明部分で記載したものと同様のものが挙げられる。
保護フィルムに複屈折率を与える方法としては、溶液流延法、溶融押出し法、好ましくは、溶融押出し法が挙げられる。好ましくは、溶融押出し法によって成形したフィルムを、必要に応じて延伸配向して得ることができる。
本発明の反射防止積層体を用いた偏光板を備える液晶表示装置の一例として、本発明の液晶表示装置の層構成例を図1に示す。図1に示す液晶表示装置は、下から順に、偏光板22、液晶セル21、及び本発明の反射防止積層体を用いた偏光板1からなる。偏光板1は、液晶セル21上に、図示を省略するプライマーを介して、貼り合わせて用いても良い。
本発明の反射防止積層体は、例えば、携帯電話、デジタル情報端末、ポケットベル(登録商標)、携帯型ゲームのディスプレイ、カーナビゲーション、車載用液晶ディスプレイ、液晶モニター、調光パネル、OA機器用ディスプレイ、AV機器用ディスプレイ等の各種液晶表示素子やエレクトロルミネッセンス表示素子あるいはタッチパネル等の偏光板の保護フィルムとして有用である。
液晶セルは液晶モードによって特に限定されない。液晶モードとしては、TN(Twisted Nematic)型、STN(Super Twisted Nematic)型、HAN(Hybrid Alignment Nematic)型、VA(Vertical Alignment)型、MVA(Multiple Vertical Alignment)型、IPS(In Plane Switching)型、OCB(Optical Compensated Bend)型等が挙げられる。
次に、実施例により本発明を更に詳細に説明する。本発明は下記の実施例に限定されるものではない。
実施例及び比較例中の試験及び評価は以下の方法で行った。
(1)耐擦傷性(スチールウール試験)
スチールウール#0000に荷重0.025MPaをかけた状態で表面を10往復させ、往復させた後の表面状態を目視で観測した。
○:傷が認められない。
×:傷が認められる。
(2)へイズ
JIS K7361−1997に準拠して、日本電色工業社製「濁度計NDH−300A」を用いて測定する。測定を面内の異なる場所5箇所で5回づつ測定し、その算術平均値をヘイズ値とする。
(3)碁盤目試験
JIS−K5600−5−6記載に準じて碁盤目テープ試験を行う。積層フィルムの硬化樹脂層側に、100個の碁盤目状の切り込みを、隙間間隔1mmのカッターガイドを用いて付けた。その上に粘着テープ(ニチバン社製、商品名:CT24)を升目状の切り傷面に張り付け、指の腹で圧し、密着させた後、垂直に引き剥がして目視により升目の剥がれていない個数を数えた。
(4)曲げ弾性率
JIS K 7171に準拠して、引っ張り試験機(オートグラフAG−100kNIS、島津製作所社製)を使用して測定した。
(5)鉛筆硬度
JIS−K5600−5−6に従って、500g荷重で測定する。測定するハードコート層を有する成形体の上に、鉛筆を45度の角度で、上から500gの荷重を掛けて5mm程度引っかき、傷の付き具合を確認し、傷のつかないまでの硬度を、鉛筆硬度とした。
(6)湿度膨張係数
基材フィルムを縦方向(MD)及び横方向(TD)について、長さ15mm、幅5mmに切り出し、真空理工製TMA3000にセットし、湿度10%RH、及び湿度80%RHの一定に保ち、各々のサンプルの長さを測定し、次式にて湿度膨張係数を算出する。縦方向(MD)及び横方向(TD)のうち、値の大きい方を湿度膨張係数とする。
αh={(L2 −L1 )×/(L1 ×ΔH)}
ここで、L1は湿度10%RH時のサンプル長(mm)、L2は湿度80%RH時のサンプル長(mm)およびΔHは70(=80−10%RH)である。
(7)反射率
分光光度計(紫外可視近赤外分光光度計V-550、日本分光社製)を用い、入射角5°、反射角5°にて波長550nmにおける反射率を測定した。
上記測定は面内の異なる任意の場所5箇所で5回行い、それらの算術平均値を反射率の値とした。
(8)全光線透過率
日本電色工業(株)社製、「濁度計NDH-300A」を用いてASTM D1003に準拠して測定する。
(9)液晶表示装置の評価試験(視認性)
市販の液晶テレビ(TNモード、VAモード、MVAモード、IPSモード、OCBモードの20V型液晶テレビを用いた。)から液晶表示パネルを取り外し、液晶セルを挟んでいる偏光板及び視野角補償フィルムの内、視認側に設置されている、偏光板及び視野角補償フィルムを剥がし取り、それに変えて実施例又は、比較例で得た偏光板を該液晶セルに貼り合せて、液晶表示パネルを組み直して、もとの液晶テレビに設置した。液晶表示素子を表示して前正面より基材を目視で観察し、以下の二段階で評価した。グレアとは視野内で過度に輝度が高い点や面が見えることによっておきる不快感や、見にくさのことをいう。
○:グレアや画像のぼやけがない。
×:グレアや画像のぼやけがある。
−:カールにより貼り付け困難なため未測定。
(製造例1)基材フィルム1Aの作製
ノルボルネン系重合体(商品名:ZEONOR 1420R、日本ゼオン社製、ガラス転移温度:136℃、飽和吸水率:0.01重量%未満)のペレットを、空気を流通させた熱風乾燥器を用いて110℃で4時間乾燥した。そしてリーフディスク形状のポリマーフィルター(ろ過精度30μm)が設置され、ダイリップの先端部がクロムめっきされた平均表面粗さRa=0.04μmのリップ幅650mmのコートハンガータイプのTダイを有する短軸押出機を用いて、前記ペレットを260℃で溶融押出しして膜厚50μm、幅600mmの長尺基材フィルム1Aを得た。得られた長尺基材フィルムの飽和吸水率は0.01重量%以下であった。また、面内のレターデーション値(Re)は、2nmであった。
(製造例2)高屈折率層形成剤1HCの調製
五酸化アンチモンの変性アルコールゾル(固形分濃度30%)100重量部に、UV硬化型ウレタンアクリレート紫光UV7000B(日本合成化学社製)8重量部及び光開始剤イルガキュア-184(チバガイギー社製)0.4重量部を混合し、UV硬化型の高屈折率層形成剤1HCを得た。
(製造例3)ハードコート剤2HCの調製
変性アルコール38重量部に対し、UV硬化型ウレタンアクリレート紫光UV7600B(日本合成化学社製)18重量部を光開始剤イルガキュア-184(チバガイギー社製)0.9重量部と混合し、ハードコート剤2HCを得た。
(製造例4)プライマー溶液Pの調製
無水マレイン酸変性スチレン・ブタジェン・スチレンブロック共重合体の水素添加物(メルトインデックス値は200℃、5kg荷重で1.0g/10分、スチレンブロック含量30重量%、水素添加率80%以上、無水マレイン酸付加量2%)2重量部を、キシレン8重量部とメチルイソブチルケトン40重量部の混合溶媒に溶解し、孔径1μmのポリテトラフルオロエチレン製のフィルターで濾過して、プライマー溶液Pを得た。
(製造例5)低屈折率層形成用塗工液1Lの調製
テトラメトキシシランのオリゴマ−(コルコート社製「メチルシリケート51」)と、メタノールと、水と、0.01Nの塩酸水溶液を質量比22:36:2:2で混合し、これを25℃の高温槽中で2時間撹拌して、重量平均分子量870のシリコーンレジンを得た。
次に中空シリカ微粒子として中空シリカイソプロパノール分散ゾル(固形分25%,平均一次粒子径約30nm、外殻厚み約7nm)を前記シリコーンレジンに加え、中空シリカ微粒子/シリコーンレジン(縮合化合物換算)が固形分基準で重量比が8:2となるように配合し、その後,全固形分が1%になるようにメタノールで希釈し、低屈折率層形成用塗工液1Lを調製した。
(製造例6)偏光板保護フィルムFの作製
製造例1と同様の方法の溶融押出し成形で、脂環式構造含有重合体樹脂(ZEONOR1420、日本ゼオン社製;ガラス転移温度136℃)からなる幅650mm、平均厚さ80μmの基材フィルムを得た。
さらに、この基材フィルムを縦延伸機(ロール側の周速の差を利用して縦方向に一軸延伸する方法)で、140℃雰囲気下で1.3倍に延伸し、平均厚さ68μm、面内のレターデーション(Re):35nm、厚さ方向のレターデーション(Rth):130nmの保護フィルムFを得た。
(製造例7)偏光子Gの作製
厚さ85μmのPVAフィルム(クラレ社製 ビニロン#8500)をチャックに装着し、2.5倍延伸し、ヨウ素0.2g/l、ヨウ化カリウム60g/lよりなる水溶液中に30℃にて240秒浸漬し、次いでホウ酸70g/l、ヨウ化カリウム30g/lの組成の水溶液に浸漬し、その状態で6.0倍に一軸延伸し5分間保持した。最後に室温で24時間乾燥し、平均厚さ30μmで、偏光度99.993%の偏光子Gを得た。
実施例1
基材フィルム1Aの両面に、高周波発信機(コロナジェネレータHV05-2、Tamtec社製)を用いて、3秒間コロナ放電処理を行い、表面張力が0.072N/mの基材フィルムを得た。
製造例3で得たハードコート剤2HCを、ダイコーターを用いて塗布した。
次いで80℃で5分間乾燥させ、紫外線照射(積算光量500mJ/cm)を行い、ハードコート剤2HCを硬化させ、厚さ12μmのハードコートを積層した基材フィルムを得た。
さらにその上面に、高屈折率層として、製造例2で得られた高屈折率層形成剤1HCを、ハードコート剤2HC同様に塗布、80℃で5分間乾燥し、紫外線照射(積算光量200mJ/cm)を行い、硬化し、厚さ7μmの高屈折率層を積層した基材フィルムを得た。
次に、低屈折率層形成用塗工液1Lを、高屈折率層を積層した基材フィルムの上にワイヤーバーコーターによって塗布し、1時間放置して乾燥し、被膜を120℃で10分間、酸素雰囲気下で熱処理し、厚さ100nmの低屈折率層を形成した反射防止積層体1Aを得た。
この反射防止積層体1Aの他方の面に、製造例4で得られたプライマー溶液Pを塗布し、偏光子Gを貼り合わせた。
次に、偏光子Gの他方に偏光板保護フィルムFをプライマー溶液Pで貼り合わせて偏光板1を得た。
比較例1
基材フィルム1Aの替わりに、厚さ40μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(東洋紡エステルフィルム コスモシャインA4800厚み50μm)を用いた他は、実施例1と同様に実施し、反射防止積層体2Aを得た。
さらに、実施例1と同様の方法で、偏光子G、保護フィルムFをはりあわせ、偏光板2を得た。
比較例2
基材フィルム1Aの替わりに、厚さ40μmのトリアセチルセルロース(TAC)フィルム(商品名:KC4UX2M、コニカミノルタ社製)を用いた他は、実施例1と同様にして、反射防止積層体3Aを得た。他は実施例1と同様の方法で、偏光板3を得た。
実施例1、及び比較例2、3で用いた基材フィルムの湿度膨張係数、実施例1、及び比較例2、3で得られた反射防止積層体1A〜3Aの光線反射率、全光線透過率、ヘイズ値、低屈折率層の屈折率、反射率、を表1に示した。
さらに、偏光板1、2、及び3を、液晶表示装置に組み込んだ時の視認性、耐擦傷性、コントラスト比、表示性能の評価(視野角特性)の結果を表1に示した。
表1より、実施例1の反射防止積層体は、曲げ弾性率が低いにもかかわらず、鉛筆硬度は、比較例1、2と同じ硬度を示した。
また実施例1の偏光板は、スチールウール試験においても良好な結果が得られた。実施例1は、湿度膨張係数が低い基材フィルムを用いたため、つまり熱せられたときの乾燥による熱収縮が小さい基材フィルムであるため、ハードコート層のカール、ヒビ割れ、基材のカールも無く良好である。対して、比較例1、2は、カール、ヒビ割れ、基材のカールが発生した。
碁盤目剥離試験においては、実施例1の低屈折率層、高屈折率層、ハードコート層の剥離は見られなかった。比較例2,3は、剥離が確認された。
また、さらに本発明の実施例1偏光板を用いて作製した液晶表示装置はグレアや画像のぼやけが全くなく、視認性は良好であった。
比較例1、2に付いては、カール発生のため、液晶表示装置への貼り付けが困難であったため評価できなかった。

Figure 2006178123
本発明の反射防止積層体を組み込んだ液晶表示装置の概略図である。
符号の説明
1・・偏光板、21・・液晶セル、22・・反射防止機能付き偏光板

Claims (5)

  1. 曲げ弾性率が、1〜3GPaである脂環式構造含有重合体樹脂からなる基材フィルム(a)上に、少なくともハードコート層(b)及び、低屈折率層(c)が順次積層されてなる反射防止積層体であって、
    基材フィルム(a)の湿度膨張係数が1×10−5%RH以下、
    ハードコート層(b)の厚みが10〜30μmであり、
    低屈折率層(c)が屈折率1.37以下で、且つエアロゲルからなることを特徴とする反射防止積層体。
  2. ハードコート層(b)と低屈折率層(c)との間に、屈折率が1.55以上である高屈折率層(d)が形成され、該高屈折率層を形成する材料が活性エネルギー線硬化型樹脂100重量部に対して、金属酸化物微粒子300〜1000重量部を含有して成ることを特徴とする請求項1記載の反射防止積層体。
  3. 前記金属酸化物微粒子が、五酸化アンチモン、リンがドープされた酸化スズ及び二酸化チタンの中から選ばれる少なくとも一種からなることを特徴とする請求項2に記載の反射防止積層体。
  4. 請求項1〜4のいずれかに記載の反射防止積層体に、偏光子を張り合わせてなることを特徴とする偏光板。
  5. 請求項1〜5に記載の偏光板を備えることを特徴とする液晶表示装置。








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