JP2006163355A - 液晶表示装置及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 本発明による液晶表示装置は、ゲートライン102と、ゲートライン102とゲート絶縁膜を介して交差して画素領域を定義するデータライン104と、ゲートライン102及びデータライン104と接続された薄膜トランジスタ106と、ゲートライン102、データライン104、及び薄膜トランジスタ106を覆うように形成され、画素領域内にゲート絶縁膜を貫通する透過ホールを有する有機膜と、透過ホールを通じて有機膜上に形成され、薄膜トランジスタ106と接続される画素電極118及び画素電極118上に画素電極118のエッジ部と異なるエッジ部を有し、透過ホールの画素電極118を露出させる反射電極156とを含む。
【選択図】 図2
Description
ャネル部を除いた活性層116の上に形成されたオーミック接触層146とを備える。
ボッシング形状を有することによって、散乱効果で反射効率を増大させる。
れる。
共に形成されたデータライン104と接続される。
4:ブラックマトリクス
6:カラーフィルター
8:共通電極
10:カラーフィルター基板
12:下部ガラス基板
14,102:ゲートライン
16,104:データライン
18,TFT:薄膜トランジスタ
20:薄膜トランジスタ基板
22,118:画素電極
24:液晶
108:ゲート電極
110:ソース電極
112:ドレイン電極
114:ドレインコンタクトホール
116:活性層
130,138:コンタクトホール
120:ストレージキャパシタ
126:ゲートパッド
128:ゲートパッド下部電極
132:ゲートパッド上部電極
134:データパッド
136:データパッド下部電極
140:データパッド上部電極
142:基板
144:ゲート絶縁膜
146:オーミック接触層
150:保護膜
156:反射電極
160、166、168:コンタクト電極
170:透過ホール
Claims (29)
- ゲートラインと、
前記ゲートラインとゲート絶縁膜を介して交差して画素領域を定義するデータラインと、
前記ゲートライン及びデータラインと接続された薄膜トランジスタと、
前記ゲートライン、データライン、及び薄膜トランジスタを覆うように形成され、前記画素領域内に前記ゲート絶縁膜を貫通する透過ホールを有する有機膜と、
前記透過ホールを通じて前記有機膜上に形成され、前記薄膜トランジスタと接続される画素電極及び前記画素電極上に前記画素電極のエッジ部と異なるエッジ部を有し、前記透過ホールの前記画素電極を露出させる反射電極と、を含むことを特徴とする液晶表示装置。 - 前記有機膜及び画素電極がエンボッシング表面を有することを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。
- 前記反射電極がエンボッシング表面を有することを特徴とする請求項2に記載の液晶表示装置。
- 前記反射電極が、前記画素電極と接続され、前記透過ホールの側面を覆うように形成されることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。
- 前記反射電極のエッジ部が、前記画素電極のエッジ部より外側に位置するように形成されることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。
- 前記反射電極が、前記ゲートライン及びデータラインの中、少なくとも一つと重畳されることを特徴とする請求項5に記載の液晶表示装置。
- 前記有機膜の下に無機絶縁物質で形成された保護膜をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。
- 前記画素電極は、前記有機膜を貫通するドレインコンタクトホールを通じて、前記薄膜トランジスタのドレイン電極と接続されることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。
- 前記画素領域を横切って前記データラインと交差し、前記ゲート絶縁膜を介して前記薄膜トランジスタから延長されたドレイン電極と重畳されるストレージライン及びドレイン電極を含むストレージキャパシタをさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。
- 前記データライン及び薄膜トランジスタと重畳された半導体パターンをさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。
- 前記ゲートライン及びデータラインの中、少なくとも一つのラインと接続されたパッドをさらに含み、
前記パッドは、少なくとも一つのラインと接続されたパッド下部電極と、前記有機膜から前記ゲート絶縁膜まで貫通し、前記パッド下部電極を露出させるコンタクトホール及び前記コンタクトホールを通じて前記パッド下部電極と接続されたパッド上部電極と、を含むことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。 - 前記データラインと隣接するように前記パッド下部電極から伸張されたデータリンクと、
前記データリンク及びデータラインを露出させる複数のコンタクトホールと、
前記コンタクトホールを貫通し、前記データリンクを前記データラインと接続させるコンタクト電極と、をさらに含むことを特徴とする請求項11に記載の液晶表示装置。 - 前記コンタクト電極は、前記画素電極と同一の透明導電膜及び前記反射電極と同一の反射金属層の中、少なくとも一つを含むことを特徴とする請求項12に記載の液晶表示装置。
- 前記コンタクト電極が前記透明導電膜及び反射金属層で形成され、前記反射金属層は前記透明導電膜のエッジ部より外側に位置するように形成されることを特徴とする請求項13に記載の液晶表示装置。
- 前記コンタクト電極は、シーラントによって密封される領域に位置することを特徴とする請求項12に記載の液晶表示装置。
- 前記パッドがゲートパッド及びデータパッドの中の何れか一つであることを特徴とする請求項11に記載の液晶表示装置。
- 基板上にゲートラインを形成する第1マスク工程と、
前記ゲートライン上にゲート絶縁膜を形成し、前記ゲート絶縁膜上に半導体パターンを形成し、前記半導体パターン上に前記ゲートラインと交差して画素領域を定義するデータライン、ソース電極、及びドレイン電極を形成する第2マスク工程と、
前記データライン、ソース電極、及びドレイン電極の上に有機膜を形成し、前記有機膜及び前記ゲート絶縁膜を貫通する透過ホールを形成する第3マスク工程と、
前記透過ホールを通じて前記画素領域の前記有機膜上に形成され、前記ドレイン電極と接続された画素電極を形成する第4マスク工程と、
前記画素領域に反射電極を形成し、前記透過ホールの画素電極を露出させる第5マスク工程と、を含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 - 前記第1マスク工程は、前記基板上に前記ゲートラインと並立するストレージラインを形成する段階をさらに含み、
前記第2マスク工程は、前記ストレージラインと、ドレイン電極を含むストレージキャパシタと、を形成する段階をさらに含み、前記ストレージラインが前記ゲート絶縁膜を介して薄膜トランジスタから伸張された前記ドレイン電極と重畳されることを特徴とする請求項17に記載の液晶表示装置の製造方法。 - 前記第1マスク工程は、前記ゲートライン及びデータラインの中、少なくとも一つのラインと接続されるパッド下部電極を形成する段階をさらに含み、
前記第3マスク工程は、前記パッド下部電極を露出させるコンタクトホールを形成する段階をさらに含み、
前記第4マスク工程は、前記コンタクトホールを通じて前記パッド下部電極と接続されたパッド上部電極を形成する段階をさらに含むことを特徴とする請求項17に記載の液晶表示装置の製造方法。 - 前記第1マスク工程は、前記パッド下部電極から伸張され、前記データラインと接続されるデータリンクを形成する段階をさらに含み、
前記第3マスク工程は、前記データリンク及びデータラインを露出させる複数のコンタクトホールを形成する段階をさらに含み、
前記第4マスク工程及び第5マスク工程の中、少なくとも一つの工程が、前記コンタクトホールを貫通して前記データリンクをデータラインと接続させるコンタクト電極を形成する段階をさらに含むことを特徴とする請求項19に記載の液晶表示装置の製造方法。 - 前記コンタクト電極が、前記画素電極と同一の透明導電膜と前記反射電極と同一の反射金属層の中、少なくとも一つを含むことを特徴とする請求項20に記載の液晶表示装置の製造方法。
- 前記コンタクト電極が、前記透明導電膜及び反射金属層で形成され、前記反射金属層は前記透明導電膜のエッジ部より外側に位置するように形成されることを特徴とする請求項21に記載の液晶表示装置の製造方法。
- 前記コンタクト電極はシーラントによって密封される領域に位置することを特徴とする請求項20に記載の液晶表示装置の製造方法。
- 前記反射電極が前記画素電極と接続され、前記透過ホールの側面を包むように形成されることを特徴とする請求項17に記載の液晶表示装置の製造方法。
- 前記反射電極のエッジ部が前記画素電極のエッジ部より外側に位置するように形成されることを特徴とする請求項17に記載の液晶表示装置の製造方法。
- 前記反射電極が、前記ゲートライン及びデータラインの中、少なくとも一つのラインと重畳するように形成されることを特徴とする請求項17に記載の液晶表示装置の製造方法。
- 前記第3マスク工程が、前記有機膜の下に形成された無機絶縁物質で形成された保護膜を形成する段階をさらに含むことを特徴とする請求項17に記載の液晶表示装置の製造方法。
- 前記第3マスク工程が、前記有機膜を貫通して前記ドレイン電極を露出させるドレインコンタクトホールを形成する段階をさらに含み、
前記画素電極は、前記ドレインコンタクトホールを通じて前記ドレイン電極と接続されることを特徴とする請求項17に記載の液晶表示装置の製造方法。 - 前記画素電極のエッジ部は、前記反射電極のエッジ部とは異なるように形成されることを特徴とする請求項16に記載の液晶表示装置の製造方法。
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