JP2006154515A - 電子インク表示装置及びその製造方法 - Google Patents

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泰 之 間久保
Tadao Nakamura
村 忠 夫 中
Yoshikazu Hirota
田 喜 計 廣
Yuichiro Omae
前 勇一郎 大
Masahiro Nakatani
谷 昌 弘 中
Doremalen Ric Van
ファン ドレマレン リック
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Abstract

【課題】機械的強度及び耐湿性に優れたパネル構造を備えた電子インク表示装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】表示用画素を有する第1基板10と、電子インク層13を含む第2基板16と、第2基板の寸法よりも大きく、第2基板から延在するプロテクト基板20と、第2基板から延在したプロテクト基板と第1基板との間に充填された光硬化性シール材とを備え、第1の基板と第2の基板のコンタクト部であって表示装置の一辺から突出して設けられた部分の一側辺壁が、プロテクト基板と第1基板との間に照射される光の方向に対して角度をなすように傾斜して形成される。
【選択図】図1

Description

本発明は電子インク表示装置及びその製造方法に関し、特に機械的強度及び耐湿性に優れたパネル構造を備えた電子インク表示装置及びその製造方法に関する。
近年、電子インクを用いた表示装置が研究開発されている。この電子インクは、特許文献1に示されるようにマイクロカプセル中に負の電荷を帯びた黒顔料チップと、正の電荷を帯びた白顔料チップとが混入されており、電界を印加することにより、黒顔料チップ及び白顔料チップが移動することにより表示を行う。
この電子インクを用いた表示装置は、通常、表示用画素を有する基板と、電子インク層を含む基板とを貼り合わせて製作されるが、電子インク層を含む基板が比較的薄いため、電子インク表示装置全体としての機械的強度が弱い。
このため、本出願人は、先の出願(2004−125669号)において、表示用画素を有する第1基板と、前記第1基板上に設けられており、少なくとも電子インク層を含む第2基板と、前記第2基板上に設けられており、前記第2基板の寸法よりも大きく、前記第2基板から延在するプロテクト基板と、を具備し、前記第2基板から延在した前記プロテクト基板と前記第1基板との間にシール材が充填されていることを特徴とする電子インク表示装置を提案し、機械的強度の改善を図った。
このようなプロテクト基板は電子インク層を含む第2基板を保護することができる。
ここで、プロテクト基板と第1基板との間にシール材が充填されているのは、
電子インク層が湿気に弱いためである。したがって、シールは外部雰囲気を完全に遮断できるように、確実に行われる必要がある。
このため、シーリングにおいては、シール材として光硬化型、特に紫外線(UV)硬化型の材料を用いる。シール材は第2基板から延在したプロテクト基板と第1基板との間に毛細管現象を利用して充填されるので良好な充填状態が得られる。
この充填後、シール材に対して紫外線を照射することによりシール材の硬化を行う。
特開2002−202534号公報
しかしながら、電子インク表示装置においては、第1基板と第2基板のコンタクト部は表示装置の一辺において突出するように設けられており、この部分の側壁はその辺に対して垂直になっている。
この様子は図10に示されており、図10(a)に示すように、コンタクト部40は表示領域よりも突出した形状となっており、その側壁41,42は表示領域の長手辺に対して垂直方向に延出している。
しかし、硬化のための紫外線は表示装置の各辺に対して垂直に照射されるため、図10(b)に示されるように、コンタクト部の側壁は、光の照射方向と平行になってしまうため、この部分のシール材には紫外線の照射が不十分となる。したがって、シール材が十分に硬化しないため、強度が不足したり、十分な耐湿性が得られなかったり、気泡が発生したりするという問題が生じており、また、完全に硬化させるために、スポット照射設備を準備して硬化させるという追加工程が必要になるという問題がある。
本発明はこのような問題を解決するためになされたものであり、機械的強度及び耐湿性に優れたパネル構造を備えた電子インク表示装置およびその製造方法を提供することを目的とする。
本発明の電子インク表示装置は、表示用画素を有する第1基板と、前記第1基板上に設けられ、少なくとも電子インク層を含む第2基板と、前記第2基板上に設けられ、前記第2基板の寸法よりも大きく、前記第2基板から延在するプロテクト基板と、前記第2基板から延在した前記プロテクト基板と前記第1基板との間に充填された光硬化性シール材とを備え、前記第1の基板と前記第2の基板のコンタクト部であって表示装置の一辺から突出して設けられた部分の少なくともその一側辺壁が、前記プロテクト基板と前記第1基板との間に照射される光の方向に対して角度をなすように傾斜して形成されたことを特徴とする。
この構成によれば、突出して形成された第1の基板と第2の基板の接続部の少なくとも一側辺壁が照射される光の方向に対して角度をなしているため、この部分に形成されたシール材に光が効率良く照射される結果、シール材を十分に硬化させることができ、耐湿性に優れた構造を実現することができる。
本発明の電子インク表示装置の製造方法は、表示用画素を有する第1基板上に、少なくとも電子インク層を含む第2基板を貼り付ける工程と、前記第2基板上に、前記第2基板の寸法よりも大きいプロテクト基板を、前記第2基板から延在するように貼り付ける工程と、前記第2基板から延在した前記プロテクト基板と前記第1基板との間に光硬化性シール材を毛細管現象を利用して充填する工程とを含み、前記第1の基板と前記第2の基板のコンタクト部であって表示装置の一辺から突出して設けられた部分の少なくともその一側辺壁が、前記プロテクト基板と前記第1基板との間に照射される光の方向に対して角度をなすように傾斜して形成されたことを特徴とする。
本発明によれば、機械的強度及び耐湿性に優れたパネル構造を備えた電子インク表示装置およびその製造方法を提供することができる。
以下、本発明の実施の形態について、添付図面を参照して詳細に説明する。図1は、本発明の一実施の形態に係る電子インク表示装置の概略構造を示す図である。また、図2は、図1に示す電子インク表示装置のFPLの概略構造を示す図である。
図1に示すように、本発明の電子インク表示装置は、表示用画素を有するTFT(Thin Film Transistor)基板10上に設けられた、電子インク層を含むフロントプレーンラミネート(FPL(Front Plane Laminate))12〜16と、FPL12〜16上に設けられたプロテクトシート(Protect Sheet)20と、から主に構成されている。
具体的には、TFT基板10上には、ラミネーション接着剤層12を介して電子インク層13が設けられている。電子インク層13は、電子インクを封入したマイクロカプセルがバインダ中に含まれて構成されている。電子インク層13上には、ITO層15を有するPET(Polyethylene Terephthalate)層16が設けられている。また、電子インク層13の端部には、TPA(Top Plane Adhesive)層11が形成されている。このTPA層11は、PET層16のITO層15上であってTPA層11に対応する領域に設けられた接続用パッド14と、TFT基板10との間に設けられる。なお、接続用パッドとしては、Agパッドなどを用いることができる。
TFT基板10の厚さは、約200〜約700μmであることが好ましい。TPA層11の厚さは、約40μm以下であることが好ましい。ラミネーション接着剤層12の厚さは、約20μm以下であることが好ましい。電子インク層13の厚さは、約20μm以下であることが好ましい。接続用パッド14の厚さは、TPA層11の厚さに応じて決定されるが、約10μm以下であることが好ましい。ITO層15の厚さは、約1μm以下であることが好ましい。PET層16の厚さは、約100〜約250μmであることが好ましい。
FPL12〜16は、図2に示すようにしてTFT基板10上に貼り付けられる。FPLは、PET層16の一方の主面上にITO層15が設けられ、ITO層15上に電子インク層13が設けられ、電子インク層13上にラミネーション接着剤層12が設けられており、PET層16の他方の主面上にクリア接着剤層17が設けられている。クリア接着剤層17上には、リリースライナ31が設けられている。
FPL12〜16をTFT基板10上に貼り付けるときには、まずTFT基板10の所定の位置にTPA層11を形成しておき、ラミネーション接着剤層12をTFT基板10側に向けてFPL12〜16をTFT基板10に貼り付ける。このとき、FPLの接続用パッド14がTPA層11に接触するように、TFT基板10とFPL12〜16とを位置合わせする。なお、FPL12〜16は、TFT基板10に貼り付けられるので、この工程を考慮すると、全体の厚さは、約300μm以下であることが好ましい。
図1において、FPLのPET層16上には、クリア接着剤層17を介してプロテクトシート20が設けられている。このプロテクトシート20を設けることにより、電子インク表示装置の機械的強度を向上させて電子インク層を保護することができる。プロテクトシート20は、その一方の主面上にクリア接着剤層19を介して耐湿バリア膜18が設けられた構成を有する。FPL12〜16上にプロテクトシート20を貼り付けるときには、まずFPLのリリースライナ31を剥がし、プロテクトシート20の耐湿バリア膜18がFPLのクリア接着剤層17に当接させるようにして、プロテクトシート20をFPL上に置く。
クリア接着剤層17の厚さは、約20〜約200μmであることが好ましい。耐湿バリア膜18の厚さは、約1μm以下であることが好ましい。クリア接着剤層19の厚さは、約20〜約50μmであることが好ましい。プロテクトシート20の厚さは、約200μm以下であることが好ましい。プロテクトシート20には、照明や太陽光の映り込みを軽減させるために、アンチグレア処理が施されていることが好ましい。なお、プロテクトシート20の材料としては、PETフィルムなどを用いることができる。また、プロテクトシート20は、FPL12〜16に貼り付けられるので、この工程を考慮すると、全体の厚さは、約300μm以下であることが好ましい。
プロテクトシート20の寸法は、FPL12〜16の寸法よりも大きく設定されている。このため、プロテクトシート20の両端部は、FPL12〜16の端部から庇のように延在している。この延在したプロテクトシート20とTFT基板10との間の空間には、エッジシール24が形成されている。このエッジシール24により、電子インク層13に水分が入り込むことを防止でき、電子インク表示装置の耐湿性を向上させることができる。
エッジシール24の材料としては、紫外線硬化型樹脂のような光硬化型樹脂を用いることが好ましい。
エッジシール24は、延在したプロテクトシート20とTFT基板10との間の空間を利用して、封入口から導入された光硬化型樹脂を毛細管現象によりその空間に充填することにより形成する。このように毛細管現象を利用することにより、延在したプロテクトシート20とTFT基板10との間の空間に隙間なく光硬化型樹脂を充填することができる。
また、エッジシール24は、FPL12〜16の端面側から、プロテクトシート20とTFT基板10との間に光を照射させることにより硬化して形成する。FPL12〜16の端面側から光を照射することにより、延在したプロテクトシート20とTFT基板10との間の空間に隙間なく充填された光硬化型樹脂に十分に光を照射することができ、十分に光硬化型樹脂を硬化させることができる。その結果、耐湿性に優れた構造を実現することができる。
TFT基板10には、TCP(Tape Carrier Package)22の一方の端部が接続されている。TCP22の他方の端部には、PCB(Printed Circuit Board)21が接続されている。また、TCP22の他方の端部には、表示装置駆動用のドライバーIC23が実装されている。なお、本実施の形態においては、TFT基板10に接続する基板としてTCP22及びPCB21を用いた場合について説明しているが、本発明においては、TFT基板10に接続する基板としてTAB(Tape Automated Bonding)やFPC(Flexible Printed Circuit)などを用いても良い。
図3は本発明による電子インク表示装置のコンタクト部を示す部分拡大平面図であって、図10(a)と同じ箇所40を示している。
図3から明らかなように、コンタクト部40の一方側の側壁43はUV照射方向に対して約45の度の角度をなすように傾斜して形成されている。したがって、破線で囲まれた傾斜部分では紫外線が効率良く照射され、短時間で所望の硬度や緻密性に達するように硬化する。
また、側壁を傾斜させることでこのコンタクト部が設けられている辺との角度が緩やかになり、シール材の回り込み特性も向上してシール効果が向上する。
この側壁と光照射方向のなす角度は図9で説明した平行である場合を除き、すなわち少しでも傾斜角度が与えられる限り有効である。この場合、傾斜角を大きくすればシール材の硬化には有効であるが、通常この近傍には接続端子が設けられるため、その配置を妨げないことが必要である。また、コンタクト部の側壁の両側に角度を与えることもできるが、これも接続端子との配置関係を考慮する必要がある。
次に、上記構成を有する電子インク表示装置の製造方法について説明する。まず、図4に示すように、表面を洗浄したTFT基板10の所定の位置にTPA層11を形成する。この場合、TPA層11は、位置合わせされた状態でディスペンサ32によりディスペンスされる。
次いで、図5(a),(b)に示すように、TFT基板10上にFPLを貼り付ける。この場合、接続用パッド14がTPA層11上に位置するように位置合わせした状態で、比較的高温(例えば約100℃)でローラ33を用いて、TFT基板10上にFPLを貼り付ける。
次いで、図6(a),(b)に示すように、FPL上にプロテクトシート20を貼り付ける。この場合、プロテクトシート20をFPLに位置合わせした状態で、室温でローラ34を用いて、FPL上にプロテクトシート20を貼り付ける。なお、この後に、基板全体を最適な温度及び圧力のオートクレーブ中に入れることにより、貼り合わせ面に残存した気泡を除去することができる。このとき、図8に示すように、FPLの端部からプロテクトシート20の端部が延在しており、延在したプロテクトシート20とTFT基板10との間の空間37が形成される。
図6(b)に示すようなFPL及びプロテクトシート20を貼り付けたTFT基板10の外周にシール材として光硬化型樹脂(ここでは、紫外線硬化型樹脂)を塗布する。このとき、図7に示すように、TFT基板10を支持台35上に載置し、その状態で光硬化性樹脂をディスペンサ36を用いてディスペンスする。このようにディスペンスされた光硬化型樹脂は、毛細管現象により、延在したプロテクトシート20とTFT基板10との間の空間37に侵入し、空間37を完全に充填する。
この際、前述したように、側壁に傾斜角度を有するコンタクト部分ではシール材の回り込み特性が向上する。
次に、空間37に充填された光硬化型樹脂は、所定の条件で光(紫外線)を照射することにより硬化する。このとき、光は、図9に示すように、FPL12〜16の端面側から(図中の矢印方向)照射する。プロテクトシート20の材料に紫外線カットタイプのPETフィルムを用いる場合、紫外線をプロテクトシート20の上方から照射することができないので、このような場合に、FPL12〜16の端面側から紫外線を照射することは有利である。これにより、延在したプロテクトシート20とTFT基板10との間の空間37に隙間なく充填された光硬化型樹脂に十分に光を照射することができ、十分に光硬化型樹脂を硬化させてエッジシール24とすることができる。
この光照射の際、コンタクト部においては、その側壁の少なくとも一方は照射光に対して角度をなすように傾斜しているため、光が効率的に照射され、硬化特性が向上する。
なお、光を照射した後に、必要に応じて加熱して光硬化型樹脂を完全に硬化させる。この結果、耐湿性に優れた構造を実現することができる。
本発明においては上記実施の形態に開示された方法に限定されない。例えば、また、エッジシール材の充填方法として、延在したプロテクトシート20とTFT基板10との間の空間37にエッジシール材を物理的に圧入しても良く、TFT基板10の所定の領域にあらかじめエッジシール材を印刷しても良い。
このように本実施の形態に係る電子インク表示装置は、機械的強度及び耐湿性に優れたパネル構造を備えたものである。
本発明は上記実施の形態に限定されず、種々変更して実施することが可能である。例えば、上記実施の形態における寸法、数、材料などは一例であり、同様の効果を奏する範囲内で適宜変更することが可能である。
本発明の一実施の形態に係る電子インク表示装置の概略構造を示す図である。 図1に示す電子インク表示装置のFPLの概略構造の一例を示す図である。 本発明にかかる電子インク表示装置のコンタクト部の形状の詳細を示す部分拡大平面図である。 本発明の一実施の形態に係る電子インク表示装置の製造方法を説明するための図である。 (a),(b)は、本発明の一実施の形態に係る電子インク表示装置の製造方法における基板貼り付け工程を説明するための図である。 (a),(b)は、本発明の一実施の形態に係る電子インク表示装置の製造方法における基板貼り付け工程を説明するための図である。 本発明の一実施の形態に係る電子インク表示装置の製造方法におけるエッジシール工程を説明するための図である。 本発明の一実施の形態に係る電子インク表示装置の製造方法におけるエッジシール工程を説明するための図である。 本発明の一実施の形態に係る電子インク表示装置の製造方法におけるエッジシール工程を説明するための図である。 (a)(b)は従来の電子インク表示装置のコンタクト部の形状を示す
符号の説明
10 TFT基板
11 TPA層
12 ラミネーション接着剤層
13 電子インク層
14 接続用パッド
15 1TO層
16 PET層
17,19 クリア接着剤層
18 耐湿バリア膜
20 プロテクトシート
21 PCB
22 TCP
23 ドライバIC
24 エッジシール
31 リリースライナ
32,36 ディスペンサ
33,34 ローラ
35 支持台
37空間
40コンタクト部
41,42,43 側壁

Claims (3)

  1. 表示用画素を有する第1基板と、
    前記第1基板上に設けられ、少なくとも電子インク層を含む第2基板と、
    前記第2基板上に設けられ、前記第2基板の寸法よりも大きく、前記第2基板から延在するプロテクト基板と、
    前記第2基板から延在した前記プロテクト基板と前記第1基板との間に充填された光硬化性シール材とを備え、
    前記第1の基板と前記第2の基板のコンタクト部であって表示装置の一辺から突出して設けられた部分の少なくともその一側辺壁が、前記プロテクト基板と前記第1基板との間に照射される光の方向に対して角度をなすように傾斜して形成されたことを特徴とする電子インク表示装置。
  2. 光照射方向は表示装置の各辺に対し垂直であり、前記角度は光照射方向に対して45度であることを特徴とする請求項1に記載の電子インク表示装置。
  3. 表示用画素を有する第1基板上に、少なくとも電子インク層を含む第2基板を貼り付ける工程と、
    前記第2基板上に、前記第2基板の寸法よりも大きいプロテクト基板を、前記第2基板から延在するように貼り付ける工程と、
    前記第2基板から延在した前記プロテクト基板と前記第1基板との間に光硬化性シール材を毛細管現象を利用して充填する工程とを含み、
    前記第1の基板と前記第2の基板のコンタクト部であって表示装置の一辺から突出して設けられた部分の少なくともその一側辺壁が、前記プロテクト基板と前記第1基板との間に照射される光の方向に対して角度をなすように傾斜して形成されたことを特徴とする電子インク表示装置の製造方法。
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