JP2006121077A - リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
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Abstract
【解決手段】たとえば別の基板を露光している間の基板の除去を容易にするために、基板、基板テーブル若しくはその両方の代わりに、たとえば液体を拘束している密閉を損なうことなく、リソグラフィ装置内の液体を含有した空間の境界の一部としてアクチュエーテッド密閉プレートが使用される。
【選択図】図6b
Description
基板を保持するように構成された基板テーブルと、
パターン化された放射ビームを基板に投射するように構成された投影システムと、
投影システムと基板及び基板テーブルの少なくとも一方との間にあって、境界の一部が該基板及び基板テーブルの少なくとも一方によって形成されている空間に液体を拘束するように構成された液体拘束構造と、
密閉プレートとを備え、
前記密閉プレートが移動した際に、液体若しくは液体拘束構造、又はその両方を実質的に攪乱することなく、該密閉プレートが、基板若しくは基板テーブル、又はその両方に代わって前記空間の境界の一部を形成するように構成されたリソグラフィ投影装置が提供される。
境界の一部が基板若しくは基板テーブル、又はその両方によって形成されていてパターン化されたビームが通過する空間に液体を提供するステップと、
前記空間に液体を密閉し、その密閉作用が基板若しくは基板テーブル、又はその両方と他の構造との間に及ぶようにするステップと、
前記液体の密閉を損なうことなく、前記空間の前記境界の一部を形成する基板若しくは基板テーブル、又はその両方を密閉プレートに置き換えるステップと、
パターン化された放射ビームを液体を通して基板に投射するステップとを含むデバイス製造方法が提供される。
基板を保持するように構成された基板テーブルと、
パターン化された放射ビームを基板に投射するように構成された投影システムと、
投影システムと、基板若しくは基板テーブル、又はその両方との間にあって、境界の一部が基板若しくは基板テーブル、又はその両方によって形成されている空間に液体を拘束するように構成された液体拘束構造と、
水平平面内で基板テーブルから移動して、基板若しくは基板テーブル、又はその両方に代えて前記空間の境界の一部を形成するように構成された密閉プレートと、
密閉プレートを水平平面内で移動させるように構成されたアクチュエータとを備えたリソグラフィ投影装置が提供される。
−放射ビームPB(たとえばUV放射若しくはDUV放射)を条件付けるように構成された照明システム(イルミネータ)ILと、
−パターン化デバイス(たとえばマスク)MAを保持するように構築された、特定のパラメータに従ってパターン化デバイスを正確に位置決めするように構成された第1のポジショナPMに接続された支持構造(たとえばマスク・テーブル)MTと、
−基板(たとえばレジスト被覆ウェハ)Wを保持するように構築された、特定のパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第2のポジショナPWに接続された基板テーブル(たとえばウェハ・テーブル)WTと、
−パターン化デバイスMAによって放射ビームPBに付与されたパターンを基板Wの目標部分C(たとえば1つ又は複数のダイが含まれている)に投影するように構成された投影システム(たとえば屈折型投影レンズ系)PLと
を備えている。
1.ステップ・モード:ステップ・モードでは、基本的にマスク・テーブルMT及び基板テーブルWTが静止状態に維持され、放射ビームに付与されたパターン全体が目標部分Cに1回で投影される(即ち単一静止露光)。次に、基板テーブルWTがX及び/又はY方向にシフトされ、異なる目標部分Cが露光される。ステップ・モードでは、露光視野の最大サイズによって、単一静止露光で画像化される目標部分Cのサイズが制限される。
2.走査モード:走査モードでは、放射ビームに付与されたパターンが目標部分Cに投影されている間、マスク・テーブルMT及び基板テーブルWTが同期走査される(即ち単一動的露光)。マスク・テーブルMTに対する基板テーブルWTの速度及び方向は、投影システムPLの倍率(縮小率)及び画像反転特性によって決定される。走査モードでは、露光視野の最大サイズによって、単一動的露光における目標部分の幅(非走査方向の幅)が制限され、また、走査運動の長さによって目標部分の高さ(走査方向の高さ)が決まる。
3.その他のモード:その他のモードでは、プログラム可能パターン化デバイスを保持するべくマスク・テーブルMTが基本的に静止状態に維持され、放射ビームに付与されたパターンが目標部分Cに投影されている間、基板テーブルWTが移動若しくは走査される。このモードでは、通常、パルス放射源が使用され、走査中、基板テーブルWTが移動する毎に、或いは連続する放射パルスと放射パルスの間に、必要に応じてプログラム可能パターン化デバイスが更新される。この動作モードは、上で参照したタイプのプログラム可能ミラー・アレイなどのプログラム可能パターン化デバイスを利用しているマスクレス・リソグラフィに容易に適用することができる。
BD ビーム引渡しシステム
C 基板の目標部分
CO コンデンサ
IF 位置センサ
IL 照明システム(イルミネータ)
IN インテグレータ
M1、M2 マスク位置合せマーク
MA パターン化デバイス(マスク)
MT 支持構造(マスク・テーブル)
PB 放射ビーム
P1、P2 基板位置合せマーク
PM 第1のポジショナ
PL 投影システム
PW 第2のポジショナ(基板テーブル・ポジショナ)
SO 放射源
W 基板
WT 基板テーブル
10 リザーバ
11 液体
12 液体拘束構造
14 第1の出口
15 入口
16 シール
20 アクチュエーテッド密閉プレート
22a、22b 長ストローク・アクチュエータ
25 能動補償器(制御システム)
27 能動補償器(制御システム、アクチュエーテッド密閉プレート能動補償器)
29 液体拘束システム・ポジショナ
Claims (29)
- リソグラフィ投影装置であって、
基板を保持するように構成された基板テーブルと、
パターン化された放射ビームを前記基板に投射するように構成された投影システムと、
前記投影システムと前記基板及び基板テーブルの少なくとも一方との間にあって、境界の一部が該基板及び基板テーブルの少なくとも一方によって形成されている空間に液体を拘束するように構成された液体拘束構造と、
密閉プレートとを備え、
前記密閉プレートが移動した際に、前記液体若しくは前記液体拘束構造、又はその両方を実質的に攪乱することなく、該密閉プレートが、前記基板若しくは前記基板テーブル、又はその両方に代わって前記空間の境界の一部を形成するように構成されているリソグラフィ投影装置。 - 前記基板若しくは基板テーブル、又はその両方に代わって前記空間の境界の一部を形成するために、前記密閉プレートを水平平面に沿って移動させるように構成されたアクチュエータを備えた、請求項1に記載の装置。
- 前記基板若しくは基板テーブル、又はその両方の平面と同じ平面内で前記密閉プレートを移動させて、該基板若しくは基板テーブル、又はその両方を前記液体拘束構造を横切って追従させるように構成されたアクチュエータを備えた、請求項1に記載の装置。
- 前記基板テーブルが、前記空間の前記境界の一部を形成する前記基板若しくは基板テーブ、又はその両方を前記密閉プレートに代えるために前記液体拘束構造に作用する、前記基板テーブルの移動方向に対して直角方向の負荷の変化を補償するように構成された能動補償器を備えた、請求項1に記載の装置。
- 前記密閉プレートが、前記空間の前記境界の一部を形成する前記密閉プレートを前記基板若しくは基板テーブル、又はその両方に代えるために前記液体拘束構造に作用する、前記基板テーブルの移動方向に対して直角方向の負荷の変化を補償するように構成された能動補償器を備えた、請求項4に記載の装置。
- 前記基板テーブル及び前記密閉プレートを開放可能に結合することができるようになっている請求項1に記載の装置。
- 前記密閉プレートを移動させるように構成された第1のアクチュエータと、前記基板テーブルを移動させるように構成された個別の第2のアクチュエータとを備えた、請求項1に記載の装置。
- 前記密閉プレートが前記基板テーブルと同じ垂直レベルに位置し、前記空間の前記境界の一部を形成する前記基板若しくは基板テーブル、又はその両方を前記密閉プレートに置き換え、或いは前記空間の前記境界の一部を形成する前記密閉プレートを前記基板若しくは基板テーブル、又はその両方に置き換え、或いはそれらの両方の置き換えを行う際に、前記密閉プレート及び前記基板テーブルが、いずれも前記垂直レベルで移動する、請求項1に記載の装置。
- 液体供給システムが前記液体を一定のフロー・パターンで常に循環させるように構成され、前記空間の前記境界の一部を形成する前記密閉プレートを前記基板若しくは基板テーブル、又はその両方に置き換え、或いは前記空間の前記境界の一部を形成する前記基板若しくは基板テーブル、又はその両方を前記密閉プレートに置き換え、或いはそれら置き換えの両方を行う際に前記フロー・パターンが攪乱されないようになっている、請求項1に記載の装置。
- デバイス製造方法であって、
境界の一部が基板若しくは基板テーブル、又はその両方によって形成されていてパターン化されたビームが通過する空間に液体を提供するステップと、
前記空間に液体を密閉し、その密閉作用が前記基板若しくは基板テーブル、又はその両方と他の構造との間に及ぶようにするステップと、
前記液体の密閉を損なうことなく、前記空間の前記境界の一部を形成する前記基板若しくは基板テーブル、又はその両方を密閉プレートに置き換えるステップと、
パターン化された放射ビームを前記液体を通して前記基板に投射するステップとを含む方法。 - 前記基板若しくは基板テーブル、又はその両方に代えて前記空間の前記境界の一部を形成するために前記密閉プレートを水平平面に沿って移動させるステップを含む、請求項10に記載の方法。
- 前記密閉プレートを前記基板若しくは基板テーブル、又はその両方の平面と同じ平面内で移動させて、該基板若しくは基板テーブル、又はその両方を追従させるステップを含む、請求項10に記載の方法。
- 前記空間の前記境界の一部を形成する前記基板若しくは基板テーブル、又はその両方を前記密閉プレートに置き換えるために前記基板テーブルに作用する、前記基板テーブルの移動方向に対して直角方向の負荷の変化を補償するステップを含む、請求項10に記載の方法。
- 前記空間の前記境界の一部を形成する前記密閉プレートを前記基板若しくは基板テーブル、又はその両方に置き換えるために、前記液体を前記空間に少なくとも部分的に拘束するために使用される液体拘束構造に作用する、前記基板テーブルの移動方向に対して直角方向の負荷の変化を補償するステップを含む、請求項10に記載の方法。
- 前記基板テーブル及び前記密閉プレートを開放可能に結合するステップを含む、請求項10に記載の方法。
- 前記密閉プレート及び前記基板テーブルを個別に移動させるステップを含む、請求項10に記載の方法。
- 前記密閉プレートが前記基板テーブルと同じ垂直レベルに位置し、前記空間の前記境界の一部を形成する前記基板若しくは基板テーブル、又はその両方を前記密閉プレートに置き換え、或いは前記空間の前記境界の一部を形成する前記密閉プレートを前記基板若しくは基板テーブル、又はその両方に置き換え、或いはそれら置き換えの両方を行うる際に前記密閉プレート及び前記基板テーブルがいずれも前記垂直レベルで移動する、請求項10に記載の方法。
- 前記液体が一定のフロー・パターンで常に循環し、前記空間の前記境界の一部を形成する前記密閉プレートを前記基板若しくは基板テーブル、又はその両方に置き換え、或いは前記空間の前記境界の一部を形成する前記基板若しくは基板テーブル、又はその両方を前記密閉プレートに置き換え、或いはそれら置き換えの両方を行う際に前記フロー・パターンが攪乱されないようにする、請求項10に記載の方法。
- リソグラフィ投影装置であって、
基板を保持するように構成された基板テーブルと、
パターン化された放射ビームを前記基板に投射するように構成された投影システムと、
前記投影システムと、前記基板若しくは基板テーブル、又はその両方との間にあって、境界の一部が該基板若しくは基板テーブル、又はその両方によって形成されている空間に液体を拘束するように構成された液体拘束構造と、
水平平面内で前記基板テーブルから移動して、前記基板若しくは基板テーブル、又はその両方に代えて前記空間の境界の一部を形成するように構成された密閉プレートと、
前記密閉プレートを水平平面内で移動させるように構成されたアクチュエータとを備えたリソグラフィ投影装置。 - 前記アクチュエータが、前記密閉プレートを前記基板若しくは基板テーブル、又はその両方の平面と同じ平面内を移動させ、該基板若しくは基板テーブル、又はその両方を前記液体拘束構造を横切って追従させるように構成された、請求項19に記載の装置。
- 前記基板テーブルが、前記空間の前記境界の一部を形成する前記基板若しくは基板テーブル、又はその両方を前記密閉プレートに置き換えるために前記基板テーブルに作用する、前記基板テーブルの移動方向に対して直角方向の負荷の変化を補償するように構成された能動補償器を備えた、請求項19に記載の装置。
- 前記密閉プレートが、前記空間の前記境界の一部を形成する前記密閉プレートを前記基板若しくは基板テーブル、又はその両方に置き換えるために前記液体拘束構造に作用する、前記基板テーブルの移動方向に対して直角方向の負荷の変化を補償するように構成された能動補償器を備えた、請求項19に記載の装置。
- 前記基板テーブル及び前記密閉プレートを開放可能に結合することができる、請求項19に記載の装置。
- 前記基板テーブルを移動させるように構成された個別のアクチュエータを備えた、請求項19に記載の装置。
- 前記密閉プレート及び前記基板テーブルを個別に制御するように構成されたコントローラを備えた、請求項24に記載の装置。
- 前記アクチュエータが前記密閉プレート及び前記基板テーブルの両方を移動させるように構成された、請求項19に記載の装置。
- 前記密閉プレートが前記基板テーブルと同じ垂直レベルに位置し、前記空間の前記境界の一部を形成する前記基板若しくは基板テーブル、又はその両方を前記密閉プレートに置き換え、或いは前記空間の前記境界の一部を形成する前記密閉プレートを前記基板若しくは基板テーブル、又はその両方に置き換え、或いはそれら置き換えの両方を行う際に、前記密閉プレート及び前記基板テーブルがいずれも前記垂直レベルで移動する、請求項19に記載の装置。
- 前記アクチュエータが前記基板テーブルを移動させるように構成された長ストローク・アクチュエータを備えた、請求項19に記載の装置。
- 液体供給システムが前記液体を一定のフロー・パターンで常に循環させるように構成され、前記空間の前記境界の一部を形成する前記密閉プレートを前記基板若しくは基板テーブル、又はその両方に置き換え、或いは前記空間の前記境界の一部を形成する前記基板若しくは基板テーブル、又はその両方を前記密閉プレートに置き換え、或いはそれら置き換えの両方を行う際に前記フロー・パターンが攪乱されないようになっている、請求項19に記載の装置。
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