JP2006119177A - 液晶表示装置の製造方法と液晶表示装置 - Google Patents
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Abstract
残渣を抑制しつつ、カラーフィルタに小さな開口を形成することのできる液晶表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】
液晶表示装置の製造方法は、(a)液晶表示装置の一方の基板上方に、ラジカル重合タイプでネガ型の感光性を有するカラーフィルタ層を形成する工程と、(b)透光領域内に分離された遮光パターンを有するマスクを用いて、前記カラーフィルタ層に、時間間隔を置いて複数回の露光を行なう工程と、(c)前記工程(b)の後、前記カラーフィルタ層を現像し、所定値以下の幅を持つ開口を有するカラーフィルタパターンを形成する工程と、を含む。
【選択図】 図3
Description
本発明の他の目的は、高品質の開口を有するカラーフィルタパターンを備えた液晶表示装置を提供することである。
図1Aは、抜きパターンを形成するためのマスクの平面形状を概略的に示す。ストライプ状の遮光領域LS1が形成されたマスクM1を用いた。幅10μm程度の抜きパターンを形成するため、遮光パターンLS1の幅は20μm程度であった。
図3Dは、2回露光を行った場合のカラーフィルタCFの角部の形状を示す。領域E1が1回目の露光に対応する領域であり、領域E2が2回目の露光に対応する領域である。カラーフィルタパターンCFは、領域E1とE2との和であり、角部においては内方に向かった直角状の切りかきが生じている。
図5Aは、液晶表示装置のTFT基板の構成を概略的に示す平面図である。図中赤色画素PIXR、緑色画素PIXG、青色画素PIXBが水平(横)方向に並んで配置されている。ゲート配線GLが水平方向に延在し、ゲート配線GLを跨ぐように薄膜トランジスタTFTが形成されている。薄膜トランジスタTFTのドレインは、左側に引き出され、垂直(縦)方向に延在するドレイン配線DLに接続されている。
(付記1)(1)
(a)液晶表示装置の一方の基板上方に、ラジカル重合タイプでネガ型の感光性を有するカラーフィルタ層を形成する工程と、
(b)透光領域内に分離された遮光パターンを有するマスクを用いて、前記カラーフィルタ層に、時間間隔を置いて複数回の露光を行なう工程と、
(c)前記工程(b)の後、前記カラーフィルタ層を現像し、所定値以下の幅を持つ開口を有するカラーフィルタパターンを形成する工程と、
を含む液晶表示装置の製造方法。
前記カラーフィルタパターンの開口は、幅5〜50μmを有する付記1記載の液晶表示装置の製造方法。
前記工程(b)において、複数回の露光の間に酸素を含む雰囲気を前記カラーフィルタ層に接触させる付記1記載の液晶表示装置の製造方法。
前記工程(b)において、前記複数回の露光のマスクが、前記遮光パターンの中心位置をずらされたマスクであり、前記複数回の露光における各回の露光強度は閾値以上であり、いずれの露光でも露光されない領域が前記開口を画定する付記1記載の液晶表示装置の製造方法。
前記工程(b)において、前記複数回の露光のマスクが実質的に同一形状、同一寸法の遮光パターンを有する付記4記載の液晶表示装置の製造方法。
前記工程(b)において、前記複数回の露光のマスクが、前記遮光パターンの位置を含めて実質的に同一のマスクであり、前記複数回の露光における各回の露光強度は閾値未満であり、前記複数回の露光により前記遮光パターン外方の領域は閾値以上に露光され、前記遮光パターン内の領域では、複数回の露光後、現像しても露光残渣を残さないものである付記1記載の液晶表示装置の製造方法。
(a)基板上方に、ラジカル重合タイプでネガ型の感光性を有するカラーフィルタ層を形成する工程と、
(b)透光領域内に分離された遮光パターンを有するマスクを用いて、前記カラーフィルタ層に、時間間隔を置いて複数回の露光を行なう工程と、
(c)前記工程(b)の後、前記カラーフィルタ層を現像し、所定値以下の幅を持つ開口を有するカラーフィルタパターンを形成する工程と、
を含むカラーフィルタパターンの製造方法。
対向配置された第1および第2の基板と、
前記第1および第2の基板間に挟持された液晶層と、
前記第1および第2の基板の一方の対向面上方に形成され、外方に凸の角部において内方に向かった切欠き形状を有するカラーフィルタ層と、
を有する液晶表示装置。
LS 遮光パターン
CF カラーフィルタ
R 赤色
G 緑色
B 青色
CFR (カラーフィルタの)残渣
UE 非露光部(開口)
OP 開口
TFT 薄膜トランジスタ
GL ゲート配線
DL ドレイン配線
GS ガラス基板
E (露光用)光
LC 液晶層
1 ガラス基板
2 ゲート配線
3 SiN層(ゲート絶縁膜)
4 アモルファスシリコン層(活性層)
5 SiN層
6 エッチストッパ
7 n+型アモルファスシリコン層
8、10 Ti層
9 Al層
11 ドレイン配線層
12 赤色カラーフィルタ
13 コンタクトホール(開口)
14 緑色カラーフィルタ
15 コンタクトホール(開口)
16 青色カラーフィルタ
17 コンタクトホール(開口)
18 画素電極
20,23 配向膜
24,25 偏光板
Claims (6)
- (a)液晶表示装置の一方の基板上方に、ラジカル重合タイプでネガ型の感光性を有するカラーフィルタ層を形成する工程と、
(b)透光領域内に分離された遮光パターンを有するマスクを用いて、前記カラーフィルタ層に、時間間隔を置いて複数回の露光を行なう工程と、
(c)前記工程(b)の後、前記カラーフィルタ層を現像し、所定値以下の幅を持つ開口を有するカラーフィルタパターンを形成する工程と、
を含む液晶表示装置の製造方法。 - 前記工程(b)において、前記複数回の露光のマスクが、前記遮光パターンの中心位置をずらされたマスクであり、前記複数回の露光における各回の露光強度は閾値以上であり、いずれの露光でも露光されない領域が前記開口を画定する請求項1記載の液晶表示装置の製造方法。
- 前記工程(b)において、前記複数回の露光のマスクが実質的に同一形状、同一寸法の遮光パターンを有する請求項2記載の液晶表示装置の製造方法。
- 前記工程(b)において、前記複数回の露光のマスクが、前記遮光パターンの位置を含めて実質的に同一のマスクであり、前記複数回の露光における各回の露光強度は閾値未満であり、前記複数回の露光により前記遮光パターン外方の領域は閾値以上に露光され、前記遮光パターン内の領域では、複数回の露光後、現像しても露光残渣を残さないものである請求項1記載の液晶表示装置の製造方法。
- 対向配置された第1および第2の基板と、
前記第1および第2の基板間に挟持された液晶層と、
前記第1および第2の基板の一方の対向面上方に形成され、外方に凸の角部において内方に向かった切欠き形状を有するカラーフィルタ層と、
を有する液晶表示装置。 - (a)基板上方に、ラジカル重合タイプでネガ型の感光性を有するカラーフィルタ層を形成する工程と、
(b)透光領域内に分離された遮光パターンを有するマスクを用いて、前記カラーフィルタ層に、時間間隔を置いて複数回の露光を行なう工程と、
(c)前記工程(b)の後、前記カラーフィルタ層を現像し、所定値以下の幅を持つ開口を有するカラーフィルタパターンを形成する工程と、
を含むカラーフィルタパターンの製造方法。
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