JP2000194286A - カラ―表示装置 - Google Patents
カラ―表示装置Info
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- JP2000194286A JP2000194286A JP10372789A JP37278998A JP2000194286A JP 2000194286 A JP2000194286 A JP 2000194286A JP 10372789 A JP10372789 A JP 10372789A JP 37278998 A JP37278998 A JP 37278998A JP 2000194286 A JP2000194286 A JP 2000194286A
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- JP
- Japan
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- color filter
- color
- substrate
- display device
- area
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
- F24C—DOMESTIC STOVES OR RANGES ; DETAILS OF DOMESTIC STOVES OR RANGES, OF GENERAL APPLICATION
- F24C15/00—Details
- F24C15/20—Removing cooking fumes
- F24C15/2035—Arrangement or mounting of filters
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133514—Colour filters
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
- F24C—DOMESTIC STOVES OR RANGES ; DETAILS OF DOMESTIC STOVES OR RANGES, OF GENERAL APPLICATION
- F24C15/00—Details
- F24C15/20—Removing cooking fumes
- F24C15/2071—Removing cooking fumes mounting of cooking hood
Abstract
(57)【要約】
【課題】 多数の表示領域を有するカラー表示装置に関
し、所望の色再現性、光透過率を可能とする設計の容易
なカラー表示装置を提供する。 【解決手段】基板と、前記基板上に形成され、光が透過
する多数の光透過領域を画定する画素構造と、前記光透
過領域の各々に対応して配置され、光透過領域の面積の
一部を覆い、残部は覆わないように設けられたカラーフ
ィルタとを有する。
し、所望の色再現性、光透過率を可能とする設計の容易
なカラー表示装置を提供する。 【解決手段】基板と、前記基板上に形成され、光が透過
する多数の光透過領域を画定する画素構造と、前記光透
過領域の各々に対応して配置され、光透過領域の面積の
一部を覆い、残部は覆わないように設けられたカラーフ
ィルタとを有する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はカラー表示装置に関
し、特に多数の表示領域を有するカラー表示装置に関す
る。
し、特に多数の表示領域を有するカラー表示装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】 表示装置として、液晶表示装置（ＬＣ
Ｄ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）等のフラ
ットパネルが広く用いられている。
Ｄ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）等のフラ
ットパネルが広く用いられている。
【０００３】近年は、表現力の多様なカラー表示を行え
るカラーＬＣＤやカラーＰＤＰが普及している。フラッ
トパネルの有する薄型、軽量等の利点を生かしつつ、カ
ラー表示を行うためにカラーフィルタが多く用いられ
る。
るカラーＬＣＤやカラーＰＤＰが普及している。フラッ
トパネルの有する薄型、軽量等の利点を生かしつつ、カ
ラー表示を行うためにカラーフィルタが多く用いられ
る。
【０００４】カラーフィルタは、可視光のうち特定の波
長領域の光を選択的に透過させるフィルタである。光分
解・合成の原理に応じて赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）
の３原色系フィルタ、シアン（Ｃ）、マゼンタ（Ｍ）、
イエロ（Ｙ）の補色系フィルタ等が用いられている。
長領域の光を選択的に透過させるフィルタである。光分
解・合成の原理に応じて赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）
の３原色系フィルタ、シアン（Ｃ）、マゼンタ（Ｍ）、
イエロ（Ｙ）の補色系フィルタ等が用いられている。
【０００５】任意の表示を行うためのカラー表示装置
は、多数の単位表示領域を有し、各単位表示領域に所定
のカラーフィルタを重ね、各単位表示領域の透光／遮光
状態を制御して所望のカラー表示を行う。表示画像を鮮
明にするため、金属、遮光性樹脂等のブラックマトリク
ス（ＢＭ）で非表示領域を覆い、各表示領域の面積を画
定することが多く行われる。この場合、ＢＭの開口部が
光透過領域である単位表示領域となる。
は、多数の単位表示領域を有し、各単位表示領域に所定
のカラーフィルタを重ね、各単位表示領域の透光／遮光
状態を制御して所望のカラー表示を行う。表示画像を鮮
明にするため、金属、遮光性樹脂等のブラックマトリク
ス（ＢＭ）で非表示領域を覆い、各表示領域の面積を画
定することが多く行われる。この場合、ＢＭの開口部が
光透過領域である単位表示領域となる。
【０００６】以下、液晶表示装置（ＬＣＤ）を例として
説明する。ＬＣＤは電極を備えた一対の基板間に液晶層
を挟み、液晶層に電圧を印加して液晶層の光学的性質を
制御する。必要に応じて偏光子を組み合わせ、全体とし
て光の透過率を制御する。透過型で用いる場合は、ガラ
ス等の一対の透明基板を用い、反射型で用いる場合は、
少なくとも光が通過する基板を透明基板とする。
説明する。ＬＣＤは電極を備えた一対の基板間に液晶層
を挟み、液晶層に電圧を印加して液晶層の光学的性質を
制御する。必要に応じて偏光子を組み合わせ、全体とし
て光の透過率を制御する。透過型で用いる場合は、ガラ
ス等の一対の透明基板を用い、反射型で用いる場合は、
少なくとも光が通過する基板を透明基板とする。
【０００７】表示領域の駆動方式としては、一対の対向
基板上に互いに交差する複数本の電極（コモン電極、セ
グメント電極）を設ける単純マトリックス方式や、一方
の基板上に全面電極（コモン電極）を設け、他方の基板
には各単位表示領域毎に画素電極とスイッチングトラン
ジスタを設け、画素毎に所望電圧を蓄積するアクティブ
マトリクス方式が知られている。
基板上に互いに交差する複数本の電極（コモン電極、セ
グメント電極）を設ける単純マトリックス方式や、一方
の基板上に全面電極（コモン電極）を設け、他方の基板
には各単位表示領域毎に画素電極とスイッチングトラン
ジスタを設け、画素毎に所望電圧を蓄積するアクティブ
マトリクス方式が知られている。
【０００８】ガラス基板を用いてアクティブマトリクス
を実現するため、スイッチングトランジスタとしてはア
モルファスシリコン（ａ−Ｓｉ）や多結晶シリコン（ｐ
ｏｌｙ−Ｓｉ）を用いた薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）が
用いられる。ＴＦＴの一方の電流電極（以下ソース電極
と呼ぶ）を画素電極に接続し、ＴＦＴの他方の電流電極
（以下ドレイン電極と呼ぶ）をデータ線に接続し、ＴＦ
Ｔの制御電極（ゲート電極）を走査線に接続する。デー
タ線と走査線とは互いに交差して基板上に配置される。
を実現するため、スイッチングトランジスタとしてはア
モルファスシリコン（ａ−Ｓｉ）や多結晶シリコン（ｐ
ｏｌｙ−Ｓｉ）を用いた薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）が
用いられる。ＴＦＴの一方の電流電極（以下ソース電極
と呼ぶ）を画素電極に接続し、ＴＦＴの他方の電流電極
（以下ドレイン電極と呼ぶ）をデータ線に接続し、ＴＦ
Ｔの制御電極（ゲート電極）を走査線に接続する。デー
タ線と走査線とは互いに交差して基板上に配置される。
【０００９】カラー表示装置には高い色再現性と高い光
透過率が望まれる。色再現性は各カラーフィルタの色度
座標で決定される。ＲＧＢ方式の場合、Ｒ、Ｇ、Ｂ各カ
ラーフィルタが色度座標上で形成する３角形の面積が広
いほど色再現性が高い。光透過率は各カラーフィルタに
ホワイト光を入射した時の出射光強度とＢＭの開口率で
決定される。
透過率が望まれる。色再現性は各カラーフィルタの色度
座標で決定される。ＲＧＢ方式の場合、Ｒ、Ｇ、Ｂ各カ
ラーフィルタが色度座標上で形成する３角形の面積が広
いほど色再現性が高い。光透過率は各カラーフィルタに
ホワイト光を入射した時の出射光強度とＢＭの開口率で
決定される。
【００１０】明るいカラー表示を得るためには高い光透
過率が望まれる。特にノート型パソコン（ＰＣ）のカラ
ーＬＣＤや反射型ＬＣＤにおいては高光透過率が望まれ
る。この場合、ＢＭの開口率を上げ、カラーフィルタの
透過率を上げることが望まれる。ＢＭの開口率を上げる
ためには、光透過領域間のＢＭの幅を狭くする。カラー
フィルタの透過率を上げるためには、カラーフィルタの
厚さを薄くしたり、材料を変更したりする。
過率が望まれる。特にノート型パソコン（ＰＣ）のカラ
ーＬＣＤや反射型ＬＣＤにおいては高光透過率が望まれ
る。この場合、ＢＭの開口率を上げ、カラーフィルタの
透過率を上げることが望まれる。ＢＭの開口率を上げる
ためには、光透過領域間のＢＭの幅を狭くする。カラー
フィルタの透過率を上げるためには、カラーフィルタの
厚さを薄くしたり、材料を変更したりする。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】カラーフィルタは、単
位表示領域である光透過領域の全面を覆い、その周囲の
ブラックマトリクス（ＢＭ）に重なるように配置され
る。ＢＭの幅を狭くすると、隣接するカラーフィルタ同
士が重なる危険性が生じる。ＢＭ上で、隣接するカラー
フィルタが重なると、全厚さが厚くなり（厚さ異常を生
じ）、製造工程の歩留りを低下させる。ＬＣＤの設計変
更のためにカラーフィルタの膜厚を変更したり、材料を
変更することは新たな条件を決定するための実験等の必
要性を意味し、量産工程にとってスループットの低下や
生産性を低下させる原因となる。
位表示領域である光透過領域の全面を覆い、その周囲の
ブラックマトリクス（ＢＭ）に重なるように配置され
る。ＢＭの幅を狭くすると、隣接するカラーフィルタ同
士が重なる危険性が生じる。ＢＭ上で、隣接するカラー
フィルタが重なると、全厚さが厚くなり（厚さ異常を生
じ）、製造工程の歩留りを低下させる。ＬＣＤの設計変
更のためにカラーフィルタの膜厚を変更したり、材料を
変更することは新たな条件を決定するための実験等の必
要性を意味し、量産工程にとってスループットの低下や
生産性を低下させる原因となる。
【００１２】本発明の目的は、所望の色再現性、光透過
率を可能とする設計の容易なカラー表示装置を提供する
ことである。
率を可能とする設計の容易なカラー表示装置を提供する
ことである。
【００１３】本発明の他の目的は、明るいカラー表示装
置を提供することである。本発明のさらに他の目的は、
反射型ディスプレイに適した明るいカラーフィルタ基板
を提供することである。
置を提供することである。本発明のさらに他の目的は、
反射型ディスプレイに適した明るいカラーフィルタ基板
を提供することである。
【００１４】
【課題を解決するための手段】本発明の１観点によれ
ば、基板と、前記基板上に形成され、光が透過する多数
の単位表示領域を画定する画素構造と、前記単位表示領
域の各々に対応して配置され、単位表示領域の面積の一
部を覆い、残部は覆わないように設けられたカラーフィ
ルタとを有するカラー表示装置が提供される。
ば、基板と、前記基板上に形成され、光が透過する多数
の単位表示領域を画定する画素構造と、前記単位表示領
域の各々に対応して配置され、単位表示領域の面積の一
部を覆い、残部は覆わないように設けられたカラーフィ
ルタとを有するカラー表示装置が提供される。
【００１５】光透過領域である単位表示領域の一部の上
にのみカラーフィルタが設けられるため、単位表示領域
はカラーフィルタが存在する領域と存在しない領域とに
分けられる。単位表示領域中のカラーフィルタが存在し
ない領域を拡大することにより、明るいカラー表示が得
られる。カラーフィルタが存在する領域と存在しない領
域の比を調整することにより、同一のカラーフィルタ材
料および膜厚を用い、種々の色再現性を実現することが
可能となる。
にのみカラーフィルタが設けられるため、単位表示領域
はカラーフィルタが存在する領域と存在しない領域とに
分けられる。単位表示領域中のカラーフィルタが存在し
ない領域を拡大することにより、明るいカラー表示が得
られる。カラーフィルタが存在する領域と存在しない領
域の比を調整することにより、同一のカラーフィルタ材
料および膜厚を用い、種々の色再現性を実現することが
可能となる。
【００１６】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施例を説明する。なお、ＬＣＤを例示として説明する
が、本発明はＬＣＤに限られるものではない。例えば、
ＰＤＰ等にも適用することができる。
施例を説明する。なお、ＬＣＤを例示として説明する
が、本発明はＬＣＤに限られるものではない。例えば、
ＰＤＰ等にも適用することができる。
【００１７】図１は、本発明の１実施例による透過型Ｌ
ＣＤの構成を示す。図１（Ａ）は、カラーフィルタ基板
の平面図、図１（Ｂ）はカラーフィルタ基板の断面図、
図１（Ｃ）はＬＣＤの断面構成図、図１（Ｄ）は従来技
術によるカラーフィルタ基板の平面図、図１（Ｅ）は従
来技術によるカラーフィルタ基板の断面図を示す。
ＣＤの構成を示す。図１（Ａ）は、カラーフィルタ基板
の平面図、図１（Ｂ）はカラーフィルタ基板の断面図、
図１（Ｃ）はＬＣＤの断面構成図、図１（Ｄ）は従来技
術によるカラーフィルタ基板の平面図、図１（Ｅ）は従
来技術によるカラーフィルタ基板の断面図を示す。
【００１８】まず、図１（Ｄ）、（Ｅ）を参照して従来
技術によるカラーフィルタ基板の構造を説明する。ガラ
ス基板１の上にＢＭ２が形成され、光透過領域を画定す
る。光透過領域の上に、ＢＭ２の端部にかかるようにカ
ラーフィルタ３が形成される。３色のカラーフィルタ３
Ｒ、３Ｇ、３Ｂはそれぞれ別の工程により作成される。
カラーフィルタ３を覆うように、平坦化層４が形成さ
れ、平坦化層４の平坦化された表面上に透明電極５およ
び配向層６が形成される。
技術によるカラーフィルタ基板の構造を説明する。ガラ
ス基板１の上にＢＭ２が形成され、光透過領域を画定す
る。光透過領域の上に、ＢＭ２の端部にかかるようにカ
ラーフィルタ３が形成される。３色のカラーフィルタ３
Ｒ、３Ｇ、３Ｂはそれぞれ別の工程により作成される。
カラーフィルタ３を覆うように、平坦化層４が形成さ
れ、平坦化層４の平坦化された表面上に透明電極５およ
び配向層６が形成される。
【００１９】ＢＭ２の幅が狭くなると、カラーフィルタ
３が互いに近づき重なり合う危険性が生じる。隣接する
カラーフィルタ３が重なると、厚さ異常が生じ、後の工
程の歩留りを低下させる。
３が互いに近づき重なり合う危険性が生じる。隣接する
カラーフィルタ３が重なると、厚さ異常が生じ、後の工
程の歩留りを低下させる。
【００２０】本発明の実施例によるＬＣＤを図１
（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）を参照して説明する。
（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）を参照して説明する。
【００２１】図１（Ａ）、（Ｂ）に示すように、カラー
フィルタ基板１０はガラス基板１の表面上に、必要に応
じてＳｉＯ2 膜をプラズマ化学気相堆積（ＣＶＤ）等に
より成膜し、その上にブラックマトリクス２を形成す
る。ブラックマトリクス２は、例えばＣｒ単層、酸化Ｃ
ｒ膜とＣｒ膜の積層、または酸化Ｃｒ膜、窒化Ｃｒ膜、
Ｃｒ膜の積層をスパッタリングで形成することにより作
成することができる。窒化Ｃｒ膜の代わりに酸化窒化Ｃ
ｒ膜を用いることもできる。
フィルタ基板１０はガラス基板１の表面上に、必要に応
じてＳｉＯ2 膜をプラズマ化学気相堆積（ＣＶＤ）等に
より成膜し、その上にブラックマトリクス２を形成す
る。ブラックマトリクス２は、例えばＣｒ単層、酸化Ｃ
ｒ膜とＣｒ膜の積層、または酸化Ｃｒ膜、窒化Ｃｒ膜、
Ｃｒ膜の積層をスパッタリングで形成することにより作
成することができる。窒化Ｃｒ膜の代わりに酸化窒化Ｃ
ｒ膜を用いることもできる。
【００２２】上述の積層構造とする場合には、ガラス基
板１側からＢＭを見た時の反射率を低減することができ
る。ＢＭの平面形状は、図１（Ｄ）に示す従来技術によ
るカラーフィルタ基板の平面形状と同様である。ＢＭ
は、行列状に配列された多数の開口部を有し、各開口部
が光透過領域となる単位表示領域を確定する。
板１側からＢＭを見た時の反射率を低減することができ
る。ＢＭの平面形状は、図１（Ｄ）に示す従来技術によ
るカラーフィルタ基板の平面形状と同様である。ＢＭ
は、行列状に配列された多数の開口部を有し、各開口部
が光透過領域となる単位表示領域を確定する。
【００２３】このようにＢＭを形成した基板１の上に、
３色のカラーフィルタ３Ｒ、３Ｇ、３Ｂを形成する。３
色のカラーフィルタは、それぞれ独立に形成される。例
えば、所望色の着色樹脂をスピンコータ、ロールコー
タ、スリットコータ等を用いて基板全面上に成膜する。
着色樹脂としては、例えば日本国、富士ハント製ＬＲ−
７００１、ＣＧ−７００１、ＣＢ−７００１を用いるこ
とができる。
３色のカラーフィルタ３Ｒ、３Ｇ、３Ｂを形成する。３
色のカラーフィルタは、それぞれ独立に形成される。例
えば、所望色の着色樹脂をスピンコータ、ロールコー
タ、スリットコータ等を用いて基板全面上に成膜する。
着色樹脂としては、例えば日本国、富士ハント製ＬＲ−
７００１、ＣＧ−７００１、ＣＢ−７００１を用いるこ
とができる。
【００２４】着色樹脂を成膜した後、図１（Ａ）、
（Ｂ）に示す形状に着色樹脂膜を露光する。露光領域
は、各光透過領域において光透過領域の左右端が残され
るように露光する。露光強度は、例えば３００ｍＪ／ｃ
ｍ2 である。露光後、アルカリ現像液（例えば富士ハン
ト製ＣＤ）で露光した着色樹脂膜を現像する。現像後、
約２３０°Ｃのオブンで約１時間着色樹脂膜をポストベ
ークし、着色樹脂を硬化させカラーフィルタを形成す
る。このような工程により、１色分のカラーフィルタが
形成される。３色のカラーフィルタを形成するために
は、これらの工程を繰り返し行う。
（Ｂ）に示す形状に着色樹脂膜を露光する。露光領域
は、各光透過領域において光透過領域の左右端が残され
るように露光する。露光強度は、例えば３００ｍＪ／ｃ
ｍ2 である。露光後、アルカリ現像液（例えば富士ハン
ト製ＣＤ）で露光した着色樹脂膜を現像する。現像後、
約２３０°Ｃのオブンで約１時間着色樹脂膜をポストベ
ークし、着色樹脂を硬化させカラーフィルタを形成す
る。このような工程により、１色分のカラーフィルタが
形成される。３色のカラーフィルタを形成するために
は、これらの工程を繰り返し行う。
【００２５】このような繰り返し工程により、図１
（Ａ）、（Ｂ）に示すような３色のカラーフィルタスト
ライプ３Ｒ、３Ｇ、３Ｂが横方向に並んで形成される。
各カラーフィルタストライプは、図中縦方向に長く、Ｂ
Ｍに重なるように存在し、光透過領域の幅よりも狭い幅
を有する。従って、光透過領域内にカラーフィルタが存
在しない領域Ｔが生じる。
（Ａ）、（Ｂ）に示すような３色のカラーフィルタスト
ライプ３Ｒ、３Ｇ、３Ｂが横方向に並んで形成される。
各カラーフィルタストライプは、図中縦方向に長く、Ｂ
Ｍに重なるように存在し、光透過領域の幅よりも狭い幅
を有する。従って、光透過領域内にカラーフィルタが存
在しない領域Ｔが生じる。
【００２６】カラーフィルタを形成した後、透明平坦化
樹脂として、例えば日本国日立化成製ＨＰ−１００９
を、スピンコータを用い、約１．５μｍ厚に塗布し、約
２３０°Ｃのオブンで約１時間ポストベークする。カラ
ーフィルタ３とＢＭ２が形成され、凹凸が生じた基板平
面が、平坦化樹脂層４により平坦化され、平坦表面が提
供される。
樹脂として、例えば日本国日立化成製ＨＰ−１００９
を、スピンコータを用い、約１．５μｍ厚に塗布し、約
２３０°Ｃのオブンで約１時間ポストベークする。カラ
ーフィルタ３とＢＭ２が形成され、凹凸が生じた基板平
面が、平坦化樹脂層４により平坦化され、平坦表面が提
供される。
【００２７】この平坦表面上に、透明電極としてインジ
ウム錫酸化物（ＩＴＯ）膜をスパッタリングにより成膜
する。このようにして、基板全面に透明コモン電極５が
形成される。透明コモン電極５の上に、配向層６として
ポリイミド等を成膜する。成膜後、配向膜６にラビング
等の配向処理を行うことにより、配向構造が形成され
る。このようにして、開口で単位表示領域である光透過
領域を画定するＢＭとＢＭの開口内の一部領域上に形成
されたカラーフィルタを有するカラーフィルタ基板１０
が形成される。
ウム錫酸化物（ＩＴＯ）膜をスパッタリングにより成膜
する。このようにして、基板全面に透明コモン電極５が
形成される。透明コモン電極５の上に、配向層６として
ポリイミド等を成膜する。成膜後、配向膜６にラビング
等の配向処理を行うことにより、配向構造が形成され
る。このようにして、開口で単位表示領域である光透過
領域を画定するＢＭとＢＭの開口内の一部領域上に形成
されたカラーフィルタを有するカラーフィルタ基板１０
が形成される。
【００２８】なお、光源の特性が設計と異なって色づい
ているような場合、液晶表示装置全体の光学的特性が設
計からずれた物となってしまう。このような場合、透明
平坦化樹脂層４を着色し、液晶表示装置全体の光学的特
性を補償することもできる。
ているような場合、液晶表示装置全体の光学的特性が設
計からずれた物となってしまう。このような場合、透明
平坦化樹脂層４を着色し、液晶表示装置全体の光学的特
性を補償することもできる。
【００２９】図１（Ｃ）に示すように、カラーフィルタ
基板１０とＴＦＴ基板２０を所定間隔を介して対向さ
せ、両基板間の空間に液晶２４を注入する。なお、カラ
ーフィルタ基板１０の外側表面上には第１の偏光子Ｐ１
が形成され、ＴＦＴ基板２０の外側表面上には第２の偏
光子Ｐ２が形成される。ＴＦＴ基板２０は、ガラス基板
１１の表面上に必要に応じてプラズマＣＶＤ等によりＳ
ｉＯ2 層を形成し、その上にゲート電極１３として、Ｃ
ｒ層、Ｔｉ／Ａｌ積層、Ｍｏ層等を積層し、ホトリソグ
ラフィを用いてパターニングする。ゲート電極１３を覆
うように、ゲート絶縁膜１５としてＳｉＮX 、ＳｉＯ2
等の絶縁膜を形成する。ゲート絶縁膜１５の上に、ａ−
Ｓｉ又はｐｏｌｙ−Ｓｉ等の半導体層を化学気相堆積
（ＣＶＤ）等により形成し、パターニングして活性層１
７を形成する。
基板１０とＴＦＴ基板２０を所定間隔を介して対向さ
せ、両基板間の空間に液晶２４を注入する。なお、カラ
ーフィルタ基板１０の外側表面上には第１の偏光子Ｐ１
が形成され、ＴＦＴ基板２０の外側表面上には第２の偏
光子Ｐ２が形成される。ＴＦＴ基板２０は、ガラス基板
１１の表面上に必要に応じてプラズマＣＶＤ等によりＳ
ｉＯ2 層を形成し、その上にゲート電極１３として、Ｃ
ｒ層、Ｔｉ／Ａｌ積層、Ｍｏ層等を積層し、ホトリソグ
ラフィを用いてパターニングする。ゲート電極１３を覆
うように、ゲート絶縁膜１５としてＳｉＮX 、ＳｉＯ2
等の絶縁膜を形成する。ゲート絶縁膜１５の上に、ａ−
Ｓｉ又はｐｏｌｙ−Ｓｉ等の半導体層を化学気相堆積
（ＣＶＤ）等により形成し、パターニングして活性層１
７を形成する。
【００３０】活性層１７の上にソース／ドレイン電極と
してｎ+ 型Ｓｉ層とＡｌ層又はＴｉ／Ａｌ／Ｔｉ積層を
形成し、パターニングすることによりソース電極１８
Ｓ、ドレイン電極１８Ｄを形成する。ゲート電極１３、
ゲート絶縁膜１５、活性層１７、ソース／ドレイン電極
１８により薄膜トランジスタ１９が形成される。
してｎ+ 型Ｓｉ層とＡｌ層又はＴｉ／Ａｌ／Ｔｉ積層を
形成し、パターニングすることによりソース電極１８
Ｓ、ドレイン電極１８Ｄを形成する。ゲート電極１３、
ゲート絶縁膜１５、活性層１７、ソース／ドレイン電極
１８により薄膜トランジスタ１９が形成される。
【００３１】ソース電極１８Ｓ、ドレイン電極１８Ｄを
形成した後、基板全面上に層間絶縁膜２１としてＳｉＯ
2 層、ホスホシリケートガラス（ＰＳＧ）層、ボロホス
ホシリケートガラス（ＢＰＳＧ）層、ＳｉＮ層等を積層
する。層間絶縁膜２１上にホトレジスト層を形成し、コ
ンタクト孔を形成する領域に開口を形成し、ホトレジス
トパターンを用いて層間絶縁膜２１をエッチングするこ
とにより、所望領域に開口を形成する。
形成した後、基板全面上に層間絶縁膜２１としてＳｉＯ
2 層、ホスホシリケートガラス（ＰＳＧ）層、ボロホス
ホシリケートガラス（ＢＰＳＧ）層、ＳｉＮ層等を積層
する。層間絶縁膜２１上にホトレジスト層を形成し、コ
ンタクト孔を形成する領域に開口を形成し、ホトレジス
トパターンを用いて層間絶縁膜２１をエッチングするこ
とにより、所望領域に開口を形成する。
【００３２】開口を形成した層間絶縁膜２１上に、透明
電極２２として例えばＩＴＯ層を形成し、ホトリソグラ
フィ、エッチングによりパターニングを行って画素電極
を形成する。画素電極、層間絶縁膜を覆うように、配向
膜２３としてポリイミド層等を形成する。配向膜２３に
ラビング等の配向処理を行うことにより、所望の配向を
与える。基板１１の他の表面上には、他の偏光子Ｐ２を
作成する。
電極２２として例えばＩＴＯ層を形成し、ホトリソグラ
フィ、エッチングによりパターニングを行って画素電極
を形成する。画素電極、層間絶縁膜を覆うように、配向
膜２３としてポリイミド層等を形成する。配向膜２３に
ラビング等の配向処理を行うことにより、所望の配向を
与える。基板１１の他の表面上には、他の偏光子Ｐ２を
作成する。
【００３３】なお、カラーフィルタ基板１０として図１
（Ｄ）、（Ｅ）に示す基板を用いれば、従来技術による
ＬＣＤとなる。本実施例のＬＣＤと、従来技術によるＬ
ＣＤとの差は、カラーフィルタ３が光透過領域の全面積
を覆うか、光透過領域の所定割合の面積のみを覆うかで
ある。
（Ｄ）、（Ｅ）に示す基板を用いれば、従来技術による
ＬＣＤとなる。本実施例のＬＣＤと、従来技術によるＬ
ＣＤとの差は、カラーフィルタ３が光透過領域の全面積
を覆うか、光透過領域の所定割合の面積のみを覆うかで
ある。
【００３４】本実施例によれば、光透過領域の全面積の
内、一部面積上にのみカラーフィルタ３が設けられる。
光透過領域の残りの面積は、可視領域の全波長光を透過
することができる。このため、カラーフィルタ３が形成
されない領域は、ＬＣＤの明るさ向上に顕著な効果を示
す。但し、カラーフィルタ３が設けられないことによ
り、全波長の光が透過するため、カラー表示の色再現性
は劣化する。
内、一部面積上にのみカラーフィルタ３が設けられる。
光透過領域の残りの面積は、可視領域の全波長光を透過
することができる。このため、カラーフィルタ３が形成
されない領域は、ＬＣＤの明るさ向上に顕著な効果を示
す。但し、カラーフィルタ３が設けられないことによ
り、全波長の光が透過するため、カラー表示の色再現性
は劣化する。
【００３５】しかしながら、カラー表示装置の特定用途
においては、光透過率の向上が優先され、色再現性はさ
ほど要求されないものがある。このような場合、光透過
領域内にカラーフィルタが形成されない領域Ｔを設ける
ことは、光透過率向上のために極めて有効である。
においては、光透過率の向上が優先され、色再現性はさ
ほど要求されないものがある。このような場合、光透過
領域内にカラーフィルタが形成されない領域Ｔを設ける
ことは、光透過率向上のために極めて有効である。
【００３６】本実施例によれば、光透過領域中カラーフ
ィルタが設けられない領域の面積を調整することによ
り、透過率を増大させることができる。所望の光透過率
が変更されても、面積比を変更すれば足り、カラーフィ
ルタの膜厚や材質を変更する必要が無くなる。
ィルタが設けられない領域の面積を調整することによ
り、透過率を増大させることができる。所望の光透過率
が変更されても、面積比を変更すれば足り、カラーフィ
ルタの膜厚や材質を変更する必要が無くなる。
【００３７】図２は、本発明の実施例による高光透過率
ＬＣＤの特性を示すグラフである。図２（Ａ）は、本発
明の実施例による各光透過領域における光透過率を示
し、図２（Ｂ）は、従来技術による各光透過領域の光透
過率を示す。
ＬＣＤの特性を示すグラフである。図２（Ａ）は、本発
明の実施例による各光透過領域における光透過率を示
し、図２（Ｂ）は、従来技術による各光透過領域の光透
過率を示す。
【００３８】図２（Ａ）においては、カラーフィルタ領
域が設けられない領域が存在するため、全波長領域に亘
って一定の最低光透過率が得られる。図においては、透
過領域の５０％にカラーフィルタを設け、５０％にカラ
ーフィルタを設ける場合を示す。光透過領域の５０％に
はカラーフィルタが設けられないため、最低でも約５０
％の光透過率が得られる。各カラーフィルタは、所望の
良好な色選択特性を有し、所望の波長領域のみの光を透
過し、他の波長領域の光は遮断する。
域が設けられない領域が存在するため、全波長領域に亘
って一定の最低光透過率が得られる。図においては、透
過領域の５０％にカラーフィルタを設け、５０％にカラ
ーフィルタを設ける場合を示す。光透過領域の５０％に
はカラーフィルタが設けられないため、最低でも約５０
％の光透過率が得られる。各カラーフィルタは、所望の
良好な色選択特性を有し、所望の波長領域のみの光を透
過し、他の波長領域の光は遮断する。
【００３９】図２（Ｂ）は、従来技術によるＬＣＤの光
透過領域の光透過特性を示す。高光透過率を得るため、
カラーフィルタの膜厚を減じ、カラーフィルタ内の色素
濃度を低下させ、所望の光透過率を得る。このため、各
カラーフィルタの不所望の光を遮断する性能が劣化し、
ほぼ５０％の光が全波長領域に亘って透過してしまう。
各カラーフィルタは、所望の波長領域で透過領域を有す
るが、他の波長領域においても約５０％の光を透過して
いる。
透過領域の光透過特性を示す。高光透過率を得るため、
カラーフィルタの膜厚を減じ、カラーフィルタ内の色素
濃度を低下させ、所望の光透過率を得る。このため、各
カラーフィルタの不所望の光を遮断する性能が劣化し、
ほぼ５０％の光が全波長領域に亘って透過してしまう。
各カラーフィルタは、所望の波長領域で透過領域を有す
るが、他の波長領域においても約５０％の光を透過して
いる。
【００４０】図２（Ａ）、（Ｂ）を比較すると、全体と
しての性能はほぼ同等である。従って、本発明の実施例
によっても従来技術によるカラー表示装置と同様の性能
が得られる。従来技術によれば、新たな設計条件に対し
ては各カラーフィルタの膜厚を変更したり、材質を変更
する。条件出しのためには新たな実験が必要である。こ
れに対し、本発明の実施例によれば、光透過領域内でカ
ラーフィルタが占有する面積を変更するのみで良く、カ
ラーフィルタの膜厚や材質は変更しなくてすむため、設
計変更に伴う準備作業が簡単化されれる。
しての性能はほぼ同等である。従って、本発明の実施例
によっても従来技術によるカラー表示装置と同様の性能
が得られる。従来技術によれば、新たな設計条件に対し
ては各カラーフィルタの膜厚を変更したり、材質を変更
する。条件出しのためには新たな実験が必要である。こ
れに対し、本発明の実施例によれば、光透過領域内でカ
ラーフィルタが占有する面積を変更するのみで良く、カ
ラーフィルタの膜厚や材質は変更しなくてすむため、設
計変更に伴う準備作業が簡単化されれる。
【００４１】本実施例によれば、さらに追加的な効果が
得られる。所定の膜厚を有するカラーフィルタを形成し
た時の性能が周知の材料を用いた場合、光透過領域のど
の程度（％）の領域にカラーフィルタを設けると、どの
ような色再現性と光透過特性が得られるかは計算により
容易に知ることができる。
得られる。所定の膜厚を有するカラーフィルタを形成し
た時の性能が周知の材料を用いた場合、光透過領域のど
の程度（％）の領域にカラーフィルタを設けると、どの
ような色再現性と光透過特性が得られるかは計算により
容易に知ることができる。
【００４２】図３は、図１の実施例の変形例による、カ
ラー表示装置の概略平面構造を示す。各光透過領域上に
設けるカラーフィルタ３Ｒ、３Ｇ、３Ｂとして、性能が
周知の材料から任意の物を選択する。所望の色再現性、
光透過率を得るために各カラーフィルタが光透過領域内
で占有する面積を調整する。カラーフィルタ３Ｒ、３
Ｇ、３Ｂが各光透過領域内で占有する面積は、色毎に異
なることになる。各光透過領域内でカラーフィルタが存
在しない面積を調整することにより、光透過率を調整
し、色再現性を調整することが可能となる。
ラー表示装置の概略平面構造を示す。各光透過領域上に
設けるカラーフィルタ３Ｒ、３Ｇ、３Ｂとして、性能が
周知の材料から任意の物を選択する。所望の色再現性、
光透過率を得るために各カラーフィルタが光透過領域内
で占有する面積を調整する。カラーフィルタ３Ｒ、３
Ｇ、３Ｂが各光透過領域内で占有する面積は、色毎に異
なることになる。各光透過領域内でカラーフィルタが存
在しない面積を調整することにより、光透過率を調整
し、色再現性を調整することが可能となる。
【００４３】図４は、図１、３に示す実施例の機能を説
明するためのグラフである。図４（Ａ）、（Ｃ）は色度
座標図であり、３原色のカラーフィルタの色度座標のプ
ロットと、カラーフィルタ基板全体として表現可能な色
再現性を示す色度座標のプロットである。図４（Ｂ）、
（Ｄ）は、視感透過率を示すグラフであり、カラーフィ
ルタを設けた時の視感透過率および画素全体としての視
感透過率を示す。図４（Ａ）、（Ｂ）は、カラーフィル
タが設けられた領域上での特性を示し、図４（Ｃ）、
（Ｄ）は、３原色を含む画素全体としての特性を示す。
明するためのグラフである。図４（Ａ）、（Ｃ）は色度
座標図であり、３原色のカラーフィルタの色度座標のプ
ロットと、カラーフィルタ基板全体として表現可能な色
再現性を示す色度座標のプロットである。図４（Ｂ）、
（Ｄ）は、視感透過率を示すグラフであり、カラーフィ
ルタを設けた時の視感透過率および画素全体としての視
感透過率を示す。図４（Ａ）、（Ｂ）は、カラーフィル
タが設けられた領域上での特性を示し、図４（Ｃ）、
（Ｄ）は、３原色を含む画素全体としての特性を示す。
【００４４】特性を評価するため、３種類のサンプルを
考察する。サンプルＳ０は、光透過領域の全面にカラー
フィルタが設けられた従来技術によるサンプルであり、
光透過率を向上させるためカラーフィルタの膜厚を薄く
してある。サンプルＳ１は、本発明の実施例により光透
過領域の一部にのみカラーフィルタが設けられたサンプ
ルである。サンプルＳ２は、本発明の他の実施例によ
り、光透過領域の一部領域上にのみカラーフィルタが設
けられ、さらにこのカラーフィルタが、サンプルＳ０と
同様に、光透過率を向上させるようにその膜厚を薄くし
たものである。図４（Ｅ）は、各サンプルの、条件、特
性をまとめて示す表である。。
考察する。サンプルＳ０は、光透過領域の全面にカラー
フィルタが設けられた従来技術によるサンプルであり、
光透過率を向上させるためカラーフィルタの膜厚を薄く
してある。サンプルＳ１は、本発明の実施例により光透
過領域の一部にのみカラーフィルタが設けられたサンプ
ルである。サンプルＳ２は、本発明の他の実施例によ
り、光透過領域の一部領域上にのみカラーフィルタが設
けられ、さらにこのカラーフィルタが、サンプルＳ０と
同様に、光透過率を向上させるようにその膜厚を薄くし
たものである。図４（Ｅ）は、各サンプルの、条件、特
性をまとめて示す表である。。
【００４５】表において、「開口部上の着色樹脂部」と
はカラーフィルタが存在する領域のことであり、視感透
過率Ｙ、色度座標ｘ、ｙの数値は測定値である。サンプ
ルＳ０とＳ２とはカラーフィルタとしては同一の物であ
り、同一の数値を示す。「ＣＦ基板として」とはカラー
フィルタが存在する領域、存在しない領域を合わせた光
透過領域の特性を示す。カラーフィルタが占有する面積
比を単位％で示す。
はカラーフィルタが存在する領域のことであり、視感透
過率Ｙ、色度座標ｘ、ｙの数値は測定値である。サンプ
ルＳ０とＳ２とはカラーフィルタとしては同一の物であ
り、同一の数値を示す。「ＣＦ基板として」とはカラー
フィルタが存在する領域、存在しない領域を合わせた光
透過領域の特性を示す。カラーフィルタが占有する面積
比を単位％で示す。
【００４６】従来技術によるサンプルＳ０は、全光透過
領域上にカラーフィルタが存在するので、開口部上の着
色樹脂部の特性とＣＦ基板としての特性は同一である。
サンプルＳ１、Ｓ２においては、カラーフィルタが存在
しない領域があるため、ＣＦ基板としての特性は着色樹
脂部の特性と較べ透過率Ｙが増大し、色度座標ｘ、ｙも
変化する。なお、サンプルＳ１、Ｓ２のＣＦ基板として
の光学特性はシミュレーションにより算出したものであ
る。
領域上にカラーフィルタが存在するので、開口部上の着
色樹脂部の特性とＣＦ基板としての特性は同一である。
サンプルＳ１、Ｓ２においては、カラーフィルタが存在
しない領域があるため、ＣＦ基板としての特性は着色樹
脂部の特性と較べ透過率Ｙが増大し、色度座標ｘ、ｙも
変化する。なお、サンプルＳ１、Ｓ２のＣＦ基板として
の光学特性はシミュレーションにより算出したものであ
る。
【００４７】図４（Ａ）は、各サンプルのカラーフィル
タ上の色度座標を示すグラフである。サンプルＳ０とサ
ンプルＳ２とは、同一のカラーフィルタを用いるため、
同一の色度座標を有する。サンプルＳ１は、カラーフィ
ルタとしては色選択性の優れた物を用いるため、色度座
標上ではサンプルＳ０の色度座標よりも外側のプロット
を有する。従って、カラーフィルタ上においては、サン
プルＳ１が最も優れた色再現性を示す。
タ上の色度座標を示すグラフである。サンプルＳ０とサ
ンプルＳ２とは、同一のカラーフィルタを用いるため、
同一の色度座標を有する。サンプルＳ１は、カラーフィ
ルタとしては色選択性の優れた物を用いるため、色度座
標上ではサンプルＳ０の色度座標よりも外側のプロット
を有する。従って、カラーフィルタ上においては、サン
プルＳ１が最も優れた色再現性を示す。
【００４８】図４（Ｂ）に示すように、視感透過率にお
いては、色再現性の優れたサンプルＳ１の光透過率が低
く、カラーフィルタ膜厚を薄くしたサンプルＳ０、Ｓ２
の光透過率が高い。
いては、色再現性の優れたサンプルＳ１の光透過率が低
く、カラーフィルタ膜厚を薄くしたサンプルＳ０、Ｓ２
の光透過率が高い。
【００４９】図４（Ｃ）は、各光透過領域全体としての
色度座標を示すグラフである。サンプルＳ１、Ｓ２にお
いては、光透過領域上にカラーフィルタが存在する領域
とカラーフィルタが存在しない領域とが設けられるた
め、光透過領域全体としての特性はカラーフィルタが存
在する領域の特性とは異なる。
色度座標を示すグラフである。サンプルＳ１、Ｓ２にお
いては、光透過領域上にカラーフィルタが存在する領域
とカラーフィルタが存在しない領域とが設けられるた
め、光透過領域全体としての特性はカラーフィルタが存
在する領域の特性とは異なる。
【００５０】サンプルＳ１においては、光透過領域内で
カラーフィルタが存在しない領域の面積比を調整するこ
とにより、画素全体としての色度座標が従来技術による
光透過領域全面にカラーフィルタを設けたサンプルＳ０
の色度座標と等しくなるように選定される。従って、サ
ンプルＳ０とサンプルＳ１の色度座標は同一となる。
カラーフィルタが存在しない領域の面積比を調整するこ
とにより、画素全体としての色度座標が従来技術による
光透過領域全面にカラーフィルタを設けたサンプルＳ０
の色度座標と等しくなるように選定される。従って、サ
ンプルＳ０とサンプルＳ１の色度座標は同一となる。
【００５１】サンプルＳ２においては、カラーフィルタ
としてサンプルＳ０と同等の物を用い、さらに光透過領
域内でカラーフィルタが存在する領域を２０％に制限し
た。このため、色再現性としては光透過領域全面にカラ
ーフィルタを設けた場合よりも劣化し、色再現性は低下
したものとなる。
としてサンプルＳ０と同等の物を用い、さらに光透過領
域内でカラーフィルタが存在する領域を２０％に制限し
た。このため、色再現性としては光透過領域全面にカラ
ーフィルタを設けた場合よりも劣化し、色再現性は低下
したものとなる。
【００５２】図４（Ｄ）は、視感透過率を示すグラフで
ある。サンプルＳ１は、光透過領域上のカラーフィルタ
が存在しない面積を調整することにより、全光透過領域
上にカラーフィルタが設けられたサンプルＳ０と同等の
視感透過率を有するように調整されている。サンプルＳ
２は、サンプルＳ０と同一のカラーフィルタを用い、か
つ光透過領域上でカラーフィルタが存在しない面積を広
く取っている。光透過領域上カラーフィルタが存在しな
い領域を設定することにより、視感透過率は向上してい
る。
ある。サンプルＳ１は、光透過領域上のカラーフィルタ
が存在しない面積を調整することにより、全光透過領域
上にカラーフィルタが設けられたサンプルＳ０と同等の
視感透過率を有するように調整されている。サンプルＳ
２は、サンプルＳ０と同一のカラーフィルタを用い、か
つ光透過領域上でカラーフィルタが存在しない面積を広
く取っている。光透過領域上カラーフィルタが存在しな
い領域を設定することにより、視感透過率は向上してい
る。
【００５３】カラーフィルタの膜厚を薄くしてＬＣＤを
明るくする場合、製作困難なほど薄いカラーフィルタが
必要になる場合もある。本実施例ではカラーフィルタの
占有面積を小さくすればＬＣＤを明るくすることがで
き、技術的困難は生じない。
明るくする場合、製作困難なほど薄いカラーフィルタが
必要になる場合もある。本実施例ではカラーフィルタの
占有面積を小さくすればＬＣＤを明るくすることがで
き、技術的困難は生じない。
【００５４】図５は、光透過領域内でカラーフィルタが
配置される配置例を示す平面図である。ブラックマトリ
クスの開口部ＯＡと、カラーフィルタが配置される領域
ＣＦとの関係を概略的に示す。
配置される配置例を示す平面図である。ブラックマトリ
クスの開口部ＯＡと、カラーフィルタが配置される領域
ＣＦとの関係を概略的に示す。
【００５５】図５（Ａ）においては、各光透過領域内に
複数のカラーフィルタ領域ＣＦが横方向ストライプとし
て形成されている。各カラーフィルタ領域ＣＦは、ブラ
ックマトリクスの開口部（光透過領域）ＯＡの横方向寸
法を越えて光透過領域からブラックマトリクスＢＭ上に
延在し、縦方向に並んで配置されている。
複数のカラーフィルタ領域ＣＦが横方向ストライプとし
て形成されている。各カラーフィルタ領域ＣＦは、ブラ
ックマトリクスの開口部（光透過領域）ＯＡの横方向寸
法を越えて光透過領域からブラックマトリクスＢＭ上に
延在し、縦方向に並んで配置されている。
【００５６】図５（Ｂ）は、カラーフィルタ領域ＣＦ
が、ブラックマトリスクの開口領域ＯＡの所定方向一端
外側から、内部に向かって延在する構成を示す。例え
ば、光透過領域の９０％をカラーフィルタで覆う場合、
カラーフィルタＣＦが存在する全領域をＢＭの開口部Ｏ
Ａ内に設定することは、ある程度の技術レベルを要す
る。本構成例におけるように、各光透過領域の一辺（右
辺）外側から、カラーフィルタ領域ＣＦを形成し、光透
過領域の中間領域（横方向の所定位置）まで延在させる
ことは、精度の必要な位置合わせが一辺（左辺）の横方
向位置のみでよいのでカラーフィルタＣＦ作成時の精度
要求を緩和させる。
が、ブラックマトリスクの開口領域ＯＡの所定方向一端
外側から、内部に向かって延在する構成を示す。例え
ば、光透過領域の９０％をカラーフィルタで覆う場合、
カラーフィルタＣＦが存在する全領域をＢＭの開口部Ｏ
Ａ内に設定することは、ある程度の技術レベルを要す
る。本構成例におけるように、各光透過領域の一辺（右
辺）外側から、カラーフィルタ領域ＣＦを形成し、光透
過領域の中間領域（横方向の所定位置）まで延在させる
ことは、精度の必要な位置合わせが一辺（左辺）の横方
向位置のみでよいのでカラーフィルタＣＦ作成時の精度
要求を緩和させる。
【００５７】横方向に隣接する縦方向に長いカラーフィ
ルタ端部間の関係を考察すると、第１のカラーフィルタ
ＣＦは、光透過領域外側にはみ出し、ＢＭ上に張り出す
が、隣接する光透過領域ＯＡ上に配置される第２のカラ
ーフィルタＣＦは、光透過領域内部に引き下がった端部
を有する。従って、隣接する光透過領域ＯＡ上のカラー
フィルタ領域ＣＦがＢＭ上で互いに重なる危険性が低減
する。
ルタ端部間の関係を考察すると、第１のカラーフィルタ
ＣＦは、光透過領域外側にはみ出し、ＢＭ上に張り出す
が、隣接する光透過領域ＯＡ上に配置される第２のカラ
ーフィルタＣＦは、光透過領域内部に引き下がった端部
を有する。従って、隣接する光透過領域ＯＡ上のカラー
フィルタ領域ＣＦがＢＭ上で互いに重なる危険性が低減
する。
【００５８】図５（Ｃ）、（Ｄ）は、各光透過領域ＯＡ
内に、連続した単一領域のカラーフィルタ領域ＣＦが形
成される構成例を示す。図５（Ｃ）においては、光透過
領域ＯＡとほぼ相似の形状で、光透過領域ＯＡ内に配置
されるカラーフィルタ領域ＣＦが形成されている。
内に、連続した単一領域のカラーフィルタ領域ＣＦが形
成される構成例を示す。図５（Ｃ）においては、光透過
領域ＯＡとほぼ相似の形状で、光透過領域ＯＡ内に配置
されるカラーフィルタ領域ＣＦが形成されている。
【００５９】図５（Ｄ）においては、各光透過領域ＯＡ
内において、カラーフィルタの形成される領域ＣＦを、
中央部の矩形領域にした場合を示す。図５（Ｃ）、
（Ｄ）に示すように、カラーフィルタＣＦを光透過領域
ＯＡの隣接する端部から位置合わせ誤差以上離すと、光
透過率が位置合わせ誤差の影響を受けなくなる。
内において、カラーフィルタの形成される領域ＣＦを、
中央部の矩形領域にした場合を示す。図５（Ｃ）、
（Ｄ）に示すように、カラーフィルタＣＦを光透過領域
ＯＡの隣接する端部から位置合わせ誤差以上離すと、光
透過率が位置合わせ誤差の影響を受けなくなる。
【００６０】図５（Ｅ）、（Ｆ）、（Ｇ）は、各光透過
領域ＯＡ内においてカラーフィルタが形成される領域を
複数個設けた場合を示す。図５（Ｅ）において、各光透
過領域ＯＡにおいて、カラーフィルタＣＦが設けられる
領域は、各光透過領域に対してそれぞれ６領域設定され
ている。
領域ＯＡ内においてカラーフィルタが形成される領域を
複数個設けた場合を示す。図５（Ｅ）において、各光透
過領域ＯＡにおいて、カラーフィルタＣＦが設けられる
領域は、各光透過領域に対してそれぞれ６領域設定され
ている。
【００６１】図５（Ｆ）においては、各光透過領域内に
おいて形成されるカラーフィルタ領域が３に低減してい
る。
おいて形成されるカラーフィルタ領域が３に低減してい
る。
【００６２】図５（Ｇ）においては、各光透過領域内に
おいてカラーフィルタＣＦが形成される領域を行列状の
サブ面積に分割し、各サブ面積上にカラーフィルタが形
成される場合を示す。
おいてカラーフィルタＣＦが形成される領域を行列状の
サブ面積に分割し、各サブ面積上にカラーフィルタが形
成される場合を示す。
【００６３】図５（Ｇ）においては、各光透過領域ＯＡ
内において、カラーフィルタＣＦが形成される領域が、
複数行、複数列のマトリクス状に形成されている。
内において、カラーフィルタＣＦが形成される領域が、
複数行、複数列のマトリクス状に形成されている。
【００６４】各光透過領域内に形成されるカラーフィル
タ領域の数を増加し、各光透過領域内でカラーフィルタ
が形成される領域を分散させることにより、画素領域が
広い場合の視感を向上させることができる。
タ領域の数を増加し、各光透過領域内でカラーフィルタ
が形成される領域を分散させることにより、画素領域が
広い場合の視感を向上させることができる。
【００６５】図６は、本発明の実施例によるＬＣＤ装置
の構成の他の例を概略的に示す断面図である。
の構成の他の例を概略的に示す断面図である。
【００６６】図６（Ａ）においては、ブラックマトリク
スＢＭが樹脂で形成されている。従って、ブラックマト
リクスＧＭとカラーフィルタＣＦとが有する高さ（膜
厚）をほぼ同等とすることができる。たとえば、図５
（Ｃ）〜（Ｇ）の配置を採用し、ブラックマトリクスＢ
Ｍを、遮光性絶縁有機樹脂層で形成し、カラーフィルタ
ＣＦと並べて配置する。
スＢＭが樹脂で形成されている。従って、ブラックマト
リクスＧＭとカラーフィルタＣＦとが有する高さ（膜
厚）をほぼ同等とすることができる。たとえば、図５
（Ｃ）〜（Ｇ）の配置を採用し、ブラックマトリクスＢ
Ｍを、遮光性絶縁有機樹脂層で形成し、カラーフィルタ
ＣＦと並べて配置する。
【００６７】ブラックマトリクスＢＭとカラーフィルタ
ＣＦとが、共に有機材料で形成され、同等の膜厚を有す
るため、基板表面上の膜厚差は低減されている。ブラッ
クマトリクスＢＭ２とカラーフィルタＣＦ３とを覆って
基板上に、透明電極５として、ＩＴＯ層２２を形成す
る。ＩＴＯ層２２の表面上に配向膜４を形成する。ＢＭ
層２として、ＣＦ層３と同等の厚さを有する樹脂層を用
いることにより、カラーフィルタを形成した後の基板表
面上の凹凸を低減することができる。
ＣＦとが、共に有機材料で形成され、同等の膜厚を有す
るため、基板表面上の膜厚差は低減されている。ブラッ
クマトリクスＢＭ２とカラーフィルタＣＦ３とを覆って
基板上に、透明電極５として、ＩＴＯ層２２を形成す
る。ＩＴＯ層２２の表面上に配向膜４を形成する。ＢＭ
層２として、ＣＦ層３と同等の厚さを有する樹脂層を用
いることにより、カラーフィルタを形成した後の基板表
面上の凹凸を低減することができる。
【００６８】図６（Ｂ）は、ガラス基板１上にＣｒ等の
金属でブラックマトリクス２を形成し、着色樹脂でカラ
ーフィルタ３を形成した後ブラックマトリクス２に重ね
て基板全面上に透明電極５を形成する構成を示す。ブラ
ックマトリクス２は金属で形成され、高い導電率を有す
る。透明電極５は、ＩＴＯ等で形成され、金属と較べる
と導電性が低い。ブラックマトリクス２を透明電極５と
電気的に接続することにより、ＩＴＯで形成された透明
電極５の実効抵抗を低減することができる。
金属でブラックマトリクス２を形成し、着色樹脂でカラ
ーフィルタ３を形成した後ブラックマトリクス２に重ね
て基板全面上に透明電極５を形成する構成を示す。ブラ
ックマトリクス２は金属で形成され、高い導電率を有す
る。透明電極５は、ＩＴＯ等で形成され、金属と較べる
と導電性が低い。ブラックマトリクス２を透明電極５と
電気的に接続することにより、ＩＴＯで形成された透明
電極５の実効抵抗を低減することができる。
【００６９】図６（Ｃ）は、平坦層４を用いる場合、カ
ラーフィルタの上に平坦層を形成する代わりに、まず平
坦層４を形成し、平坦層４の表面に凹部を形成し、凹部
内にカラーフィルタ３を埋め込んで形成する場合を示
す。カラーフィルタ３と平坦層４の表面は、同一表面を
有するように形成される。平坦面の形成にはエッチバッ
クや研磨を用いることもできる。このようにして平坦面
を形成した後は、前述の実施例同様その平坦面上に透明
電極、配向層を形成する。
ラーフィルタの上に平坦層を形成する代わりに、まず平
坦層４を形成し、平坦層４の表面に凹部を形成し、凹部
内にカラーフィルタ３を埋め込んで形成する場合を示
す。カラーフィルタ３と平坦層４の表面は、同一表面を
有するように形成される。平坦面の形成にはエッチバッ
クや研磨を用いることもできる。このようにして平坦面
を形成した後は、前述の実施例同様その平坦面上に透明
電極、配向層を形成する。
【００７０】以上説明した実施例においては、基板全面
に透明電極を形成するコモン電極基板上にカラーフィル
タを設けた。カラーフィルタは、ＴＦＴを形成するＴＦ
Ｔ基板上に設けることもできる。
に透明電極を形成するコモン電極基板上にカラーフィル
タを設けた。カラーフィルタは、ＴＦＴを形成するＴＦ
Ｔ基板上に設けることもできる。
【００７１】図７は、ＴＦＴ基板上にカラーフィルタを
形成する場合を示す。図７（Ａ）はＬＣＤの断面図を示
し、図７（Ｂ）は、ＴＦＴ基板の１画素分の平面構成を
示す。
形成する場合を示す。図７（Ａ）はＬＣＤの断面図を示
し、図７（Ｂ）は、ＴＦＴ基板の１画素分の平面構成を
示す。
【００７２】ＴＦＴ基板２０ａは、以下のように形成さ
れている。ガラス基板１１の表面上に、ＳｉＯ2 膜を形
成した後、ゲート電極１３をＣｒ等の金属によって形成
する。ゲート電極１３を覆ってゲート絶縁膜１５を形成
する。ゲート絶縁膜１５は、例えばＳｉＯ2 やＳｉＮ膜
等によって形成できる。ゲート絶縁膜上にアモルファス
シリコン（ａ−Ｓｉ）又は多結晶シリコン（ｐｏｌｙ−
Ｓｉ）の半導体層を形成し、パターニングして活性層１
７を形成する。
れている。ガラス基板１１の表面上に、ＳｉＯ2 膜を形
成した後、ゲート電極１３をＣｒ等の金属によって形成
する。ゲート電極１３を覆ってゲート絶縁膜１５を形成
する。ゲート絶縁膜１５は、例えばＳｉＯ2 やＳｉＮ膜
等によって形成できる。ゲート絶縁膜上にアモルファス
シリコン（ａ−Ｓｉ）又は多結晶シリコン（ｐｏｌｙ−
Ｓｉ）の半導体層を形成し、パターニングして活性層１
７を形成する。
【００７３】活性層１７の両端上に、高不純物濃度のＳ
ｉ層とＴｉ／Ａｌ／Ｔｉ積層との積み重ね等の構成によ
り、ドレイン電極１８Ｄ、ソース電極１８Ｓを形成す
る。その後、基板表面を層間絶縁膜２１で覆う。層間絶
縁膜２１は、例えばＳｉＯ2 やＳｉＮ等によって形成す
ることができる。
ｉ層とＴｉ／Ａｌ／Ｔｉ積層との積み重ね等の構成によ
り、ドレイン電極１８Ｄ、ソース電極１８Ｓを形成す
る。その後、基板表面を層間絶縁膜２１で覆う。層間絶
縁膜２１は、例えばＳｉＯ2 やＳｉＮ等によって形成す
ることができる。
【００７４】層間絶縁膜２１上に、カラーフィルタ３を
形成する。カラーフィルタ３を形成した後、平坦化膜２
５を形成する。平坦化膜２５、層間絶縁膜２１を貫通し
てコンタクトホールを開口し、透明電極２２を形成す
る。透明電極２２のパターニング後、表面に配向膜２３
を形成し、配向処理を行う。
形成する。カラーフィルタ３を形成した後、平坦化膜２
５を形成する。平坦化膜２５、層間絶縁膜２１を貫通し
てコンタクトホールを開口し、透明電極２２を形成す
る。透明電極２２のパターニング後、表面に配向膜２３
を形成し、配向処理を行う。
【００７５】ＴＦＴ基板に対向するコモン電極基板１０
ａは、ガラス基板１の表面上にコモン電極５、配向膜６
を形成し、配向膜６に配向処理を行って形成される。コ
モン電極基板１０ａは、ブラックマトリクス、カラーフ
ィルタを有さず、極めて簡単な構成を有する。この場
合、ソース電極との重なり部を除く、画素電極２２が単
位表示領域である光透過領域を画定する。なお、コモン
電極基板１０ａ上に図１（Ｂ）同様のブラックマトリク
スを形成してもよい。
ａは、ガラス基板１の表面上にコモン電極５、配向膜６
を形成し、配向膜６に配向処理を行って形成される。コ
モン電極基板１０ａは、ブラックマトリクス、カラーフ
ィルタを有さず、極めて簡単な構成を有する。この場
合、ソース電極との重なり部を除く、画素電極２２が単
位表示領域である光透過領域を画定する。なお、コモン
電極基板１０ａ上に図１（Ｂ）同様のブラックマトリク
スを形成してもよい。
【００７６】なお、コモン電極基板１０ａおよびＴＦＴ
基板２０ａの外側表面上には、それぞれ偏光子Ｐ１、Ｐ
２を形成する。
基板２０ａの外側表面上には、それぞれ偏光子Ｐ１、Ｐ
２を形成する。
【００７７】図７（Ｂ）は、１光透過領域に関係するＴ
ＦＴ、カラーフィルタおよび透明電極の配置を示す平面
図である。図においては、透明電極２２下部に重なるよ
うに配置された蓄積容量ＳＣも示されている。
ＦＴ、カラーフィルタおよび透明電極の配置を示す平面
図である。図においては、透明電極２２下部に重なるよ
うに配置された蓄積容量ＳＣも示されている。
【００７８】なお、カラーフィルタとＴＦＴとが一部オ
ーバラップするように形成し、カラーフィルタ３を貫通
してコンタクトホールを形成するようにしてもよい。
ーバラップするように形成し、カラーフィルタ３を貫通
してコンタクトホールを形成するようにしてもよい。
【００７９】図７（Ｃ）は、このような場合の平面構成
を示す。カラーフィルタ３がＴＦＴの一部にオーバラッ
プし、カラーフィルタを通してコンタクトホールＣＨが
形成されている。また、この構成においては、ゲート電
極が活性層の上に配置されるトップゲート型となってい
る。
を示す。カラーフィルタ３がＴＦＴの一部にオーバラッ
プし、カラーフィルタを通してコンタクトホールＣＨが
形成されている。また、この構成においては、ゲート電
極が活性層の上に配置されるトップゲート型となってい
る。
【００８０】以上の実施例においては、透過型ＬＣＤを
説明した。反射型ＬＣＤにおいても、同様の構成を採用
することができる。
説明した。反射型ＬＣＤにおいても、同様の構成を採用
することができる。
【００８１】図８は、本発明の他の実施例による反射型
ＬＣＤの構成を示す概略断面図である。
ＬＣＤの構成を示す概略断面図である。
【００８２】図８（Ａ）は、反射型ＬＣＤ装置の基本構
成を示す。図８（Ａ）において、直線偏光子３１、液晶
表示装置３３、反射板３５が重ねて配置される。光は、
まず直線偏光子３１に入射した後、液晶表示装置３３の
液晶層に入射される。液晶層は、λ／４板の機能を果た
すように設計されている。λ／４板を通すことにより、
直線偏光は円偏光に変換される。なお、液晶表示装置の
オン／オフ状態の一方においては、液晶層はλ／４板の
機能を失い、入射した直線偏光は直線偏光のまま出射さ
れる。
成を示す。図８（Ａ）において、直線偏光子３１、液晶
表示装置３３、反射板３５が重ねて配置される。光は、
まず直線偏光子３１に入射した後、液晶表示装置３３の
液晶層に入射される。液晶層は、λ／４板の機能を果た
すように設計されている。λ／４板を通すことにより、
直線偏光は円偏光に変換される。なお、液晶表示装置の
オン／オフ状態の一方においては、液晶層はλ／４板の
機能を失い、入射した直線偏光は直線偏光のまま出射さ
れる。
【００８３】この出射光は、反射板３５で反射し、再び
液晶表示装置３３を通って直線偏光子３１に入射する。
円偏光が液晶表示装置３３に入射する場合には、液晶層
が再びλ／４板の機能を果たし、入射した直線偏光とは
９０°偏光方向の異なる直線偏光となり、直線偏光子３
１でカットされる。直線偏光が液晶層に入射する場合
は、液晶層がλ／４板の機能を有さないので、そのまま
直線偏光子３１を透過する。
液晶表示装置３３を通って直線偏光子３１に入射する。
円偏光が液晶表示装置３３に入射する場合には、液晶層
が再びλ／４板の機能を果たし、入射した直線偏光とは
９０°偏光方向の異なる直線偏光となり、直線偏光子３
１でカットされる。直線偏光が液晶層に入射する場合
は、液晶層がλ／４板の機能を有さないので、そのまま
直線偏光子３１を透過する。
【００８４】図８（Ｂ）は、反射型液晶表示装置の変形
例を示す。本構成においては、直線偏光子３１と液晶表
示装置３３の間に光学的補償板としてλ／４板３２が配
置されている。従って、偏光子３１を透過した直線偏光
は、λ／４板３２を通過することにより円偏光に変換さ
れる。液晶表示装置３３の液晶層がλ／４板または光透
過板として機能し、円偏光又は直線偏光となって出射す
る。反射板３５から反射された円偏光または直線偏光
は、液晶表示装置３３を通過することにより、円偏光ま
たは直線偏光となり、λ／４板３２を透過して直線偏光
となり、偏光子３１を透過又は遮断される。
例を示す。本構成においては、直線偏光子３１と液晶表
示装置３３の間に光学的補償板としてλ／４板３２が配
置されている。従って、偏光子３１を透過した直線偏光
は、λ／４板３２を通過することにより円偏光に変換さ
れる。液晶表示装置３３の液晶層がλ／４板または光透
過板として機能し、円偏光又は直線偏光となって出射す
る。反射板３５から反射された円偏光または直線偏光
は、液晶表示装置３３を通過することにより、円偏光ま
たは直線偏光となり、λ／４板３２を透過して直線偏光
となり、偏光子３１を透過又は遮断される。
【００８５】図８（Ａ）、（Ｂ）の液晶表示装置３３と
しては、上述の実施例で説明した構成と同等の構成、特
に図１（Ｃ）、７（Ａ）の構成から偏光子Ｐ１、Ｐ２を
外した構成で液晶層の厚さがλ／４板として機能するよ
うに設計したものを用いることができる。また、反射板
３５を液晶表示装置内に組み込むことも可能である。
しては、上述の実施例で説明した構成と同等の構成、特
に図１（Ｃ）、７（Ａ）の構成から偏光子Ｐ１、Ｐ２を
外した構成で液晶層の厚さがλ／４板として機能するよ
うに設計したものを用いることができる。また、反射板
３５を液晶表示装置内に組み込むことも可能である。
【００８６】図８（Ｃ）は、反射板３５をＴＦＴ基板内
に組み込んだ構成例を示す。図１（Ｃ）に示す液晶表示
装置のＴＦＴ基板と異なる点を主に説明する。活性層１
７の上に形成されるソース／ドレイン電極の一方を光透
過領域の全面に延在させる。この電極層１８が反射板と
して機能する。
に組み込んだ構成例を示す。図１（Ｃ）に示す液晶表示
装置のＴＦＴ基板と異なる点を主に説明する。活性層１
７の上に形成されるソース／ドレイン電極の一方を光透
過領域の全面に延在させる。この電極層１８が反射板と
して機能する。
【００８７】反射板１８の上にカラーフィルタ３を形成
した後、層間絶縁膜３７を形成する。層間絶縁膜３７、
カラーフィルタ３を貫通してコンタクトホールを形成
し、その上に透明電極２２を形成して反射電極１８に接
続する。透明電極２２は各画素電極にパターニングされ
る。このような構成により、図中上部から入射した光
は、透明電極２２、層間絶縁膜３７、カラーフィルタ３
を透過し、反射電極１８で反射されて上部に戻る。
した後、層間絶縁膜３７を形成する。層間絶縁膜３７、
カラーフィルタ３を貫通してコンタクトホールを形成
し、その上に透明電極２２を形成して反射電極１８に接
続する。透明電極２２は各画素電極にパターニングされ
る。このような構成により、図中上部から入射した光
は、透明電極２２、層間絶縁膜３７、カラーフィルタ３
を透過し、反射電極１８で反射されて上部に戻る。
【００８８】反射型ＬＣＤは光散乱機構を有することが
望ましい。図８（Ｄ）は表面に凹凸に形成したカラーＣ
Ｆの例を示す。表面に凹凸分布を形成することにより、
ＣＦを透過する光が屈折し、光拡散機構が付与される。
望ましい。図８（Ｄ）は表面に凹凸に形成したカラーＣ
Ｆの例を示す。表面に凹凸分布を形成することにより、
ＣＦを透過する光が屈折し、光拡散機構が付与される。
【００８９】以上実施例に沿って本発明を説明したが、
本発明はこれらに制限されるものではない。例えば種々
の変更、改良、組み合わせが可能なことは当業者に自明
であろう。
本発明はこれらに制限されるものではない。例えば種々
の変更、改良、組み合わせが可能なことは当業者に自明
であろう。
【００９０】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
カラー表示装置の単位表示領域内に形成するカラーフィ
ルタの占有面積を調整することにより、所望の色再現
性、明るさを実現することができる。設計変更の対応が
容易となり、大量生産のスループットを向上させること
ができる。明るいカラー表示装置が提供される。
カラー表示装置の単位表示領域内に形成するカラーフィ
ルタの占有面積を調整することにより、所望の色再現
性、明るさを実現することができる。設計変更の対応が
容易となり、大量生産のスループットを向上させること
ができる。明るいカラー表示装置が提供される。
【図１】 本発明の実施例による液晶表示装置を従来例
による液晶表示装置と比較して示す平面図および断面図
である。
による液晶表示装置と比較して示す平面図および断面図
である。
【図２】 図１に示す実施例の液晶表示装置の性能を、
従来技術による液晶表示装置の性能と比較して示すグラ
フである。
従来技術による液晶表示装置の性能と比較して示すグラ
フである。
【図３】 図１に示す実施例の変形例を示す平面図であ
る。
る。
【図４】 図１、３の実施例の機能を説明するためのグ
ラフおよび表である。
ラフおよび表である。
【図５】 図１に示す実施例の光透過領域とカラーフィ
ルタの配置の種々の例を示す平面図である。
ルタの配置の種々の例を示す平面図である。
【図６】 本発明の他の実施例による液晶表示装置のカ
ラーフィルタ基板の構成を示す断面図である。
ラーフィルタ基板の構成を示す断面図である。
【図７】 本発明の他の実施例による液晶表示装置の構
成を示す断面図および平面図である。
成を示す断面図および平面図である。
【図８】本発明の他の実施例による反射型液晶表示装置
の構成を示す概略断面図である。
の構成を示す概略断面図である。
１ 基板 ２ ブラックマトリクス ３ カラーフィルタ ４ 平坦化層 ５ 透明電極 ６ 配向膜 １０ カラーフィルタ基板 １１ 基板 １３ ゲート電極 １５ ゲート絶縁膜 １７ 活性層 １８ ソース／ドレイン電極 １９ ＴＦＴ ２０ ＴＦＴ基板 ２１ 層間絶縁膜 ２２ 透明電極 ２３ 配向膜 ２４ 液晶層 Ｐ１、Ｐ２ 偏光子
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H091 FA02Y FA35Y FB06 FC02 FD04 GA01 GA13 LA15 5C094 AA08 AA46 BA03 BA43 CA19 CA20 CA24 ED03 FA01
Claims (11)
- 【請求項１】 基板と、前記基板上に形成され、光が透
過する多数の単位表示領域を画定する画素構造と、 前記単位表示領域の各々に対応して配置され、単位表示
領域の面積の一部を覆い、残部は覆わないように設けら
れたカラーフィルタとを有するカラー表示装置。 - 【請求項２】 前記画素構造は、多数の単位表示領域を
マトリクス状に画定するブラックマトリクスを含む請求
項１記載のカラー表示装置。 - 【請求項３】 前記カラーフィルタは、前記マトリクス
状の単位表示領域の行列の一方向に沿って単位表示領域
を越えてブラックスマトリクスに重なるように延在し、
行列の他方向に並んで配置された複数のカラーフィルタ
ストライプを有する請求項２記載のカラー表示装置。 - 【請求項４】 前記カラーフィルタは、各単位表示領域
の内部にのみ配置され、単位表示領域の端部から所定距
離以上離れている請求項１または２記載のカラー表示装
置。 - 【請求項５】 前記カラーフィルタは、３色のカラーフ
ィルタ要素を含み、各単位表示領域内には１色のカラー
フィルタ要素のみが存在し、単位表示領域内で３色のカ
ラーフィルタ要素が占有する面積は色によって異なる請
求項１〜４のいずれかに記載のカラー表示装置。 - 【請求項６】 各単位表示領域内に配置されたカラーフ
ィルタ要素は分散配置されたカラーフィルタ面を有する
請求項５記載のカラー表示装置。 - 【請求項７】 さらに、光透過材料で形成され、前記カ
ラーフィルタの周囲を囲み、平坦化表面を形成する光透
過平坦化層を有する請求項１〜６のいずれかに記載のカ
ラー表示装置。 - 【請求項８】 前記光透過平坦化層が着色されている請
求項７記載のカラー表示装置。 - 【請求項９】 前記平坦化層が表面に凹凸を有し、凹部
内に前記カラーフィルタが、平坦化層表面と同一表面を
形成するように配置されている請求項７または８記載の
カラー表示装置。 - 【請求項１０】 さらに、前記基板と対向配置された対
向基板と、 前記基板と前記対向基板との間に配置された液晶層と、 前記基板および前記対向基板の一方の上に配置された共
通電極と、 前記基板および前記対向基板の他方の上に、前記単位表
示領域に対応して配置された多数の画素電極とを有し、
前記カラーフィルタは前記基板または前記対向基板上に
配置されている請求項１〜９のいずれかに記載のカラー
表示装置。 - 【請求項１１】 前記カラー表示装置が反射型液晶表示
装置である請求項１０記載のカラー表示装置。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10372789A JP2000194286A (ja) | 1998-12-28 | 1998-12-28 | カラ―表示装置 |
| US09/290,221 US6310672B1 (en) | 1998-12-28 | 1999-04-13 | Color display device having filterless areas |
| TW088106230A TW442687B (en) | 1998-12-28 | 1999-04-19 | Color display device having filterless areas |
| KR1019990015159A KR100575119B1 (ko) | 1998-12-28 | 1999-04-28 | 컬러 표시 장치 |
| KR1020060006437A KR100583656B1 (ko) | 1998-12-28 | 2006-01-20 | 컬러 표시 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10372789A JP2000194286A (ja) | 1998-12-28 | 1998-12-28 | カラ―表示装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000194286A true JP2000194286A (ja) | 2000-07-14 |
Family
ID=18501050
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10372789A Pending JP2000194286A (ja) | 1998-12-28 | 1998-12-28 | カラ―表示装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6310672B1 (ja) |
| JP (1) | JP2000194286A (ja) |
| KR (2) | KR100575119B1 (ja) |
| TW (1) | TW442687B (ja) |
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| JP3230511B2 (ja) * | 1999-02-04 | 2001-11-19 | 日本電気株式会社 | プラズマディスプレイ装置 |
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| KR100604717B1 (ko) * | 1999-07-08 | 2006-07-28 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정 표시장치 제조방법 및 그 제조방법에 따른 액정표시장치 |
| JP3505445B2 (ja) * | 1999-08-30 | 2004-03-08 | シャープ株式会社 | 液晶表示装置及びその製造方法 |
| KR100679521B1 (ko) * | 2000-02-18 | 2007-02-07 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정표시장치 제조방법 |
| DE10010131A1 (de) * | 2000-03-03 | 2001-09-06 | Zeiss Carl | Mikrolithographie - Projektionsbelichtung mit tangentialer Polarisartion |
| JP2002131740A (ja) * | 2000-10-20 | 2002-05-09 | Nec Corp | カラーフィルタ基板、その製造方法、アクティブマトリクス型液晶表示装置及びその製造方法 |
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| JP4300728B2 (ja) * | 2001-10-17 | 2009-07-22 | マツダ株式会社 | 車両の変速操作装置 |
| US7528908B2 (en) * | 2002-06-04 | 2009-05-05 | Toray Industries, Inc. | Color filter for liquid crystal display and semitransmission liquid crystal display |
| KR101012494B1 (ko) * | 2003-04-04 | 2011-02-08 | 엘지디스플레이 주식회사 | 반사투과형 액정표시장치 |
| TWI276871B (en) * | 2004-12-28 | 2007-03-21 | Quanta Display Inc | General LCD panel |
| KR101280901B1 (ko) * | 2005-05-30 | 2013-07-02 | 코닌클리즈케 필립스 일렉트로닉스 엔.브이. | 휘도 증가 층이 있는 발광 장치 및 휘도 증가 수단 |
| EP1785767A1 (en) * | 2005-11-09 | 2007-05-16 | Bridgestone Corporation | Information display panel |
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