JP2005500182A - プリントヘッド・ノズルプレートの画像形成可能な支持マトリックス及びその製造方法 - Google Patents
プリントヘッド・ノズルプレートの画像形成可能な支持マトリックス及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005500182A JP2005500182A JP2002579238A JP2002579238A JP2005500182A JP 2005500182 A JP2005500182 A JP 2005500182A JP 2002579238 A JP2002579238 A JP 2002579238A JP 2002579238 A JP2002579238 A JP 2002579238A JP 2005500182 A JP2005500182 A JP 2005500182A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- imageable material
- imageable
- ink
- forming
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 title abstract description 11
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 179
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 66
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 61
- 239000011800 void material Substances 0.000 claims abstract description 14
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 claims abstract description 6
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims description 51
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 8
- 238000000608 laser ablation Methods 0.000 claims description 8
- 238000005422 blasting Methods 0.000 claims description 7
- 238000005459 micromachining Methods 0.000 claims description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 5
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 claims description 4
- 238000004891 communication Methods 0.000 claims description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 2
- 239000011344 liquid material Substances 0.000 claims 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 22
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 125
- 230000008569 process Effects 0.000 description 17
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 11
- 238000011161 development Methods 0.000 description 7
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 7
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 4
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 3
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000012447 hatching Effects 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 230000006978 adaptation Effects 0.000 description 1
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 1
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 1
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 1
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/015—Ink jet characterised by the jet generation process
- B41J2/04—Ink jet characterised by the jet generation process generating single droplets or particles on demand
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1631—Manufacturing processes photolithography
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/015—Ink jet characterised by the jet generation process
- B41J2/04—Ink jet characterised by the jet generation process generating single droplets or particles on demand
- B41J2/045—Ink jet characterised by the jet generation process generating single droplets or particles on demand by pressure, e.g. electromechanical transducers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/015—Ink jet characterised by the jet generation process
- B41J2/04—Ink jet characterised by the jet generation process generating single droplets or particles on demand
- B41J2/045—Ink jet characterised by the jet generation process generating single droplets or particles on demand by pressure, e.g. electromechanical transducers
- B41J2/05—Ink jet characterised by the jet generation process generating single droplets or particles on demand by pressure, e.g. electromechanical transducers produced by the application of heat
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1601—Production of bubble jet print heads
- B41J2/1603—Production of bubble jet print heads of the front shooter type
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1626—Manufacturing processes etching
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1632—Manufacturing processes machining
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/164—Manufacturing processes thin film formation
- B41J2/1645—Manufacturing processes thin film formation thin film formation by spincoating
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S29/00—Metal working
- Y10S29/016—Method or apparatus with etching
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49401—Fluid pattern dispersing device making, e.g., ink jet
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
Abstract
【解決手段】プリントヘッドのノズルプレートの画像形成可能な支持マトリックス、ならびに、プリントヘッドを製造する方法。インクジェット・プリントヘッドは、内部にインク通路を備える基板と、画像形成可能な材料からなる第1の層であって、内部にインク誘導空隙を有し、かつ、インク通路に隣接する支持構造体を画成する第1の層と、画像形成可能な材料からなる第1の層上に設けられた画像形成可能な材料からなる第2の層であって、内部にインクジェット・ノズルを備える第2の層とを含む。この方法は、基板を提供する段階と、基板上に画像形成可能な材料からなる第1の層を塗布する段階と、塗布された画像形成可能な材料からなる第1の層をマスキングする段階と、画像形成可能な材料からなる第1の層中にインク誘導空隙を形成し、かつ、硬化した支持部分を形成するために、マスキングされた画像形成可能な材料からなる第1の層を現像する段階とを含む。この方法は、基板中にインク通路を形成する段階と、画像形成可能な材料からなる第1の層上に、画像形成可能な材料からなる第2の層を塗布する段階と、画像形成可能な材料からなる第2の層中にノズルを形成する段階と、を更に含む。
Description
【0001】
発明の背景
1.発明の分野
本発明は、光画像形成可能な層を用いて製造されるインクジェット・プリントヘッドに関し、より詳細には、インクジェット・プリントヘッドであって特に有用なのは高解像度プリントヘッドのノズルプレート支持構造体、ならびに、その構造体の製造方法に関する。
【背景技術】
【0002】
2.関連技術の説明
インクジェット・プリンタは、その低操作コスト、低エネルギー使用量及び低騒音操作性の特徴により広く使用されている。インクジェット印刷では、所望の画像を形成するために、制御された方法において小さなノズルを通して小さなインク滴が噴射される。インクはインクリザーバから印刷ヘッドに供給され、印刷ヘッドには、リザーバからノズルオリフィスに至る様々な通路が設けられている。オリフィスの近くのインク滴発生器からインクにエネルギーが加えられ、インク滴発生器により、静電引力の付与、圧電素子からの振動力の付与、加熱要素からの熱の付与等が行なわれる。
【0003】
高印刷品質を得るためには、受容媒体に達するインク滴が一貫した体積と形状でなければならず、かつ、媒体上に所望の大きさと形状の画素を与えるためにインク滴が公知の角度で受容媒体に当たらなければならない。インク滴の大きさと形状、ならびに、受容媒体に向かうインク滴の軌跡のような受容媒体上に噴射されるインク滴の特性を制御するために、下方のプリントヘッド構造体の上にノズルプレートが設けられる。下方の構造体には、材料層中にインク通路、インクチャネル及び点火チャンバのような様々なインク誘導空隙が画成される。インク通路は、リザーバから多数のインク供給チャンネルにインクを供給するための大容積のインク流通路である。インク供給チャンネルは、各ノズルの下方にある個々の点火チャンバにインクを導くものである。インク滴発生器は、点火チャンネル内のインクに作用してノズルからインクを噴射させる。個々のインク滴発生器を選択的に作動することによって、インクの所望パターンが紙シートのような受容面に配置されて、文字、数字、記号、絵の一部等の所望の画像が形成される。高品質のカラー印刷に対して増大する要求において、受容面に画素を正確に付着させることへの要求が更に増えている。
【0004】
プリントヘッドを製造する公知の方法では、インクチャネル、点火チャンバ及びノズルプレートのノズルを形成するのにレーザーアブレーションが用いられる。ヒータチップ内にインク通路を形成するのに、グリッドブラスティングが用いられる。次いで、ノズルプレートは、ヒータチップに当てがわれる。適切に位置合わせされると、点火チャンバは、各ノズルの真下に配置され、インクチャネルはインク通路からインクを受け取って各点火チャンバにインクを供給する。下方の構造体上にノズルを正確に配置することは製造上の難題であるが、ノズルが正確に配置されないと印刷欠陥が生じる。
【0005】
“改善された流動特性の設計を有するインクジェットプリンタ・ノズルプレート、ならびに、ノズルプレートの製造方法”と題するもので、ノズルプレート、ならびに、ポリマー材料層、接着層及び保護層で作られたポリマーフィルム中にインク流れチャネル、点火チャンバ、ノズル孔及びインク供給部をレーザーアブレーションで形成することを含むノズルプレートの製造方法が開示されている(特許文献1)。保護層は除去され、接着層を用いてノズルプレートが半導体基板に取り付けられる。
【0006】
【特許文献1】
米国特許第6,045,214号明細書
【0007】
インクジェット・プリンタによって形成された画像の解像度に関する最近の改善点はプリンタのユーザによって広く認識されているが、プリンタの供給者には更なる製造上の問題点が与えられている。プリンタ画像における解像度は、印刷部分の1平方インチ当りに形成されるインク滴又は“ドット”の数によって規定される。したがって、600dpi(インチ当りのドット)の解像度では、1平方インチの部分に600個のインク滴を噴射する能力が要求される。解像度が高くなると、すなわち、部分当りのインク滴がより小さくなって、かつ多くなると、より微細で、かつより明確な線を備えたより鮮明な印刷結果が得られる。更に、より良好なカラー印刷能力に対する要求において、より高解像度のプリントヘッドの必要性が求められている。
【0008】
各ノズル孔は、単一のインク滴を形成する。高解像度においては、ノズルプレートのノズル密度が高いだけでなく、ノズルプレートの下方にある構造体内の点火チャンバ、インクチャネル及びインク通路等の密度も高い。高解像度プリンタに要求されるノズル密度の増加、ならびに、連結された点火チャンバ、インクチャネル及びインク通路の数を増加する必要性により、ノズルプレートの製造において更なる複雑性や困難性が生じている。
【0009】
プリントヘッドの製造方法であってごく最近に開発された好適な方法では、ヒータチップ内のインク通路がグリッドブラスト・プロセスによって形成され、ノズルプレートは重ね合わされた2つの薄層中に作られる。光画像形成可能な第1及び第2の層が提供され、第1の層にはインクチャネルと点火チャンバが形成され、第2の層にはインクノズルが形成される。光画像形成可能な層は、ポジティブ又はネガティブのフォトレジスト材料及びこれらに当てがわれる適当なフォトマスクを使用するプロセス、ならびに、それに続くフォトレジスト層の露光及び現像プロセスを含むプロセスによって製造される。用いるフォトレジスト(ポジティブ又はネガティブ)における材料及びタイプの選択に依存してポジティブ又はネガティブのフォトマスクが用いられ、露光及び現像プロセスによってマスクされた部分又はマスクされなかった部分のいずれかが硬化される。その後の化学浴槽中のプロセスにおいて、未硬化材料が溶解され、層中に所望のインク誘導空隙又はノズルが形成される。
【0010】
正確に配置されたインクチャネル、点火チャンバ及びノズルは、本発明の方法を用いて作られる。第1及び第2の光画像形成可能な層を有する多層構造体を用いることにより、レーザーで侵食されたポリイミドのノズルプレートをグリッドブラストされたヒータチップ上に配置する初期の方法に比べて、ノズルに対してヒータがより正確に位置合わせされることになる。光画像形成可能な層を用いて製造されるノズルプレート・アセンブリは望ましい薄さとなる。しかしながら、非常に薄いノズルプレート又は第2層の性質により、ならびに、ノズルプレートの下にあって様々なインク誘導空隙を備える第1の層中の支持構造体がないために、特に高解像度プリンタ用のプリントヘッドにおいては、下方にある空洞の一方側から他方側への大きなスパンのために、第2の画像形成可能な層がインク通路上に陥没する傾向がある。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0011】
したがって、必要なものは、インクジェット・プリンタの光画像形成可能なプリントヘッドのノズルプレート用支持マトリックス、ならびに、プリントヘッドを作るための製造プロセスである。
【課題を解決するための手段】
【0012】
発明の概要
本発明は、インクジェット・プリントヘッドの画像形成可能な支持マトリックス、ならびに、その製造方法に関し、プリントヘッドのノズルプレートの下方支持部分を増加したもので、高解像度プリンタのプリントヘッド用として特に有用である。
【0013】
本発明は、その一形態において、基板を提供する段階と、基板上に画像形成可能な材料からなる第1の層を塗布する段階と、塗布された画像形成可能な材料からなる第1の層をマスキングする段階と、画像形成可能な材料からなる第1の層中のインク誘導空隙と硬化した支持部分とを提供するために、マスキングされた画像形成可能な材料からなる第1の層を現像する段階と、基板から及び画像形成可能な材料からなる第1の層から材料を除去することによって、基板中にインク通路を形成する段階と、画像形成可能な材料からなる第1の層上に、画像形成可能な材料からなる第2の層を塗布する段階と、画像形成可能な材料からなる第2の層中にノズルを形成する段階と、を含む。
【0014】
本発明は、その他の形態において、基板を提供する段階と、基板から材料を除去することによって、前記基板中にインク通路を形成する段階と、基板上に画像形成可能な材料からなる第1の層を塗布する段階であって、画像形成可能な材料を前記インク通路上に塗布することを含む段階と、塗布された画像形成可能な材料からなる第1の層をマスキングする段階と、画像形成可能な材料からなる第1の層中のインク誘導空隙と、その画像形成可能な材料を通りインク通路と連通する開口とを提供するために、画像形成可能な材料からなる第1の層を現像する段階と、画像形成可能な材料からなる第1の層上に、画像形成可能な材料からなる第2の層を塗布する段階と、画像形成可能な材料からなる第2の層中にノズルを形成する段階と、を含む。
【0015】
本発明は、その更に他の形態において、基板を提供する段階と、基板を通るインク通路を形成する段階と、画像形成可能な材料からなる第1の層を形成する段階と、インク誘導空隙とインク通路にまで達する支持構造体とを形成するために、画像形成可能な材料からなる第1の層を現像する段階と、画像形成可能な材料からなる第1の層上に、画像形成可能な材料からなる第2の層を形成する段階であって、画像形成可能な材料からなる第2の層が内部にノズルを備える段階と、を含む。
【0016】
本発明は、その更なる形態において、内部にインク通路を備える基板と、画像形成可能な材料からなる第1の層であって、内部にインク誘導空隙を有し、かつ、インク通路に隣接する支持構造体を画成する第1の層と、画像形成可能な材料からなる第1の層に設けられた画像形成可能な材料からなる第2の層であって、内部にインクジェット・ノズルを備える第2の層と、からなるインクジェット・プリントヘッドを含む。
【0017】
本発明は、その更に他の形態において、インク通路を備える基板と、内部にインクの誘導空隙を画成し、かつ、インク通路に隣接する支持構造体を備える、画像形成可能な材料からなる第1の層と、画像形成可能な材料からなる第1の層によって支持され、かつ、内部にノズルを備える画像形成可能な材料からなる第2の層と、を含むインクジェット・プリントヘッドを含む。このインクジェット・プリントヘッドは、基板上に画像形成可能な材料からなる第1の層を塗布する段階と、画像形成可能な材料からなる第1の層中にインク誘導空隙を形成する段階と、インク通路を形成するために、基板及び画像形成可能な材料からなる第1の層から材料を除去する段階と、画像形成可能な材料からなる第1の層上に画像形成可能な材料からなる第2の層を塗布する段階と、ノズルを形成するために、画像形成可能な材料からなる第2の層を現像する段階と、によって製造される。
【0018】
本発明は、その更に他の形態において、インク通路を備える基板と、内部にインク誘導空隙を画成し、かつ、インク通路に隣接する支持構造体を備える、画像形成可能な材料からなる第1の層と、画像形成可能な材料からなる第1の層によって支持され、かつ、内部にノズルを備える画像形成可能な材料からなる第2の層と、を含むインクジェット・プリントヘッドであり、このインクジェット・プリントヘッドは、基板中にインク通路を形成する段階と、基板及び当該基板内のインク通路上に画像形成可能な材料からなる第1の層を塗布する段階と、画像形成可能な材料からなる第1の層をマスキングする段階と、インク誘導空隙、支持構造体及びインク通路への開口を画成するために、画像形成可能な材料からなる第1の層を現像する段階と、画像形成可能な材料からなる第1の層上に画像形成可能な材料からなる第2の層を塗布する段階と、ノズルを形成するために、画像形成可能な材料からなる第2の層を現像する段階と、によって製造される。
【発明の効果】
【0019】
本発明の利点は、従来において公知の構造体よりもノズルプレートが折れ曲り難い高解像度プリントヘッドを提供するものである。
【0020】
他の利点は、完成したプリントヘッドにおいてノズルプレートを支持部分を増加するのに、公知の技術と材料とを利用した高解像度プリントヘッドの製造方法を提供するものである。
【0021】
本発明の更なる利点は、多層プリントヘッドのノズルプレート層の下方にある支持のない開口スパンの長さを低減すること、ならびに、ノズルプレートの下方にあるインク通路の開口に隣接し、及び/又は、この開口に渡されるノズルプレート支持構造体を提供することである。
【0022】
添付図面との結合による本発明の実施態様の下記説明を参照することによって、本発明における上述及び他の特徴と利点、ならびに、これらを達成するための方法がより明らかになり、かつ、本発明がより良く理解されるであろう。
【0023】
対応する参照文字は、幾つかの図面を通じて対応する部材を示す。ここに示す例示は一つの形態における本発明の一つの好適な実施態様を示すものであり、このような例示が、あらゆる形態において本発明の範囲を限定するものと解釈されるべきでない。
【発明を実施するための最良の形態】
【0024】
発明の詳細な説明
図面、特に図1を参照するに、インクジェット・プリンタにおける使用に適した、本発明のプリントヘッド構造体20が示される。図2の側面図に示されるように、プリントヘッド構造体20は、半導体基板22、ならびに、例えばフォトレジストのような画像形成材料から成る第1及び第2の層24、26を備える。第2の層26には、その中に複数のノズル28が設けられている(図1)。
【0025】
基板22は、工業界において通常知られる集積回路(IC)チップであり、抵抗体のような電気的要素、ならびに、操作用の不図示の回路要素に接続される不図示の加熱要素を形成する能動回路を備える。ICチップは、インクを加熱するための加熱要素の代わりに、ノズル28からのインク滴の噴射を誘導するのに必要な噴出圧を発生させるために、少量のインクにエネルギーを伝達するように振動する1つ以上の圧電要素を備えていてもよい。これまでに説明したように、プリントヘッドの操作は当業者には公知であるので、ここでは更に詳細に説明しない。
【0026】
ICチップ基板は通常シリコンであり、あらゆる公知の方法によって製造されるが、ここでは更に詳細に説明しない。図3に言及すると、この図は第1の層24の平面を表わすために第2の層26を取除いたものであり、基板22は、図3において第1の層24の開口を通して見える1以上のインク通路30を備える。インク通路30は基板22を通って延出し、チップの裏側にある不図示のインクリザーバから、第1の層24によって画成される1つ以上のインク通路部分32と点火チャンバ34へのインクの流れを許容する。これら1つ以上のインク通路部分32と点火チャンバ34は、第1の層に空隙又は開口として設けられ、以下に説明する方法及びプロセスによって形成される。基板22の面22a及び第2の層26の面26aとの間に、第1の層24が挟まれる。
【0027】
図1〜3に示されるプリントヘッド構造体20の製造方法は、図4及びそれに続く図面を参照して説明される。図4は、製造プロセスの初期段階を示す。基板22は画像形成材料から成る第1の層によって覆われており、見えていない。図4に示すように、画像形成可能な材料の未だ処理されていない塗布層が数字40で示されており、この材料はフォトレジストであるとされるが他の画像形成可能な材料も使用できる。様々な図面において、数字40は画像形成可能な未処理の材料を示すものである。フォトマスク42が、未処理層40を覆うように示されている。図4に示されるように、フォーマスク42は4つの開口44を備え、これらの開口を通して下にある未処理層40が露光される。フォトマスク42は常識的な意味での開口を有していなくてもよく、それに代わって不透明部分と透明部分を有していてもよい。フォトレジストを用いる場合は、露光部分と露光されない部分との間の物理的特性を異なるようにするために、光源が用いられる。したがって、フォトマスク42中の実際の開口ではなく透明部分を用いることができる。フォトマスク42の不透明部分は図4では番号46の斜めハッチングで示される。不透明部分46の外側の部分48は、半透明である。
【0028】
未処理層40は、通常“ネガティブ・フォトレジスト”材料と言われる材料である。公知のネガティブ・フォトレジスト材料は、光源によって露光されることによって変化する溶解性のような物理的特性を有する。光源による露光によって、露光前には特定の溶媒に溶解可能であったフォトレジストを、露光後には同じ溶媒に不溶解性にすることができる。ネガティブ・フォトレジスト材料を処理する間に、インクキャビティ、チャネル、ヒーターチャンバ等を含む様々なインク誘導空隙となる未処理のフォトレジスト層40部分は、フォトマスク42によって覆われる。フォトマスクで覆われないフォトレジスト層40部分は、第2の層26の支持部分となる。ネガティブ・フォトレジスト材料を使用する場合、フォトマスクで覆われない部分、すなわち露光される部分は、後続の処理において、重合のような化学反応を受け、硬化又は不溶化される。フォトマスクで覆われる部分は、最初の処理の間に変化せず、適当な溶媒に対する溶解性を維持する。
【0029】
未処理層40とフォトマスク42を上に備えた基板22は、従来のネガティブ・フォトレジスト処理にかけられる。この処理は、しばしばフォトレジストの“現像”と言われ、フォトレジストを活性化する適当なエネルギー源による露光を含み、このようなエネルギー源は光源であってもよく、フォトレジスト材料の露光部分を硬化、重合化又は固化する効果を結果として与える。その後フォトマスク42は取除かれ、活性化されたフォトレジスト層に対する従来の後続処理には、適当な有機溶媒への浸漬が含まれる。有機溶媒によって、フォトレジスト材料の活性化されなかった部分が溶解、除去されるが、このような活性化されなかった部分とは本質的にフォトマスク42で覆われていた部分であり、光源によって露光されて活性化された部分は残存する。現像は、残存するフォトレジストを加熱又は更に露光することによって引起される更なる重合化により、残存するフォトレジストの更なる活性化を含んでいてもよい。現像処理による構造を図5に示すが、基板22の表面22aが、処理された第1の層24を通して見られる。第1の層は、図5の斜めハッチングによって示される部分を含み、図5は図3と同様であるが、製造プロセスにおける中間段階を示すものである。第1の層24は、基板22の面22a上においてある厚さを有したものであり、点火チャンバ34とインク通路部分32を画成する外周囲部分を備え、フォトマスク42の開口44に対応する4つの内部支持台座54を備える。
【0030】
第1の層24の形成が完了した後に、グリッドブラスティンッグ等によって細長いインク通路30が基板22中に形成される。第1の層24を塗布して処理した後に、基板22を通るインク通路30をカットすることによって、各台座54において通路30の直ぐ近くにある台座セグメント56及び58を残存させつつ、4つの支持台座54を反対側までカットすることになる。台座セグメント56及び58は、通路30の幅だけ互いに離間しており、次に塗布される第2の層26の支持となる支持マトリックス60を形成する。
【0031】
インク通路30の形成が完了した後に、構造体は本質的に図3のように見えるであろう。その後、画像形成可能な材料から成る第2の層26が、第1の層24の上に積層される。公知の方法で、フォトレジスト層又は光画像形成可能な層が第1の層の上に塗布され、未処理の第2の層にフォトマスクが載置される。図14は、図1に示されるノズル28の配置に適したフォトマスク62を示す。フォトマスク62は殆どの部分が半透明であるが、ノズル28が設けられるべき場所にノズル28の所望の大きさに対応する不透明部分64を有する。加熱チャンバ又は点火チャンバの各々の上にノズル28が適正に配列して設けられるように、フォトマスク62の配置位置とノズル28の形成位置とに注意する必要がある。第2の層の現像と処理に続いて未硬化材料が除去され、その結果、ノズル28を有する第2の層26が形成される。画像形成可能な材料から成る第2の層26の現像は、用いたフォトマスクを代えて画像形成可能な未処理層40について述べたのと同様に行なってもよい。
【0032】
説明したプロセスにおいて、第2の層26は、第1の層24の外側周囲部分66だけでなく、各支持台座54の残存するセグメント56及び58によっても支持される。したがって、第2の層26の支持されていないスパン長さは低減され、第1の層24の開口部分に第2の層26が陥没する可能性は、実質的に最小となる。
【0033】
ネガティブ・フォトレジスト材料と適当なプロセスを説明したが、所謂“ポジティブ”のフォトレジスト材料と適当なプロセスもまた用いられることが容易に理解されるべきである。ポジティブ・フォトレジスト材料が用いられる場合、ポジティブ・フォトレジスト材料は、露光されたフォトレジスト材料が除去され、かつ、覆われたフォトレジスト材料が硬化するように、適当なフォトマスクによって処理後に残存させたい部分が覆われる。このようにして、ポジティブ・フォトレジストのための適当なフォトマスクによって、インク誘導空隙が露光状態とされ、第2の層26を支持するための支持面として硬化する部分が覆われる。図8は、ポジティブ・フォトレジスト材料が用いられる際に、フォトマスク42に代わって用いられる適当なフォトマスク70を示す。フォトマスク70は半透明部分72、台座54のための不透明部分74、ならびに、外側周囲支持部分66のための外側不透明部分を備える。
【0034】
ネガティブ・フォトレジスト材料又はポジティブ・フォトレジスト材料、或いは、他の画像形成可能な材料の多くのタイプ又は形態が使用可能であることも認識されるべきである。フォトレジスト材料は、乾燥塗膜から成るフォトレジスト材料の積層、液状フォトレジストのスピンコーティング、或いは、他の適当な塗布方法によって塗布されてもよい。塗布プロセスはまた、未処理のフォトレジスト層40を塗布する前に基板22を洗浄及び乾燥し、第2の層26の形成を完了する前に第1の層24を洗浄及び乾燥するような当業者に良く知られる更なる段階を含んでいてもよいが、これらの段階はここでは説明しない。この技術分野に馴染みのある者ならば容易に理解できるように、感光プロセス以外のプロセスで活性化される画像形成可能な材料も用いることができる。
【0035】
インク通路30を形成するグリッドブラスティングに代わるものとして、湿潤又は乾燥状態でのマイクロマシニング、レーザーアブレーション又は他の適当な方法が、半導体基板22と第1の層24を含む支持構造体を通って通路30を形成するために用いられる。通路部分に複数の小孔がエッチング又は切除可能なように、マイクロマシニングとレーザーアブレーションのいずれによっても高精度のインク通路が形成される。図1〜5に示すよりも更に複雑な支持構造体が形成可能である。供給インク中の硬質粒子又は汚染物質が点火チャンバ34に到達するのを防止し、かつ、ノズル28を閉塞するのを防止するための内部フィルターとして、更に複雑な構造体が用いられる。このような汚染物質は、支持マトリックス内で捕捉される。
【0036】
製造プロセスの第2の代替プロセスが、図6、7及び9に示される。この代替プロセスでは、画像形成可能な材料が塗布される前に、基板22にインク通路30がまず形成される。インク通路30を有する基盤22が図6に示される。この場合も、グリッドブラスティング、マイクロマシニング、レーザーアブレーション又は他の適当な方法によってインク通路30を形成してもよい。
【0037】
インク通路30の形成後に、未処理のフォトレジスト又は他の画像形成可能な材料材料から成る層40を、インク通路30の上にも塗布するようにして基盤22上に積層することによって、画像形成可能な材料から成る第1の層24が形成される。この場合も、フォトレジストからなる未処理の画像形成可能な材料層40は、乾燥塗膜の積層、或いは、他の適当な塗布方法によって塗布される。未処理のフォトレジスト層40を備えた基板22の断面が、図7に示される。この場合も、フォトマスク42が未処理のフォトレジスト層40に当てがわれ、ネガティブ・フォトレジストが用いられる場合は、次いでマスクで覆われていない部分が硬化して残存し、マスクで覆われた部分が未硬化となるように処理される。層40から未硬化のフォトレジストを除去することを含む第1の層24の処理が完了した後に、その上に第2の層26が塗布され、ノズル28を画成するために必要であればフォトマスクで覆われる。第2の層26の後続処理が、公知である従来の形態で完了する。
【0038】
図3と同様の図9は、第1の層24の処理が完了し、かつ、第2の層26を塗布する前の構造体を示す。第1の層24の塗布及び処理の前にインク通路30を形成することによって、続いて形成される支持台座54は損傷することなく、インク通路30に渡される。台座54のセグメントであって通路30の縁部まで延びる台座セグメント56及び58が形成されるようにインク通路30の長さ全体にわたって連続した細長い開口を設けるのではなく、4つの支持台座54が長さ全体にわたって区分されないでインク通路30に渡され、インク通路30の開口を3つのインク通路セグメント30a、30b及び30cに効果的に分割するものである。インク通路30の分割されたセグメント30a、30b及び30cは、第1の層24内にあってインクを導く様々な空隙と連通する。しかしながら、支持台座54は分断されずにインク通路30に渡されるので、追加された支持部分は第2の層26を支持するために用いられる。
【0039】
本発明の方法によれば、より複雑な支持構造体の形成が可能となる。図10に示すように、支持マトリックス60は傾斜した複数の支持台座80を備える。傾斜した支持台座80は、形成されたインク通路30に完全に渡されるように、前述の製造方法のいずれかと共に形成されてもよく、或いは、台座セグメント56及び58に類似した台座セグメントがインク通路に渡されることなくインク通路の縁部まで延びるように、傾斜した支持台座80の形成後にインク通路が形成されるようにしてもよい。
【0040】
図11は、複数の支持ポスト82が設けられた更に他の支持マトリックス78を示す。図12では、複雑な支持マトリックス84であって、外側に延びる側方延出支持脚88を備えた中央壁86が示されている。この場合も、適当なフォトマスクと共にポジティブ・フォトレジスト又はネガティブ・フォトレジストのいずれかを用いてもよい。細長いインク通路ではなく、複数の小さなインク通路90が設けられている。小さな通路90は、基板を通る円筒状、正方形又は矩形の開口である。
【0041】
図13は、複数のより小さな、細長いインク通路が設けられた更に他の可能な構造体を示す。3つのこのようなインク通路92、94及び96が、傾斜した複数の支持台座80であって支持台座セグメント102及び104に区分された支持台座80と共に図13に示されているが、インク通路92、94及び96は第1の層24の形成後に形成されたものである。
【産業上の利用可能性】
【0042】
本発明は、プリントヘッドのノズルプレート用の画像形成可能な支持マトリックス、ならびに、その製造方法を提供するものであり、公知の材料、技術及びプロセスを用いている。支持マトリックスはノズルプレートのための追加支持部を提供するものであり、これによって、支持していないスパン長さを低減し、支持していないスパンに沿ってノズルプレートが陥没する可能性を低減する。
【0043】
好適な設計を有するものとして本発明を説明したが、この開示の意図及び範囲内において本発明は更に修正可能である。したがって、本出願は、その一般原理を用いた発明のあらゆる変更、使用又は適合を包含するものである。更に本出願は、本発明が属する分野において公知又は慣習的な実施であって添付の特許請求の範囲内にある本開示から逸脱するものも包含するものである。
【図面の簡単な説明】
【0044】
【図1】図1は、本発明に係るプリントヘッド用ノズルプレートの平面図である。
【図2】図2は、図1に示されるプリントヘッドにおける、ノズルプレートとその下層の側面図である。
【図3】図3は、図1及び2に示されるプリントヘッド構造体であってノズルプレート層が取除かれたプリントヘッドの平面図を示し、図2の線3−3に沿った図である。
【図4】図4は、図3に示される層を形成するのに用いられるフォトレジストのフォトマスクの平面図である。
【図5】図5は図3と同様の平面図であって、製造プロセスの一段階において見られる図である。
【図6】図6は、本発明による製造プロセスの第2実施態様の初期段階における、既に内部に形成されたインク通路を有するヒータチップの平面図である。
【図7】図7は、製造プロセスの後期段階における、図6の線7−7に沿ったヒータチップの断面図である。
【図8】図8は、図7に示されるヒータチップのための代替的なフォトレジスト層に当てがわれるフォトマスクの平面図である。
【図9】図9は、既に取除かれたフォトマスクを示し、更なる製造段階の後における図8と同様の平面図である。
【図10】図10は、本発明による第1の修正フォトレジスト層を示す、図8に示されるのと同様の平面図である。
【図11】図11は、本発明による他の修正された第1のフォトレジスト層の平面図である。
【図12】図12は、本発明による更に他の第1のフォトレジスト層の平面図である。
【図13】図13は、本発明による更に他の第1のフォトレジスト層の平面図である。
【図14】図14は、図1に示されるノズルプレートを製造するのに用いられるフォトマスクの平面図である。
Claims (38)
- 基板を提供する段階と、
前記基板上に画像形成可能な材料からなる第1の層を塗布する段階と、
前記塗布された画像形成可能な材料からなる第1の層をマスキングする段階と、
前記画像形成可能な材料からなる第1の層中のインク誘導空隙と硬化した支持部分とを提供するために、前記マスキングされた画像形成可能な材料からなる第1の層を現像する段階と、
前記基板から及び前記画像形成可能な材料からなる第1の層から材料を除去することによって、前記基板中にインク通路を形成する段階と、
前記画像形成可能な材料からなる第1の層上に、画像形成可能な材料からなる第2の層を塗布する段階と、
前記画像形成可能な材料からなる第2の層中にノズルを形成する段階と、を含むインクジェット・プリントヘッドを形成する方法。 - 前記画像形成可能な材料からなる第1の層を塗布する段階が、画像形成可能な材料からなる乾燥塗膜を積層することによってなされる、請求項1に記載の方法。
- 前記画像形成可能な材料からなる第2の層を塗布する段階が、画像形成可能な材料からなる乾燥塗膜を積層することによってなされる、請求項1に記載の方法。
- 前記画像形成可能な材料からなる第1の層を塗布する段階が、画像形成可能な材料からなる乾燥塗膜を積層することによってなされる、請求項3に記載の方法。
- 前記インク通路を形成する段階がレーザーアブレーションによってなされる、請求項4に記載の方法。
- 前記インク通路を形成する段階がマイクロマシニングによってなされる、請求項4に記載の方法。
- 前記インク通路を形成する段階がグリットブラスティングによってなされる、請求項4に記載の方法。
- 前記インク通路を形成する段階がレーザーアブレーションによってなされる、請求項1に記載の方法。
- 前記インク通路を形成する段階がマイクロマシニングによってなされる、請求項1に記載の方法。
- 前記インク通路を形成する段階がグリットブラスティングによってなされる、請求項1に記載の方法。
- 前記画像形成可能な材料からなる第1の層を、画像形成可能なポジティブ材料及び画像形成可能なネガティブ材料から選択する段階を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記画像形成可能な材料からなる第1の層を塗布する段階が、画像形成可能な液状材料をスピンコーティングすることによってなされる、請求項1に記載の方法。
- 前記画像形成可能な材料が、ポジティブ・フォトレジスト及びネガティブ・フォトレジストを含む感光性材料から選択される、請求項1に記載の方法。
- 前記画像形成可能な材料からなる第1の層を塗布する段階が、液状の感光性材料をスピンコーティングすることによってなされる、請求項13に記載の方法。
- 基板を提供する段階と、
前記基板から材料を除去することによって、前記基板中にインク通路を形成する段階と、
前記基板上に画像形成可能な材料からなる第1の層を塗布する段階であって、前記インク通路上を覆って前記画像形成可能な材料を塗布することを含む段階と、
前記塗布された画像形成可能な材料からなる第1の層をマスキングする段階と、
前記画像形成可能な材料からなる第1の層中のインク誘導空隙と、前記画像形成可能な材料からなる第1の層を通り前記インク通路と連通する開口とを提供するために、前記画像形成可能な材料からなる第1の層を現像する段階と、
前記画像形成可能な材料からなる第1の層上に、画像形成可能な材料からなる第2の層を塗布する段階と、
前記画像形成可能な材料からなる第2の層中にノズルを形成する段階と、を含むインクジェット・プリントヘッドを形成する方法。 - 前記インク通路を形成する段階がレーザーアブレーションによってなされる、請求項15に記載の方法。
- 前記インク通路を形成する段階がマイクロマシニングによってなされる、請求項15に記載の方法。
- 前記インク通路を形成する段階がグリットブラスティングによってなされる、請求項17に記載の方法。
- 前記画像形成可能な材料からなる第1の層を塗布する段階が、画像形成可能な材料からなる乾燥塗膜を積層することによってなされる、請求項15に記載の方法。
- 前記画像形成可能な材料からなる第2の層を塗布する段階が、画像形成可能な材料からなる乾燥塗膜を積層することによってなされる、請求項15に記載の方法。
- 前記画像形成可能な材料からなる第1の層を塗布する段階が、画像形成可能な材料からなる乾燥塗膜を積層することによってなされる、請求項20に記載の方法。
- 前記画像形成可能な材料からなる第1の層を、画像形成可能なポジティブ材料及び画像形成可能なネガティブ材料から選択する段階を含む、請求項15に記載の方法。
- 前記画像形成可能な材料からなる第1の層を塗布する段階が、画像形成可能な液状材料をスピンコーティングすることによってなされる、請求項15に記載の方法。
- 前記画像形成可能な材料からなる第2の層を塗布する段階が、画像形成可能な材料からなる乾燥塗膜を積層することによってなされる、請求項23に記載の方法。
- 前記画像形成可能な材料が、ポジティブ・フォトレジスト及びネガティブ・フォトレジストを含む感光性材料から選択される、請求項15に記載の方法。
- 基板を提供する段階と、
前記基板を通るインク通路を形成する段階と、
前記基板上に画像形成可能な材料からなる第1の層を形成する段階と、
インク誘導空隙と前記インク通路に隣接する支持構造体とを形成するために、前記画像形成可能な材料からなる第1の層を現像する段階と、
前記画像形成可能な材料からなる第1の層上に、画像形成可能な材料からなる第2の層を形成する段階であって、前記画像形成可能な材料からなる第2の層が内部にノズルを備える段階と、を含むインクジェット・プリントヘッドを形成する方法。 - 前記インク通路を形成する段階が前記第1の層を形成する段階の前になされる、請求項26に記載の方法。
- 前記インク通路を形成する段階が前記第1の層を形成する段階の後になされる、請求項26に記載の方法。
- 前記画像形成可能な材料からなる第1の層を現像する段階が前記第1の層にフォトマスクを当てがうことを含み、前記フォトマスクが前記インク誘導空隙の所望位置に対応する不透明部分を有する、請求項26に記載の方法。
- 前記画像形成可能な材料からなる第1の層を現像する段階が前記第1の層にフォトマスクを当てがうことを含み、前記フォトマスクが前記支持構造体の所望位置に対応する不透明部分を有する、請求項26に記載の方法。
- 内部にインク通路を備える基板と、
画像形成可能な材料からなる第1の層であって、内部にインク誘導空隙を有し、かつ、前記インク通路に隣接する支持構造体を画成する第1の層と、
前記画像形成可能な材料からなる第1の層上に設けられた画像形成可能な材料からなる第2の層であって、内部にインクジェット・ノズルを備える第2の層と、を含むインクジェット・プリントヘッド。 - 前記画像形成可能な材料からなる第1の層が、前記通路に渡された支持構造体を画成する、請求項31に記載のインクジェット・プリントヘッド。
- 前記画像形成可能な材料からなる第1の層がポジティブ感光性材料を含む、請求項31に記載のインクジェット・プリントヘッド。
- 前記画像形成可能な材料からなる第1の層がネガティブ感光性材料を含む、請求項31に記載のインクジェット・プリントヘッド。
- 前記画像形成可能な材料からなる第2の層がポジティブ感光性材料を含む、請求項31に記載のインクジェット・プリントヘッド。
- 前記画像形成可能な材料からなる第2の層がネガティブ感光性材料を含む、請求項31に記載のインクジェット・プリントヘッド。
- インク通路を有する基板と、
内部にインク誘導空隙を画成し、かつ、前記インク通路に隣接する支持構造体を備える、画像形成可能な材料からなる第1の層と、
前記画像形成可能な材料からなる第1の層によって支持され、かつ、内部にノズルを有する画像形成可能な材料からなる第2の層と、を含むインクジェット・プリントヘッドであって、
前記基板上に前記画像形成可能な材料からなる第1の層を塗布する段階と、
前記画像形成可能な材料からなる第1の層中に前記インク誘導空隙を形成する段階と、
前記インク通路を形成するために、前記基板から及び前記画像形成可能な材料からなる第1の層から材料を除去する段階と、
前記画像形成可能な材料からなる第1の層上に前記画像形成可能な材料からなる第2の層を塗布する段階と、
前記ノズルを形成するために、前記画像形成可能な材料からなる第2の層を現像する段階と、によって製造されるインクジェット・プリントヘッド。 - インク通路を有する基板と、
内部にインク誘導空隙を画成し、かつ、前記インク通路に隣接する支持構造体を備える、画像形成可能な材料からなる第1の層と、
前記画像形成可能な材料からなる第1の層によって支持され、かつ、内部にノズルを有する画像形成可能な材料からなる第2の層とを含む、インクジェット・プリントヘッドであって、
前記基板中にインク通路を形成する段階と、
前記基板及び当該基板内の前記インク通路を覆う前記画像形成可能な材料からなる第1の層を塗布する段階と、
前記画像形成可能な材料からなる第1の層をマスキングする段階と、
前記インク誘導空隙、前記支持構造体及び前記インク通路への開口を画成するために、前記画像形成可能な材料からなる第1の層を現像する段階と、
前記画像形成可能な材料からなる第1の層を覆う前記画像形成可能な材料からなる第2の層を塗布する段階と、
前記ノズルを形成するために、前記画像形成可能な材料からなる第2の層を現像する段階と、によって製造されるインクジェット・プリントヘッド。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US09/829,158 US6684504B2 (en) | 2001-04-09 | 2001-04-09 | Method of manufacturing an imageable support matrix for printhead nozzle plates |
PCT/US2002/010380 WO2002081222A2 (en) | 2001-04-09 | 2002-04-02 | Imageable support matrix for printhead nozzle plates and method of manufacture |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005500182A true JP2005500182A (ja) | 2005-01-06 |
Family
ID=25253689
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002579238A Pending JP2005500182A (ja) | 2001-04-09 | 2002-04-02 | プリントヘッド・ノズルプレートの画像形成可能な支持マトリックス及びその製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US6684504B2 (ja) |
JP (1) | JP2005500182A (ja) |
KR (1) | KR20040103740A (ja) |
AU (1) | AU2002309538A1 (ja) |
WO (1) | WO2002081222A2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB2413306A (en) * | 2004-04-23 | 2005-10-26 | Hewlett Packard Development Co | Ink cartridge having terminals and conductive tracks applied directly thereon. |
WO2007084952A2 (en) * | 2006-01-18 | 2007-07-26 | Akrion Technologies, Inc. | Systems and methods for drying a rotating substrate |
KR100818282B1 (ko) * | 2006-10-26 | 2008-04-01 | 삼성전자주식회사 | 잉크젯 프린트헤드 |
Family Cites Families (36)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2604939C3 (de) | 1976-02-09 | 1978-07-27 | Ibm Deutschland Gmbh, 7000 Stuttgart | Verfahren zum Herstellen von wenigstens einem Durchgangsloch insbesondere einer Düse für Tintenstrahldrucker |
FR2448979B1 (fr) | 1979-02-16 | 1986-05-23 | Havas Machines | Dispositif destine a deposer sur un support des gouttes d'encre |
US4246076A (en) | 1979-12-06 | 1981-01-20 | Xerox Corporation | Method for producing nozzles for ink jet printers |
US4558333A (en) | 1981-07-09 | 1985-12-10 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid jet recording head |
US4611219A (en) | 1981-12-29 | 1986-09-09 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid-jetting head |
JPS59110967A (ja) | 1982-12-16 | 1984-06-27 | Nec Corp | 弁素子の製造方法 |
US4528070A (en) | 1983-02-04 | 1985-07-09 | Burlington Industries, Inc. | Orifice plate constructions |
US4727012A (en) | 1984-10-25 | 1988-02-23 | Siemens Aktiengesellschaft | Method of manufacture for print heads of ink jet printers |
JPH0649373B2 (ja) | 1984-12-06 | 1994-06-29 | キヤノン株式会社 | インクジェット記録ヘッドの製造方法 |
US5719805A (en) | 1987-04-24 | 1998-02-17 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Electrically programmable non-volatile semiconductor memory including series connected memory cells and decoder circuitry for applying a ground voltage to non-selected circuit units |
US4789425A (en) | 1987-08-06 | 1988-12-06 | Xerox Corporation | Thermal ink jet printhead fabricating process |
US4827287A (en) | 1988-08-08 | 1989-05-02 | Eastman Kodak Company | Continuous ink jet printer having improved stimulation waveguide construction |
US5016024A (en) | 1990-01-09 | 1991-05-14 | Hewlett-Packard Company | Integral ink jet print head |
DE69111936T2 (de) | 1990-08-16 | 1996-04-11 | Hewlett Packard Co | Photo-ablatierte Bauteile für Farbstrahldruckkopf. |
US5057853A (en) | 1990-09-04 | 1991-10-15 | Xerox Corporation | Thermal ink jet printhead with stepped nozzle face and method of fabrication therefor |
US5068006A (en) | 1990-09-04 | 1991-11-26 | Xerox Corporation | Thermal ink jet printhead with pre-diced nozzle face and method of fabrication therefor |
ATE147014T1 (de) | 1990-10-18 | 1997-01-15 | Canon Kk | Herstellungsverfahren eines tintenstrahldruckkopfes |
US5229785A (en) | 1990-11-08 | 1993-07-20 | Hewlett-Packard Company | Method of manufacture of a thermal inkjet thin film printhead having a plastic orifice plate |
DE69127801T2 (de) * | 1990-12-19 | 1998-02-05 | Canon Kk | Herstellungsverfahren für flüssigkeitsausströmenden Aufzeichnungskopf |
ATE144197T1 (de) | 1991-02-20 | 1996-11-15 | Canon Kk | Tintenstrahlaufzeichnungskopf, tintenstrahlaufzeichnungsvorrichtung diesen verwendend und verfahren zu seiner herstellung |
JPH0596739A (ja) | 1991-10-09 | 1993-04-20 | Rohm Co Ltd | インクジエツトプリントヘツドの製造方法 |
JP2932877B2 (ja) * | 1992-02-06 | 1999-08-09 | セイコーエプソン株式会社 | インクジェットヘッドの製造方法 |
JP3061944B2 (ja) | 1992-06-24 | 2000-07-10 | キヤノン株式会社 | 液体噴射記録ヘッド、その製造方法及び記録装置 |
JPH06294903A (ja) * | 1993-04-08 | 1994-10-21 | Dainippon Printing Co Ltd | 光指向フィルム及びその製造方法 |
US5463413A (en) | 1993-06-03 | 1995-10-31 | Hewlett-Packard Company | Internal support for top-shooter thermal ink-jet printhead |
US5350616A (en) | 1993-06-16 | 1994-09-27 | Hewlett-Packard Company | Composite orifice plate for ink jet printer and method for the manufacture thereof |
JPH07156409A (ja) * | 1993-10-04 | 1995-06-20 | Xerox Corp | 一体形成した流路構造を有するインクジェット・プリントヘッドおよびその作製方法 |
JP3283979B2 (ja) | 1993-11-12 | 2002-05-20 | キヤノン株式会社 | 液体噴射記録ヘッドの製造方法 |
US5443713A (en) | 1994-11-08 | 1995-08-22 | Hewlett-Packard Corporation | Thin-film structure method of fabrication |
US5560837A (en) | 1994-11-08 | 1996-10-01 | Hewlett-Packard Company | Method of making ink-jet component |
JPH08267758A (ja) | 1995-03-28 | 1996-10-15 | Sony Corp | オリフィスプレート、オリフィスプレートの製造方法、液体混合装置およびプリンタ装置 |
CN1149907A (zh) | 1995-03-29 | 1997-05-14 | 罗伯特·博施有限公司 | 孔片的制造方法 |
US5738799A (en) | 1996-09-12 | 1998-04-14 | Xerox Corporation | Method and materials for fabricating an ink-jet printhead |
US5820771A (en) | 1996-09-12 | 1998-10-13 | Xerox Corporation | Method and materials, including polybenzoxazole, for fabricating an ink-jet printhead |
US5900892A (en) | 1997-03-05 | 1999-05-04 | Xerox Corporation | Nozzle plates for ink jet cartridges |
US6045214A (en) * | 1997-03-28 | 2000-04-04 | Lexmark International, Inc. | Ink jet printer nozzle plate having improved flow feature design and method of making nozzle plates |
-
2001
- 2001-04-09 US US09/829,158 patent/US6684504B2/en not_active Expired - Lifetime
-
2002
- 2002-04-02 AU AU2002309538A patent/AU2002309538A1/en not_active Abandoned
- 2002-04-02 JP JP2002579238A patent/JP2005500182A/ja active Pending
- 2002-04-02 KR KR10-2003-7013253A patent/KR20040103740A/ko not_active Application Discontinuation
- 2002-04-02 WO PCT/US2002/010380 patent/WO2002081222A2/en active Search and Examination
-
2003
- 2003-12-19 US US10/742,404 patent/US20040135841A1/en not_active Abandoned
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20040135841A1 (en) | 2004-07-15 |
AU2002309538A1 (en) | 2002-10-21 |
US20020145646A1 (en) | 2002-10-10 |
AU2002309538A8 (en) | 2008-11-13 |
KR20040103740A (ko) | 2004-12-09 |
WO2002081222A2 (en) | 2002-10-17 |
US6684504B2 (en) | 2004-02-03 |
WO2002081222A3 (en) | 2008-10-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3833989B2 (ja) | インクジェットプリントヘッドの製造方法 | |
US8376525B2 (en) | Liquid discharge head and method of manufacturing the same | |
KR100563356B1 (ko) | 유체 제트 프린트 헤드의 제조 방법 | |
JP3245193B2 (ja) | インクジェットプリンタの印字ヘッド | |
JP5814747B2 (ja) | 液体吐出ヘッドの製造方法 | |
KR101327674B1 (ko) | 액체 토출 헤드의 제조 방법 | |
KR100492828B1 (ko) | 잉크 젯 헤드 제조 방법 | |
KR20080081944A (ko) | 액체 토출 헤드 제조 방법 | |
JP2008119955A (ja) | インクジェット記録ヘッド及び該ヘッドの製造方法 | |
JP7134831B2 (ja) | 液体吐出ヘッドの製造方法 | |
US7682779B2 (en) | Method for manufacturing liquid discharge head | |
JP2005500182A (ja) | プリントヘッド・ノズルプレートの画像形成可能な支持マトリックス及びその製造方法 | |
JP2007216415A (ja) | 液体噴射記録ヘッド、およびその製造方法 | |
JP2006137065A (ja) | 液体吐出ヘッドの製造方法 | |
JP4845692B2 (ja) | 液体吐出ヘッドの製造方法 | |
US8323519B2 (en) | Method for manufacturing liquid discharge head | |
JPH10296982A (ja) | インクジェットヘッド用ノズル板の製造方法及びインクジェットヘッド | |
US20030132990A1 (en) | Inkjet recording head, recording apparatus including the inkjet recording head, and method for manufacturing the inkjet recording head | |
JP2007055007A (ja) | インクジェット記録ヘッドおよびその製造方法 | |
KR101376402B1 (ko) | 액체 토출 헤드의 제조 방법 | |
JP2012045776A (ja) | 液体吐出ヘッドの製造方法、液体吐出ヘッド、及び液体吐出装置 | |
JP3077444B2 (ja) | インクジェットヘッド及びその製造方法 | |
KR20040054036A (ko) | 모노리식 잉크젯 프린트 헤드의 제조방법 | |
JPH11105297A (ja) | インクジェットヘッド及びその製造方法 | |
JPH04216061A (ja) | インクジェット記録ヘッド及びその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20060927 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20061010 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20061228 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20070118 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20071113 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080305 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20080512 |
|
A912 | Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20080530 |