JP2005324469A - 高バリア性シート - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 本発明の高バリア性シートは、合成樹脂製の基材フィルムと、基材フィルムの少なくとも一方の面に積層される一の平坦化層と、一の平坦化層の外面に積層されるガスバリア層と、ガスバリア層の外面に積層される他の平坦化層とを備える。ガスバリア層は、無機酸化物又は無機窒化物の蒸着膜から形成するとよい。平坦化層は、金属アルコキシド及び/又はその加水分解物を含む組成物を用いたゾル・ゲル法により形成するとよい。上記組成物中には溶剤可溶性ポリマーを含むとよい。また一の平坦化層は、シリコーン樹脂から形成し、ガスバリア層積層面に酸素プラズマ処理を施すとよい。
【選択図】 図1
Description
合成樹脂製の基材フィルムと、
この基材フィルムの少なくとも一方の面に積層される一の平坦化層と、
この一の平坦化層の外面(基材フィルム側と反対側の面を意味する)に積層されるガスバリア層と、
このガスバリア層の外面に積層される他の平坦化層と
を備える高バリア性シートである。
(R1)mM(OR2)X−m (1)
上記式(1)において、R1は、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基を示し、置換基を有していてもよい。R2は、低級アルキル基を示す。R1及びR2は、mによって異なっていてもよい。Mは、3価以上の金属を示す。Xは、金属Mの価数を示す。mは、0〜2の整数を示し、X−m≧2である。
(R1)nSi(OR2)4−n (2)
上記式(2)において、R1は、アルキル基又はアリール基を示し、置換基を有していてもよい。R2は、低級アルキル基を示す。R1及びR2は、nによって異なっていてもよい。nは、0〜2の整数を示す。
厚さ25μmの透明ポリエチレンテレフタレート製の基材フィルムを用い、テトラエトキシシラン34質量部、水15質量部、イソプロピルアルコール10質量部、三級アミン0.17質量部及びγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン3.4質量部を含む一の平坦化層用組成物を上記基材フィルムの一方の面にグラビアロ−ルコ−ト法を用いて1.0g/m2(乾燥状態)コ−ティングし、120℃で1分間加熱処理することで一の平坦化層を積層した。次に、この一の平坦化層の外面に、スパッタリング法によりケイ素酸化物(酸化度X=約1.8)を蒸着することで厚さ100nmのガスバリア層を積層した。さらに、テトラエトキシシラン5.2質量部、メチルトリエトキシシラン1.1質量部、イソプロピルアルコール3質量部、三級アミン0.03質量部を含む他の平坦化層用組成物を上記ガスバリア層の外面にグラビアロ−ルコ−ト法を用いて1.0g/m2(乾燥状態)コ−ティングし、100℃で3分間加熱処理することで他の平坦化層を積層した。かかる工程で実施例1の高バリア性シートを得た。
上記一の平坦化層用組成物において、上記テトラエトキシシランの含有量を20質量部とし、さらにγ−アミノプロピルトリメトキシシラン14質量部含有した以外は上記実施例1と同様にして実施例2の高バリア性シートを得た。
上記一の平坦化層用組成物中に、アルコール可溶性共重合ナイロン(東レ社製)35質量部含有した以外は上記実施例1と同様にして実施例3の高バリア性シートを得た。
上記一の平坦化層の形成工程において、加熱処理温度を90℃とし、加えて加熱処理の際にコーティング面に波長210nmの紫外線を10分間照射した以外は上記実施例1と同様にして実施例4の高バリア性シートを得た。
ガスバリア層の厚さを10nmとした以外は上記実施例1と同様にして実施例5の高バリア性シートを得た。
ガスバリア層の厚さを20nmとした以外は上記実施例1と同様にして実施例6の高バリア性シートを得た。
ガスバリア層の厚さを50nmとした以外は上記実施例1と同様にして実施例7の高バリア性シートを得た。
ガスバリア層の厚さを200nmとした以外は上記実施例1と同様にして実施例8の高バリア性シートを得た。
一の平坦化層をポリジメチルシロキサンから形成し、一の平坦化層の外面に酸素プラズマ処理を施した以外は上記実施例1と同様にして実施例9の高バリア性シートを得た。
平坦化層を積層せず、基材フィルムの一方の面に直接上記ガスバリア層を積層した以外は上記実施例1と同様にして比較例の高バリア性シートを得た。
上記実施例1〜9の高バリア性シート及び比較例の高バリア性シートを用い、これらの高バリア性シートの水蒸気透過度を測定した。この水蒸気透過度は、JIS−Z−0208B法に準拠し、温度40℃及び相対湿度90%の条件で測定した。その結果を下記表1に示す。
2 一の平坦化層
3 ガスバリア層
4 他の平坦化層
Claims (13)
- 合成樹脂製の基材フィルムと、
この基材フィルムの少なくとも一方の面に積層される一の平坦化層と、
この一の平坦化層の外面に積層されるガスバリア層と、
このガスバリア層の外面に積層される他の平坦化層と
を備える高バリア性シート。 - 上記ガスバリア層及び他の平坦化層が同順に複数回繰り返して積層されている請求項1に記載の高バリア性シート。
- 上記ガスバリア層が無機酸化物又は無機窒化物から形成されている請求項1又は請求項2に記載の高バリア性シート。
- 上記無機酸化物又は無機窒化物として、ケイ素酸化物、ケイ素窒化物及びアルミニウム酸化物からなる群より選択される1種又は2種以上のものが用いられている請求項3に記載の高バリア性シート。
- 上記ガスバリア層が物理気相成長法又は化学気相成長法により形成されている請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の高バリア性シート。
- 上記物理気相成長法としてスパッタリング法が用いられている請求項5に記載の高バリア性シート。
- 上記化学気相成長法としてプラズマ化学気相成長法が用いられている請求項5に記載の高バリア性シート。
- 上記平坦化層が、金属アルコキシド及び/又はその加水分解物を含む組成物を用いたゾル・ゲル法により形成されている請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の高バリア性シート。
- 上記組成物中に、窒素、酸素、硫黄及びハロゲンの少なくとも1つを含む官能基を有する金属アルコキシドを含有する請求項8に記載の高バリア性シート。
- 上記組成物中に溶剤可溶性ポリマーを含む請求項8又は請求項9に記載の高バリア性シート。
- 上記ゾル・ゲル法による平坦化層の形成において、加熱と共に、組成物への紫外線照射が施されている請求項8、請求項9又は請求項10に記載の高バリア性シート。
- 上記一の平坦化層がシリコーン樹脂から形成されている請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の高バリア性シート。
- 上記シリコーン樹脂から形成される一の平坦化層の外面に酸素プラズマ処理が施されている請求項12に記載の高バリア性シート。
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