JP2005268320A - 現像処理装置及び現像処理方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 フォトレジストの現像において、現像液供給ノズルを、所定の移動方向に移動しながら、基板に、現像液を供給する。同時に、現像液供給ノズルと所定の間隔を空けて、進行方向後から同一方向に、現像液回収ノズルを移動しながら、基板から現像液を吸引する。その後、現像液回収ノズルより更に進行方向後ろから、所定の間隔を空けて、同一方向に、洗浄液供給ノズルを移動しながら、洗浄液を供給する。
【選択図】 図2
Description
また、簡略化のため、特記した場合を除き、以下、この明細書において、図1〜8における横方向を、「移動方向」と称するものとする。
図1は、この発明の実施の形態1における現像処理装置100を説明するための模式図である。
現像処理装置100は、基板2上に塗布され、露光されたフォトレジストの現像を行うための装置である。
図1に示すように、現像処理装置100の処理室4内には、基板2を載置するスピンチャック6が設けられている。スピンチャック6は、駆動手段8に接続されている。駆動手段8は、必要に応じて、スピンチャック6を、回転させ、また、上下に移動させることができる。また、スピンチャック6に載置される基板2の外周部分には、カップ10が設けられている。カップ10は、処理室4内から、外部に、現像液を排出する排出口(図示せず)を備える。
また、現像液回収ノズル14と洗浄液供給ノズル16とは、平行に配置され、一体化されている。現像液回収ノズル14端部と、基板2表面との距離は、約0.5(mm)である。洗浄液供給ノズル16の端部と、基板2表面との距離は、約2.0(mm)である。また、現像液供給ノズル12と、洗浄液供給ノズル16との距離は、約100(mm)である。洗浄液供給ノズル16は、外部の純水等の洗浄液供給源(図示せず)に接続されている。
また、洗浄液供給ノズル18は、基板2中央部上方に配置されている。
以下、図2〜図5を用いて、実施の形態1における現像処理方法について説明する。
図6は、この発明の実施の形態2における現像処理装置200について説明するための断面模式図である。
実施の形態2における現像処理装置200は、実施の形態1における現像処理装置100と類似するものである。但し、実施の形態1では、現像液供給ノズル12、現像液回収ノズル14と、洗浄液回収ノズル16とが配置されている。これに対して、実施の形態2の現像処理装置200においては、支持部40の、移動方向前後に、現像液供給ノズル42と洗浄液供給ノズル44とが、それぞれ配置されて、各ノズルが構成されている。また、現像処理装置200においては、現像液回収ノズル14に相当するノズルは設置されていない。また、現像液供給ノズル42の先端部から、移動方向に対して後ろ側に向けて、平行板46が配置されている。平行板46は、長手方向において、少なくとも基板最大幅よりも長く構成されており、この長手方向が、移動方向に対して直行するように配置されている。また、平行板46は、基板2に対して平行に設置されている。
実施の形態2における現像処理方法は、実施の形態1において説明した現像処理方法と類似するものである。
その他の部分については、実施の形態1と同様であるから説明を省略する。
2 基板
4 処理室
6 スピンチャック
8 駆動手段
10 カップ
12 現像液供給ノズル
14 現像液回収ノズル
16 洗浄液供給ノズル
18 洗浄液供給ノズル
20 アーム
22 制御手段
24 洗浄槽
30 フォトレジスト
32 現像液
34 洗浄液
36 洗浄液
40 支持部
42 現像液供給ノズル
44 洗浄液供給ノズル
46 平行板
50 現像液
52 洗浄液
54 洗浄液
Claims (13)
- 基板を載置する載置台と、
前記載置台上方に配置され、所定の移動方向に移動しながら、前記基板に、現像液を供給する現像液供給ノズルと、
前記移動方向に対して、前記現像液供給ノズルより後方に、前記現像液供給ノズルと所定の間隔を持って配置され、前記移動方向に移動しながら、前記現像液が供給された基板から、前記現像液を吸引する現像液回収ノズルと、
前記移動方向に対して、前記現像液回収ノズルより後方に、前記現像液供給ノズルと所定の間隔を持って配置され、前記移動方向に移動しながら、前記基板に、洗浄液を供給する洗浄液供給ノズルと、
を備えることを特徴とする現像処理装置。 - 前記現像液供給ノズルと前記洗浄液供給ノズルの移動速度は、ほぼ同一であることを特徴とする請求項1に記載の現像処理装置。
- 前記現像液供給ノズルと、前記現像液回収ノズルと、前記洗浄液供給ノズルと、の間の配置間隔を、制御する制御手段を備えることを特徴とする請求項1または2に記載の現像処理装置。
- 前記現像液供給ノズルと、前記現像液回収ノズルと、前記洗浄液供給ノズルと、の移動速度を、それぞれ、制御する制御手段を備えることを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の現像処理装置。
- 基板を載置する載置台と、
前記載置台上方に配置され、所定の移動方向に移動しながら、前記基板に、現像液を供給する現像液供給ノズルと、
前記基板上に供給された前記現像液の、前記基板表面からの高さを調節する調節手段と、
前記移動方向に対して、前記現像液供給ノズルより後方に、前記現像液供給ノズルと所定の間隔を持って配置され、前記移動方向に移動しながら、前記基板に、洗浄液を供給する洗浄液供給ノズルと、
を備えることを特徴とする現像処理装置。 - 前記調節手段は、前記移動方向に対して、前記現像液供給ノズルより後方に、前記基板に平行に配置された平行板であって、前記現像液供給ノズルと同一方向に移動することを特徴とする請求項5に記載の現像処理装置。
- 前記現像液供給ノズルと前記洗浄液供給ノズルの移動速度は、ほぼ同一であることを特徴とする請求項5または6に記載の現像処理装置。
- 前記現像液供給ノズルと、前記洗浄液供給ノズルとの間の配置間隔を、制御する制御手段を備えることを特徴とする請求項5から7のいずれかに記載の現像処理装置。
- 前記現像液供給ノズルと、前記洗浄液供給ノズルと、の移動速度を、それぞれ、制御する制御手段を備えることを特徴とする請求項5から8のいずれかに記載の現像処理装置。
- 現像液供給ノズルを所定の移動方向に移動させながら、載置台に載置された基板に、現像液を供給する現像液供給工程と、
前記現像液供給ノズルの後ろから、前記移動方向に、現像液回収ノズルを移動させながら、前記基板上に供給された前記現像液を吸引する現像液吸引工程と、
前記現像液回収ノズルの後ろから、前記移動方向に、洗浄液供給ノズルを移動させながら、前記基板に、洗浄液を供給する洗浄液供給工程と、
を備えることを特徴とする現像処理方法。 - 前記現像液供給ノズルと、前記洗浄液供給ノズルは、同一速度で移動させることを特徴とする請求項10に記載の現像処理方法。
- 現像液供給ノズルを所定の移動方向に移動させながら、載置台に載置された基板に、現像液を供給する現像液供給工程と、
前記基板に供給された前記現像液の、前記基板表面からの高さを一定に調節する調節工程と、
前記現像液供給ノズルの後ろから、前記移動方向に、洗浄液供給ノズルを移動させながら、前記基板に、洗浄液を供給する洗浄液供給工程と、
を備えることを特徴とする現像処理方法。 - 前記現像液供給ノズルと、前記洗浄液供給ノズルは、同一速度で移動させることを特徴とする請求項12に記載の現像処理方法。
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