JP2005208245A - Tftアレイ検査方法及びtftアレイ検査装置 - Google Patents
Tftアレイ検査方法及びtftアレイ検査装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005208245A JP2005208245A JP2004013497A JP2004013497A JP2005208245A JP 2005208245 A JP2005208245 A JP 2005208245A JP 2004013497 A JP2004013497 A JP 2004013497A JP 2004013497 A JP2004013497 A JP 2004013497A JP 2005208245 A JP2005208245 A JP 2005208245A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- line
- defect
- pixel
- profile data
- tft array
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Testing Electric Properties And Detecting Electric Faults (AREA)
- Liquid Crystal Display Device Control (AREA)
- Control Of Indicators Other Than Cathode Ray Tubes (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
【解決手段】 TFTアレイ検査方法の形態において、TFT基板の各画素を駆動して得られる二次元の測定データについて、x方向及び/又はy方向の各ラインの測定データの積算値又は平均強度を求めて同方向の累積プロファイルデータを作成し、作成した累積プロファイルデータから各ラインのしきい値を求める。各ラインの累積プロファイルデータを、そのラインの累積プロファイルデータから求めたしきい値と比較することによって、TFT基板のx方向及び/又はy方向のラインについてライン単位で画素欠陥を検出する。
【選択図】図1
Description
Claims (8)
- TFT基板の各画素を駆動して得られる二次元の測定データについて、x方向及び/又はy方向の各ラインの測定データから同方向のライン特性を表す累積プロファイルデータを求め、当該累積プロファイルデータの信号強度及び/又は信号幅に基づいてライン単位で画素欠陥を検出することを特徴とするTFTアレイ検査方法。
- TFT基板の各画素を駆動して得られる二次元の測定データについて、x方向及び/又はy方向の各ラインの測定データの積算値又は平均強度を求めて同方向の累積プロファイルデータを作成し、
当該累積プロファイルデータから各ラインのしきい値を求め、
各ラインの累積プロファイルデータ及びしきい値を用いて、TFT基板のx方向及び/又はy方向のライン単位の画素欠陥を検出することを特徴とするTFTアレイ検査方法。 - 前記しきい値は、前記累積プロファイルデータに一次元のローパスフィルタ処理を施し、当該処理後のデータの標準偏差を求めることにより得ることを特徴とする請求項2に記載のTFTアレイ検査方法。
- 前記画素欠陥は点欠陥及び線欠陥を含み、
異なるしきい値を用いることにより点欠陥と線欠陥とを識別することを特徴とする請求項2又は3に記載のTFTアレイ検査方法。 - 前記線欠陥において、
累積プロファイルデータの線欠陥部分のベース部の幅と半値幅との比率を指標として単線欠陥と複線欠陥とを識別することを特徴とする請求項4に記載のTFTアレイ検査方法。 - 前記測定データは、TFT基板に電子線を照射し、当該電子線照射によりTFT基板の画素から発生する二次電子を検出することにより得ることを特徴とする請求項1乃至5の何れか一つに記載のTFTアレイ検査方法。
- TFT基板の各画素を駆動して得られる二次元の測定データに基づいてTFTアレイを検査するTFTアレイ検査装置において、
TFT基板の二次元の測定データから画素の欠陥情報を得るデータ処理手段を備え、
前記データ処理手段は、x方向及び/又はy方向の各ラインの測定データから同方向のライン特性を表す累積プロファイルデータを求め、当該累積プロファイルデータに基づいてライン単位の画素欠陥を検出することを特徴とするTFTアレイ検査装置。 - 前記データ処理手段は、TFT基板の各画素を駆動して得られる二次元の測定データについて、x方向及び/又はy方向の各ラインの測定データの積算値又は平均強度を求めて同方向の累積プロファイルデータを作成する累積プロファイルデータ作成手段と、
前記累積プロファイルデータから各ラインのしきい値を求めるしきい値算出手段と、
各ラインの累積プロファイルデータ及びしきい値を用いて、TFT基板のx方向及び/又はy方向のライン単位の画素欠陥を検出する画素欠陥検出手段とを備えることを特徴とする請求項7に記載の積算TFTアレイ検査装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004013497A JP4386175B2 (ja) | 2004-01-21 | 2004-01-21 | Tftアレイ検査方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004013497A JP4386175B2 (ja) | 2004-01-21 | 2004-01-21 | Tftアレイ検査方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005208245A true JP2005208245A (ja) | 2005-08-04 |
JP4386175B2 JP4386175B2 (ja) | 2009-12-16 |
Family
ID=34899539
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004013497A Expired - Fee Related JP4386175B2 (ja) | 2004-01-21 | 2004-01-21 | Tftアレイ検査方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4386175B2 (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009294204A (ja) * | 2008-05-09 | 2009-12-17 | Nec Lcd Technologies Ltd | 表示装置の検査方法と検査装置及び表示装置用基板と表示装置 |
WO2010079608A1 (ja) * | 2009-01-09 | 2010-07-15 | 株式会社島津製作所 | 液晶アレイ検査装置および液晶アレイ検査装置の信号処理方法 |
WO2010079607A1 (ja) * | 2009-01-09 | 2010-07-15 | 株式会社島津製作所 | 液晶アレイ検査装置および液晶アレイ検査装置の信号処理方法 |
JP2012133020A (ja) * | 2010-12-20 | 2012-07-12 | Shimadzu Corp | Tftアレイ検査装置 |
WO2012111841A1 (ja) * | 2011-02-18 | 2012-08-23 | シャープ株式会社 | 線欠陥検出方法及び線欠陥検出装置 |
CN114911085A (zh) * | 2022-01-03 | 2022-08-16 | 友达光电股份有限公司 | 分析缺陷的方法 |
-
2004
- 2004-01-21 JP JP2004013497A patent/JP4386175B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009294204A (ja) * | 2008-05-09 | 2009-12-17 | Nec Lcd Technologies Ltd | 表示装置の検査方法と検査装置及び表示装置用基板と表示装置 |
WO2010079608A1 (ja) * | 2009-01-09 | 2010-07-15 | 株式会社島津製作所 | 液晶アレイ検査装置および液晶アレイ検査装置の信号処理方法 |
WO2010079607A1 (ja) * | 2009-01-09 | 2010-07-15 | 株式会社島津製作所 | 液晶アレイ検査装置および液晶アレイ検査装置の信号処理方法 |
CN102272587A (zh) * | 2009-01-09 | 2011-12-07 | 株式会社岛津制作所 | 液晶阵列检查装置以及液晶阵列检查装置的信号处理方法 |
JP5093539B2 (ja) * | 2009-01-09 | 2012-12-12 | 株式会社島津製作所 | 液晶アレイ検査装置および液晶アレイ検査装置の信号処理方法 |
JP5152606B2 (ja) * | 2009-01-09 | 2013-02-27 | 株式会社島津製作所 | 液晶アレイ検査装置および液晶アレイ検査装置の信号処理方法 |
JP2012133020A (ja) * | 2010-12-20 | 2012-07-12 | Shimadzu Corp | Tftアレイ検査装置 |
WO2012111841A1 (ja) * | 2011-02-18 | 2012-08-23 | シャープ株式会社 | 線欠陥検出方法及び線欠陥検出装置 |
JP2012173034A (ja) * | 2011-02-18 | 2012-09-10 | Sharp Corp | 線欠陥検出方法及び線欠陥検出装置 |
CN114911085A (zh) * | 2022-01-03 | 2022-08-16 | 友达光电股份有限公司 | 分析缺陷的方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4386175B2 (ja) | 2009-12-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5357725B2 (ja) | 欠陥検査方法及び欠陥検査装置 | |
JP4562126B2 (ja) | 欠陥検出装置および欠陥検出方法 | |
KR20120068128A (ko) | 패턴의 결함 검출 방법 및 이를 수행하기 위한 결함 검출 장치 | |
US9430713B2 (en) | Method and apparatus for detecting repetitive pattern in image | |
WO2016038982A1 (ja) | 欠陥定量化方法、欠陥定量化装置、および欠陥評価値表示装置 | |
CN104520983A (zh) | 用于半导体制造中的检验的嵌入噪声中的缺陷的检测 | |
JP2006098151A (ja) | パターン検査装置およびパターン検査方法 | |
JP2008256428A (ja) | マイクロアレイ画像のブロック位置検出方法 | |
JP2004177139A (ja) | 検査条件データ作成支援プログラム及び検査装置及び検査条件データ作成方法 | |
JP4101489B2 (ja) | 欠陥検査方法及びその装置 | |
JP6349333B2 (ja) | パターン計測装置、自己組織化リソグラフィに用いられる高分子化合物の評価方法、及びコンピュータープログラム | |
JP4386175B2 (ja) | Tftアレイ検査方法 | |
JP6199799B2 (ja) | 自発光材料画像処理装置及び自発光材料画像処理方法 | |
JP2008190872A (ja) | 表面不良検出装置、方法及びプログラム | |
JP4334527B2 (ja) | 針痕検出装置および針痕検出方法 | |
JP2006190974A (ja) | 針痕検出装置および針痕検出方法 | |
JP2005321308A (ja) | アレイ検査装置 | |
JP4292409B2 (ja) | Tftアレイ検査装置及びtftアレイ検査方法 | |
JP2000199745A (ja) | 色ムラの検査方法及び装置 | |
JP6114559B2 (ja) | フラットパネルディスプレイの自動ムラ検出装置 | |
JP5182595B2 (ja) | Tftアレイ検査方法およびtftアレイ検査装置 | |
JP5408333B2 (ja) | Tftアレイ検査方法およびtftアレイ検査装置 | |
US10969428B2 (en) | Method of inspecting pattern defect | |
JP2006215493A (ja) | 液晶アレイ検査装置 | |
JP5408540B2 (ja) | Tftアレイの検査方法及びtftアレイ検査装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060510 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090527 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090616 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090804 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090909 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090922 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 4386175 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121009 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121009 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131009 Year of fee payment: 4 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |