JP2005123586A - 投影装置および投影方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明による投影装置は、投影面に形成すべきパターンを表現するパターンデータの入力を受けとり、パターンデータに応じて入射光を空間的に変調する空間光変調器(マイクロミラーアレイ3)と、空間光変調器で反射された光を投影面上に縮小投影する投影光学系5とを備えた投影装置である。空間光変調器は、パターンデータに応じて駆動される複数の微小ミラー3bのアレイと、複数の微小ミラー3bのアレイを支持する基板3aとを有しており、複数の微小ミラー3bの各々の基板3aに対する傾斜および/または基板3aに対する垂直な方向への変位を行う駆動部3cとを有している。
【選択図】図1
Description
2 ビームスプリッタ
3 マイクロミラーアレイ
3a 基板
3b 微小ミラー
3c アクチュエータ
4 パターンデータ発生器
5 投影光学系
6 ウェハ
7 レジスト
8 ウェハステージ
Claims (15)
- 投影面に形成すべきパターンを表現するパターンデータの入力を受けとり、前記パターンデータに応じて入射光を空間的に変調する空間光変調器と、
前記空間光変調器で反射された光を前記投影面上に縮小投影する投影光学系と、
を備えた投影装置であって、
前記空間光変調器は、
前記パターンデータに応じて駆動される複数の微小ミラーのアレイと、
前記複数の微小ミラーのアレイを支持する基板とを有しており、
前記複数の微小ミラーの各々の前記基板に対する傾斜および前記基板に対する垂直な 方向への変位を個々の微小ミラーごとに変化させることができる駆動部と、
を有している、投影装置。 - 前記駆動部は、前記パターンデータに応じて、各微小ミラーの前記基板に対する垂直な方向への変位および前記基板に対する傾斜によって規定される前記微小ミラーの状態を変化させる、請求項1に記載の投影装置。
- 前記駆動部は、前記パターンデータに応じて、各微小ミラーの前記基板に対する垂直な方向への変位を多段階で変化させることができる、請求項2に記載の投影装置。
- 前記駆動部は、前記パターンデータに応じて、各微小ミラーの前記基板に対する2軸の傾斜をそれぞれ多段階に変化させる請求項3に記載の投影装置。
- 前記駆動部は、前記パターンデータに応じて、相互に異なる少なくとも第1から第3の状態を各微小ミラーにとらせることができ、
前記第1の状態にある前記微小ミラーは、前記基板に対して傾斜し、前記反射光を実質的に前記投影光学系の開口瞳外に偏向させ、
前記第2の状態にある前記微小ミラーおよび前記第3の状態にある前記微小ミラーは、前記基板の垂直方向に関して相対的に異なる変位を示し、かつ、いずれもが前記反射光を前記投影光学系の開口瞳内に偏向させる、請求項2から4のいずれかに記載の投影装置。 - 前記第2の状態にある微小ミラーで反射された光と、前記第3の状態にある微小ミラーで反射された光とは、互いに逆相になる相対的な位相差が与えられる請求項5に記載の投影装置。
- 前記第1の状態にある前記微小ミラーを挟んで、前記第2の状態にある微小ミラーと前記第3の状態にある前記微小ミラーとが隣接している請求項6に記載の投影装置。
- 前記位相差は実質的に180度である請求項7に記載の投影装置。
- 前記パターンデータは、パターンデータ発生器により生成され、
前記パターンデータ発生器は、各微小ミラーの状態を個々に基板に対する垂直な方向への変位および2軸の傾斜を与える前記パターンデータの多段階の設定値を、前記微小ミラー毎に可変とする請求項1に記載の投影装置。 - 前記パターンデータは、前記微小ミラーの前記基板に対する2軸の傾斜をそれぞれ多段階に設定する請求項9に記載の投影装置。
- 前記投影面に形成するパターンは、回路素子を形成するためのパターンであり、
前記投影面は、感光性レジスト上に形成される請求項1に記載の投影装置。 - 前記パターンデータ発生器が、前記投影光学系の収差を補正するためのパターンデータを発生する請求項9に記載の投影装置。
- 投影面に形成すべきパターンを表現するパターンデータの入力を受けとり、前記パターンデータに応じて入射光を空間的に変調する空間光変調器と、
前記空間光変調器で変調された光を前記投影面上に投影する投影光学系と、
を備えた投影装置であって、
前記空間光変調器は、
前記パターンデータに応じて、前記入射光の振幅および/または位相を変調すること ができる複数の変調素子のアレイを有しており、前記複数の変調素子の各々は、相互に 異なる少なくとも第1から第3の状態をとることができ、
前記第1の状態にある前記変調素子は、前記投影面上における前記変調光の振幅を所 定値以下に変調し、
前記第2の状態にある前記変調素子は、前記投影面上における前記変調光の振幅を前 記所定値以上に保ち、
前記第3の状態にある前記変調素子は、前記投影面上における前記変調光の振幅を前 記所定値以上に保つとともに、前記第2の状態にある前記変調素子からの変調光との間 で相対的な位相差を形成する、投影装置。 - 複数の微小ミラーが行および列状に配列されたマイクロミラーアレイを駆動することにより、前記複数の微小ミラーの各々の傾斜および/または光軸方向への変位を個別に行なうステップと、
前記マイクロミラーアレイに光を投射し、各微小ミラーからの反射光を投影面上に投影することにより、前記投影面上に像を作成するステップと、
を含む像形成方法。 - 各々が光の振幅および/または位相を変調する複数の変調素子を備えた空間光変調器を用意する工程と、
前記空間光変調器に光を入射させ、前記複数の変調素子の各々によって変調された変調光を投影面に投影して像を形成する工程と、
を含む投影方法であって、
前記投影面上における前記変調光の振幅を所定値以下に変調する第1のパターンデータと、前記投影面上における前記変調光の振幅を前記所定値以上に保つ第2のパターンデータと、前記投影面上における前記変調光の振幅を前記所定値以上に保つとともに、前記第2のパターンデータを与えられた変調素子からの変調光との間で相対的な位相差を与える第3のパターンデータとを、前記空間光変調器に入力するステップ
を含む、投影方法。
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