JP4498272B2 - リソグラフィ装置、リソグラフィ装置のレチクルマスキングデバイス、気体軸受け、およびこのような気体軸受けを有する装置 - Google Patents

Description

本発明はリソグラフィ装置、リソグラフィ装置に使用する案内機構、気体軸受けデバイスおよびこのようなリソグラフィ装置で使用するレチクルマスキングデバイスに関する。

リソグラフィ装置は、所望のパターンを基板に、通常は基板の目標部分に適用する機械である。リソグラフィ装置は例えば、集積回路（ＩＣ）の製造において使用可能である。このような状況では、代替的にマスクまたはレチクルとも呼ばれるパターニングデバイスは、ＩＣの個々の層に対応する回路パターンの生成に使用することができる。このパターンを、基板（例えばシリコンウェハ）上の目標部分（例えば１つあるいはそれ以上のダイの一部を含む）に転写することができる。パターンの転写は通常、基板に設けた放射線感光材料（レジスト）の層への描像を介する。一般的に、１枚の基板は、順次照射される近接目標部分のネットワークを含んでいる。従来のリソグラフィ装置は、パターン全体を目標部分に１回露光することによって各目標部分が照射される、いわゆるステッパと、所定の方向（「走査」方向）にパターンを投影ビームで走査し、これと同時に基板をこの方向と平行に、あるいは反平行に走査することにより、各目標部分が照射される、いわゆるスキャナとを含む。パターンを基板に刻印することによって、パターニングデバイスからのパターンを基板へと転写することも可能である。

パターニングデバイスは透過性または反射性でよい。両方の場合で、パターニングデバイスはパターンを含み、パターンはパターニングデバイスの部分の透過または反射に影響する。パターンは、例えばパターンを形成したクロムのような金属の層を含んでよい。パターニングデバイスの有用な（例えばパターン形成した）部分の外側への放射線の転写（つまり透過または反射）を防止するために、パターニングデバイスの表面の残りの部分は、それぞれ透過または反射を防止する材料で覆うことができる。パターニングデバイス上にこのような層を製造することは、非常に費用がかかり、このような透過が望ましくないパターニングデバイスの部分で放射線が透過するのを防止するために、高い光学的基準に適合する必要がある。通常、リソグラフィ装置はその寿命にわたって複数の異なるパターニングデバイスを使用する。このようなパターニングデバイスの製造費を削減するか、その要件を緩和する、あるいはその両方のために、いわゆるレチクルマスキングデバイスをリソグラフィ装置に設けることができる。レチクルマスキングデバイスは、レチクルの使用しない、つまり「ブラインド」部分を遮蔽し、したがってレチクルマスキングデバイスは、レチクルの非使用部分の照射を防止して、それぞれ残留透過または残留反射に関する要件を緩和する。

いわゆるスキャナおよび場合によっては他のタイプのリソグラフィ装置でも、レチクルによって走査動作が基板の走査を追従する。レチクルマスキングデバイスは、レチクルの非使用部分を効果的に遮蔽するために、レチクルの動作の少なくとも一部に追従する必要がある。従来のリソグラフィ装置では、レチクルマスキングデバイスがレチクル自体より物理的に小さいことが一般的である。というのは、レチクルマスキングデバイスは、レチクルマスキングデバイスがレチクルのサイズにまで拡大されるように大きさを光学的に変更される位置で、リソグラフィ装置の光学的投影システム内に位置決めされるからである。将来は、リソグラフィ装置の設計において、投影システムの要件のために、レチクルに対するレチクルマスキングデバイスのこのような大きさの変更は、リソグラフィ装置の様々な設計要件に適合するために防止される。したがって、レチクルマスキングデバイスの寸法を、実際的な実施形態では例えば３次元全部で４倍などに増大させる必要があり、したがって構造のボリュームおよび質量が大幅に増大する。また、レチクルマスキングデバイスの物理的寸法が拡大するので、レチクルの走査運動に追従するためのその加速および減速も増大する。また、質量の増大は加速の増大とともに、マスクの加速および減速のためにはるかに大きい力を必要とし、リソグラフィ装置の残りの部分における妨害（つまり機械的蒸発）が潜在的に非常に大きくなる。

レチクルマスキングデバイスなどの可動部品に対して、改良型の案内機構を提供することが望ましい。

本発明の実施形態によると、可動構造を案内する案内機構を有するリソグラフィ装置が提供され、案内機構は、可動構造に接続された可動部品、および可動部品を案内するほぼ静止状態の部品を含み、可動部品は、可動部品と静止部品の間のギャップに気体を注入する少なくとも１つのノズルを含み、静止部品は、ギャップの一部を介して可動部品に含まれる気体供給入口へと気体を供給する気体供給出口を含み、可動部品は、気体供給入口から少なくとも１つのノズルへと気体を案内する気体供給管路を含む。

本発明の実施形態によると、マスクブレードおよびマスクブレードを案内する案内機構を含むリソグラフィ装置のレチクルマスキングデバイスが提供され、案内機構はマスクブレードに接続された可動部品、および可動部品を案内するほぼ静止した部品を含み、可動部品は、可動部品と静止部品の間にギャップに気体を注入する気体ノズルを含み、静止部品は、ギャップの一部を介して可動部品に含まれる気体供給入口に気体を供給する気体供給出口を含み、可動部品は、気体供給入口から少なくとも１つのノズルへと気体を案内する気体供給管路を含む。

本発明の実施形態によると、ほぼ静止した部品に対して可動部品を担持する気体軸受けが提供され、可動部品は、可動部品と静止部品の間のギャップに気体を注入する気体ノズルを含み、静止部品は、ギャップの一部を介して可動部品に含まれる気体供給入口へと気体を供給する気体供給出口を含み、可動部品は、気体供給入口から少なくとも１つのノズルへと気体を案内する気体供給管路を含む。

本発明の実施形態によると、本発明による気体軸受けを含む装置が提供される。

本発明の別の実施形態によると、リソグラフィ装置が提供され、これは放射線のビームを調整するように構成された照明システムと、パターニングデバイスを支持するように構成されたパターニングデバイス支持体とを含み、パターニングデバイスは、パターン形成された放射線のビームを形成するために、放射線のビームにパターンを形成するように構成され、さらに基板を保持するように構成された基板支持体と、パターン形成した放射線のビームを基板上の目標部分に投影するように構成された投影システムと、リソグラフィ装置内で可動構造を案内するように構成された案内機構とを含み、案内機構は、（ａ）可動構造に接続された可動部品と、（ｂ）可動部品を案内するように構成されたほぼ静止した部品とを含み、可動部品は、可動部品と静止部品の間のギャップに気体を注入するように構成されたノズル、気体供給入口、および気体供給管路を含み、静止部品は、ギャップの一部を介して可動部品内に配置構成された気体供給入口へと気体を供給するように構成された気体供給出口を含み、気体供給管路は、気体供給入口からノズルへと気体を案内するように構成される。

次に、本発明の実施形態を添付の略図を参照に、例示の方法においてのみ説明する。図面では対応する参照記号は対応する部品を示すものとする。

図面では、同一の参照番号および参照記号は同一または同様の品目を指す。

図１は、本発明の１つの実施形態によるリソグラフィ装置を概略的に示したものである。この装置は、放射線ビームＢ（例えばＵＶ放射線またはＥＵＶ放射線）を調整するように構成された照明システム（照明装置）ＩＬと、パターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡを支持するように構築され、かつ、特定のパラメータに従って正確にパターニングデバイスの位置決めを行うように構成された第一位置決め装置ＰＭに連結を行った支持構造（例えばマスクテーブル）ＭＴを含む。装置は、基板（例えばレジスト塗布したウェハ）Ｗを支持するように構築され、かつ、特定のパラメータに従って正確に基板の位置決めを行うように構成された第二位置決め装置ＰＷに連結を行った基板テーブル（例えばウェハテーブル）ＷＴ、およびパターニングデバイスＭＡによって放射線ビームＢに与えられたパターンを基板Ｗの目標部分Ｃ（例えば、１つあるいはそれ以上のダイから成る）に投影するように構成された投影システム（例えば屈折性投影レンズシステム）ＰＳも含む。

照明システムは、放射線の誘導、成形、あるいは制御を行うために、屈折、反射、磁気、電磁気、静電気、または他のタイプの光学構成要素、またはその組み合わせなどの様々なタイプの光学構成要素を含むことができる。

支持構造は、パターニングデバイスを支持、つまりその重量を担持する。これは、パターニングデバイスの方向、リソグラフィ装置の設計、および他の条件、例えばパターニングデバイスが真空環境で保持されているか否かに応じた方法で、パターニングデバイスを保持する。支持構造は、パターニングデバイスを保持するために、機械的、真空、静電気、または他の締め付け技術を使用することができる。支持構造は、例えばフレームもしくはテーブルでよく、これは必要に応じて、固定式となるか、もしくは可動式となる。支持構造は、パターニングデバイスが例えば投影システムなどに対して所望の位置にあることを保証することができる。本明細書において使用する「レチクル」または「マスク」なる用語は、より一般的な「パターニングデバイス」なる用途と同義と見なすことができる。

本明細書において使用する「パターニングデバイス」なる用語は、基板の目標部分にパターンを生成するように、放射線ビームの断面にパターンを与えるために使用し得るデバイスを指すものとして広義に解釈されるべきである。放射線ビームに与えられるパターンは、例えばパターンが移相形体またはいわゆるアシスト形体を含む場合、基板の目標部分における所望のパターンに正確に対応しないことがあることに留意されたい。一般的に、放射線ビームに与えられるパターンは、集積回路などの目標部分に生成されるデバイスの特別な機能層に相当する。

パターニングデバイスは透過性または反射性でよい。パターニングデバイスの例には、マスク、プログラマブルミラーアレイ、およびプログラマブルＬＣＤパネルがある。マスクはリソグラフィにおいて周知のものであり、これには、様々なハイブリッドマスクタイプのみならず、バイナリマスク、レベンソンマスク、減衰位相シフトマスクといったようなマスクタイプも含まれる。プログラマブルミラーアレイの一例は小さなミラーのマトリクス配列を用いる。そのミラーの各々は、異なる方向に入射の放射線ビームを反射するよう個々に傾斜することができる。傾斜したミラーは、ミラーマトリクスによって反射する放射線ビームにパターンを与える。

本明細書において使用する「投影システム」なる用語は、例えば使用する露光放射線、または浸漬流体の使用や真空の使用などの他の要因に合わせて適宜、例えば屈折光学システム、反射光学システム、反射屈折光学システム、磁気光学システム、電磁気光学システムおよび静電気光学システムを含むさまざまなタイプの投影システムを網羅するものとして広義に解釈されるべきである。本明細書において「投影レンズ」なる用語を使用した場合、これはさらに一般的な「投影システム」なる用語と同義と見なされる。

ここで示しているように、本装置は透過タイプである（例えば透過マスクを使用する）。あるいは、装置は反射タイプでもよい（例えば上記で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイを使用する、または反射性マスクを使用する）。

リソグラフィ装置は２つ（デュアルステージ）あるいはそれ以上の基板テーブル（および／または２つもしくはそれ以上のマスクテーブル）を有するタイプのものである。このような「多段」機械においては、追加のテーブルが並列して使用される。もしくは、１つ以上の他のテーブルが露光に使用されている間に予備工程が１つ以上のテーブルにて実行される。

リソグラフィ装置は、投影システムと基板との間の空間を充填するよう、基板の少なくとも一部を水などの比較的高い屈折率を有する液体で覆うタイプでもよい。浸漬液は、例えばマスクと投影システムの間など、リソグラフィ装置の他の空間に適用してもよい。浸漬技術は、投影システムの開口数を増加させるために当技術分野でよく知られている。本明細書で使用する「浸漬」なる用語は、基板などの構造を液体に浸さなければいけないという意味ではなく、露光中に投影システムと基板の間に液体を配置するというだけの意味である。

図１を参照すると、照明装置ＩＬは放射線ソースＳＯから放射線ビームを受け取る。ソースとリソグラフィ装置とは、例えばソースがエキシマレーザである場合に、別個の存在でよい。このような場合、ソースはリソグラフィ装置の一部を形成すると見なされず、放射線ビームは、例えば適切な集光ミラーおよび／またはビーム拡大器などを含むビーム送出システムＢＤの助けにより、ソースＳＯから照明装置ＩＬへと渡される。他の場合、例えばソースが水銀ランプの場合は、ソースが装置の一体部品でもよい。ソースＳＯおよび照明装置ＩＬは、必要に応じてビーム送出システムＢＤとともに放射線システムと呼ぶことができる。

照明装置ＩＬは、放射線ビームの角度強度分布を調節するように構成された調節装置ＡＤを含んでよい。一般的に、照明装置の瞳面における強度分布の外部および／あるいは内部放射範囲（一般的にそれぞれ、σ−ｏｕｔｅｒおよびσ−ｉｎｎｅｒと呼ばれる）を調節することができる。また、照明装置ＩＬは、積分器ＩＮおよびコンデンサＣＯのような他の様々な構成要素を含む。照明装置は、その断面に亘り所望する均一性と強度分布とを有するように、放射線ビームの調整に使用することができる。

放射線ビームＢは、支持構造（例えばマスクテーブルＭＴ）上に保持されているパターニングデバイス（例えばマスクＭＡ）に入射し、パターニングデバイスによってパターン形成される。放射線ビームＢはマスクＭＡを通り抜けて、基板Ｗの目標部分Ｃ上にビームを集束する投影システムＰＳを通過する。第二位置決め装置ＰＷおよび位置センサＩＦ（例えば干渉計デバイス、リニアエンコーダまたは容量性センサ）の助けにより、基板テーブルＷＴは、例えば放射線ビームＢの経路における異なる目標部分Ｃに位置を合わせるために正確に運動可能である。同様に、第一位置決め装置ＰＭおよび別の位置センサ（図１には明示的に図示せず）を使用して、例えばマスクライブラリから機械的に検索した後に、あるいは走査運動の間に、放射線ビームＢの経路に対してマスクＭＡを正確に位置決めすることができる。一般的に、マスクテーブルＭＴの運動は、第一位置決め装置ＰＭの部分を形成するロングストロークモジュール（粗動位置決め）およびショートストロークモジュール（微動位置決め）にて行われる。同様に、基板テーブルＷＴの運動は、第二位置決め装置ＰＷの部分を形成するロングストロークモジュールおよびショートストロークモジュールを使用して実現することができる。ステッパの場合（スキャナとは対照的に）、マスクテーブルＭＴはショートストロークアクチュエータに連結されるだけであるか、あるいは固定される。マスクＭＡおよび基板Ｗは、マスクアラインメントマークＭ１、Ｍ２および基板アラインメントマークＰ１、Ｐ２を使用して位置合わせすることができる。図示のような基板アラインメントマークは、専用の目標位置を占有するが、目標部分の間の空間に配置してもよい（スクライブレーンアラインメントマークと呼ばれる）。同様に、マスクＭＡに複数のダイを設ける状況では、マスクアラインメントマークをダイ間に配置してもよい。

ここに表した装置は以下のモードのうち少なくとも１つにて使用可能である。
１．ステップモードにおいては、マスクテーブルＭＴおよび基板テーブルＷＴは、基本的に静止状態に保たれている。そして、放射線ビームに与えたパターン全体が１回で目標部分Ｃに投影される（すなわち１回の静止露光）。次に基板テーブルＷＴがＸ方向および／あるいはＹ方向にシフトされ、異なる目標部分Ｃが照射され得る。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズが、１回の静止露光で描像される目標部分Ｃのサイズを制限する。
２．走査モードにおいては、マスクテーブルＭＴおよび基板テーブルＷＴを同期走査する一方、放射線ビームに与えられたパターンを目標部分Ｃに投影する（つまり１回の動的露光）。マスクテーブルＭＴに対する基板テーブルＷＴの速度および方向は、投影システムＰＬの拡大（縮小）および像反転特性によって決定される。走査モードでは、露光フィールドの最大サイズが、１回の動的露光で目標部分の（非走査方向における）幅を制限し、走査動作の長さが目標部分の（走査方向における）高さを決定する。
３．別のモードでは、マスクテーブルＭＴが基本的に静止状態に維持されて、プログラマブルパターニングデバイスを保持し、放射線ビームに与えられたパターンを目標部分Ｃに投影する間に、基板テーブルＷＴが動作するか、走査される。このモードでは、一般的にパルス状放射線ソースを使用して、基板テーブルＷＴを動作させるごとに、または走査中に連続する放射線パルス間に、プログラマブルパターニングデバイスを必要に応じて更新する。この動作モードは、以上で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを使用するマスクなしリソグラフィに容易に適用することができる。

上述した使用モードの組合せおよび／または変形、または全く異なる使用モードも使用することができる。

図２は、本発明の実施形態による駆動機構の部分切り取り図を示す。駆動機構はマスクブレードＭＢを駆動し（概括的用語では任意の可動構造を駆動することができる）、マスクブレードＭＢは駆動機構の可動部品ＭＯに接続される。駆動機構はさらに静止部品ＳＴを含み、その一部は図２では明快さを期して切り取られている。図２を検討すると当業者には明白であるように、図２で示すような可動部品ＭＯの位置で可動部品ＭＯを覆うような静止部品ＳＴの部分は切り取られている。この切り取り部は点線で示され、切り取り部の縁部は、静止部品の切り取り断面に沿った点線で示されている。

図２で示すように、静止部品ＳＴは可動部品ＭＯを案内する開口を含み、開口Ｏは、ｙ軸線に沿った方向で見た場合に、Ｌの形状を有する。同じ方向から可動部品を見ると、可動部品もＬ字形であり、したがって静止部品ＳＴの開口Ｏによって案内される（言うまでもなく、明快さを期して図面では切り取られている静止部品ＳＴの区間が存在すると仮定する）。可動部品ＭＯの寸法は、静止部品ＳＴの開口Ｏの寸法よりわずかに小さくなるように選択され、したがってｘ方向、さらにｚ方向に沿って静止部品ＳＴと可動部品ＭＯの間に小さいギャップが残る。可動部品ＭＯは、可動部品と静止部品の間のギャップに気体を注入する気体ノズルを含む。図２で示す例では、複数のノズルＮ_x、さらに複数のノズルＮ_zが図示されている。ノズルＮ_x、Ｎ_zは、ノズルＮ_x、Ｎ_zに気体を案内するために、気体供給管路に接続される。個々のノズルが含まれる可動部品の表面と、可動部品ＭＯの表面に面する静止部品ＳＴの表面との間のギャップに気体を注入することによって、個々のノズルの方向で、静止部品ＳＴに対して可動部品ＭＯを担持するために気体軸受けが形成される。ノズルＮ_xはｘ方向で軸受けを提供し、ノズルＮ_zはｚ方向で軸受けを提供する。ノズルＮ_xが含まれる可動部品の表面と、ノズルＮ_zが含まれる可動部品の表面とは、静止部品に対する可動部品の最高の位置精度を達成するために、相互に対してほぼ直角である。

図２はさらに、可動部品ＭＯに含まれる複数の溝を示し、溝は可動部品の表面に配置され、この例では複数のノズルを囲むか封入する。溝Ｔ_x1はノズルＮ_xを囲んで設けられ、複数の溝Ｔ_zは、それぞれがノズルＮ_zを囲んで設けられる。これらの溝によって、それぞれ溝に囲まれた個々のノズルまたは複数のノズルによってギャップに注入された気体を排出することができる。溝は（例えば可動部品に含まれる適切な管路を介して）気体排気部に接続され、その機能については以下で説明する。図２で示すような溝Ｔ_x1およびＴ_zは、可動部品の表面にスリット、溝、または任意の他の適切な形態を含んでよい。

案内機構の気体供給および排気について、次に図３に関して説明する。図３で示すような断面図は、ｙ軸に沿った図を含む。図３は、ノズルＮ_xの１つおよびノズルＮ_zの１つ、さらに溝Ｔ_zの２つの部品および溝Ｔ_x1の２つの部品を通る断面図を示す。溝Ｔ_x1、Ｔ_zの断面形状の例は、図３からも分かる。ノズルＮ_x、Ｎ_zは、気体供給導管または管路ＣＯに接続されて、気体を個々のノズルに供給する。同様に、溝Ｔ_x1、Ｔ_zは気体排出導体または管路ＤＣＯに接続されて、気体を個々の溝から排出する。気体は、以下で説明する方法で静止部品ＳＴから可動部品ＭＯに供給される。静止部品ＳＴは、ギャップＧＰで終了する気体供給出口ＧＳＯを含む。気体は、気体供給出口ＧＳＯを介して（例えば適切な圧力を加えることによって）ギャップＧＰに流れるように強制される。可動部品ＭＯは気体供給入口を含み、これはこの例では、静止部品ＳＴに含まれる気体供給出口ＧＳＯに面する入口溝ＩＴである。入口溝ＩＴは気体供給管路ＣＯに接続される。したがって、静止部品ＳＴの気体供給出口ＧＳＯに供給される気体は、気体供給出口ＧＳＯからギャップＧＰ内に流れ、次に気体の一部はギャップＧＰから入口溝ＩＴへ、そこから気体供給管路ＣＯに流れる。ギャップＧＰに流入する気体の別の部分はギャップに逃げ、したがって気体供給の漏れを効果的に形成する。気体供給出口ＧＳＯおよび入口溝ＩＴで、静止部品ＳＴから可動部品ＭＯへの気体の非接触伝達が達成される。可動部品がｙ軸線に沿った方向で静止部品ＳＴに対して移動できるようにするために、入口溝は細長い溝を含み、これはほぼｙ軸線に平行な方向に延在し、したがって可動部品がｙ軸線にほぼ平行な方向で移動することができる一方、（静止部品ＳＴに対する可動部品ＭＯの動作範囲にわたって）静止部品ＳＴに対する可動部品ＭＯの個々の位置で、気体供給出口から気体供給出口に面する入口溝ＩＴの部分への気体の流れを保証する。気体供給出口ＧＳＯと入口溝ＩＴの間に生じる気体漏れ、したがって漏れてギャップに入る気体の部分は、ノズルＮ_xによって形成される気体軸受けに予荷重を提供する。ノズルＮ_xから流れる気体は、図面の面で右側に向かう方向で可動部品ＭＯに力を加える。気体供給出口ＧＳＯと入口溝ＩＴの間の気体の漏れは、図面の面で左側へと可動部品ＭＯに力を加える。というのは、可動部品の気体供給入口（したがってこの例では入口溝ＩＴ）およびノズルＮ_xは、可動部品の対向する側の表面に配置されるからである。したがって、ギャップへの気体漏れは、ノズルＮ_xによって提供される気体軸受けに予荷重を形成する。予荷重を提供する代替方法について、以下で検討する。

図３はさらに、静止部品に含まれる排気管路ＥＣを示す。排気管路ＥＣは１つの溝Ｔ_x2の一部分に面する。出口溝Ｔ_x2は排出管路または管路ＤＣＯに接続されて、気体を排出溝Ｔ_x1、Ｔ_zから溝Ｔ_x2へと案内する。図３で示す実施形態では、溝Ｔ_x2は二重の機能を有する。第一に、気体供給出力部ＧＳＯと入口溝ＩＴの間から漏れる気体を収集し、第二に、気体を排気管路または管路ＥＣへと案内する排出溝を形成する。溝Ｔ_x2の少なくとも一部が、ｙ軸にほぼ平行な方向に延在し、したがって静止部品ＳＴに対する可動部品ＭＯの動作範囲で、気体を排気部へと排出することができる。というのは、動作範囲内の各位置で、溝Ｔ_x2の一部が排気管路ＥＣに面するからである。図３で示す実施形態では、排気管路は大気圧排気を含むが、例えばポンプなどによる負圧を使用したりして、強制排気を適用し、排気部を介した気体の排出を容易にすることが可能である。

図３はさらに、静止部品ＳＴに対して可動部品ＭＯを駆動するモータの部品を概略的に示す。モータは、磁石のアレイを含むリニアモータつまり第一部品、およびコイルのアレイつまり第二部品を含む。図３は、磁石ＭＡの１つおよびコイルＣＬの１つを通る断面図を示す（コイルおよび／または磁石の１次元または多次元アレイが存在してよい）。図３で示すように、可動部品ＭＯはこのように、磁石ＭＡが配置されたモータ駆動部品、および図面の面で可動部品ＭＯの左側によって形成され、したがって溝Ｔ_x1およびＴ_x2、ノズルＮ_xおよび入口溝ＩＴなどを含む部品によって形成される釣り合い錘部品を有する。この釣り合い錘部品により、マスクブレードＭＢの重量は、少なくとも部分的に釣り合い、したがって静止部品ＳＴに対して可動部品ＭＯにかかるトルクを減少させる。というのは、マスクブレードＭＢの質量が、図面の面で可動部品ＭＯの左側にある釣り合い錘の質量によって少なくとも部分的に釣り合うからである。図３で示す実施形態では、ノズルＮ_zが含まれる表面がモータ駆動部品に含まれて、ノズルＮ_xが含まれる表面が、釣り合い錘部品に含まれ、したがってコイルＣＬの動作時に静止部品に対して発生し得る可動部品の回転をさらに減少させる。ノズルＮ_xによって形成される気体軸受けが、質量の不均衡または他の動的効果により静止部品に対して発生し得る可動部品の回転を、さらに減少させるからである。図３で示す実施形態では、可動部品は磁石ＭＡを含み、静止部品はコイルＣＬを含み、これが加熱作用を低減させる。というのは、静止部品ＳＴが、可動部品ＭＯ（その質量は、高い加速および減速を可能にするために、低く維持することが好ましい）とは違い、ヒートシンクの十分な可能性を提供するので、動作時のコイルＣＬの熱発生の方が、可動部品の熱発生より容易に扱えるからである。本発明によると、磁石ＭＡも、ノズルＮ_zによって提供される気体軸受けの予荷重を形成する。ノズルＮ_zから流出する気体は、図３による図面の面で上方向に力を提供する。この力は、静止部品の強磁性材料などによって引きつけられる磁石ＭＡで生じる力で打ち消され、強磁性材料は、例えば鉄を含む。図３では、強磁性材料が詳細に図示されていないが、実際の実施形態では、静止部品ＳＴの大部分を鉄または他の強磁性材料で構築することができる。磁石ＭＡと静止部品ＳＴの強磁性材料との間の距離は、磁石ＭＡとノズルＮ_zに面する静止部品ＳＴの部分の間の方が、磁石と、コイルＣＬを保持し且つ少なくとも部分的に該コイルＣＬを囲む静止部品ＳＴの部分との間より小さい。したがって、動作時にノズルＮ_zによって形成された気体軸受けへの予荷重を提供する（図面の面で）下方向の有効磁力が生成される。

さらなる実施形態では、動作時にノズルＮ_zによって形成される気体軸受けは、可動部品の曲力（ｂｅｎｄｉｎｇ ｆｏｒｃｅｓ）が最小限まで減少するように、磁石ＭＡに対して位置決めされる。これは、ギャップに面し、ノズルＮ_zが位置決めされた表面に沿って、磁石ＭＡによる磁気予荷重力が最大の位置が、動作時にノズルＮ_zによって形成された気体軸受けが生成する力が最大になる位置と一致するように、磁石ＭＡおよびコイルＣＯを位置決めすることによって達成される。このようにほぼ一致する最大値が複数存在してよく、例えば１次元または２次元アレイを形成する。一例として、磁石ＭＡのアレイ内の１つの磁石の下で、各ノズルＮ_zを中心に配置し、可動部品の曲力を減少させることが可能である。

図４ａは、「透視」図で見た可動部品の斜視図を示す。図４ａで見られるように、可動部品ＭＯは、図３に関して説明したような静止部品の気体供給出口ＧＳＯと協働する細長い入口溝ＩＴ、および細長い溝Ｔ_x2を含み、細長い溝Ｔ_x2は、供給出口ＧＳＯと入口溝ＩＴの間から漏れる気体を収集し、これも図３に関して上述したように、排出かつ／または漏れた気体を排気管路ＥＣへと案内する。さらに、図４ａでは、ノズルＮ_zを囲む溝Ｔ_zが図示されている。

図４ｂも、可動部品の斜視図を示すが、図４ａとは異なり透視図ではない。図４ｂは、図３に関して上述したようにノズルＮ_xを囲む溝Ｔ_x1を示す。さらに、図４ｂは、図３に関して説明したように磁石のアレイの一部を形成する磁石ＭＡを示す。

図４ａおよび図４ｂは、図２による実施形態と比較すると、可動部品のわずかに異なる実施形態を示すことが分かる。例えば、１列の溝Ｎ_xではなく、２列のそれが図示され、図２で示したようなモータ駆動部品の傾斜した縁部が、図４で示したような実施形態には存在せず、代わりにこれらの実施形態は、２つの三角形の開口を有する部品を示し、この開口が可動部品の重量を減少する働きをする。

図２から図４に関して説明したような案内機構を含むレチクルマスキングデバイスが、図５に図示されている。レチクルマスキングデバイスは、マスクブレードＭＢ１、ＭＢ２を案内する第一案内機構、およびマスクブレードＭＢ３およびＭＢ４を案内する第二案内機構を含む。マスクブレードＭＢ１およびＭＢ２は、マスクブレードＭＢ３およびＭＢ４に対してほぼ直角に配向される。したがって、マスクブレードＭＢ１およびＭＢ２は、その間に光学的開口ＯＯを形成する。図５で示す実施形態では、２つの案内機構はそれぞれ２つの可動部品、即ちマスクブレードＭＢ１に接続される可動部品、およびマスクブレードＭＢ２に接続される可動部品、それぞれマスクブレードＭＢ３に接続される可動部品、およびマスクブレードＭＢ４に接続される可動部品を含む。レチクルマスキングデバイスの走査運動に応じて、マスクブレードのうち２つのみ、例えばＭＢ１およびＭＢ２が可動性で、他の２つのマスクブレード、例えばＭＢ３およびＭＢ４が露光中にほぼ静止していることも可能である。図５で示した実施形態では、案内機構が、ばねブレードＳＢを介してリソグラフィ装置の残りの部分に装着されて、静止部品ＳＴに対して１つまたは複数のマスクブレードＭＢ１〜ＭＢ４が動作することによって引き起こされる機械的振動の伝達を減少させる。機械的振動のフィルタリングは、当業者には知られているように、ばねブレードの剛性、ほぼ静止した部品ＳＴの質量などを適切に選択することによって最適化することができる。

図６は図２から図４に関して上述したような静止部品ＳＴから可動部品ＭＯへの気体の非接触移送の代替実施形態を、非常に概略的に示す。代替実施形態では、静止部品ＳＴは可動部品ＭＯの窪みを通って延在する案内要素ＧＥを含み、案内要素は可動部品を貫通してその運動方向に延在する。案内要素は、案内要素ＧＥ内に点線で示した気体供給部を含み、供給部は案内要素の気体供給出口ＧＳＯで終了する。気体は、可動部品の窪みＲＥの気体供給出口ＧＳＯを介して流れる。可動部品ＭＯはさらに、気体供給入口（ＧＳＩで概略的に図示）および管路ＣＯを含み、気体を可動部品の１つまたは複数のノズルＮへと案内する。図６による構成の利点は、漏れが窪みＲＥで収集されるので、静止部品の気体供給出口ＧＳＯと可動部品ＭＯの気体供給入口ＧＳＩとの間のギャップの漏れが少なく、一方で窪みＲＥと案内要素ＧＥとの間の開口が小さく、例えば可動部品ＭＯの端部付近、したがって図６で示すような窪みＲＥの最も狭い部分では２０マイクロメートルであることである。可動部品ＭＯの運動範囲は、図６の図面の面で左または右への方向の窪みＲＥの長さによって与えられ、可動要素が左または右へと移動しすぎた場合、静止部品ＳＴの一部を形成する気体供給出口ＧＳＯは、もう窪みには入らず、したがって気体を可動部品ＭＯに移送することができない。

さらなる代替実施形態について以下で説明する。ノズルＮ_xによって形成された気体軸受けへの予荷重として図３の気体供給出力部ＧＳＯと入口溝ＩＴの間の気体漏れを使用する代わりに、代替構成について以下で説明する。このような代替実施形態では、釣り合い錘部品がその両側に、したがって図３による図の上で左側だけではなく、その右側にもノズルＮ_xを含み、したがって図３によると入口溝ＩＴが存在する表面にも含む。この代替実施形態では、入口溝ＩＴ、さらに気体供給出力部ＧＳＯは、これで例えばギャップの底部（つまり釣り合い錘部品の底側）に配置される。可動部品ＭＯの釣り合い錘部品の両側でノズルＮ_xから流出する気体は、相互に予荷重を提供し、したがってｘ方向で可動部品ＭＯの剛性を増大させる一方、気体供給出口ＧＳＯと入口溝ＩＴの間の気体漏れによって生成される上方向の力は、可動部品の適切な位置にある磁石によって相殺することができ、磁石は静止部品の強磁性材料（鉄など）と協働して、ギャップ内の気体漏れによって引き起こされる力を打ち消す力を生成する。

図７で示すように、図３に関して説明したような磁石ＭＡのアレイは、参照により本明細書に組み込まれる米国特許第６７１７２９６号に記載されたようなハルバッハ構成の磁石のアレイを含む。ハルバッハ磁石システムは主磁石ＭＡＰのアレイ、および主磁石のアレイの極性に対してほぼ直角の極性を有する副磁石ＭＡＳを含む。図７では、磁石の極性方向を磁石に引いた矢印で示す。この好ましい実施形態では、副磁石の高さｈ_s（図７では両矢印で記号により示す）は主磁石の高さｈ_p（これも図７では両矢印で記号により示す）より小さく、特に副磁石は、その中心が主磁石の中心よりコイルに近く配置されるように位置決めされる。この位置決めによって、以下の効果が達成される。つまり、副磁石は、コイルの位置で磁界を増大させ、可動部品のノズルＮ_zに面する静止部品の位置、したがってノズルＮ_zで形成される気体軸受けの側で磁界を減少させる傾向がある。本文書の他の場所で説明するように、磁界は、気体軸受けの予荷重を形成するために適用され、したがって可動部品と静止部品の間に適切な有効磁気引力を獲得できるためには、磁界の特定の空間分布が必要である。主磁石に対する副磁石の高さおよび位置を選択することによって、磁界のこのような空間的分布、および特に磁石アレイの上下における図７の図面の面の磁界強度間の関係が決定される。したがって、主磁石に対する副磁石の適切な位置および高さを選択することにより、例えば気体軸受けの予荷重を非常に低くするために副磁石の存在によって磁石の下側における磁界が低下しすぎないことを保証し、それと同時に副磁石の存在によって、コイルの位置で磁界を増加させ、したがってモータの性能を向上させるために、ハルバッハ効果を調整することができる。

可能な限り効果的で高い磁界を獲得するために、主および副磁石ＭＡＰ、ＭＡＳのアレイは、その両端が主磁石ＭＡＰで終了し、アレイの端部付近で高い磁界を獲得する。その結果、アレイの外側の磁石に近いコイルの位置で、磁界が変化することになる。このように磁界が変化する結果、モータの動作時に、したがってコイルを電気的に駆動すると、可動部品にトルクが生じる。磁石およびコイルの空間的周期性のせいで、トルクはリップルを示し、静止部品に対する可動部品の位置に応じてトルクの周期的変動を生じる。このトルクは、静止部品に対する可動部品の特定の位置で、可動部品の縁部が（図３による図面上で）下方向に押されるように、可動部品を回転させる可能性がある。気体軸受けの剛性は、このトルクによる可動部品の望ましくない回転を防止するほど十分には高くない。端部付近の磁界の変化を少なくとも部分的に防止するために、アレイの端部にある主磁石ＭＡＰ、したがって外側の主磁石は、それぞれ他の主磁石の極性方向Ｄ_cとは異なる極性方向Ｄ_eを含む。外側にある主磁石の極性方向と、磁石アレイの中心付近にある主磁石の極性方向との違いは、実施形態の１つの実施形態では、以下で説明する最大の有利な効果を獲得するために、−３０°と＋３０°の間の角度である。アレイの端部にある主磁石の１つの極性方向Ｄ_eは、磁石システムの中心軸線に向かって配向され、アレイの反対端にある他の主磁石の極性方向は、磁石システムの中心軸線から離れる方向に配向される。残りの主磁石の極性方向Ｄ_cは、このような中心軸線にほぼ平行に配向される。外側にある主磁石の変更極性方向の効果は、主および副磁石によって生成された磁界の縁部付近では、コイルの位置における磁界が、磁界（したがって残りの主および副磁石による磁界）の中心またはその付近にあるコイルの位置における磁界とほぼ同じ方向を維持することである。その結果、動作時に可動部品の縁部を気体軸受けに押し込むことになるトルクが都合よく減少する。つまり、第一に、位置に依存するトルクのリップルが減少する。第二に、平均トルク（リップルの周期性にわたる平均トルク）が、可動部品の縁部を気体軸受けに押し込むより、気体軸受けから可動部品の縁部を持ち上げる傾向（この方が問題が少ないと見なされる）を有するように、変化する。したがって、モータの駆動時に、より安定し、より精密な可動部品の動作、およびより好ましいその動的挙動を獲得することができる。対称で非常に釣り合った駆動を達成するために、アレイの対向する端部にある主磁石の極性方向は、アレイの中心付近にある主磁石の極性方向に対して対称でよい。

本発明の実施形態による案内機構の利点は、可動部品の質量を低く維持できることである。ノズルが可動部品に配置されているので、可動部品は、静止部品に対する可動部品の運動方向で、静止部品より非常に小さく、可動部品の運動範囲のあらゆる位置で、可動部品のノズルは静止部品の一部に面し、したがってノズルが可動部品ではなく静止部品に含まれている場合に生じるような気体の逃げ、およびそれに伴う気体圧力の損失を防止する。したがって、大きい運動範囲を可動部品の低い質量と組み合わせることができ、したがって高速で大きい距離にわたって可動部品を変位することができる。

本明細書で説明するような案内機構のさらなる利点は、例えば気体を可動部品へと案内する可撓性管路または他の可撓性または変形可能な手段を省略することができ、したがって案内機構に長い運転寿命を提供し、このような管路に含まれる物質による汚染を回避し、管路が存在することによるクロストークを回避し、案内機構の占める容積を減少させることができる。

溝が存在するせいで、気体を再循環かつ／または排出し、大量の気体を案内機構内に流すことができる。このような大きい流れが必要なのは、案内機構の寸法が大きくなる可能性があり、それが案内する可動構造（マスクブレードなど）がさらに大きくなるせいである。溝のさらなる利点は、気体を排出かつ／または再循環することによって、リソグラフィ装置に含まれるレンズまたは他の敏感な部品に気体および／または気体に含まれる物質が付着することが防止されることである。というのは、気体とレンズまたは他の部品との接触を防止できるからである。また、気体が有毒および／または潜在的に危険な物質を含む場合、排出は人間の安全性を改善することができる。

本明細書で説明するような案内機構のさらなる利点は、可動部品と静止部品（の強磁性部品）の磁石間に作用する予荷重の力が、ノズルＮ_x、Ｎ_zによって形成された気体軸受けによって動作時に発生する力により、静止部品の変形を打ち消すことである。静止部品は、この例示的実施形態では、可動部品を部分的に囲む、つまり「巻き付けられる」か「折り畳まれる」構造を含む。図３で最もよく見られるように、静止部品は、図３の図面の上で開放した構造を形成する。つまり、図面上で右側に開口を示す。動作時にノズルＮ_x、Ｎ_zによって形成される気体軸受けは、気体軸受けに面する静止部品の面に力を提供する。静止部品は開放構造を形成するので、これらの力は静止部品をさらに「開く」、つまり図３の図面上で静止部品の右側にある開口を増大させるように、静止部品を変形する傾向を有する。磁石による磁力も、静止部品にかかる力になる。磁石は静止部品（さらに厳密には、本文書の他の箇所で説明するように、静止部品の強磁性部分）を引きつけ、したがって磁力は静止部品を「閉じる」、つまり図３の図面の面で静止部品の右側にある開口を減少させるように、静止部品を変形する傾向を有する。磁力は、動作時に気体軸受けの力と非常に釣り合い、したがって静止部品の変形を防止するか、少なくとも軽減することができる。

本発明の様々な態様、形体および実施形態を組み合わせて、本明細書で説明するような案内機構にすることができる。しかし、任意の態様、形体および／または実施形態を別個に実現する、つまり本文書で説明する様々な態様、形体および実施形態を個々に、または組み合わせて実現することも可能である。一例として、本文書で説明したハルバッハ磁石アレイの代わりに、従来の磁石アレイを適用してもよい。さらなる例として、溝に関連する排出システムを省略してもよい。

可動部品は任意の形状を有してよく、ギャップに面し、表面ノズルが含まれる１つまたは複数の表面を含んでよい。これらの表面は、相互に任意の角度でよい。一例として、可動部品が９０°右に回転しているＬ字の形状を含む図３で示した形状の代わりに、可動部品はＵ、ｈ、Ｈ、ｍまたはＭに類似した形状、または他のこのような形態も含んでよく、このような形態は可動構造内で任意の方向にしてよい（したがって例えば９０°左または右に回転したり、１８０°回転したりする）。これらの例では、ほぼ静止した部品は、可動部品の形状と一致する形状を含み、したがって静止部品は、静止部品と可動部品の間にギャップを残しながら、静止部品で可動部品を案内できるようにするために、可動部品の形状にほぼ相補的な開口を有する形状を含む。さらに、これらの例では、このような可動部品の任意に表面が、１つまたは複数の気体軸受けを形成するために、上述したようなノズルを含む。

ノズルに供給される気体は、窒素、空気、洗浄および／または乾燥空気、または任意の他の気体など、任意の気体を含んでよい。気体は、１つの気体または気体の混合物を含んでよい。

排気部によって排出される気体は、再循環することができ、したがってこれも（例えば適切なポンプによって）圧力を加えて排気するか、リソグラフィ装置の別の部品に配置し、例えばリソグラフィ装置の別の部品に対して供給気体または洗浄気体として使用することができる。

可動構造は、任意のサイズ、寸法の任意の構造を、任意の用途のために含むことができる。可動構造は、必ずしもそれ自体が動作可能でなく、案内機構によって動作可能にしてよい。本明細書で説明するような案内機構は、構造の（好ましくは直線）運動を実現すべき任意の用途で使用することができる。案内機構は、可動構造の任意の運動範囲を達成するために適用することができる。

ほぼ静止したという用語は、可動部品に対してほぼ静止したと理解されたい。ほぼ静止した部品をリソグラフィ装置の残りの部分に接続するために、ばねブレードを適用する場合は、可動部品が動作すると、ほぼ静止した部品も動作するが、例えば可動部品の動作のために、または他の妨害または振動のために生じた静止部品の運動が減衰すると、休止位置または初期位置へと復帰する。さらに、ほぼ静止した部品は静止状態である必要がなく、動作可能であるか、動作時に任意の方向に動作してもよい。静止部品は、可動部品を案内する案内部品と呼んでもよい。一例として、案内機構およびそれによって案内される可動部品は、本明細書で説明するタイプの別の案内機構のような任意の他のアクチュエータによって、全体として動作可能であってよい。

ノズルは、例えば１つの出口開口、多孔性気体出口などを有する任意のタイプのガスノズルを含んでよい。

注入という用語は、ノズルによって任意の速度、任意の圧力、方向、さらに全方向または半球形で気体を移送することを含む。気体の注入は、可動部品の一定の安定した軸受けを提供するために連続的でよいが、パルス状、破裂状など、他の任意のタイプの注入も適用可能である。

可動部品の気体供給入口は任意の形状を有してよく、上記で概略したような方向を有する溝を有することが好ましい。

可動部品のボアまたは穴、さらに任意の他のタイプの知られている気体管路など、可動部品の任意のタイプの供給管路が適用可能であることが理解される。

本文ではＩＣの製造におけるリソグラフィ装置の使用に特に言及しているが、本明細書で説明するリソグラフィ装置が他の多くの用途においても使用可能であることは明確に理解されるべきである。例えば、これは、集積光学装置、磁気ドメインメモリ用ガイダンスおよび検出パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、薄膜磁気ヘッド等の製造に使用され得る。こうした代替的な用途の状況においては、本文にて使用した「ウェハ」または「ダイ」といった用語は、それぞれ「基板」または「目標部分」といった、より一般的な用語に置き換えて使用され得ることが当業者には理解される。本明細書で言及する基板は、露光前または露光後に、例えばトラック（通常はレジストの層を基板に塗布し、露光したレジストを現像するツール）または計測または検査ツールで処理することができる。適宜、本明細書の開示は、以上およびその他の基板処理ツールに適用することができる。さらに、基板は、例えば多層ＩＣを生成するために、複数回処理することができ、したがって本明細書で使用する基板という用語は、既に複数の処理済み層を含む基板も指す。

以上では光学リソグラフィの状況における本発明の実施形態の使用に特に言及しているが、本発明は、刻印リソグラフィなどの他の用途においても使用可能であり、状況が許せば、光学リソグラフィに制限されないことが分かる。刻印リソグラフィでは、パターニングデバイスの構造が、基板上に生成されるパターンを画定する。パターニングデバイスの構造を、基板に供給されたレジストの層に押しつけ、その後に電磁放射線、熱、圧力またはその組み合わせを適用して、レジストを硬化する。パターニングデバイスをレジストから離し、レジストを硬化した後にパターンを残す。

本明細書では、「放射線」および「ビーム」という用語は、イオンビームあるいは電子ビームといったような粒子ビームのみならず、紫外線（ＵＶ）放射線（例えば、３６５ｎｍ、２４８ｎｍ、１９３ｎｍ、１５７ｎｍ、あるいは１２６ｎｍの波長を有する）および超紫外線（ＥＵＶ）放射線（例えば、５ｎｍ〜２０ｎｍの範囲の波長を有する）を含むあらゆるタイプの電磁放射線を網羅するものとして使用される。

「レンズ」という用語は、状況が許せば、屈折、反射、磁気、電磁気および静電気光学構成要素を含む様々なタイプの光学構成要素のいずれか、またはその組み合わせを指す。

以上、本発明の特定の実施形態を説明したが、説明とは異なる方法でも本発明を実践できることが理解される。例えば、本発明は、上記で開示したような方法を述べる機械読み取り式命令の１つまたは複数のシーケンスを含むコンピュータプログラム、または自身内にこのようなコンピュータプログラムを有するデータ記憶媒体（例えば半導体メモリ、磁気または光ディスク）の形態をとることができる。

上記の説明は例示的であり、制限的ではない。したがって、請求の範囲から逸脱することなく、記載されたような本発明を変更できることが当業者には明白である。

本発明の実施形態によるリソグラフィ装置を示したものである。 本発明の実施形態によるリソグラフィ装置の案内機構の斜視図を示したものである。 図２による案内機構の断面図を示したものである。 図２による案内機構の可動部品の斜視図を示したものである。 図２による案内機構の可動部品の斜視図を示したものである。 本発明によるレチクルマスキングデバイスの斜視図を示したものである。 本発明の実施形態による別の案内機構の細部を概略的に示したものである。 本発明の実施形態による案内機構に含まれる磁石アレイを示したものである。

Claims (23)

1. リソグラフィ装置で使用する案内機構であって、前記案内機構はマスクブレードを案内するように構成され、
   （ａ）前記マスクブレードに接続された可動部品と、
   （ｂ）前記可動部品を案内するように構成されたほぼ静止した部品とを有し、
   前記可動部品が、
   （ｉ）前記可動部品と前記静止部品の間のギャップに気体を注入するように構成されたノズルと、
   （ｉｉ）気体供給入口と、
   （ｉｉｉ）前記気体供給入口から前記ノズルへと気体を案内するように構成された気体供給管路とを有し、
   前記静止部品が、前記ギャップの一部を介して前記可動部品に配置構成された気体供給入口へと気体を供給するように構成された気体供給出口を有し、
   前記可動部品の前記気体供給入口および前記ノズルが、それぞれ前記可動部品における対向する側の表面に配置され、
   前記可動部品がさらに、磁石が配置構成されたモータ駆動部分を間にして前記マスクブレードに面している側と前記マスクブレードに面していない側を持つ、案内機構。
2. 前記気体供給入口が、前記ギャップに面する前記可動部品の表面に配置構成された入口溝を有し、該入口溝が、前記静止部品に対する前記可動部品の運動方向にほぼ平行に配向される、請求項１に記載の案内機構。
3. 前記可動部品が、第一ノズルを有する第一表面、および第二ノズルを有する第二表面を有し、該第一および第二表面が相互にほぼ直角であり、それぞれ前記ギャップの少なくとも一部に面する、請求項１又は２に記載の案内機構。
4. 前記可動部品がさらに、前記マスクブレードに面していない側に、前記マスクブレードと少なくとも部分的に釣り合う釣り合い錘部品を有する、請求項３に記載の案内機構。
5. 前記可動部品の前記モータ駆動部分が、前記マスクブレードの表面にほぼ平行な前記第一表面を有し、前記可動部品の前記釣り合い錘部品が前記第二表面を有する、請求項４に記載の案内機構。
6. 前記可動部品の前記モータ駆動部分の前記第一部品が磁石を有し、前記静止部品の前記第二部品がコイルを有する、請求項５に記載の案内機構。
7. 前記静止部品が、前記可動部品の前記モータ駆動部分の前記第一表面に面する前記静止部品の側に配置構成された強磁性材料を有し、該強磁性材料が、前記磁石と協働して、前記第一ノズルによって形成された気体軸受けにかかる予荷重を生成するように構成される、請求項６に記載の案内機構。
8. 前記予荷重の最大予荷重力が、前記第一ノズルによって形成された前記気体軸受けによって生成された最大力と一致するように、前記磁石および前記コイルが前記第一ノズルに対して位置決めされる、請求項７に記載の案内機構。
9. 前記静止部品が、前記可動部品の運動方向に沿って前記可動部品を部分的に囲み、前記可動部品に配置構成され、前記静止部品の強磁性部品に作用する前記磁石によって生じた力が、前記第一ノズルによって形成された気体軸受けによって生成された気体軸受けの力を部分的に補償する、請求項６に記載の案内機構。
10. 前記可動部品が、その表面に配置構成された排出溝を有し、該排出溝が、前記可動部品に配置構成された前記ノズルを封入し、前記ノズルによって前記ギャップに注入された気体を排出し、前記静止部品が、前記排出溝から前記気体を放出する排気部を含む、請求項１乃至９のいずれかに記載の案内機構。
11. 前記静止部品の前記排気部が、前記静止部品に配置構成された排気管路を有し、前記可動部品の前記排出溝が、前記排気管路に面する前記可動部品の表面に設けられ、前記排出溝が、前記静止部品に対する前記可動部品の運動方向にほぼ平行に配向される、請求項１０に記載の案内機構。
12. 前記可動部品が、前記可動部品と前記静止部品に配置構成された強磁性部品との間に引力を生成するように構成された磁石を有し、引力が、前記静止部品の前記気体供給出口と前記可動部品の前記気体供給入口との間の気体漏れによる力を少なくとも部分的に補償する、請求項１乃至３のいずれかに記載の案内機構。
13. 前記静止部品が案内要素を有し、該案内要素が、前記可動部品の窪みを通して前記可動部品の運動方向に延在し、前記気体供給出口が前記案内要素に配置構成され、前記気体供給入口が前記窪みに配置構成される、請求項１乃至１２のいずれかに記載の案内機構。
14. 前記静止部品が、ばねブレードを介して前記リソグラフィ装置に装着される、請求項１乃至１３のいずれかに記載の案内機構。
15. 前記可動部品が、ハルバッハ構成に配置構成された磁石システムを有し、該磁石システムが主磁石システムおよび副磁石システムを有し、前記磁石システムの端部にある前記主磁石システムの主磁石の極性方向が、前記磁石システムの中心付近にある主磁石の極性方向とは異なる、請求項１乃至３のいずれかに記載の案内機構。
16. 前記磁石システムの中心付近にある前記主磁石の磁性方向は前記磁石システムの中心軸線にほぼ平行に配向され、前記磁石システムの端部にある１つの前記主磁石の極性方向は前記磁石システムの中心軸線に向かって配向され、前記磁石システムの反対端にある他の前記主磁石の極性方向は前記磁石システムの中心軸線から離れる方向に配向される、請求項１５に記載の案内機構。
17. 前記磁石システムの対向する端部にある前記主磁石の極性方向が、前記磁石システムの中心付近にある前記主磁石の極性方向に対して対称である、請求項１６に記載の案内機構。
18. 前記マスクブレードが、パターニングデバイスの縁部を遮蔽する、請求項１乃至１７のいずれかに記載の案内機構。
19. リソグラフィ装置で使用するレチクルマスキングデバイスであって、
    （ａ）マスクブレードと、
    （ｂ）前記マスクブレードを案内するように構成された案内機構とを有し、該案内機構が、
    （ｉ）前記マスクブレードに接続された可動部品と、
    （ｉｉ）前記可動部品を案内する静止部品とを有し、
    前記可動部品が、
    （１）前記可動部品と前記静止部品の間のギャップに気体を注入するように構成された気体ノズルと、
    （２）気体供給入口と、
    （３）前記気体供給入口から前記ノズルへと気体を案内するように構成された気体供給管路とを有し、
    前記静止部品が、前記ギャップの一部を介して前記可動部品に配置構成された前記気体供給入口へと気体を供給するように構成された気体供給出口を有し、
    前記可動部品の前記気体供給入口および前記ノズルが、それぞれ前記可動部品における対向する側の表面に配置され、
    前記可動部品がさらに、磁石が配置構成されたモータ駆動部分を間にして前記マスクブレードに面している側と前記マスクブレードに面していない側を持つ、レチクルマスキングデバイス。
20. ほぼ静止した部品に対して可動部品を担持するように構成された気体軸受けであって、
    前記可動部品内に配置構成され、前記可動部品と前記静止部品の間のギャップに気体を注入するように構成された気体ノズルと、
    前記可動部品内に配置構成された気体供給入口と、
    前記静止部品内に配置構成され、前記ギャップの一部を介して前記可動部品内に配置構成された前記気体供給入口へと気体を供給するように構成された気体供給出口と、
    前記可動部品内に配置構成され、前記気体供給入口から前記ノズルへと気体を案内するように構成された気体供給管路とを有し、
    前記可動部品の前記気体供給入口および前記ノズルが、それぞれ前記可動部品における対向する側の表面に配置され、
    前記可動部品は、マスクブレードに接続されており、前記可動部品がさらに、磁石が配置構成されたモータ駆動部分を間にして前記マスクブレードに面している側と前記マスクブレードに面していない側を持つ、気体軸受け。
21. 請求項２０に記載の気体軸受けを有する装置。
22. リソグラフィ装置であって、
    放射線のビームを調整するように構成された照明システムと、
    パターニングデバイスを支持するように構成されたパターニングデバイス支持体とを有し、パターニングデバイスが、パターン形成された放射線のビームを形成するために、放射円のビームにパターンを形成するように構成され、さらに、
    基板を保持するように構成された基板支持体と、
    パターン形成した放射線のビームを基板の目標部分に投影するように構成された投影システムと、
    リソグラフィ装置内でマスクブレードを案内するように構成された案内機構とを有し、該案内機構が、
    （ａ）前記マスクブレードに接続された可動部品と、
    （ｂ）前記可動部品を案内するように構成されたほぼ静止した部品とを有し、
    前記可動部品が、
    （ｉ）前記可動部品と前記静止部品の間のギャップに気体を注入するように構成されたノズルと、
    （ｉｉ）気体供給入口と、
    （ｉｉｉ）前記気体供給入口から前記ノズルへと気体を案内するように構成された気体供給管路とを有し、
    前記静止部品が、前記ギャップの一部を介して前記可動部品に配置構成された前記気体供給入口へと気体を供給するように構成された気体供給出口を有し、
    前記可動部品の前記気体供給入口および前記ノズルが、それぞれ前記可動部品における対向する側の表面に配置され、
    前記可動部品がさらに、磁石が配置構成されたモータ駆動部分を間にして前記マスクブレードに面している側と前記マスクブレードに面していない側を持つ、リソグラフィ装置。
23. 前記マスクブレードが、パターニングデバイスの縁部を遮蔽するように構成されている、請求項２２に記載のリソグラフィ装置。

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