JP2005087366A - マルチスライスx線ct装置用x線検出器およびマルチスライスx線ct装置 - Google Patents
マルチスライスx線ct装置用x線検出器およびマルチスライスx線ct装置 Download PDFInfo
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- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims abstract description 17
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 11
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 claims description 4
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 abstract description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 47
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 36
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 34
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 22
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 22
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 22
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 15
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 15
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 14
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 14
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000012463 white pigment Substances 0.000 description 13
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 12
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 description 11
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 9
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 8
- 239000010408 film Substances 0.000 description 8
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 8
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 7
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 7
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 7
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 6
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 5
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 5
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 5
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 5
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 4
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 4
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 4
- MWSKJDNQKGCKPA-UHFFFAOYSA-N 6-methyl-3a,4,5,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1CC(C)=CC2C(=O)OC(=O)C12 MWSKJDNQKGCKPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 3
- -1 alicyclic epoxides Chemical class 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 3
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- QOHMWDJIBGVPIF-UHFFFAOYSA-N n',n'-diethylpropane-1,3-diamine Chemical compound CCN(CC)CCCN QOHMWDJIBGVPIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 3
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 229920006337 unsaturated polyester resin Polymers 0.000 description 3
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 2
- 238000003491 array Methods 0.000 description 2
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 2
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 2
- 125000005313 fatty acid group Chemical group 0.000 description 2
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 2
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001579 optical reflectometry Methods 0.000 description 2
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RSJKGSCJYJTIGS-UHFFFAOYSA-N undecane Chemical compound CCCCCCCCCCC RSJKGSCJYJTIGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 2
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MUTGBJKUEZFXGO-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,5,6,7,7a-hexahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1CCC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 MUTGBJKUEZFXGO-OLQVQODUSA-N 0.000 description 1
- STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-dinitroanilino)-4-methylpentanoic acid Chemical group CC(C)CC(C(O)=O)NC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YSUQLAYJZDEMOT-UHFFFAOYSA-N 2-(butoxymethyl)oxirane Chemical group CCCCOCC1CO1 YSUQLAYJZDEMOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPILSDOMLLYBQF-UHFFFAOYSA-N 2-[1-(oxiran-2-ylmethoxy)butoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COC(CCC)OCC1CO1 HPILSDOMLLYBQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000022 2-aminoethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])N([H])[H] 0.000 description 1
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNGYZEMWVAWWOB-VAWYXSNFSA-N 5-[[4-anilino-6-[bis(2-hydroxyethyl)amino]-1,3,5-triazin-2-yl]amino]-2-[(e)-2-[4-[[4-anilino-6-[bis(2-hydroxyethyl)amino]-1,3,5-triazin-2-yl]amino]-2-sulfophenyl]ethenyl]benzenesulfonic acid Chemical compound N=1C(NC=2C=C(C(\C=C\C=3C(=CC(NC=4N=C(N=C(NC=5C=CC=CC=5)N=4)N(CCO)CCO)=CC=3)S(O)(=O)=O)=CC=2)S(O)(=O)=O)=NC(N(CCO)CCO)=NC=1NC1=CC=CC=C1 CNGYZEMWVAWWOB-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 1
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical group ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001030 Iron–nickel alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000861 Mg alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- AWMVMTVKBNGEAK-UHFFFAOYSA-N Styrene oxide Chemical group C1OC1C1=CC=CC=C1 AWMVMTVKBNGEAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 1
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 1
- ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N beryllium atom Chemical compound [Be] ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000005282 brightening Methods 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229910000365 copper sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCOCC1CO1 OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GPLRAVKSCUXZTP-UHFFFAOYSA-N diglycerol Chemical compound OCC(O)COCC(O)CO GPLRAVKSCUXZTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical class C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013007 heat curing Methods 0.000 description 1
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 229910000833 kovar Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical class [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- SYSQUGFVNFXIIT-UHFFFAOYSA-N n-[4-(1,3-benzoxazol-2-yl)phenyl]-4-nitrobenzenesulfonamide Chemical class C1=CC([N+](=O)[O-])=CC=C1S(=O)(=O)NC1=CC=C(C=2OC3=CC=CC=C3N=2)C=C1 SYSQUGFVNFXIIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 235000011837 pasties Nutrition 0.000 description 1
- 229910000889 permalloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 1
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N propylamine Chemical group CCCN WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOCC1CO1 JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
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- Measurement Of Radiation (AREA)
- Apparatus For Radiation Diagnosis (AREA)
- Light Receiving Elements (AREA)
Abstract
【解決手段】 チャンネル方向とスライス方向にマトリックス状に配列された複数のシンチレータ素子(1)から成るマルチスライスX線CT装置用X線検出器において、前記マトリックス状に配列された複数のシンチレータ各素子1つずつを完全に囲うことにより、各シンチレータ間に発生する光学的クロストークを遮断する遮光手段(2b,2b')を備えたことを特徴とするマルチスライスX線CT装置用X線検出器。
【選択図】 図3
Description
図1に、本発明に係るマルチスライスX線CT装置の全体構成を示す。マルチスライスX線CT装置は、スキャナ45、操作卓46、画像処理装置(画像処理ユニットともいう。)47の3つのユニットから構成されている。スキャナ45には中心部にスキャナ回転板35が回転自在に支持されている。スキャナ回転板35には、中央に設けられた開口部41を挟んで、X線管36とX線検出器38が対向して搭載されている。操作卓46にはキーボード54、スキャン条件設定回路55、画像表示装置53等が含まれ、スキャナ45の制御や被検体(図示せず)のスライス画像の表示等を行う。操作卓46のキーボード54から入力されたスキャナ45のスキャン条件は、スキャン条件設定回路55に入力される。本発明の実施の形態では、スキャン条件の中のスライス厚さに関する情報に基づいて、スライス構成信号(スライス厚さ×スライス数を示す情報)65がスキャナ45に送られる。
以下、(工程ア)から(工程サ)まで順に説明する。
(工程ア)
シンチレータの平板加工をする。この平板加工において、板の縦,横の寸法は加工機の仕様、加工能力によって決定するもので特に重要ではないが、板厚は重要で、高い精度が要求される。即ち、板厚はシンチレータアレイのチャンネル方向のピッチを決める上での重要な寸法であり、図2に示した2次元シリコンフォトダイオードアレイ3のチャンネル方向の受光域の寸法およびピッチと整合性を採るために、高い寸法精度が要求される。
白色隔離層2aを形成する。(工程ア)で得られた平板シンチレータ1の表裏両面に白色隔離壁2aを形成する。白色隔離壁2aを形成する方法としては、樹脂に白色顔料を充填したペースト状の白色隔離壁材をメタルマスクあるいはシルクメッシュマスクを用いてスクリーン印刷する方法が可能である。白色隔離壁2a層の厚さは検出器の空間利用効率を決める重要なファクターである。シンチレータ1の大きさをなるべく大きくして空間利用効率の向上を図るためには、層の厚さは極力薄くすることが望まれるが、層を薄くしすぎると層の光の反射率が低下して光の利用効率が低下し、その結果、検出器のS/Nが低下することになる。そのため、この白色隔離壁2aの素材には光反射率が高く、より薄膜化が可能な素材が望まれる。
白色隔離壁2aの表面(片面のみ)に遮光用の薄膜層を形成する。上述の白色隔離壁2aにおいて、遮光が十分でなかった場合、若干の透過光が発生してしまう。この透過光は隣接する検出素子間のクロストークとなり、画質劣化の要因となる。したがって、透過光は何らかの方法で除去して隣接する検出素子に進入するのを阻止しなければならない。そのため、白色隔離壁2a表面に遮光用の薄膜層2bを形成する。
2次元のX線検出器ブロックのチャンネル方向にシンチレータ素子列を形成する。白色隔離壁層2aおよび遮光用の薄膜層2bが形成されたシンチレータ1を所定のピッチで機械的に高精度で固定するために積層接着する。シンチレータ1の積層段数は製作する2次元のX線検出器ブロックのチャンネル方向のチャンネル数に一致する。ここでは6チャンネルであるため、積層段数は6段となる。
2次元のX線検出器ブロックのスライス方向のシンチレータ素子列を形成するためにスライス加工する。(工程エ)で積層されたシンチレータブロックを2次元の検出器ブロックのスライス方向の所定のシンチレータ幅に合わせて切断する。切断手段として、マルチワイヤーソー、マルチバンドソー、内周スライサー、ダイシングソー等を使用する。より高い寸法精度を求める場合には、スライス加工後に研磨工程を行い、精度向上を図れば良い。
2次元のX線検出器ブロックのスライス方向のシンチレータ素子列間の表と裏に、白色隔離壁2a’を形成する。白色隔離壁2a’の形成方法としては、上述の(工程イ)と同様に、樹脂に白色顔料を充填したペースト状の白色隔離壁材をメタルマスクあるいはシルクメッシュマスクを用いてスクリーン印刷する方法が適用できる。
(工程ウ)と同様に白色隔離壁2a’の表面に遮光用の薄膜層2b’を形成する。本工程では、図に示す通り、上述のカ)〜キ)工程で形成した白色隔離壁層2a’表面と、上述のイ)〜ウ)工程で形成したチャンネル方向の隔離壁等の端の両方に同時に遮光用の薄膜層2b’を形成する。遮光用の薄膜層2b’の種類、形成方法、膜の厚さは、上述の(工程ウ)と全く同様にすれば良い。
上述の(工程ク)までの工程を完了したチャンネル方向のシンチレータ素子列(6チャンネル)を上述の(工程エ)と同様に、積層接着する。本工程では、チャンネル方向のシンチレータ素子列ブロックをスライス方向に4段積層接着して6チャンネル×4スライスの二次元マトリックス状のシンチレータ素子列が形成される。また、本工程で用いる接着剤および積層接着の方法は上述の(工程エ)と同様である。
上述の(工程ケ)までの工程を完了した、6チャンネル×4スライスの二次元マトリックス状のシンチレータ素子列ブロックを上述の(工程オ)と同様にスライス切断する。スライス切断する寸法(厚さ)は使用するシンチレータのX線阻止能即ち、X線吸収係数と光の透過率により決定される値で、検出器(シンチレータ)に入射するX線を十分に捕らえられ(理想的には100%)、更にX線より変換される光を、受光素子であるシリコンフォトダイオードの受光面により多く(理想的には100%)受光させることのできる厚さとする。使用するシンチレータの種類によって差異はあるが、およそ1mm〜5mmである。
以上の図3,図4に示す2次元のX線検出器ブロックの構造は、特許文献2記載の従来技術の構造に比べて、以下の点で利点がある。
2a,2a’…白色隔離板
2b,2b’…遮光用の薄膜層
4…接着剤
5…スペーサー
6…上面反射板
Claims (2)
- チャンネル方向とスライス方向にマトリックス状に配列された複数のシンチレータ素子から成るマルチスライスX線CT装置用X線検出器において、前記マトリックス状に配列された複数のシンチレータ各素子1つずつを完全に囲うことにより、各シンチレータ間に発生する光学的クロストークを遮断する遮光手段を備えたことを特徴とするマルチスライスX線CT装置用X線検出器。
- X線源と、チャンネル方向とスライス方向にマトリックス状に複数のシンチレータ素子が配列されたX線検出器とを対向して配置し、前記X線源と前記X線検出器とを同一回転中心の円軌道面上で回転移動させながら、回転中心軸上に配置された被検体のX線源弱データを前記X線検出器で検出し、更に該撮影したX線源弱データを基に画像再構成演算を行うことにより、前記X線源と前記X線検出器の前記被検体のまわりの1回転により前記被検体の複数のスライス画像を得ることができるマルチスライスX線CT装置において、前記X線検出器は請求項1記載のマルチスライスX線CT装置用X線検出器であることを特徴とするマルチスライスX線CT装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003322793A JP2005087366A (ja) | 2003-09-16 | 2003-09-16 | マルチスライスx線ct装置用x線検出器およびマルチスライスx線ct装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003322793A JP2005087366A (ja) | 2003-09-16 | 2003-09-16 | マルチスライスx線ct装置用x線検出器およびマルチスライスx線ct装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005087366A true JP2005087366A (ja) | 2005-04-07 |
JP2005087366A5 JP2005087366A5 (ja) | 2006-11-02 |
Family
ID=34454045
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003322793A Pending JP2005087366A (ja) | 2003-09-16 | 2003-09-16 | マルチスライスx線ct装置用x線検出器およびマルチスライスx線ct装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2005087366A (ja) |
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