JP2005051154A - Laminate and magnetic recording medium - Google Patents

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a laminate which has a high magnetic recording density, the cost of which is reduced, and in which there is no projection substantially in a surface, and a magnetic recording medium using the laminate. <P>SOLUTION: The laminate has an alloy layer including a CuAu type or Cu<SB>3</SB>Au type ferromagnetic regular alloy on a support. The laminate has a foundation layer composed of a polyimide resin between the support and the alloy layer. The magnetic recording medium has a magnetic layer including the CuAu type or Cu<SB>3</SB>Au type ferromagnetic regular alloy on the support. The magnetic recording medium has the foundation layer composed of the polyimide resin between the support and the magnetic layer. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、積層体、および当該積層体を用いた磁気記録媒体に関する。   The present invention relates to a laminate and a magnetic recording medium using the laminate.

磁性層に含有される磁性粒子の粒子サイズを小さくすることは磁気記録密度を高くする上で必要である。例えば、ビデオテープ、コンピューターテープ、ディスク等として広く用いられている磁気記録媒体では、強磁性体の質量が同じ場合、粒子サイズを小さくしていった方がノイズは下がる。ＣｕＡｕ型またはＣｕ₃Ａｕ型強磁性規則合金は規則化時に発生する歪みのために結晶磁気異方性が大きく、粒子サイズを小さくしても強磁性を示すことから磁気記録密度向上に有望な素材である（例えば、特許文献１〜５参照）。 It is necessary to reduce the particle size of the magnetic particles contained in the magnetic layer in order to increase the magnetic recording density. For example, in a magnetic recording medium widely used as a video tape, a computer tape, a disk, etc., if the mass of the ferromagnetic material is the same, the noise is reduced when the particle size is reduced. CuAu type or Cu ₃ Au type ferromagnetic ordered alloy has a large magnetocrystalline anisotropy due to strain generated during ordering, and exhibits a ferromagnetism even when the particle size is reduced. (For example, see Patent Documents 1 to 5).

磁気記録媒体には、磁気記録密度を高くするのと同時に安価であることが求められている。しかし、ＣｕＡｕ型またはＣｕ₃Ａｕ型強磁性規則合金を形成する合金には貴金属が含まれるため、磁性体の価格が高くなりこの要請に反するものである。 Magnetic recording media are required to be inexpensive at the same time as the magnetic recording density is increased. However, since the alloy forming the CuAu type or Cu ₃ Au type ferromagnetic ordered alloy contains noble metal, the price of the magnetic material is increased, which is contrary to this requirement.

そこで、安価で耐熱性を有する有機物支持体を用いる事が考えられる。有機物支持体としては、例えばポリイミドが挙げられる。磁気記録媒体として用いるには表面が平滑である事を要するが、工業的に有機物支持体を製造するためにはハンドリング適性を持たせるために、表面を意図的に粗らす必要がある。例えば、有機物支持体中に無機フィラーを添加する事が行われている。すなわち、工業的に生産可能な耐熱性の有機物支持体を磁気記録媒体に使用するためには、平滑な表面（実質的に突起のない表面）を得ることが課題となる。   Therefore, it is conceivable to use an organic support that is inexpensive and has heat resistance. Examples of the organic support include polyimide. In order to use it as a magnetic recording medium, it is necessary that the surface is smooth. However, in order to produce an organic support in an industrial manner, it is necessary to intentionally roughen the surface in order to provide handling properties. For example, an inorganic filler is added to the organic support. That is, in order to use a heat-resistant organic support that can be produced industrially for a magnetic recording medium, it is a problem to obtain a smooth surface (a surface substantially free from protrusions).

また、耐熱性を有する支持体としてガラス、アルミニウム合金、珪素等の無機物支持体を使用する事を考える場合、安価に製造する事が求められる。これらの支持体においても平滑な表面を得るために表面を研磨している。この研磨工程が製造コストを上昇させる。すなわち、無機物支持体においても安価で平滑な表面を得る事が課題となっている。
特開２００２−１５７７２７号公報 特開２００３−７３７０５号公報 特開２００３−１１３４０１号公報 米国特許第６２６２１２９号明細書 米国特許第６３０２９４０号明細書 In addition, when considering using an inorganic support such as glass, aluminum alloy, or silicon as a support having heat resistance, it is required to manufacture the support at low cost. Also in these supports, the surface is polished in order to obtain a smooth surface. This polishing process increases the manufacturing cost. That is, it is a problem to obtain an inexpensive and smooth surface even in an inorganic support.
JP 2002-157727 A JP 2003-73705 A JP 2003-113401 A US Pat. No. 6,262,129 US Pat. No. 6,302,940

以上から、本発明は上記従来の課題を解決することを目的とする。すなわち、本発明は、磁気記録密度が高く、安価で、かつ、表面に実質的に突起がない積層体、および当該積層体を用いた磁気記録媒体を提供することを目的とする。   In view of the above, an object of the present invention is to solve the above conventional problems. That is, an object of the present invention is to provide a laminate having a high magnetic recording density, being inexpensive, and having substantially no protrusion on the surface, and a magnetic recording medium using the laminate.

上記目的は、下記本発明により達成することができる。
すなわち、本発明は、支持体上に、ＣｕＡｕ型またはＣｕ₃Ａｕ型強磁性規則合金を含有する合金層を有する積層体であって、前記支持体と前記合金層との間に、ポリイミド樹脂からなる下地層を有することを特徴とする積層体である。
また、本発明は、支持体上に、ＣｕＡｕ型またはＣｕ₃Ａｕ型強磁性規則合金を含有する磁性層を有する磁気記録媒体であって、前記支持体と前記磁性層との間に、ポリイミド樹脂からなる下地層を有することを特徴とする磁気記録媒体である。 The above object can be achieved by the present invention described below.
That is, the present invention is a laminated body having an alloy layer containing a CuAu type or Cu ₃ Au type ferromagnetic ordered alloy on a support, and is formed of a polyimide resin between the support and the alloy layer. A laminate having an underlying layer.
The present invention also provides a magnetic recording medium having a magnetic layer containing a CuAu type or Cu ₃ Au type ferromagnetic ordered alloy on a support, wherein the polyimide resin is interposed between the support and the magnetic layer. A magnetic recording medium having an underlayer comprising:

本発明の積層体は、磁気記録密度が高く、安価で、かつ、表面に実質的に突起がない。従って、当該積層体を用いた本発明の磁気記録媒体も、磁気記録密度が高く、安価で、かつ、表面に実質的に突起がない。   The laminate of the present invention has a high magnetic recording density, is inexpensive, and has substantially no protrusion on the surface. Therefore, the magnetic recording medium of the present invention using the laminate also has a high magnetic recording density, is inexpensive, and has substantially no protrusion on the surface.

＜＜積層体＞＞
本発明の積層体は、支持体上にＣｕＡｕ型またはＣｕ₃Ａｕ型強磁性規則合金を含有する合金層を有し、さらに、支持体と合金層との間に、ポリイミド樹脂からなる下地層を有する。 << Laminate >>
The laminate of the present invention has an alloy layer containing a CuAu type or Cu ₃ Au type ferromagnetic ordered alloy on a support, and further has a base layer made of polyimide resin between the support and the alloy layer. Have.

ポリイミド樹脂からなる下地層を合金層と支持体との間に設けることにより、積層体表面に実質的に突起が発生するのを防ぐことができる。ここで、「実質的に突起が発生するのを防ぐことができる」とは、実用上問題となるレベルの突起（例えば、高さ１５ｎｍ以上の突起）が発生するのを防ぐことができることをいう。また、合金層を形成する前に支持体表面を平滑にする工程が省略されるため、生産性に優れ、安価な積層体とすることができる。   By providing a base layer made of a polyimide resin between the alloy layer and the support, it is possible to prevent substantial protrusion from occurring on the surface of the laminate. Here, “substantially prevent the occurrence of protrusions” means that it is possible to prevent the occurrence of protrusions at a level that causes a practical problem (for example, protrusions having a height of 15 nm or more). . In addition, since the step of smoothing the support surface before forming the alloy layer is omitted, it is possible to obtain an inexpensive laminate with excellent productivity.

ポリイミドからなる下地層は、ポリアミック酸を含有する塗布液を支持体上に塗布することで形成することができる。
ポリアミック酸は、テトラカルボン酸二無水物またはその誘導体とジアミンとのほぼ等モル混合物を溶剤に溶解させ、溶液状態で反応させることによって得ることができる。また、市販のものとしては、ＢＡＮＩ−ＮＢ（丸善石油化学製）、ＰＩ−１００（丸善石油化学製）、Ｕ−ワニス（宇部興産（株）製）等が挙げられる。 The base layer made of polyimide can be formed by applying a coating solution containing polyamic acid on a support.
The polyamic acid can be obtained by dissolving an approximately equimolar mixture of tetracarboxylic dianhydride or its derivative and diamine in a solvent and reacting in a solution state. Moreover, as a commercially available thing, BANI-NB (made by Maruzen Petrochemical), PI-100 (made by Maruzen Petrochemical), U-varnish (made by Ube Industries, Ltd.), etc. are mentioned.

ポリアミック酸の溶剤としてはたとえば、シクロペンタノン、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、１−メチル−２−ピロリドンを用いる事ができる。   As the solvent for the polyamic acid, for example, cyclopentanone, dimethylacetamide, dimethylformamide, and 1-methyl-2-pyrrolidone can be used.

塗布液中のポリアミック酸の濃度は、好ましくは０．５質量％〜１０質量％であり、より好ましくは０．５質量％〜５質量％である。０．５質量％〜１０質量％とすることで、塗布液の粘度が良好で塗布適性が最適となり、また、適度な厚さの下地層を形成することが可能となる。   The concentration of the polyamic acid in the coating solution is preferably 0.5% by mass to 10% by mass, and more preferably 0.5% by mass to 5% by mass. By setting the content to 0.5% by mass to 10% by mass, the viscosity of the coating solution is good, the coating suitability is optimized, and an underlayer having an appropriate thickness can be formed.

塗布厚（乾燥状態）としては、支持体表面の突起を遮蔽し平滑な面を得るために１μｍ〜２５μｍであることが好ましく、１μｍ〜１５μｍであることがより好ましく、４μｍ〜１０μｍであることがさらに好ましい。   The coating thickness (dry state) is preferably 1 μm to 25 μm, more preferably 1 μm to 15 μm, and more preferably 4 μm to 10 μm in order to shield the protrusions on the surface of the support and obtain a smooth surface. Further preferred.

突起を遮蔽するためには上記塗布厚は、厚い方が好ましい。しかし、厚すぎると、乾燥時に、溶剤が抜けにくくなる問題がある。すなわち、表面が先に乾燥するため、内部の溶剤が気化して塗布膜から抜ける際に表面の乾燥した膜を破壊して抜けるため、表面に新たな突起を形成してしまう。一方、塗布厚が薄いと乾燥の観点からは有利であるが、もともと支持体上にあった突起を被覆する事が出来ない。以上を鑑みて、塗布厚は、既述のように、１μｍ〜２５μｍとすることが好ましい。   In order to shield the protrusions, the coating thickness is preferably thicker. However, if it is too thick, there is a problem that the solvent is difficult to escape during drying. That is, since the surface is dried first, when the internal solvent is vaporized and escapes from the coating film, the dried film on the surface is destroyed and removed, so that a new protrusion is formed on the surface. On the other hand, if the coating thickness is thin, it is advantageous from the viewpoint of drying, but the projections originally on the support cannot be covered. In view of the above, the coating thickness is preferably 1 μm to 25 μm as described above.

塗布法としては、エアードクターコート、ブレードコート、ロッドコート、押出しコート、エアナイフコート、スクイズコート、含浸コート、リバースロールコート、トランスファーロールコート、グラビヤコート、キスコート、キャストコート、スプレイコート、スピンコート等を利用することができる。これらについては例えば、株式会社総合技術センター発行の「最新コーティング技術」（昭和５８年５月３１日）を参考にできる。   Application methods include air doctor coat, blade coat, rod coat, extrusion coat, air knife coat, squeeze coat, impregnation coat, reverse roll coat, transfer roll coat, gravure coat, kiss coat, cast coat, spray coat, spin coat, etc. Can be used. For example, “Latest coating technology” (May 31, 1983) issued by the General Technology Center Co., Ltd. can be referred to.

塗布した後の乾燥は、真空乾燥、加熱乾燥のいずれでもよい。ポリアミック酸の付加重合を進めるために、３００〜５００℃で乾燥処理を行うことが好ましく、３４０〜４５０℃で行うことがより好ましい。
当該乾燥により付加重合が進行することから、一定の温度以上にする必要があり、また、温度が高すぎると支持体の変形、支持体からの不純物の拡散が問題となるからである。表面が乾燥しきる前に溶剤を飛ばすため、加熱は段階的に行う事が好ましい。 Drying after coating may be either vacuum drying or heat drying. In order to advance the addition polymerization of polyamic acid, it is preferable to perform a drying process at 300-500 degreeC, and it is more preferable to carry out at 340-450 degreeC.
Since addition polymerization proceeds by the drying, it is necessary to set the temperature to a certain temperature or more. If the temperature is too high, deformation of the support and diffusion of impurities from the support become problems. In order to remove the solvent before the surface is completely dried, it is preferable to perform heating stepwise.

例えば、乾燥は、１００℃で３０分保持し、１５０℃で１０分保持し、２００℃で１０分保持し、２５０℃で１０分保持し、３００℃で１０分保持し、乾燥する際の最高温度で１０分保持するといった段階的な乾燥処理を施した後、降温する工程経て行うことが好ましい。
トータルの工程時間（乾燥時間）は短い事が工業的に好ましく、各温度での保持すべき時間は膜厚によって適宜変える事が好ましい。 For example, drying is held at 100 ° C. for 30 minutes, held at 150 ° C. for 10 minutes, held at 200 ° C. for 10 minutes, held at 250 ° C. for 10 minutes, held at 300 ° C. for 10 minutes, and the maximum It is preferable to carry out a step of lowering the temperature after performing a stepwise drying treatment such as holding at temperature for 10 minutes.
It is industrially preferable that the total process time (drying time) is short, and the time to be held at each temperature is preferably appropriately changed depending on the film thickness.

合金層はＣｕＡｕ型またはＣｕ₃Ａｕ型強磁性規則合金を含有している。好ましくは、当該強磁性規則合金で構成されている。従って、かかる合金層を有する積層体は高い保磁力を発揮することができる。以下、合金層の形成方法を説明する。ここで、「ＣｕＡｕ型またはＣｕ₃Ａｕ型強磁性規則合金を含有している」とは、合金層が当該強磁性規則合金で構成されている場合や当該強磁性規則合金からなる粒子等で構成されている場合をもいう。 The alloy layer contains a CuAu type or Cu ₃ Au type ferromagnetic ordered alloy. Preferably, it consists of the ferromagnetic ordered alloy. Therefore, a laminate having such an alloy layer can exhibit a high coercive force. Hereinafter, a method for forming the alloy layer will be described. Here, “contains a CuAu type or Cu ₃ Au type ferromagnetic ordered alloy” means that the alloy layer is composed of the ferromagnetic ordered alloy or is composed of particles made of the ferromagnetic ordered alloy. The case where it is done.

−第１の方法−
合金層を形成するための第１の方法は、強磁性規則合金相を形成し得る合金粒子を液相法もしくは気相法等により作製する合金粒子作製工程、作製した合金粒子に酸化処理を施す酸化処理工程、酸化処理後に非酸化性雰囲気下でアニール処理を施すアニール処理工程、を有する。以下、上記各工程を説明しながら、第１の方法について説明する。 -First method-
The first method for forming the alloy layer is an alloy particle preparation step in which alloy particles capable of forming a ferromagnetic ordered alloy phase are prepared by a liquid phase method or a gas phase method, and the prepared alloy particles are subjected to an oxidation treatment. An oxidation treatment step, and an annealing treatment step of performing an annealing treatment in a non-oxidizing atmosphere after the oxidation treatment. Hereinafter, the first method will be described while explaining the above steps.

＜合金粒子作製工程＞
アニール処理により磁性粒子となる合金粒子は、気相法や液相法により製造することができる。量産性に優れることを考慮すると、液相法が好ましい。液相法としては、従来から知られている種々の方法を適用することができるが、これらに改良を加えた還元法を適用することが好ましく、還元法のなかでも粒径が制御しやすい逆ミセル法が特に好ましい。 <Alloy particle production process>
Alloy particles that become magnetic particles by annealing can be produced by a gas phase method or a liquid phase method. In view of excellent mass productivity, the liquid phase method is preferable. As the liquid phase method, various conventionally known methods can be applied. However, it is preferable to apply a reduction method obtained by improving these methods. Among the reduction methods, the particle size can be easily controlled. The micelle method is particularly preferred.

（逆ミセル法）
上記逆ミセル法は、少なくとも、（１）２種の逆ミセル溶液を混合して還元反応を行う還元工程と、（２）還元反応後に所定温度で熟成する熟成工程と、を有する。以下、各工程について説明する。 (Reverse micelle method)
The reverse micelle method includes at least (1) a reduction step in which two types of reverse micelle solutions are mixed to perform a reduction reaction, and (2) an aging step in which aging is performed at a predetermined temperature after the reduction reaction. Hereinafter, each step will be described.

（１）還元工程：
まず、界面活性剤を含有する非水溶性有機溶媒と還元剤水溶液とを混合した逆ミセル溶液（Ｉ）を調製する。
前記界面活性剤としては、油溶性界面活性剤が用いられる。具体的には、スルホン酸塩型（例えば、エーロゾルＯＴ（和光純薬製））、４級アンモニウム塩型（例えば、セチルトリメチルアンモニウムブロマイド）、エーテル型（例えば、ペンタエチレングリコールドデシルエーテル）などが挙げられる。
非水溶性有機溶媒中の界面活性剤量は、２０〜２００ｇ／リットルであることが好ましい。 (1) Reduction process:
First, a reverse micelle solution (I) is prepared by mixing a water-insoluble organic solvent containing a surfactant and a reducing agent aqueous solution.
An oil-soluble surfactant is used as the surfactant. Specifically, sulfonate type (for example, aerosol OT (manufactured by Wako Pure Chemical Industries)), quaternary ammonium salt type (for example, cetyltrimethylammonium bromide), ether type (for example, pentaethylene glycol dodecyl ether) and the like can be mentioned. It is done.
The amount of the surfactant in the water-insoluble organic solvent is preferably 20 to 200 g / liter.

前記界面活性剤を溶解する非水溶性有機溶媒として好ましいものは、アルカン、エーテルおよびアルコール等が挙げられる。
アルカンとしては、炭素数７〜１２のアルカン類であることが好ましい。具体的には、ヘプタン、オクタン、イソオクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン等が好ましい。
エーテルとしては、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジブチルエーテル等が好ましい。
アルコールとしては、エトキシエタノール、エトキシプロパノール等が好ましい。 Preferred examples of the water-insoluble organic solvent that dissolves the surfactant include alkanes, ethers, and alcohols.
The alkane is preferably an alkane having 7 to 12 carbon atoms. Specifically, heptane, octane, isooctane, nonane, decane, undecane, dodecane and the like are preferable.
As the ether, diethyl ether, dipropyl ether, dibutyl ether and the like are preferable.
As the alcohol, ethoxyethanol, ethoxypropanol and the like are preferable.

還元剤水溶液中の還元剤としては、アルコール類；ポリアルコール類；Ｈ₂；ＨＣＨＯ、Ｓ₂Ｏ₆ ^2-、Ｈ₂ＰＯ₂ ^-、ＢＨ₄ ^-、Ｎ₂Ｈ₅ ⁺、Ｈ₂ＰＯ₃ ^-などを含む化合物；を単独で使用、または２種以上を併用することが好ましい。
水溶液中の還元剤量は、金属塩１モルに対して、３〜５０モルであることが好ましい。 Examples of the reducing agent in the reducing agent aqueous solution include alcohols; polyalcohols; H ₂ ; HCHO, S ₂ O ₆ ²⁻ , H ₂ PO ₂ ⁻ , BH ₄ ⁻ , N ₂ H ₅ ⁺ , H ₂ PO ₃ ^−. Are preferably used alone or in combination of two or more.
The amount of the reducing agent in the aqueous solution is preferably 3 to 50 mol with respect to 1 mol of the metal salt.

ここで、逆ミセル溶液（Ｉ）の溶液中の水と界面活性剤との質量比（水／界面活性剤）は、２０以下となるようにすることが好ましい。質量比を２０以下とすることで、沈殿の発生を抑えることができ、粒径を揃えやすい利点がある。質量比は、１５以下とすることが好ましく、０．５〜１０とすることがより好ましい。   Here, it is preferable that the mass ratio (water / surfactant) of water and the surfactant in the solution of the reverse micelle solution (I) is 20 or less. By setting the mass ratio to 20 or less, there is an advantage that the occurrence of precipitation can be suppressed and the particle diameter can be easily adjusted. The mass ratio is preferably 15 or less, and more preferably 0.5 to 10.

上記とは別に、界面活性剤を含有する非水溶性有機溶媒と金属塩水溶液とを混合した逆ミセル溶液（ＩＩ）を調製する。
界面活性剤および非水溶性有機溶媒の条件（使用する物質、濃度等）については、逆ミセル溶液（Ｉ）の場合と同様である。
なお、同じ条件の範囲であれば、逆ミセル溶液（Ｉ）と同種のものまたは異種のものを使用することができる。また、逆ミセル溶液（ＩＩ）溶液中の水と界面活性剤との質量比も逆ミセル溶液（Ｉ）の場合と同様であり、逆ミセル溶液（Ｉ）の質量比と同一としてもよく、異なっていてもよい。 Separately from the above, a reverse micelle solution (II) in which a water-insoluble organic solvent containing a surfactant and a metal salt aqueous solution are mixed is prepared.
The conditions (substance used, concentration, etc.) of the surfactant and the water-insoluble organic solvent are the same as in the case of the reverse micelle solution (I).
In addition, if it is the range of the same conditions, the same kind or different kind of reverse micelle solution (I) can be used. The mass ratio of water and surfactant in the reverse micelle solution (II) is the same as that of the reverse micelle solution (I), and may be the same as or different from the mass ratio of the reverse micelle solution (I). It may be.

金属塩水溶液に含有される金属塩としては、作製しようとする磁性粒子がＣｕＡｕ型あるいはＣｕ₃Ａｕ型強磁性規則合金を形成し得るように、適宜選択することが好ましい。 The metal salt contained in the metal salt aqueous solution is preferably selected as appropriate so that the magnetic particles to be produced can form a CuAu type or Cu ₃ Au type ferromagnetic ordered alloy.

ここで、当該ＣｕＡｕ型強磁性規則合金としては、ＦｅＮｉ、ＦｅＰｄ、ＦｅＰｔ、ＣｏＰｔ、ＣｏＡｕなどが挙げられ、なかでもＦｅＰｄ、ＦｅＰｔ、ＣｏＰｔであることが好ましい。
Ｃｕ₃Ａｕ型強磁性規則合金としては、Ｎｉ₃Ｆｅ、ＦｅＰｄ₃、Ｆｅ₃Ｐｔ、ＦｅＰｔ₃、ＣｏＰｔ₃、Ｎｉ₃Ｐｔ、ＣｒＰｔ₃、Ｎｉ₃Ｍｎが挙げられ、なかでもＦｅＰｄ₃、ＦｅＰｔ₃、ＣｏＰｔ₃、Ｆｅ₃Ｐｄ、Ｆｅ₃Ｐｔ、Ｃｏ₃Ｐｔが好ましい。 Here, examples of the CuAu type ferromagnetic ordered alloy include FeNi, FePd, FePt, CoPt, and CoAu, and among them, FePd, FePt, and CoPt are preferable.
Examples of the Cu ₃ Au type ferromagnetic ordered alloy include Ni ₃ Fe, FePd ₃ , Fe ₃ Pt, FePt ₃ , CoPt ₃ , Ni ₃ Pt, CrPt ₃ , and Ni ₃ Mn. Among them, FePd ₃ , FePt ₃ , CoPt ₃ , Fe ₃ Pd, Fe ₃ Pt, and Co ₃ Pt are preferable.

金属塩の具体例としては、Ｈ₂ＰｔＣｌ₆、Ｋ₂ＰｔＣｌ₄、Ｐｔ（ＣＨ₃ＣＯＣＨＣＯＣＨ₃）₂、Ｎａ₂ＰｄＣｌ₄、Ｐｄ（ＯＣＯＣＨ₃）₂、ＰｄＣｌ₂、Ｐｄ（ＣＨ₃ＣＯＣＨＣＯＣＨ₃）₂、ＨＡｕＣｌ₄、Ｆｅ₂（ＳＯ₄）₃、Ｆｅ（ＮＯ₃）₃、（ＮＨ₄）₃Ｆｅ（Ｃ₂Ｏ₄）₃、Ｆｅ（ＣＨ₃ＣＯＣＨＣＯＣＨ₃）₃、ＮｉＳＯ₄、ＣｏＣｌ₂、Ｃｏ（ＯＣＯＣＨ₃）₂などが挙げられる。 Specific examples of the metal salt include H ₂ PtCl ₆ , K ₂ PtCl ₄ , Pt (CH ₃ COCHCOCH ₃ ) ₂ , Na ₂ PdCl ₄ , Pd (OCOCH ₃ ) ₂ , PdCl ₂ , Pd (CH ₃ COCHCOCH ₃ ) _2. , HAuCl ₄ , Fe ₂ (SO ₄ ) ₃ , Fe (NO ₃ ) ₃ , (NH ₄ ) ₃ Fe (C ₂ O ₄ ) ₃ , Fe (CH ₃ COCHCOCH ₃ ) ₃ , NiSO ₄ , CoCl ₂ , Co ( OCOCH ₃ ) _{2 and the} like.

金属塩水溶液中の濃度（金属塩濃度として）は、０．１〜１０００μｍｏｌ／ｍｌであることが好ましく、１〜１００μｍｏｌ／ｍｌであることがより好ましい。   The concentration (as the metal salt concentration) in the aqueous metal salt solution is preferably 0.1 to 1000 μmol / ml, and more preferably 1 to 100 μmol / ml.

前記金属塩を適宜選択することで、卑な金属と貴な金属とが合金を形成したＣｕＡｕ型もしくはＣｕ₃Ａｕ型強磁性規則合金を形成し得る合金粒子が作製される。 By appropriately selecting the metal salt, alloy particles capable of forming a CuAu type or Cu ₃ Au type ferromagnetic ordered alloy in which a base metal and a noble metal form an alloy are produced.

合金粒子は後述するアニール処理によって合金相を不規則相から規則相へ変態させる必要があるが、当該変態温度を下げるために、前記２元系合金に、Ｓｂ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｃｕ、Ａｇ、Ｚｎ、Ｉｎなどの第三元素を加えることが好ましい。これらの第三元素は、それぞれの第三元素の前駆体を、前記金属塩溶液に予め添加しておくことが好ましい。添加量としては、２元系合金に対し、１〜３０ａｔ％であることが好ましく、５〜２０ａｔ％であることがより好ましい。   The alloy particles need to transform the alloy phase from an irregular phase to an ordered phase by an annealing process, which will be described later. In order to lower the transformation temperature, Sb, Pb, Bi, Cu, Ag, It is preferable to add a third element such as Zn or In. As for these third elements, it is preferable to add a precursor of each third element to the metal salt solution in advance. The addition amount is preferably 1 to 30 at% and more preferably 5 to 20 at% with respect to the binary alloy.

以上のようにして調製した逆ミセル溶液（Ｉ）と（ＩＩ）とを混合する。混合方法としては、特に限定されるものではないが、還元の均一性を考慮して、逆ミセル溶液（Ｉ）を撹拌しながら、逆ミセル溶液（ＩＩ）を添加していって混合することが好ましい。混合終了後、還元反応を進行させることになるが、その際の温度は、−５〜３０℃の範囲で、一定の温度とすることが好ましい。   The reverse micelle solutions (I) and (II) prepared as described above are mixed. The mixing method is not particularly limited, but in consideration of the reduction uniformity, the reverse micelle solution (II) may be added and mixed while stirring the reverse micelle solution (I). preferable. The reduction reaction is allowed to proceed after completion of the mixing, and the temperature at that time is preferably in the range of −5 to 30 ° C. and constant.

還元温度を−５℃〜３０℃とすることで、水相が凝結して還元反応が不均一になることを防止することが可能となり、また、凝集または沈殿の発生を抑制することができる利点がある。好ましい還元温度は０〜２５℃であり、より好ましくは５〜２５℃である。   By setting the reduction temperature to −5 ° C. to 30 ° C., it is possible to prevent the aqueous phase from condensing and reducing reaction to be non-uniform, and it is possible to suppress the occurrence of aggregation or precipitation. There is. A preferable reduction temperature is 0 to 25 ° C, more preferably 5 to 25 ° C.

ここで、前記「一定温度」とは、設定温度をＴ（℃）とした場合、当該ＴがＴ±３℃の範囲にあることをいう。なお、このようにした場合であっても、当該Ｔの上限および下限は、上記還元温度（−５〜３０℃）の範囲にあるものとする。
還元反応の時間は、逆ミセル溶液の量等により適宜設定する必要があるが、１〜３０分とすることが好ましく、５〜２０分とすることがより好ましい。 Here, the “constant temperature” means that when the set temperature is T (° C.), the T is in the range of T ± 3 ° C. Even in this case, the upper and lower limits of T are in the range of the reduction temperature (−5 to 30 ° C.).
The time for the reduction reaction needs to be appropriately set depending on the amount of the reverse micelle solution and the like, but is preferably 1 to 30 minutes, and more preferably 5 to 20 minutes.

還元反応は、粒径分布の単分散性に大きな影響を与えるため、できるだけ高速攪拌しながら行うことが好ましい。
好ましい攪拌装置は高剪断力を有する攪拌装置であり、詳しくは、攪拌羽根が基本的にタービン型あるいはパドル型の構造を有し、さらに、その羽根の端もしくは、羽根と接する位置に鋭い刃を付けた構造であり、羽根をモーターで回転させる攪拌装置である。具体的には、ディゾルバー（特殊機化工業製）、オムニミキサー（ヤマト科学製）、ホモジナイザー（ＳＭＴ製）などの装置が有用である。これらの装置を用いることにより、単分散な合金粒子を安定な分散液として合成することができる。 Since the reduction reaction has a great influence on the monodispersity of the particle size distribution, it is preferable to carry out the reduction reaction while stirring as fast as possible.
A preferred stirring device is a stirring device having a high shearing force. Specifically, the stirring blade basically has a turbine-type or paddle-type structure, and a sharp blade is provided at the end of the blade or at a position in contact with the blade. It is an attached structure and is a stirring device that rotates a blade by a motor. Specifically, devices such as a dissolver (manufactured by Special Machine Industries), an omni mixer (manufactured by Yamato Kagaku), and a homogenizer (manufactured by SMT) are useful. By using these apparatuses, monodispersed alloy particles can be synthesized as a stable dispersion.

前記逆ミセル溶液（Ｉ）および（ＩＩ）の少なくともいずれかに、アミノ基またはカルボキシ基を１〜３個有する少なくとも１種の分散剤を、作製しようとする合金粒子１モル当たり、０．００１〜１０モル添加することが好ましい。
かかる分散剤を添加することで、より単分散で、凝集の無い合金粒子を得ることが可能となる。
添加量を０．００１〜１０モルとすることで、合金粒子の単分散性をより向上させることが可能となり、また、凝集の発生を防ぐことができる。 At least one dispersant having 1 to 3 amino groups or carboxy groups is added to at least one of the reverse micelle solutions (I) and (II) in an amount of 0.001 to 1 mol of alloy particles to be produced. It is preferable to add 10 mol.
By adding such a dispersant, it becomes possible to obtain alloy particles that are more monodispersed and have no aggregation.
By making the addition amount 0.001 to 10 mol, the monodispersity of the alloy particles can be further improved, and the occurrence of aggregation can be prevented.

前記分散剤としては、合金粒子表面に吸着する基を有する有機化合物が好ましい。具体的には、アミノ基、カルボキシ基、スルホン酸基またはスルフィン酸基を１〜３個有するものであり、これらを単独または併用して用いることができる。   As the dispersant, an organic compound having a group that adsorbs to the surface of the alloy particles is preferable. Specifically, it has 1 to 3 amino groups, carboxy groups, sulfonic acid groups or sulfinic acid groups, and these can be used alone or in combination.

構造式としては、Ｒ−ＮＨ₂、ＮＨ₂−Ｒ−ＮＨ₂、ＮＨ₂−Ｒ（ＮＨ₂）−ＮＨ₂、Ｒ−ＣＯＯＨ、ＣＯＯＨ−Ｒ−ＣＯＯＨ、ＣＯＯＨ−Ｒ（ＣＯＯＨ）−ＣＯＯＨ、Ｒ−ＳＯ₃Ｈ、ＳＯ₃Ｈ−Ｒ−ＳＯ₃Ｈ、ＳＯ₃Ｈ−Ｒ（ＳＯ₃Ｈ）−ＳＯ₃Ｈ、Ｒ−ＳＯ₂Ｈ、ＳＯ₂Ｈ−Ｒ−ＳＯ₂Ｈ、ＳＯ₂Ｈ−Ｒ（ＳＯ₂Ｈ）−ＳＯ₂Ｈで表される化合物であり、式中のＲは直鎖、分岐または環状の飽和、不飽和の炭化水素である。 As structural formulas, R—NH ₂ , NH ₂ —R—NH ₂ , NH ₂ —R (NH ₂ ) —NH ₂ , R—COOH, COOH—R—COOH, COOH—R (COOH) —COOH, R —SO ₃ H, SO ₃ H—R—SO ₃ H, SO ₃ H—R (SO ₃ H) —SO ₃ H, R—SO ₂ H, SO ₂ H—R—SO ₂ H, SO ₂ H— R (SO ₂ H) —SO ₂ H, wherein R is a linear, branched or cyclic saturated or unsaturated hydrocarbon.

分散剤として特に好ましい化合物はオレイン酸である。オレイン酸はコロイドの安定化において周知の界面活性剤であり、鉄等の金属粒子を保護するのに用いられてきた。オレイン酸の比較的長い（たとえば、オレイン酸は１８炭素鎖を有し長さは〜２０オングストローム（〜２ｎｍ）である。オレイン酸は脂肪族ではなく二重結合が１つある）鎖は粒子間の強い磁気相互作用を打ち消す重要な立体障害を与える。   A particularly preferred compound as a dispersant is oleic acid. Oleic acid is a well-known surfactant in colloid stabilization and has been used to protect metal particles such as iron. The relatively long chains of oleic acid (eg, oleic acid has 18 carbon chains and is ˜20 angstroms (˜2 nm). Oleic acid is not aliphatic but has one double bond). This gives an important steric hindrance to counteract strong magnetic interactions.

エルカ酸やリノール酸など類似の長鎖カルボン酸もオレイン酸同様に（たとえば、８〜２２の間の炭素原子を有する長鎖有機酸を単独でまたは組み合わせて用いることができる）用いられる。オレイン酸は（オリーブ油など）容易に入手できる安価な天然資源であるので好ましい。また、オレイン酸から誘導されるオレイルアミンもオレイン酸同様有用な分散剤である。   Similar long chain carboxylic acids such as erucic acid and linoleic acid are used as well as oleic acid (for example, long chain organic acids having between 8 and 22 carbon atoms can be used alone or in combination). Oleic acid is preferred because it is a cheap natural resource (such as olive oil) that is readily available. In addition, oleylamine derived from oleic acid is a useful dispersant like oleic acid.

以上のような還元工程では、ＣｕＡｕ型またはＣｕ₃Ａｕ型強磁性規則合金相中のＣｏ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒ等の酸化還元電位が卑な金属（−０．２Ｖ（ｖｓ．Ｎ．Ｈ．Ｅ）程度以下の金属）が還元され、極小サイズで単分散な状態で析出するものと考えられる。その後、昇温段階および後述する熟成工程において、析出した卑な金属を核とし、その表面で、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ等の酸化還元電位が貴な金属（−０．２Ｖ（ｖｓ．Ｎ．Ｈ．Ｅ）程度以上の金属）が卑な金属で還元されて置換、析出する。イオン化した卑な金属は還元剤で再度還元されて析出すると考えられる。このような繰返しによって、ＣｕＡｕ型あるいはＣｕ₃Ａｕ型強磁性規則合金を形成し得る合金粒子が得られる。 In the reduction process as described above, a metal (−0.2 V (vs. NH) having a redox potential such as Co, Fe, Ni, Cr or the like in the CuAu type or Cu ₃ Au type ferromagnetic ordered alloy phase is used. E) or less of the metal) is reduced, and is considered to be precipitated in a monodispersed state with a minimum size. Thereafter, in the temperature raising step and the aging step described later, the precipitated base metal is used as a nucleus, and a metal having a redox potential such as Pt, Pd, Rh or the like having noble properties (−0.2 V (vs. NH) is formed on the surface. E) More than about metal) is reduced with a base metal to be substituted and deposited. It is thought that the ionized base metal is reduced again by the reducing agent and deposited. By such repetition, alloy particles capable of forming a CuAu type or Cu ₃ Au type ferromagnetic ordered alloy are obtained.

（２）熟成工程：
還元反応終了後、反応後の溶液を熟成温度まで昇温する。
前記熟成温度は、３０〜９０℃で一定の温度とすることが好ましく、その温度は、前記還元反応の温度より高くする。また、熟成時間は、５〜１８０分とすることが好ましい。熟成温度および時間が上記範囲より高温長時間側にずれると、凝集または沈殿が起きやすく、逆に低温短時間側にずれると、反応が完結しなくなり組成が変化することがある。好ましい熟成温度および時間は４０〜８０℃および１０〜１５０分であり、より好ましい熟成温度および時間は４０〜７０℃および２０〜１２０分である。 (2) Aging process:
After completion of the reduction reaction, the temperature of the solution after the reaction is raised to the aging temperature.
The aging temperature is preferably a constant temperature of 30 to 90 ° C., and the temperature is higher than the temperature of the reduction reaction. The aging time is preferably 5 to 180 minutes. If the aging temperature and time deviate from the above range to the high temperature and long time side, aggregation or precipitation tends to occur. Conversely, if the aging temperature and time deviate to the low temperature short time side, the reaction may not be completed and the composition may change. Preferred aging temperature and time are 40 to 80 ° C. and 10 to 150 minutes, and more preferable aging temperature and time are 40 to 70 ° C. and 20 to 120 minutes.

ここで、前記「一定温度」とは、還元反応の温度の場合と同義（但し、この場合、「還元温度」は「熟成温度」となる）であるが、特に、上記熟成温度の範囲（３０〜９０℃）内で、前記還元反応の温度より５℃以上高いことが好ましく、１０℃以上高いことがより好ましい。５℃以上高くすることで、処方通りの組成が得られやすくなる。
以上のような熟成工程では、還元工程で還元析出した卑な金属上に貴な金属が析出する。 Here, the “constant temperature” is synonymous with the temperature of the reduction reaction (where “reduction temperature” is the “aging temperature”), but in particular, the range of the above aging temperature (30 It is preferably 5 ° C. or higher, more preferably 10 ° C. or higher, than the temperature of the reduction reaction. By increasing the temperature by 5 ° C. or more, a composition as prescribed can be easily obtained.
In the aging process as described above, noble metal is deposited on the base metal that has been reduced and deposited in the reduction process.

すなわち、卑な金属上でのみ貴な金属の還元が起こり、卑な金属と貴な金属とが別々に析出することが無いため、効率良くＣｕＡｕ型またはＣｕ₃Ａｕ型強磁性規則合金を形成し得る合金粒子を、高収率で処方組成比どおりに作製することが可能で、所望の組成に制御することができる。また、熟成の際の温度で撹拌速度を適宜調整することで、得られる合金粒子の粒径を所望なものとすることができる。 That is, the reduction of the noble metal occurs only on the base metal, and the base metal and the noble metal do not separate separately, so that the CuAu type or Cu ₃ Au type ferromagnetic ordered alloy is efficiently formed. The obtained alloy particles can be produced in a high yield according to the prescribed composition ratio, and can be controlled to a desired composition. Moreover, the particle size of the alloy particle obtained can be made into a desired thing by adjusting a stirring speed suitably with the temperature in the case of ageing | curing | ripening.

前記熟成を行った後は、水と１級アルコールとの混合溶液で前記熟成後の溶液を洗浄し、その後、１級アルコールで沈殿化処理を施して沈殿物を生成させ、該沈殿物を有機溶媒で分散させる洗浄・分散工程を設けることが好ましい。   After the aging, the solution after aging is washed with a mixed solution of water and a primary alcohol, and then subjected to a precipitation treatment with a primary alcohol to generate a precipitate. It is preferable to provide a washing / dispersing step for dispersing with a solvent.

かかる洗浄・分散工程を設けることで、不純物が除去され、磁気記録媒体の磁性層を塗布により形成する際の塗布性をより向上させることができる。
上記洗浄および分散は、少なくともそれぞれ１回、好ましくは、それぞれ２回以上行う。 By providing such a cleaning / dispersing step, impurities can be removed, and coating properties when the magnetic layer of the magnetic recording medium is formed by coating can be further improved.
The washing and dispersion are each performed at least once, preferably twice or more.

洗浄で用いる前記１級アルコールとしては、特に限定されるものではないが、メタノール、エタノール等が好ましい。体積混合比（水／１級アルコール）は、１０／１〜２／１の範囲にあることが好ましく、５／１〜３／１の範囲にあることがより好ましい。
体積混合比を１０／１〜２／１の範囲とすることで、界面活性剤が除去されやすくなり、凝集の発生を抑制することができる。 The primary alcohol used for washing is not particularly limited, but methanol, ethanol and the like are preferable. The volume mixing ratio (water / primary alcohol) is preferably in the range of 10/1 to 2/1, and more preferably in the range of 5/1 to 3/1.
By setting the volume mixing ratio in the range of 10/1 to 2/1, the surfactant is easily removed, and the occurrence of aggregation can be suppressed.

以上のようにして、溶液中に分散した合金粒子（合金粒子含有液）が得られる。
当該合金粒子は、単分散であるため、下地層上に塗布しても、これらが凝集することなく均一に分散した状態を保つことができる。従って、アニール処理を施しても、それぞれの合金粒子が凝集することがないため、効率良く強磁性化することが可能で、塗布適性に優れる。 As described above, alloy particles dispersed in the solution (alloy particle-containing liquid) are obtained.
Since the alloy particles are monodispersed, even when applied on the underlayer, the alloy particles can be kept uniformly dispersed without agglomeration. Therefore, even if the annealing treatment is performed, the alloy particles do not agglomerate, so that the ferromagnetic particles can be efficiently ferromagnetized and the application suitability is excellent.

後述する酸化処理前の合金粒子の粒径は、ノイズを下げる観点から小さいことが好ましいが、小さすぎるとアニール後に超常磁性となり、磁気記録に不適当となることがある。一般に、１〜１００ｎｍであることが好ましく、１〜２０ｎｍであることがより好ましく、３〜１０ｎｍであることがさらに好ましい。   The particle size of the alloy particles before the oxidation treatment described later is preferably small from the viewpoint of reducing noise, but if it is too small, it becomes superparamagnetic after annealing and may be unsuitable for magnetic recording. In general, the thickness is preferably 1 to 100 nm, more preferably 1 to 20 nm, and still more preferably 3 to 10 nm.

（還元法）
還元法でＣｕＡｕ型あるいはＣｕ₃Ａｕ型強磁性規則合金を形成し得る合金粒子を作製するには種々の方法があるが、少なくとも、酸化還元電位が卑な金属（以下、単に「卑な金属」ということがある）と、酸化還元電位が貴な金属（以下、単に「貴な金属」ということがある）と、を有機溶剤もしくは水、または有機溶剤と水との混合溶液中で還元剤等を使用して還元する方法を適用することが好ましい。
卑な金属と貴な金属との還元順序は、特に限定されず、同時に還元してもよい。 (Reduction method)
There are various methods for producing alloy particles capable of forming a CuAu type or Cu ₃ Au type ferromagnetic ordered alloy by a reduction method, but at least a metal having a low redox potential (hereinafter simply referred to as “base metal”). A noble metal having a redox potential (hereinafter sometimes simply referred to as “noble metal”), an organic solvent or water, or a mixed solution of an organic solvent and water. It is preferable to apply a reduction method using
The reduction order of the base metal and the noble metal is not particularly limited, and may be reduced simultaneously.

前記有機溶剤としては、アルコール、ポリアルコール等を使用することが可能で、アルコールとしては、メタノール、エタノール、ブタノール等が挙げられ、ポリアルコールとしては、エチレングリコール、グリセリン等が挙げられる。
なお、ＣｕＡｕ型あるいはＣｕ₃Ａｕ型強磁性規則合金の例としては、既述の逆ミセル法の場合と同様である。
また、貴な金属を先に析出させて合金粒子を調製する方法としては、特願２００１−２６９２５５号の段落１８〜３０等に記載の方法等を適用することができる。 As the organic solvent, alcohol, polyalcohol and the like can be used. Examples of the alcohol include methanol, ethanol and butanol. Examples of the polyalcohol include ethylene glycol and glycerin.
An example of the CuAu type or Cu ₃ Au type ferromagnetic ordered alloy is the same as in the case of the reverse micelle method described above.
Moreover, as a method for precipitating a noble metal first to prepare alloy particles, the method described in paragraphs 18 to 30 of Japanese Patent Application No. 2001-269255 can be applied.

酸化還元電位が貴な金属としては、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ等が好ましく用いることができ、Ｈ₂ＰｔＣｌ₆・６Ｈ₂Ｏ、Ｐｔ（ＣＨ₃ＣＯＣＨＣＯＣＨ₃）₂、ＲｈＣｌ₃・３Ｈ₂Ｏ、Ｐｄ（ＯＣＯＣＨ₃）₂、ＰｄＣｌ₂、Ｐｄ（ＣＨ₃ＣＯＣＨＣＯＣＨ₃）₂等を溶媒に溶解して用いることができる。溶液中の金属の濃度は、０．１〜１０００μｍｏｌ／ｍｌが好ましく、０．１〜１００μｍｏｌ／ｍｌがより好ましい。 Pt, Pd, Rh and the like can be preferably used as the noble metal having a redox potential. H ₂ PtCl ₆ .6H ₂ O, Pt (CH ₃ COCHCOCH ₃ ) ₂ , RhCl ₃ .3H ₂ O, Pd ( OCOCH ₃ ) ₂ , PdCl ₂ , Pd (CH ₃ COCHCOCH ₃ ) _{2 and the} like can be dissolved in a solvent and used. The concentration of the metal in the solution is preferably 0.1 to 1000 μmol / ml, more preferably 0.1 to 100 μmol / ml.

また、酸化還元電位が卑な金属としては、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒを好ましく用いることができ、特に好ましくは、Ｆｅ、Ｃｏである。このような金属は、ＦｅＳＯ₄・７Ｈ₂Ｏ、ＮｉＳＯ₄・７Ｈ₂Ｏ、ＣｏＣｌ₂・６Ｈ₂Ｏ、Ｃｏ（ＯＣＯＣＨ₃）₂・４Ｈ₂Ｏ等を溶媒に溶解して用いることができる。溶液中の金属の濃度は、０．１〜１０００μｍｏｌ／ｍｌが好ましく、０．１〜１００μｍｏｌ／ｍｌがより好ましい。 Further, as the metal having a low redox potential, Co, Fe, Ni, and Cr can be preferably used, and Fe and Co are particularly preferable. Such a metal can be used by dissolving FeSO ₄ .7H ₂ O, NiSO ₄ .7H ₂ O, CoCl ₂ .6H ₂ O, Co (OCOCH ₃ ) ₂ .4H ₂ O, etc. in a solvent. The concentration of the metal in the solution is preferably 0.1 to 1000 μmol / ml, more preferably 0.1 to 100 μmol / ml.

既述の逆ミセル法と同様に２元系合金に、第三元素を加える事で強磁性規則合金への変態温度を下げる事が好ましい。添加量としては逆ミセル法と同様である。
例えば、還元剤を用いて卑な金属と貴な金属とをこの順に還元して析出させる場合、−０．２Ｖ（ｖｓ．Ｎ．Ｈ．Ｅ）より卑な還元電位を持つ還元剤を用いて卑な金属あるいは卑な金属と貴な金属の一部を還元したものを、貴な金属源に加え酸化還元電位が−０．２Ｖ（ｖｓ．Ｎ．Ｈ．Ｅ）より貴な還元剤を用いて還元した後、−０．２Ｖ（ｖｓ．Ｎ．Ｈ．Ｅ）より卑な還元電位を持つ還元剤を用いて還元する事が好ましい。 It is preferable to lower the transformation temperature to a ferromagnetic ordered alloy by adding a third element to the binary alloy as in the reverse micelle method described above. The amount added is the same as in the reverse micelle method.
For example, when reducing and depositing a base metal and a noble metal in this order using a reducing agent, use a reducing agent having a base reduction potential lower than −0.2 V (vs. NHE). Using a reducing agent having a redox potential lower than -0.2 V (vs. N. H. E) in addition to a noble metal source obtained by reducing a base metal or a part of a base metal and a noble metal. After the reduction, the reduction is preferably performed using a reducing agent having a reduction potential lower than -0.2 V (vs. NHE).

酸化還元電位は系のｐＨに依存するが、酸化還元電位が−０．２Ｖ（ｖｓ．Ｎ．Ｈ．Ｅ）より貴な還元剤には、１，２−ヘキサデカンジオール等のアルコール類、グリセリン類、Ｈ₂、ＨＣＨＯが好ましく用いられる。
−０．２Ｖ（ｖｓ．Ｎ．Ｈ．Ｅ）より卑な還元剤にはＳ₂Ｏ₆ ^2-、Ｈ₂ＰＯ₂ ^-、ＢＨ₄ ^-、Ｎ₂Ｈ₅ ⁺、Ｈ₂ＰＯ₃ ^-が好ましく用いる事ができる。 Although the redox potential depends on the pH of the system, the reducing agent having a redox potential nobler than −0.2 V (vs. NHE) includes alcohols such as 1,2-hexadecanediol, and glycerins. , H ₂ and HCHO are preferably used.
S ₂ O ₆ ²⁻ , H ₂ PO ₂ ⁻ , BH ₄ ⁻ , N ₂ H ₅ ⁺ , H ₂ PO ₃ ⁻ is preferable as a reducing agent lower than −0.2 V (vs. N.H.E). Can be used.

なお、卑な金属の原料として、Ｆｅカルボニル等の０価の金属化合物と用いる場合は、特に卑な金属の還元剤は必要ない。
貴な金属を還元析出させる際に吸着剤を存在させる事で合金粒子を安定して調製することができる。吸着剤としてはポリマーや界面活性剤を使用することが好ましい。 In addition, when using with zerovalent metal compounds, such as Fe carbonyl, as a base metal raw material, a base metal reducing agent is not particularly required.
The alloy particles can be stably prepared by allowing an adsorbent to be present when the noble metal is reduced and precipitated. It is preferable to use a polymer or a surfactant as the adsorbent.

前記ポリマーとしては、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリＮ−ビニル−２ピロリドン（ＰＶＰ）、ゼラチン等が挙げられる。なかでも、特に好ましくはＰＶＰである。
また、分子量は２万〜６万が好ましく、より好ましくは３万〜５万である。ポリマーの量は生成する合金粒子の質量の０．１〜１０倍であることが好ましく、０．１〜５倍がより好ましい。 Examples of the polymer include polyvinyl alcohol (PVA), poly N-vinyl-2pyrrolidone (PVP), gelatin and the like. Of these, PVP is particularly preferable.
The molecular weight is preferably 20,000 to 60,000, more preferably 30,000 to 50,000. The amount of the polymer is preferably 0.1 to 10 times the mass of the alloy particles to be produced, and more preferably 0.1 to 5 times.

吸着剤として好ましく用いられる界面活性剤は、一般式：Ｒ−Ｘ、で表される長鎖有機化合物である「有機安定剤」を含むことが好ましい。上記一般式中のＲは、直鎖または分岐ハイドロカーボンまたはフルオロカーボン鎖である「テール基」であり、通常８〜２２個の炭素原子を含む。また、上記一般式中のＸは、合金粒子表面に特定の化学結合を提供する部分（Ｘ）である「ヘッド基」であり、スルフィネート（−ＳＯＯＨ）、スルホネート（−ＳＯ₂ＯＨ）、ホスフィネート（−ＰＯＯＨ）、ホスホネート（−ＯＰＯ（ＯＨ）₂）、カルボキシレート、およびチオールのいずれかであることが好ましい。 The surfactant preferably used as the adsorbent preferably contains an “organic stabilizer” which is a long-chain organic compound represented by the general formula: R—X. R in the above general formula is a “tail group” which is a linear or branched hydrocarbon or fluorocarbon chain and usually contains 8 to 22 carbon atoms. X in the above general formula is a “head group” which is a moiety (X) that provides a specific chemical bond to the surface of the alloy particles, and is sulfinate (—SOOH), sulfonate (—SO ₂ OH), phosphinate ( -POOH), phosphonate (-OPO (OH) ₂ ), carboxylate, and thiol are preferred.

前記有機安定剤としては、スルホン酸（Ｒ−ＳＯ₂ＯＨ）、スルフィン酸（Ｒ−ＳＯＯＨ）、ホスフィン酸（Ｒ₂ＰＯＯＨ）、ホスホン酸（Ｒ−ＯＰＯ（ＯＨ）₂）、カルボン酸（Ｒ−ＣＯＯＨ）、チオール（Ｒ−ＳＨ）等のいずれかであることが好ましい。これらのなかでも、逆ミセル法と同様のオレイン酸が特に好ましい。 Examples of the organic stabilizer include sulfonic acid (R—SO ₂ OH), sulfinic acid (R—SOOH), phosphinic acid (R ₂ POOH), phosphonic acid (R—OPO (OH) ₂ ), carboxylic acid (R— COOH) or thiol (R-SH) is preferred. Among these, oleic acid similar to the reverse micelle method is particularly preferable.

前記ホスフィンと有機安定剤との組合せ（トリオルガノホスフィン／酸等）は、粒子の成長および安定化に対する優れた制御性を提供することができる。ジデシルエーテルおよびジドデシルエーテルも用いることができるが、フェニルエーテルまたはｎ−オクチルエーテルはその低コストおよび高沸点のため溶媒として好適に用いられる。   The combination of phosphine and organic stabilizer (such as triorganophosphine / acid) can provide excellent control over particle growth and stabilization. Didecyl ether and didodecyl ether can also be used, but phenyl ether or n-octyl ether is preferably used as a solvent because of its low cost and high boiling point.

反応は必要な合金粒子および溶媒の沸点により、８０℃〜３６０℃の範囲の温度で行うことが好ましく、８０℃〜２４０℃がより好ましい。８０℃〜３６０℃とすることで、粒子の成長を促進することが可能となり、望ましくない副産物の生成を抑制することができる。   The reaction is preferably performed at a temperature in the range of 80 ° C. to 360 ° C., more preferably 80 ° C. to 240 ° C., depending on the required alloy particles and the boiling point of the solvent. By setting the temperature to 80 ° C. to 360 ° C., it becomes possible to promote the growth of particles, and it is possible to suppress the generation of undesirable by-products.

合金粒子の粒径は逆ミセル法と同様で、１〜１００ｎｍが好ましく、より好ましくは３〜２０ｎｍであり、さらに好ましくは３〜１０ｎｍである。
粒子サイズ（粒径）を大きくする方法としては種晶法が有効である。磁気記録媒体として用いるには合金粒子を最密充填することが記録容量を高くする上で好ましく、そのためには、合金粒子のサイズの標準偏差は１０％未満が好ましく、より好ましくは５％以下である。粒子サイズの変動係数は１０％未満が好ましく、５％以下がより好ましい。 The particle size of the alloy particles is the same as in the reverse micelle method, preferably 1 to 100 nm, more preferably 3 to 20 nm, and still more preferably 3 to 10 nm.
The seed crystal method is effective as a method for increasing the particle size (particle size). For use as a magnetic recording medium, it is preferable to close-pack with alloy particles in order to increase the recording capacity. For this purpose, the standard deviation of the alloy particle size is preferably less than 10%, more preferably 5% or less. is there. The variation coefficient of the particle size is preferably less than 10%, more preferably 5% or less.

粒子サイズが小さすぎると超常磁性となり好ましくない。そこで粒子サイズを大きくするため既述のように、種晶法を用いることが好ましい。その際、粒子を構成する金属より貴な金属を析出させるケースが出てくる。このとき、粒子の酸化が懸念されるため、予め粒子を水素化処理することが好ましい。   If the particle size is too small, superparamagnetism is undesirable. Therefore, it is preferable to use a seed crystal method as described above in order to increase the particle size. At that time, there are cases in which noble metal is deposited rather than the metal constituting the particle. At this time, since there is a concern about oxidation of the particles, it is preferable to previously hydrotreat the particles.

合金粒子の最外層は酸化防止の観点から貴な金属にすることが好ましいが、凝集しやすいため、本発明では貴な金属と卑な金属との合金であることが好ましい。かかる構成は、既述のような、液相法によれば容易かつ効率良く実現させることができる。   The outermost layer of the alloy particles is preferably made of a noble metal from the viewpoint of oxidation prevention. However, since it tends to agglomerate, it is preferably an alloy of a noble metal and a base metal in the present invention. Such a configuration can be easily and efficiently realized by the liquid phase method as described above.

合金粒子合成後に溶液から塩類を除くことは、合金粒子の分散安定性を向上させる意味から好ましい。脱塩にはアルコールを過剰に加え、軽凝集を起こし、自然沈降あるいは遠心沈降させ塩類を上澄みと共に除去する方法があるが、このような方法では凝集が生じやすいため、限外濾過法を採用することが好ましい。   It is preferable to remove salts from the solution after the synthesis of the alloy particles from the viewpoint of improving the dispersion stability of the alloy particles. For desalting, there is a method in which alcohol is added excessively to cause light flocculation, and natural sedimentation or centrifugal sedimentation is performed to remove salts together with the supernatant. It is preferable.

以上のようにして、溶液中に分散した合金粒子（合金粒子含有液）が得られる。   As described above, alloy particles dispersed in the solution (alloy particle-containing liquid) are obtained.

合金粒子の粒径評価には透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用いることができる。合金粒子もしくは磁性粒子の結晶系を決めるにはＴＥＭによる電子回折でもよいが、Ｘ線回折を用いた方が精度が高いため好ましい。合金粒子もしくは磁性粒子の内部の組成分析には、電子線を細く絞ることができるＦＥ−ＴＥＭにＥＤＡＸを付け評価することが好ましい。また、合金粒子もしくは磁性粒子の磁気的性質の評価はＶＳＭを用いて行うことができる。   A transmission electron microscope (TEM) can be used to evaluate the particle size of the alloy particles. Electron diffraction by TEM may be used to determine the crystal system of alloy particles or magnetic particles, but X-ray diffraction is preferred because of its higher accuracy. For analysis of the composition inside the alloy particles or magnetic particles, it is preferable to evaluate by attaching EDAX to an FE-TEM that can narrow the electron beam. Moreover, evaluation of the magnetic property of an alloy particle or a magnetic particle can be performed using VSM.

＜酸化処理工程＞
作製した合金粒子に酸化処理を施すことで、後の非酸化性雰囲気下でアニール処理を施す際の温度を高くすることなく、強磁性を有する磁性粒子を効率よく製造することができる。これは、以下に説明する現象によると考えられる。 <Oxidation process>
By subjecting the produced alloy particles to oxidation treatment, magnetic particles having ferromagnetism can be efficiently produced without increasing the temperature when annealing treatment is performed in a non-oxidizing atmosphere later. This is considered to be due to the phenomenon described below.

すなわち、まず、合金粒子を酸化することで、その結晶格子上に酸素が進入する。酸素が進入した状態でアニール処理を行うと、熱により酸素が結晶格子上から脱離する。酸素が脱離することで欠陥が生じ、かかる欠陥を通じて合金を構成する金属原子の移動が容易になるため、比較的低温でも相変態が起こりやすくなると考えられる。   That is, first, oxygen enters the crystal lattice by oxidizing the alloy particles. When annealing is performed with oxygen entering, oxygen is desorbed from the crystal lattice by heat. Desorption of oxygen causes defects, and the movement of metal atoms constituting the alloy is facilitated through such defects. Therefore, phase transformation is likely to occur even at a relatively low temperature.

かかる現象は、例えば、酸化処理後の合金粒子とアニール処理を行った磁性粒子とをＥＸＡＦＳ（広範囲Ｘ線吸収微細構造）測定することで、推察される。
例えば、Ｆｅ−Ｐｔ合金粒子で酸化処理を施さない合金粒子では、Ｆｅ原子と、Ｐｔ原子やＦｅ原子との結合の存在が確認できる。 Such a phenomenon is inferred, for example, by measuring EXAFS (wide-range X-ray absorption fine structure) of the oxidized alloy particles and the annealed magnetic particles.
For example, in the alloy particles that are not subjected to oxidation treatment with Fe—Pt alloy particles, the existence of bonds between Fe atoms and Pt atoms or Fe atoms can be confirmed.

これに対し、酸化処理を施した合金粒子では、Ｆｅ原子と酸素原子との結合の存在を確認できる。しかし、Ｐｔ原子やＦｅ原子との結合はほとんど見えなくなる。このことは、酸素原子によりＦｅ−Ｐｔ、Ｆｅ−Ｆｅの結合が切られていることを意味する。これによりアニール時にＰｔ原子やＦｅ原子が動きやすくなったと考えられる。
そして、当該合金粒子にアニール処理を施した後は、酸素の存在を確認することができず、Ｆｅ原子の周りにはＰｔ原子やＦｅ原子との結合の存在が確認できる。 On the other hand, in the alloy particles subjected to the oxidation treatment, the presence of bonds between Fe atoms and oxygen atoms can be confirmed. However, the bonds with Pt atoms and Fe atoms are almost invisible. This means that Fe—Pt and Fe—Fe bonds are cut by oxygen atoms. As a result, it is considered that Pt atoms and Fe atoms easily move during annealing.
Then, after the alloy particles are annealed, the presence of oxygen cannot be confirmed, and the presence of bonds with Pt atoms and Fe atoms can be confirmed around the Fe atoms.

上記現象を考慮すれば、酸化しないと相変態が進行しにくくなりアニール処理温度を高くする必要が生じることがわかる。しかし、過度に酸化するとＦｅ等の酸化されやすい金属と酸素との相互作用が強くなりすぎて金属酸化物が生成してしまうことも考えられる。
よって、合金粒子の酸化状態を制御することが重要となり、そのためには酸化処理条件を最適なものに設定する必要がある。 Considering the above phenomenon, it can be seen that if the oxidation is not performed, the phase transformation is difficult to proceed and the annealing temperature needs to be increased. However, if it is excessively oxidized, it is also conceivable that the interaction between oxygen, such as Fe, which is easily oxidized and oxygen becomes so strong that a metal oxide is generated.
Therefore, it is important to control the oxidation state of the alloy particles. For this purpose, it is necessary to set the oxidation treatment condition to an optimum one.

酸化処理は、例えば、既述の液相法などにより合金粒子を作製した場合は、作製した後の合金粒子含有液に少なくとも酸素を含有するガスを供給すればよい。
このときの酸素分圧は、全圧の１０〜１００％とすることが好ましく、１５〜５０％とすることが好ましい。
また、酸化処理温度は、０〜１００℃とすることが好ましく、１５〜８０℃とすることが好ましい。 In the oxidation treatment, for example, when alloy particles are produced by the liquid phase method described above, a gas containing at least oxygen may be supplied to the produced alloy particle-containing liquid.
The oxygen partial pressure at this time is preferably 10 to 100% of the total pressure, and preferably 15 to 50%.
Moreover, it is preferable to set it as 0-100 degreeC, and, as for oxidation treatment temperature, it is preferable to set it as 15-80 degreeC.

合金粒子の酸化状態は、ＥＸＡＦＳ等で評価することが好ましく、Ｆｅ等の卑な金属と酸素との結合数は、酸素によりＦｅ−Ｆｅ結合、Ｐｔ−Ｆｅ結合を切るという観点から、０．５〜４であることが好ましく、１〜３であることがより好ましい。   The oxidation state of the alloy particles is preferably evaluated by EXAFS or the like, and the number of bonds between a base metal such as Fe and oxygen is 0.5 from the viewpoint of cutting Fe—Fe bond and Pt—Fe bond by oxygen. It is preferable that it is -4, and it is more preferable that it is 1-3.

また、酸化処理は、上記合金粒子を下地層上などに塗布もしくは固定した状態で、室温（０〜４０℃）で空気中に暴露して行ってもよい。支持体上等で塗布した状態で行うことで、合金粒子の凝集を防ぐことができる。当該酸化処理の時間としては、１時間〜４８時間とすることが好ましく、３時間〜２４時間とすることがより好ましい。   The oxidation treatment may be performed by exposing the alloy particles to the air at room temperature (0 to 40 ° C.) in a state where the alloy particles are applied or fixed on an underlayer or the like. Aggregation of alloy particles can be prevented by carrying out the coating on a support or the like. The oxidation treatment time is preferably 1 hour to 48 hours, more preferably 3 hours to 24 hours.

＜アニール処理工程＞
酸化処理を施した合金粒子は不規則相である。既述のように不規則相では強磁性は得られない。そこで、規則相とするためには、アニール処理（熱処理）を施す必要がある。前記アニール処理は、示差熱分析（ＤＴＡ）を用い、合金粒子を構成する合金が規則不規則変態する変態温度を求め、その温度以上で行う事が必要である。 <Annealing process>
The alloy particles subjected to the oxidation treatment are irregular phases. As described above, ferromagnetism cannot be obtained in the irregular phase. Therefore, in order to obtain a regular phase, it is necessary to perform an annealing process (heat treatment). The annealing treatment needs to be performed at a temperature equal to or higher than a temperature at which the alloy constituting the alloy particles undergoes a regular and irregular transformation using differential thermal analysis (DTA).

上記変態温度は、通常５００℃程度であるが、第三元素の添加により下がることがある。また、既述の酸化処理やアニール処理の雰囲気を適宜変えることで、上記変態温度を下げることができる。従って、アニール処理温度は１５０℃以上とすることが好ましく、１５０〜４５０℃とすることがより好ましい。   The transformation temperature is usually about 500 ° C., but may be lowered by the addition of the third element. Further, the transformation temperature can be lowered by appropriately changing the atmosphere of the above-described oxidation treatment or annealing treatment. Therefore, the annealing temperature is preferably 150 ° C. or higher, and more preferably 150 to 450 ° C.

磁気記録媒体として代表的なものに磁気記録テープ、フロッピー（Ｒ）ディスクがある。これらは有機物支持体上にウェブ状態で磁性層を形成した後、前者ではテープ状に加工し、後者ではディスク状に打ち抜き製造する。本発明は強磁性への変態温度を下げることができるという点において、有機物支持体を用いる際に有効であり、これらへの応用は好ましい態様である。   Typical examples of the magnetic recording medium include a magnetic recording tape and a floppy (R) disk. After forming a magnetic layer in a web state on an organic support, these are processed into a tape in the former, and punched into a disk in the latter. The present invention is effective when using an organic support in that the transformation temperature to ferromagnetism can be lowered, and application to these is a preferred embodiment.

ウェブ状態でアニール処理を施すには、アニール時間は短い方が好ましい。これはアニール時間が長いと装置が長大なものとなるためである。例えば、ウェブの搬送速度を５０ｍ／ｍｉｎでアニール時間を３０分とした場合、ライン長は１５００ｍｍになってしまう。そこで、本発明の磁性粒子の製造方法において、好ましいアニール処理時間は１０分以下とすることが好ましく、５分以下とすることがより好ましい。   In order to perform the annealing process in the web state, it is preferable that the annealing time is short. This is because if the annealing time is long, the apparatus becomes long. For example, when the web conveyance speed is 50 m / min and the annealing time is 30 minutes, the line length is 1500 mm. Therefore, in the method for producing magnetic particles of the present invention, the preferable annealing time is preferably 10 minutes or less, more preferably 5 minutes or less.

また、アニール処理時間を上記のように短縮するため、アニール処理の雰囲気は、後述するように、還元雰囲気とすることが好ましい。これは、支持体の変形を防止する上で有効であり、支持体からの不純物の拡散を防止する上でも有効である。   Further, in order to shorten the annealing treatment time as described above, the atmosphere of the annealing treatment is preferably a reducing atmosphere as will be described later. This is effective in preventing deformation of the support and is also effective in preventing diffusion of impurities from the support.

また、粒子状態でアニール処理を施すと粒子の移動が起こりやすく融着が生じやすい。このため高い保磁力は得られるが粒子サイズが大きくなる欠点を有しやすい。従って、アニール処理は、合金粒子の凝集を防ぐ観点から、下地層上などで塗布した状態で行うことが好ましい。
さらに、下地層上で合金粒子をアニールして磁性粒子とすることで、かかる磁性粒子からなる層（合金層）を磁性層とした磁気記録媒体に供することができる。 In addition, when annealing is performed in a particle state, the particles are likely to move and fusion is likely to occur. For this reason, although a high coercive force is obtained, it tends to have a disadvantage that the particle size becomes large. Therefore, the annealing treatment is preferably performed in a state where it is applied on the underlayer or the like from the viewpoint of preventing aggregation of the alloy particles.
Furthermore, by annealing the alloy particles on the underlayer to form magnetic particles, the magnetic recording medium can be provided with a layer (alloy layer) made of such magnetic particles as a magnetic layer.

支持体としては、ポリイミドからなる下地層を塗布できる部材であれば特に限定されない。支持体がポリイミドからなっていても差し支えない。
以下、本発明で好ましく用いられる支持体を有機物支持体、無機物支持体に分けて説明する。 The support is not particularly limited as long as it is a member to which a base layer made of polyimide can be applied. The support may be made of polyimide.
Hereinafter, the support preferably used in the present invention will be described by dividing it into an organic support and an inorganic support.

有機物の支持体としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル類；ポリオレフィン類；セルロ−ストリアセテート、ポリカーボネート、ポリアミド（脂肪族ポリアミドやアラミド等の芳香族ポリアミドを含む）、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリスルフォン、ポリベンゾオキサゾール；等を用いる事ができる。   Examples of organic supports include polyesters such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate; polyolefins; cellulose triacetate, polycarbonate, polyamide (including aromatic polyamides such as aliphatic polyamide and aramid), polyimide, polyamideimide, poly Sulfone, polybenzoxazole, etc. can be used.

支持体の耐熱温度としては１５０℃以上である事が好ましく、ＣｕＡｕ型、Ｃｕ₃Ａｕ型強磁性規則合金の変態温度を考慮すると、３００℃〜５５０℃である事が好ましい。耐熱温度が高ければ高いほど好ましいが、実質上３００℃〜５５０℃の範囲で耐熱性を有していればよい。支持体中に支持体製造時のハンドリングのために無機フィラーを有する場合があるが本発明はこのような支持体を平滑化（実質的に突起がない状態）する事に特に効果を発揮する。平滑な支持体を工業的に製造する際に、支持体が平滑すぎるとハンドリングが困難となる。一方、磁気記録媒体に使う場合には平滑性が要求されるからである。 The heat resistant temperature of the support is preferably 150 ° C. or higher, and is preferably 300 ° C. to 550 ° C. in consideration of the transformation temperature of CuAu type and Cu ₃ Au type ferromagnetic ordered alloys. The higher the heat-resistant temperature, the better. However, the heat-resistant temperature should be substantially in the range of 300 ° C to 550 ° C. In some cases, the support may have an inorganic filler for handling during production of the support, but the present invention is particularly effective in smoothing such a support (substantially free of protrusions). When a smooth support is produced industrially, if the support is too smooth, handling becomes difficult. On the other hand, smoothness is required for use in magnetic recording media.

有機物支持体において、無機フィラーを有する表面が粗い層と、粗い面を有しないかまたは粗い状態を少なくした平滑な面を有する支持体は、以前から使用されていた。しかし、これらは、平滑化のみに着目したものであり、本発明における下地層の耐熱性を考慮したものではなかった。   In an organic support, a support having a rough surface having an inorganic filler and a smooth surface having no rough surface or a reduced rough state has been used for some time. However, these focus only on smoothing, and do not consider the heat resistance of the underlayer in the present invention.

また、ＣｕＡｕ型またはＣｕ₃Ａｕ型強磁性規則を形成し得る磁性粒子は、下地層上に塗布した後に、アニール処理をしないと粒子が融着し、この結果、表面の平滑性を損ねる事が本発明者の検討の結果明らかとなった。従って、支持体上にポリイミドからなる下地層を設け、該下地層上にＣｕＡｕ型またはＣｕ₃Ａｕ型強磁性規則合金を有する層を設ける事で、実質的に突起が発生しない等の従来技術から予想し得ない効果を得る事ができる。 Also, magnetic particles capable of forming a CuAu type or Cu ₃ Au type ferromagnetic rule may be fused without applying an annealing treatment after coating on the underlayer, resulting in a loss of surface smoothness. It became clear as a result of examination of this inventor. Therefore, by providing a base layer made of polyimide on the support, and providing a layer having a CuAu type or Cu ₃ Au type ferromagnetic ordered alloy on the base layer, the conventional technique such as substantially no protrusion is generated. An unexpected effect can be obtained.

無機物の支持体としては、Ａｌ、Ａｌ−Ｍｇ、Ｍｇ−Ａｌ−Ｚｎ等のＭｇ合金、ガラス、石英、カーボン、シリコン、セラミックス等が用いられる。これらの支持体は耐衝撃性に優れ、また薄型化や高速回転に適した剛性を有する。また、有機物支持体と比較して、熱に強い特徴を有している。
しかし、これらを磁気記録媒体の支持体として使用するには、その平滑化の要請を満たすために、表面を研磨する必要があった。この研磨工程のゆえに製造コストの上昇をもたらしていた。
従って、研磨工程より一般に製造時間が短く、製造コストが下がる塗布により平滑な耐熱性を有する層を形成し得る事から、これらの支持体を使用する事は本発明の好ましい態様となる。 As the inorganic support, Mg alloys such as Al, Al—Mg, and Mg—Al—Zn, glass, quartz, carbon, silicon, ceramics, and the like are used. These supports are excellent in impact resistance and have rigidity suitable for thinning and high-speed rotation. Moreover, compared with an organic substance support body, it has the characteristic strong against a heat | fever.
However, in order to use these as a support for a magnetic recording medium, it is necessary to polish the surface in order to satisfy the smoothing requirement. This polishing process has led to an increase in manufacturing costs.
Accordingly, a layer having smooth heat resistance can be formed by coating which generally has a shorter production time than the polishing step and lowers the production cost. Therefore, the use of these supports is a preferred embodiment of the present invention.

下地層上に合金粒子を塗布するには、前記酸化処理を施した後の合金粒子含有液に必要に応じて種々の添加剤を添加して、支持体上に塗布すればよい。
このときの合金粒子の含有量は所望の濃度（０．０１〜０．１ｍｇ／ｍｌ）とすることが好ましい。
下地層上に塗布する方法としては、エアードクターコート、ブレードコート、ロッドコート、押出しコート、エアナイフコート、スクイズコート、含浸コート、リバースロールコート、トランスファーロールコート、グラビヤコート、キスコート、キャストコート、スプレイコート、スピンコート等が利用できる。 In order to apply the alloy particles on the underlayer, various additives may be added to the alloy particle-containing liquid after the oxidation treatment, if necessary, and applied to the support.
At this time, the content of the alloy particles is preferably a desired concentration (0.01 to 0.1 mg / ml).
Coating methods on the underlayer include air doctor coat, blade coat, rod coat, extrusion coat, air knife coat, squeeze coat, impregnation coat, reverse roll coat, transfer roll coat, gravure coat, kiss coat, cast coat, spray coat Spin coating or the like can be used.

アニール処理を施す際の雰囲気としては、相変態を効率良く進行させ合金の酸化を防ぐため、Ｈ₂、Ｎ₂、Ａｒ、Ｈｅ、Ｎｅ等の非酸化性雰囲気下とすることが好ましい。 The atmosphere for the annealing treatment is preferably a non-oxidizing atmosphere such as H ₂ , N ₂ , Ar, He, Ne, etc., in order to efficiently advance the phase transformation and prevent oxidation of the alloy.

特に、酸化処理により格子上に存在する酸素を脱離させる観点から、メタン、エタン、Ｈ₂等の還元性雰囲気とすることが好ましい。さらに、粒径維持の観点から、還元性雰囲気下の磁場中でアニール処理を行うことが好ましい。なお、Ｈ₂雰囲気とする場合は防爆の観点から、不活性ガスを混合させることが好ましい。 In particular, from the viewpoint of desorbing oxygen present on the lattice by oxidation treatment, a reducing atmosphere such as methane, ethane, H ₂ or the like is preferable. Further, from the viewpoint of maintaining the particle size, it is preferable to perform the annealing treatment in a magnetic field under a reducing atmosphere. In view of explosion if the atmosphere of H _2, it is preferable to mix an inert gas.

また、アニール時に粒子の融着を防止するために、変態温度以下、不活性ガス中で一旦アニール処理を行い、分散剤を炭化した後、還元性雰囲気中で変態温度以上でアニール処理を行うことが好ましい。このとき、必要に応じて変態温度以下の前記アニール処理後に、合金粒子からなる層上にＳｉ系の樹脂等を塗布し、変態温度以上でアニール処理を行うことが最も好ましい態様である。
以上のようなアニール処理を施すことで、合金粒子が不規則相から規則相に相変態し、強磁性を有する磁性粒子が得られ、当該磁性粒子を含有する合金層が形成される。 Also, in order to prevent particle fusion during annealing, annealing is performed once in an inert gas below the transformation temperature, carbonizing the dispersant, and then annealing at a temperature above the transformation temperature in a reducing atmosphere. Is preferred. At this time, it is the most preferable aspect that, after the annealing treatment at the transformation temperature or lower, if necessary, a Si-based resin or the like is applied on the layer made of alloy particles and the annealing treatment is performed at the transformation temperature or higher.
By performing the annealing treatment as described above, the alloy particles undergo a phase transformation from an irregular phase to an ordered phase, magnetic particles having ferromagnetism are obtained, and an alloy layer containing the magnetic particles is formed.

磁性粒子は、その保磁力が９５．５〜３９８ｋＡ／ｍ（１２００〜５０００Ｏｅ）であることが好ましく、磁気記録媒体に適用した場合、記録ヘッドが対応できることを考慮して９５．５〜２７８．６ｋＡ／ｍ（１２００〜３５００Ｏｅ）であることがより好ましい。
また、当該磁性粒子の粒径は１〜１００ｎｍであることが好ましく、３〜２０ｎｍであることがより好ましく、３〜１０ｎｍであることがさらに好ましい。 The magnetic particles preferably have a coercive force of 95.5 to 398 kA / m (1200 to 5000 Oe). When applied to a magnetic recording medium, the magnetic head can cope with 95.5 to 278.6 kA. / M (1200 to 3500 Oe) is more preferable.
The particle size of the magnetic particles is preferably 1 to 100 nm, more preferably 3 to 20 nm, and even more preferably 3 to 10 nm.

−第２の方法−
合金層を形成するための第２の方法は、下地層上にＣｕＡｕ型またはＣｕ₃Ａｕ型強磁性規則合金相を形成し得る合金を含有する層を形成し、酸化処理を施した後、非酸化性雰囲気でアニール処理を施すものである。
当該製造方法は、既述の第１の方法と共通する点を含むが、下地層上に直接上記合金を析出させて、酸化処理およびアニール処理を施して作製するものである点で異なる。 -Second method-
The second method for forming the alloy layer is to form a layer containing an alloy capable of forming a CuAu type or Cu ₃ Au type ferromagnetic ordered alloy phase on the underlayer, and after performing oxidation treatment, Annealing is performed in an oxidizing atmosphere.
The manufacturing method includes points in common with the first method described above, but is different in that the manufacturing method is performed by depositing the alloy directly on the base layer, and performing oxidation treatment and annealing treatment.

上記析出方法としては、所望の合金を支持体上に析出させて合金を含有する層を形成することができる方法であれば特に限定されないが、スパッタ製膜法を用いて作製することが好ましい。   The deposition method is not particularly limited as long as it can deposit a desired alloy on a support to form a layer containing the alloy, but it is preferably produced by a sputtering film forming method.

スパッタ製膜法には「ＲＦマグネトロンスパッタ法（以下、「ＲＦスパッタ法」ということがある）」、「ＤＣマグネトロンスパッタ法」があり、いずれの方法を用いてもかまわないが、「ＲＦスパッタ法」がＣｕＡｕ型あるいはＣｕ₃Ａｕ型規則合金を形成し得る合金粒子を効率よく形成できる観点から好ましい。 The sputtering film forming method includes “RF magnetron sputtering method (hereinafter also referred to as“ RF sputtering method ”)” and “DC magnetron sputtering method”, and either method may be used. Is preferable from the viewpoint of efficiently forming alloy particles capable of forming a CuAu type or Cu ₃ Au type ordered alloy.

結晶粒界にＳｉ、Ｃｒ等を偏析させることが、磁化の単位を小さくし、ノイズを下げる観点からも好ましい。
スパッタで製膜されたＣｕＡｕ型、Ｃｕ₃Ａｕ型規則合金は、常磁性体あるいは軟磁性体であり、アニール処理で強磁性体となる。この際、一旦酸化した後、非酸化性雰囲気、好ましくは還元性雰囲気下にてアニール処理することが変態温度を下げる観点で有効である。
製膜した後の酸化処理は、第１の方法で空気に暴露させる方法を適用することが好ましい。 It is preferable to segregate Si, Cr, etc. at the grain boundaries from the viewpoint of reducing the unit of magnetization and reducing noise.
The CuAu type and Cu ₃ Au type ordered alloys formed by sputtering are paramagnetic or soft magnetic, and become ferromagnetic after annealing. In this case, it is effective from the viewpoint of lowering the transformation temperature to perform the annealing treatment in a non-oxidizing atmosphere, preferably a reducing atmosphere after being once oxidized.
For the oxidation treatment after film formation, it is preferable to apply the method of exposing to air in the first method.

酸化処理を施した後、第１の方法と同様の条件を適用してアニール処理を施し、合金層を形成することが好ましい。   After performing the oxidation treatment, it is preferable to apply an annealing treatment under the same conditions as in the first method to form an alloy layer.

＜＜磁気記録媒体＞＞
本発明の磁気記録媒体は、支持体上に、ＣｕＡｕ型またはＣｕ₃Ａｕ型強磁性規則合金を含有する磁性層を有する積層体であって、支持体と磁性層との間に、ポリイミド樹脂からなる下地層を有する。すなわち、本発明の積層体を磁気記録媒体に適用したものである。 << Magnetic recording medium >>
The magnetic recording medium of the present invention is a laminate having a magnetic layer containing a CuAu type or Cu ₃ Au type ferromagnetic ordered alloy on a support, and is formed of a polyimide resin between the support and the magnetic layer. A base layer. That is, the laminate of the present invention is applied to a magnetic recording medium.

当該磁気記録媒体としては、ビデオテープ、コンピューターテープ等の磁気テープ；フロッピー（Ｒ）ディスク、ハードディスク等の磁気ディスク；等が挙げられる。   Examples of the magnetic recording medium include magnetic tapes such as video tapes and computer tapes; magnetic disks such as floppy (R) disks and hard disks.

既述のように下地層上に合金粒子（合金粒子含有液）を塗布し、アニール処理を施して磁性粒子とした場合は、かかる磁性粒子からなる層（合金層）を磁性層とすることができる。   As described above, when alloy particles (alloy particle-containing liquid) are applied onto the underlayer and annealed to obtain magnetic particles, the layer made of such magnetic particles (alloy layer) may be used as the magnetic layer. it can.

また、下地層上で合金粒子をアニール処理せず、粒子の状態でアニール処理を行って磁性粒子を作製した場合は、当該磁性粒子をオープンニーダー、３本ロールミル等で混練した後、サンドグラインダー等で微分散して塗布液を調製し、公知の方法で支持体上にこれを塗布し磁性層を形成すればよい。   Also, when the magnetic particles are produced by annealing in the state of the particles without annealing the alloy particles on the underlayer, the magnetic particles are kneaded with an open kneader, a three roll mill, etc., and then a sand grinder or the like. The coating liquid may be prepared by finely dispersing and a magnetic layer may be formed by coating on a support by a known method.

さらに、「第２の方法」で説明したように、スパッタ製膜法等により、支持体上にＣｕＡｕ型あるいはＣｕ₃Ａｕ型強磁性規則合金相を形成し得る合金を含有する層を形成し、酸化処理を施した後、非酸化性雰囲気でアニール処理を施して、合金層を形成し、この合金層を磁性層として、磁気記録媒体を作製してもよい。 Further, as described in the “second method”, a layer containing an alloy capable of forming a CuAu type or Cu ₃ Au type ferromagnetic ordered alloy phase is formed on the support by a sputtering film forming method or the like, After the oxidation treatment, an annealing treatment may be performed in a non-oxidizing atmosphere to form an alloy layer, and this alloy layer may be used as a magnetic layer to produce a magnetic recording medium.

この場合、酸化処理は、既述の室温（０〜４０℃）で空気中に暴露する処理を適用することができる。また、アニール処理は、「第１の方法」で説明したような処理を適用することが好ましい。   In this case, the oxidation treatment can be applied to the exposure at room temperature (0 to 40 ° C.) as described above. Moreover, it is preferable to apply the treatment described in the “first method” as the annealing treatment.

形成される磁性層の厚さは、適用される磁気記録媒体の種類にもよるが、４ｎｍ〜１μｍであることが好ましく、４ｎｍ〜１００ｎｍであることがより好ましい。   The thickness of the magnetic layer to be formed depends on the type of magnetic recording medium to be applied, but is preferably 4 nm to 1 μm, and more preferably 4 nm to 100 nm.

本発明の磁気記録媒体は、磁性層のほかに必要に応じて他の層を有していてもよい。例えば、ディスクの場合、磁性層の反対側の面にさらに磁性層や非磁性層を設けることが好ましい。テープの場合、磁性層の反対側の不溶性支持体面上にバック層を設けることが好ましい。   The magnetic recording medium of the present invention may have other layers as needed in addition to the magnetic layer. For example, in the case of a disk, it is preferable to further provide a magnetic layer or a nonmagnetic layer on the opposite surface of the magnetic layer. In the case of a tape, it is preferable to provide a back layer on the surface of the insoluble support opposite to the magnetic layer.

また、磁性層上に非常に薄い保護膜を形成することで、耐磨耗性を改善し、さらにその保護膜上に潤滑剤を塗布して滑り性を高めることによって、十分な信頼性を有する磁気記録媒体とすることができる。   In addition, by forming a very thin protective film on the magnetic layer, the wear resistance is improved, and a lubricant is applied on the protective film to increase slipperiness, thereby providing sufficient reliability. It can be a magnetic recording medium.

保護膜の材質としては、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化コバルト、酸化ニッケルなどの酸化物；窒化チタン、窒化ケイ素、窒化ホウ素などの窒化物；炭化ケイ素、炭化クロム、炭化ホウ素等の炭化物；グラファイト、無定型カーボンなどの炭素（カーボン）；等があげられるが、特に好ましくは、一般に、ダイヤモンドライクカーボンと呼ばれる硬質の非晶質のカーボンである。   As a material of the protective film, oxides such as silica, alumina, titania, zirconia, cobalt oxide and nickel oxide; nitrides such as titanium nitride, silicon nitride and boron nitride; carbides such as silicon carbide, chromium carbide and boron carbide; Examples of the carbon include carbon and carbon such as graphite and amorphous carbon, and particularly preferable is a hard amorphous carbon generally called diamond-like carbon.

カーボンからなるカーボン保護膜は、非常に薄い膜厚で十分な耐磨耗性を有し、摺動部材に焼き付きを生じ難いため、保護膜の材料としては好適である。
カーボン保護膜の形成方法として、ハードディスクにおいては、スパッタリング法が一般的であるが、ビデオテープ等の連続成膜を行う必要のある製品ではより成膜速度の高いプラズマＣＶＤを用いる方法が多数提案されている。従って、これらの方法を適用することが好ましい。 A carbon protective film made of carbon is suitable as a material for the protective film because it has a very thin film thickness and sufficient wear resistance, and hardly causes seizure on the sliding member.
As a method for forming a carbon protective film, sputtering is generally used for hard disks, but many methods using plasma CVD with a higher film formation rate have been proposed for products that require continuous film formation such as video tape. ing. Therefore, it is preferable to apply these methods.

中でもプラズマインジェクションＣＶＤ（ＰＩ−ＣＶＤ）法は成膜速度が非常に高く、得られるカーボン保護膜も硬質かつピンホールが少ない良質な保護膜が得られると報告されている（例えば、特開昭６１−１３０４８７号公報、特開昭６３−２７９４２６号公報、特開平３−１１３８２４号公報等）。   Among them, it has been reported that the plasma injection CVD (PI-CVD) method has a very high film formation rate, and the obtained carbon protective film is hard and has a good quality protective film with few pinholes (for example, JP-A-61-61). No. 130487, JP-A 63-279426, JP-A 3-113824, etc.).

このカーボン保護膜は、ビッカース硬度で１０００ｋｇ／ｍｍ²以上であることが好ましく、２０００ｋｇ／ｍｍ²以上であることがより好ましい。また、その結晶構造はアモルファス構造であり、かつ非導電性であることが好ましい。 The carbon protective film preferably has a Vickers hardness of 1000 kg / mm ² or more, and more preferably 2000 kg / mm ² or more. The crystal structure is preferably an amorphous structure and non-conductive.

そして、カーボン保護膜として、ダイヤモンド状炭素（ダイヤモンドライクカーボン）膜を使用した場合、この構造はラマン光分光分析によって確認することができる。すなわち、ダイヤモンド状炭素膜を測定した場合には、１５２０〜１５６０ｃｍ^-1にピークが検出されることによって確認することができる。炭素膜の構造がダイヤモンド状構造からずれてくるとラマン光分光分析により検出されるピークが上記範囲からずれるとともに、保護膜としての硬度も低下する。 When a diamond-like carbon (diamond-like carbon) film is used as the carbon protective film, this structure can be confirmed by Raman light spectroscopic analysis. That is, when a diamond-like carbon film is measured, it can be confirmed by detecting a peak at 1520 to 1560 cm ⁻¹ . When the structure of the carbon film deviates from the diamond-like structure, the peak detected by Raman light spectroscopic analysis deviates from the above range, and the hardness as a protective film also decreases.

このカーボン保護膜を形成するための炭素原料としては、メタン、エタン、プロパン、ブタン等のアルカン；エチレン、プロピレン等のアルケン；アセチレン等のアルキン；をはじめとした炭素含有化合物を用いることが好ましい。また、必要に応じてアルゴンなどのキャリアガスや膜質改善のための水素や窒素などの添加ガスを加えることができる。   As the carbon raw material for forming this carbon protective film, it is preferable to use carbon-containing compounds such as alkanes such as methane, ethane, propane and butane; alkenes such as ethylene and propylene; and alkynes such as acetylene. Further, a carrier gas such as argon or an additive gas such as hydrogen or nitrogen for improving the film quality can be added as necessary.

カーボン保護膜の膜厚が厚いと、電磁変換特性の悪化や磁性層に対する密着性の低下が生じ、膜厚が薄いと耐磨耗性が不足する。従って、膜厚は、２．５〜２０ｎｍとすることが好ましく、５〜１０ｎｍとすることがより好ましい。   When the carbon protective film is thick, the electromagnetic conversion characteristics are deteriorated and the adhesion to the magnetic layer is deteriorated. When the carbon protective film is thin, the wear resistance is insufficient. Accordingly, the film thickness is preferably 2.5 to 20 nm, and more preferably 5 to 10 nm.

また、この保護膜と基板となる磁性層の密着性を改善するために、あらかじめ磁性層表面を不活性ガスでエッチングしたり、酸素等の反応性ガスプラズマに曝して表面改質する事が好ましい。   In order to improve the adhesion between the protective film and the magnetic layer serving as the substrate, it is preferable to etch the surface of the magnetic layer with an inert gas in advance or to modify the surface by exposure to a reactive gas plasma such as oxygen. .

磁性層は電磁変換特性を改善するため重層構成としたり、磁性層の下に公知の非磁性下地層や中間層を有していてもよい。走行耐久性および耐食性を改善するため、既述のように、上記磁性層もしくは保護膜上に潤滑剤や防錆剤を付与することが好ましい。添加する潤滑剤としては公知の炭化水素系潤滑剤、フッ素系潤滑剤、極圧添加剤などが使用できる。   The magnetic layer may have a multilayer structure in order to improve electromagnetic conversion characteristics, or may have a known nonmagnetic underlayer or intermediate layer under the magnetic layer. In order to improve running durability and corrosion resistance, it is preferable to apply a lubricant or a rust preventive agent on the magnetic layer or the protective film as described above. As the lubricant to be added, known hydrocarbon lubricants, fluorine lubricants, extreme pressure additives and the like can be used.

炭化水素系潤滑剤としては、ステアリン酸、オレイン酸等のカルボン酸類；ステアリン酸ブチル等のエステル類；オクタデシルスルホン酸等のスルホン酸類；リン酸モノオクタデシル等のリン酸エステル類；ステアリルアルコール、オレイルアルコール等のアルコール類；ステアリン酸アミド等のカルボン酸アミド類；ステアリルアミン等のアミン類；などが挙げられる。   Examples of hydrocarbon lubricants include carboxylic acids such as stearic acid and oleic acid; esters such as butyl stearate; sulfonic acids such as octadecyl sulfonic acid; phosphate esters such as monooctadecyl phosphate; stearyl alcohol and oleyl alcohol. Alcohols such as stearamide, amines such as stearylamine, and the like.

フッ素系潤滑剤としては、上記炭化水素系潤滑剤のアルキル基の一部または全部をフルオロアルキル基もしくはパーフルオロポリエーテル基で置換した潤滑剤が挙げられる。   Examples of the fluorine-based lubricant include a lubricant in which part or all of the alkyl group of the hydrocarbon-based lubricant is substituted with a fluoroalkyl group or a perfluoropolyether group.

パーフルオロポリエーテル基としては、パーフルオロメチレンオキシド重合体、パーフルオロエチレンオキシド重合体、パーフルオロ−ｎ−プロピレンオキシド重合体（ＣＦ₂ＣＦ₂ＣＦ₂Ｏ）_n、パーフルオロイソプロピレンオキシド重合体（ＣＦ（ＣＦ₃）ＣＦ₂Ｏ）_nまたはこれらの共重合体等である。 Examples of perfluoropolyether groups include perfluoromethylene oxide polymer, perfluoroethylene oxide polymer, perfluoro-n-propylene oxide polymer (CF ₂ CF ₂ CF ₂ O) _n , perfluoroisopropylene oxide polymer (CF (CF ₃ ) CF ₂ O) _n or a copolymer thereof.

また、炭化水素系潤滑剤のアルキル基の末端や分子内に水酸基、エステル基、カルボキシル基などの極性官能基を有する化合物が、摩擦力を低減する効果が高く好適である。   In addition, a compound having a polar functional group such as a hydroxyl group, an ester group, or a carboxyl group at the terminal or in the molecule of the alkyl group of the hydrocarbon-based lubricant is preferable because of its high effect of reducing frictional force.

さらに、この分子量は、５００〜５０００、好ましくは１０００〜３０００である。５００〜５０００とすることで、揮発性を低く維持し、また潤滑性を高い状態に維持することが可能となり、また、スライダーとディスクと吸着を防ぎ、走行停止やヘッドクラッシュなどの発生を防ぐことができる。   Furthermore, this molecular weight is 500-5000, Preferably it is 1000-3000. By setting it to 500-5000, it becomes possible to maintain low volatility and to maintain high lubricity, and to prevent the slider and disk from adsorbing and to prevent the occurrence of stoppage or head crash. Can do.

このパーフルオロポリエーテルは、具体例的には、アウジモンド社製のＦＯＭＢＬＩＮ、デュポン社製のＫＲＹＴＯＸなどの商品名で市販されている。
極圧添加剤としては、リン酸トリラウリル等のリン酸エステル類；亜リン酸トリラウリル等の亜リン酸エステル類；トリチオ亜リン酸トリラウリル等のチオ亜リン酸エステルやチオリン酸エステル類；二硫化ジベンジル等の硫黄系極圧剤；などが挙げられる。 Specifically, this perfluoropolyether is commercially available under trade names such as FOMBLIN manufactured by Augmond and KRYTOX manufactured by DuPont.
Extreme pressure additives include phosphate esters such as trilauryl phosphate; phosphites such as trilauryl phosphite; thiophosphites and thiophosphates such as trilauryl trithiophosphite; dibenzyl disulfide And sulfur-based extreme pressure agents such as

前記潤滑剤は単独もしくは複数を併用して使用される。これらの潤滑剤を磁性層もしくは保護膜上に付与する方法としては、潤滑剤を有機溶剤に溶解し、ワイヤーバー法、グラビア法、スピンコート法、ディップコート法等で塗布するか、真空蒸着法によって付着させればよい。   The lubricants may be used alone or in combination. As a method for applying these lubricants on the magnetic layer or the protective film, the lubricant is dissolved in an organic solvent and applied by a wire bar method, a gravure method, a spin coating method, a dip coating method, or a vacuum deposition method. Can be attached.

防錆剤としては、ベンゾトリアゾール、ベンゾイミダゾール、プリン、ピリミジン等の窒素含有複素環類およびこれらの母核にアルキル側鎖等を導入した誘導体；ベンゾチアゾール、２−メルカプトンベンゾチアゾール、テトラザインデン環化合物、チオウラシル化合物等の窒素および硫黄含有複素環類およびこの誘導体；等が挙げられる。   Examples of rust inhibitors include nitrogen-containing heterocycles such as benzotriazole, benzimidazole, purine, and pyrimidine, and derivatives in which an alkyl side chain is introduced into the mother nucleus; benzothiazole, 2-mercapton benzothiazole, tetrazaindene And nitrogen- and sulfur-containing heterocycles such as ring compounds and thiouracil compounds and derivatives thereof.

既述のように、磁気記録媒体が磁気テープ等の場合は、非磁性支持体の磁性層が形成されていない面にバックコート層（バッキング層）が設けられていてもよい。バックコート層は、非磁性支持体の磁性層が形成されていない面に、研磨材、帯電防止剤などの粒状成分と結合剤とを公知の有機溶剤に分散したバックコート層形成塗料を塗布して設けられる層である。   As described above, when the magnetic recording medium is a magnetic tape or the like, a backcoat layer (backing layer) may be provided on the surface of the nonmagnetic support on which the magnetic layer is not formed. The back coat layer is formed by applying a back coat layer forming paint in which particulate components such as abrasives and antistatic agents and a binder are dispersed in a known organic solvent on the surface of the nonmagnetic support on which the magnetic layer is not formed. It is a layer provided.

粒状成分として各種の無機顔料やカーボンブラックを使用することができ、また結合剤としてはニトロセルロース、フェノキシ樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリウレタン等の樹脂を単独またはこれらを混合して使用することができる。
また、合金粒子含有液の塗布面およびバックコート層が形成される面には、公知の接着剤層が設けられていてもよい。 Various inorganic pigments and carbon black can be used as the particulate component, and resins such as nitrocellulose, phenoxy resin, vinyl chloride resin, and polyurethane can be used alone or in combination as binders. .
Further, a known adhesive layer may be provided on the surface on which the alloy particle-containing liquid is applied and on the surface on which the backcoat layer is formed.

以上のようにして製造される磁気記録媒体は、表面の中心線平均粗さが、カットオフ値０．２５ｍｍにおいて、好ましくは０．１〜５ｎｍ、より好ましくは１〜４ｎｍの範囲とする。このように、極めて優れた平滑性を有する表面とすることが、高密度記録用の磁気記録媒体として好ましいからである。   The magnetic recording medium manufactured as described above has a surface centerline average roughness of preferably 0.1 to 5 nm, more preferably 1 to 4 nm, at a cutoff value of 0.25 mm. This is because it is preferable for the magnetic recording medium for high-density recording to have a surface having extremely excellent smoothness.

このような表面を得る方法として、磁性層を形成した後にカレンダー処理を施す方法が挙げられる。また、バーニッシュ処理を施してもよい。
得られた磁気記録媒体は、適宜、打ち抜き機で打ち抜いたり、裁断機などを使用して所望の大きさに裁断して使用することができる。 As a method for obtaining such a surface, there is a method in which a calender treatment is performed after the magnetic layer is formed. Moreover, you may perform a varnish process.
The obtained magnetic recording medium can be used by appropriately punching with a punching machine or cutting to a desired size using a cutting machine or the like.

以下、実施例をもとに本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated further in detail based on an Example, this invention is not limited to these.

〔実施例１，２および比較例１〕
（ＦｅＰｔ合金粒子の作製）
高純度Ｎ₂ガス中で下記の操作を行った。
ＮａＢＨ₄（和光純薬製）０．７６ｇを水（脱酸素：０．１ｍｇ／リットル以下）１６ｍｌに溶解した還元剤水溶液に、エーロゾルＯＴ（和光純薬製）１０．８ｇとデカン（和光純薬製）８０ｍｌとオレイルアミン（東京化成製）２ｍｌとを混合したアルカン溶液を添加、混合して逆ミセル溶液（Ｉ）を調製した。 [Examples 1 and 2 and Comparative Example 1]
(Preparation of FePt alloy particles)
The following operation was performed in high purity N ₂ gas.
To a reducing agent aqueous solution in which 0.76 g of NaBH ₄ (manufactured by Wako Pure Chemical Industries) was dissolved in 16 ml of water (deoxygenated: 0.1 mg / liter or less), 10.8 g of aerosol OT (manufactured by Wako Pure Chemical Industries) and decane (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) A reverse micelle solution (I) was prepared by adding and mixing an alkane solution obtained by mixing 80 ml of oleylamine (manufactured by Tokyo Kasei).

三シュウ酸三アンモニウム鉄（Ｆｅ（ＮＨ₄）₃（Ｃ₂Ｏ₄）₃）（和光純薬製）０．４６ｇと塩化白金酸カリウム（Ｋ₂ＰｔＣｌ₄）（和光純薬製）０．３８ｇとを水（脱酸素）１２ｍｌに溶解した金属塩水溶液に、エーロゾルＯＴ５．４ｇとデカン４０ｍｌとを混合したアルカン溶液を添加、混合して逆ミセル溶液（ＩＩ）を調製した。 Triammonium iron oxalate (Fe (NH ₄ ) ₃ (C ₂ O ₄ ) ₃ ) (manufactured by Wako Pure Chemical Industries) 0.46 g and potassium chloroplatinate (K ₂ PtCl ₄ ) (manufactured by Wako Pure Chemical Industries) 0.38 g An alkane solution obtained by mixing 5.4 g of aerosol OT and 40 ml of decane was added to and mixed with an aqueous metal salt solution in which 12 ml of water was dissolved in 12 ml of water (deoxygenated) to prepare a reverse micelle solution (II).

逆ミセル溶液（Ｉ）を２２℃でオムニミキサー（ヤマト科学製）で高速攪拌しながら、逆ミセル溶液（ＩＩ）を瞬時に添加した。１０分後、マグネチックスターラーで攪拌しながら、５０℃に昇温して６０分間熟成した。   While the reverse micelle solution (I) was stirred at a high speed with an omni mixer (manufactured by Yamato Kagaku) at 22 ° C., the reverse micelle solution (II) was added instantaneously. After 10 minutes, the mixture was heated to 50 ° C. and aged for 60 minutes while stirring with a magnetic stirrer.

オレイン酸（和光純薬製）２ｍｌを添加して、室温まで冷却した。冷却後大気中に取出した。逆ミセルを破壊するために、水１００ｍｌとメタノール１００ｍｌとの混合溶液を添加して水相と油相とに分離した。油相側に合金粒子が分散した状態が得られた。油相側を水６００ｍｌとメタノール２００ｍｌとの混合溶液で５回洗浄した。   2 ml of oleic acid (manufactured by Wako Pure Chemical Industries) was added and cooled to room temperature. After cooling, it was taken out into the atmosphere. In order to destroy the reverse micelle, a mixed solution of 100 ml of water and 100 ml of methanol was added to separate into an aqueous phase and an oil phase. A state in which alloy particles were dispersed on the oil phase side was obtained. The oil phase side was washed 5 times with a mixed solution of 600 ml of water and 200 ml of methanol.

その後、メタノールを１１００ｍｌ添加して合金粒子にフロキュレーションを起こさせて沈降させた。上澄み液を除去して、ヘプタン（和光純薬製）２０ｍｌを添加して再分散した。   Thereafter, 1100 ml of methanol was added to cause flocculation of the alloy particles and sediment. The supernatant was removed, and 20 ml of heptane (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added and redispersed.

さらに、メタノール１００ｍｌ添加による沈降とヘプタン２０ｍｌ分散との沈降分散を２回繰り返して、最後にヘプタン５ｍｌを添加して、水と界面活性剤との質量比（水／界面活性剤）が２のＦｅＰｔ合金粒子を含有する合金粒子含有液を調製した。   Further, the precipitation by adding 100 ml of methanol and the precipitation dispersion of 20 ml of heptane were repeated twice, and finally 5 ml of heptane was added, and the mass ratio of water to surfactant (water / surfactant) was 2 FePt An alloy particle-containing liquid containing alloy particles was prepared.

得られた合金粒子について、収率、組成、体積平均粒径および分布（変動係数）の測定を行ったところ、下記のような結果が得られた。
なお、組成および収率は、ＩＣＰ分光分析（誘導結合高周波プラズマ分光分析）で測定により求めた。体積平均粒径および分布は、ＴＥＭ（透過型電子顕微鏡：日立製作所製 ３００ｋＶ）により撮影した粒子を計測して統計処理して求めた。
測定用合金粒子は、調製した合金粒子含有液から合金粒子を捕集し、十分乾燥させ、電気炉で加熱した後のものを使用した。
組成：Ｐｔ４４．５ａｔ％のＦｅＰｔ合金、収率：８５％、
平均粒径：４．２ｎｍ、変動係数：５％、 When the yield, composition, volume average particle diameter and distribution (coefficient of variation) of the obtained alloy particles were measured, the following results were obtained.
The composition and yield were determined by measurement by ICP spectroscopic analysis (inductively coupled high-frequency plasma spectroscopic analysis). The volume average particle size and distribution were obtained by measuring particles taken with a TEM (transmission electron microscope: 300 kV manufactured by Hitachi, Ltd.) and statistically processing the particles.
The alloy particles for measurement were used after the alloy particles were collected from the prepared alloy particle-containing liquid, sufficiently dried, and heated in an electric furnace.
Composition: Pt 44.5 at% FePt alloy, Yield: 85%,
Average particle size: 4.2 nm, coefficient of variation: 5%,

（下地層の形成）
ポリアミック酸（商品名：「Ｕ−ワニス 宇部興産（株）製）を１質量％とした１−メチル−２−ピロリドン溶液を塗布液とした。無機フィラーを有するポリイミド支持体（宇部興産製ユーピレックス７５Ｓ、厚み７５μｍ）上にスピンコータを用いて、調製した塗布液を、下記表１記載の乾層膜厚になるよう塗布した。
なお、ポリイミド支持体は帯電しやすく、塵埃がつきやすいので、クリーンルーム内で塗布・乾燥を行った。塗布後の面性は目視で評価し、結果を下記表１に記載した。 (Formation of underlayer)
A 1-methyl-2-pyrrolidone solution containing 1% by mass of polyamic acid (trade name: “U-Varnish Ube Industries, Ltd.”) was used as a coating solution. The prepared coating solution was applied using a spin coater on a thickness of 75 μm so as to have a dry layer thickness described in Table 1 below.
In addition, since the polyimide support body is easily charged and easily dusty, it was applied and dried in a clean room. The surface properties after coating were evaluated visually, and the results are shown in Table 1 below.

塗布後、赤外線イメージ炉（ＵＬＶＡＣ−ＲＩＫＯ製ＱＨ−ｐ８１０ｐ）を用い１００℃で３０分保持、１５０℃で１０分保持、２００℃で１０分保持、２５０℃で１０分保持、３００℃で１０分保持した後、３５０℃で１０分保持した後、降温し、下地層を形成した。昇温・降温速度は１０℃／分とした。
なお、下地層の膜厚が２０μｍのものを実施例１とし、１０μｍのものを実施例２とした。 After coating, using an infrared image furnace (QH-p810p manufactured by ULVAC-RIKO) for 30 minutes at 100 ° C, 10 minutes at 150 ° C, 10 minutes at 200 ° C, 10 minutes at 250 ° C, 10 minutes at 300 ° C After being held, held at 350 ° C. for 10 minutes, the temperature was lowered, and an underlayer was formed. The temperature increase / decrease rate was 10 ° C./min.
A base layer having a film thickness of 20 μm was designated as Example 1, and a film having a thickness of 10 μm was designated as Example 2.

（積層体の作製）
形成した下地層（比較例１の場合は支持体）上に、合金粒子含有液をスピンコータにより塗布した。塗布量は合金粒子が０．５ｇ／ｍ²となるようにした。塗布後空気中に２時間さらして、酸化処理をした。
塗布後、赤外線イメージ炉（ＵＬＶＡＣ−ＲＩＫＯ製ＱＨ−ｐ８１０ｐ）を用い昇温速度を５０℃／ｍｉｎとしＨ₂ガス雰囲気下の電気炉（４２５℃）中で３０分間加熱し、５０℃／ｍｉｎで室温まで降温してアニール処理を施し、磁性粒子を含有する磁性層（膜厚：５０ｎｍ）を形成し、積層体（磁気記録媒体）を作製した。 (Production of laminate)
On the formed underlayer (support in the case of Comparative Example 1), an alloy particle-containing liquid was applied by a spin coater. The coating amount was such that the alloy particles were 0.5 g / m ² . After application, it was exposed to air for 2 hours for oxidation treatment.
After coating, heating was performed for 30 minutes in an electric furnace (425 ° C.) under an H ₂ gas atmosphere using an infrared image furnace (QH-p810p manufactured by ULVAC-RIKO) at a heating rate of 50 ° C./min, and at 50 ° C./min. The temperature was lowered to room temperature and an annealing treatment was performed to form a magnetic layer (film thickness: 50 nm) containing magnetic particles, and a laminate (magnetic recording medium) was produced.

〔実施例３〕
支持体をガラス基板とし、ポリイミドからなる下地層の厚さを１０μｍとした以外は、実施例１と同様にして積層体（磁気記録媒体）を作製した。 Example 3
A laminate (magnetic recording medium) was produced in the same manner as in Example 1 except that the support was a glass substrate and the thickness of the base layer made of polyimide was 10 μm.

〔比較例１〕
支持体上に下地層を形成しなかった以外は、実施例１と同様にして積層体（磁気記録媒体）を作製した。 [Comparative Example 1]
A laminated body (magnetic recording medium) was produced in the same manner as in Example 1 except that the base layer was not formed on the support.

〔比較例２〕
支持体をガラス基板とし、ポリイミドからなる下地層を形成しなかった以外は、実施例１と同様にして積層体（磁気記録媒体）を作製した。 [Comparative Example 2]
A laminated body (magnetic recording medium) was produced in the same manner as in Example 1 except that the support was a glass substrate and the base layer made of polyimide was not formed.

（評価）
実施例１〜３および比較例１，２で作製した積層体について、１５ｎｍ以上の高さの突起の有無、磁気特性（保磁力の測定）、粒径の評価を行った。結果を下記表１に示す。
磁気特性は、磁性層を基板ごと測定した。東英工業製の高感度磁化ベクトル測定機と同社製ＤＡＴＡ処理装置を使用し、印加磁場７９０ｋＡ／ｍ（１０ｋＯｅ）の条件で行った。
磁気記録媒体の表面性の評価は微分干渉顕微鏡を用い表面突起の有無を１ｃｍ角の面積で行った。
磁気記録媒体の磁性層から、スパチェラにより磁性粒子を掻き落して、体積平均粒径の評価をＴＥＭ（透過型電子顕微鏡：日立製作所製 ３００ｋＶ）を用い、加速電圧を３００ｋＶとして測定した。 (Evaluation)
The laminates produced in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 and 2 were evaluated for the presence or absence of protrusions having a height of 15 nm or more, magnetic properties (coercivity measurement), and particle size. The results are shown in Table 1 below.
The magnetic characteristics were measured for each substrate of the magnetic layer. Using a high-sensitivity magnetization vector measuring machine manufactured by Toei Kogyo Co., Ltd. and a DATA processing apparatus manufactured by the same company, it was performed under the condition of an applied magnetic field of 790 kA / m (10 kOe).
The surface property of the magnetic recording medium was evaluated using a differential interference microscope, and the presence or absence of surface protrusions was measured in an area of 1 cm square.
Magnetic particles were scraped off from the magnetic layer of the magnetic recording medium with a spatula, and the volume average particle size was evaluated using a TEM (transmission electron microscope: 300 kV manufactured by Hitachi, Ltd.) and the acceleration voltage was measured at 300 kV.

比較例１および２では、表面に実用上問題なる突起の存在が確認されたのに対し、実施例１〜３ではいずれも、当該突起の存在は確認されなかった。また、フィラーを含むような平滑でない支持体に対して、平滑化するための処理を施す必要がないため、安価な積層体（磁気記録媒体）が得られることが確認できた。   In Comparative Examples 1 and 2, the presence of practically problematic protrusions was confirmed on the surface, whereas in Examples 1 to 3, the existence of the protrusions was not confirmed. Further, it was confirmed that an inexpensive laminate (magnetic recording medium) can be obtained because it is not necessary to perform a smoothing treatment on a non-smooth support containing a filler.

Claims (2)

支持体上に、ＣｕＡｕ型またはＣｕ₃Ａｕ型強磁性規則合金を含有する合金層を有する積層体であって、
前記支持体と前記合金層との間に、ポリイミド樹脂からなる下地層を有することを特徴とする積層体。 A laminated body having an alloy layer containing a CuAu type or Cu ₃ Au type ferromagnetic ordered alloy on a support,
A laminate comprising a base layer made of a polyimide resin between the support and the alloy layer. 支持体上に、ＣｕＡｕ型またはＣｕ₃Ａｕ型強磁性規則合金を含有する磁性層を有する磁気記録媒体であって、
前記支持体と前記磁性層との間に、ポリイミド樹脂からなる下地層を有することを特徴とする磁気記録媒体。 A magnetic recording medium having a magnetic layer containing a CuAu type or Cu ₃ Au type ferromagnetic ordered alloy on a support,
A magnetic recording medium comprising a base layer made of polyimide resin between the support and the magnetic layer.