JP2004508225A - 線描凹版印刷画像をもつデータ記憶媒体並びに画像意匠を線構造及び線描凹版印刷版に変換する方法 - Google Patents

Abstract

発明は彫版の態様における不規則線構造で表現されたハーフトーン画像を有する線描凹版で印刷されたデータ記憶媒体に関する。線構造に陽画及び／または陰画で描写される微細構造が少なくとも部分的に重畳される。
発明はオペレータによる個別の指定にしたがってコンピュータ上で不規則線構造をデジタル画像データとして生成及び処理する方法も含む。線構造は線描凹版印刷版に転写され、デジタル画像データは彫版装置を制御するために用いられるか、あるいは、別の印刷プロセスが適用される場合には、線構造に陽画及び／または陰画で描写される微細構造が少なくとも部分的に重畳される。

Description

【０００１】
本発明は線描凹版で印刷されたデータ記憶媒体及びどのような画像意匠も線描凹版印刷版に転写する方法に関する。
【０００２】
凹版印刷では印刷版のインク転写領域が窪みで与えられている。窪みはインクで満たされ、窪みだけがインクで満たされるように過剰なインクが拭取りローラーまたはドクターブレードで版面から除去され、インクが載せられた版が通常は紙からなる基板に押し付けられる。基板と版との分離の際に、インクが版面の窪みから基板に転写される。ロートグラビア印刷と線描凹版印刷とは区別される。
【０００３】
通常のロートグラビア印刷では、印刷版の、比較的流動性の高いインクで満たされる、小さな、密接してはいるが別々のセルにより画像がつくられる。印刷がなされる基板への転写後、インクは広がり、個々の画像点間の鮮明な分界がぼやける。ロートグラビア印刷では、セル密度を変えるか、またはセルの深さ及び大きさを変えて印刷中に転写されるインクの量を変えることにより、様々な色調及び無彩色値がつくられる。
【０００４】
他方で、線描凹版印刷では、印刷版のインク転写窪みはロートグラビア印刷のような点状ではなく、通常は線状である（よって“線描凹版”と称される）。印刷版またはローラーと基板との間の支持圧は非常に高く、基板材料には永続する押型模様も印刷中に付けられる。転写されるインクは粘稠度が高く、基板への転写後に横に広がらず、したがって、インク層厚が十分であれば、目で見ることができるだけでなく触感による感知もできる構造を、乾燥後に、形成できる。
【０００５】
線描凹版印刷版の従来の作成方法においては、表現されるべき画像意匠が線構造に分解され、これらの線が金属板に手作業で彫り込まれる。彫込みがなされた金属板は印刷版としてそのまま使用できるであろうが、通常は、普通の成形及び電鋳法により初めに複製がつくられる。原版の手作業作成は、意匠の魅力的かつ細部まで正しい描写のための高い芸術的能力及び技巧を必要とし、変更または修正の可能性をほとんど全く提供せず、時間と費用がかかる。したがって、表現されるべき意匠の線構造への変換が第１工程でグラフィカルに行われる、いわゆる“彫版図面”が初めに作成されることが多い。図面の作成時における変更及び修正の可能性は金属板への直接彫込みに比べれば若干広いが、それでも全体的に見れば極めて限られている。非常に高い芸術的能力及び技巧がやはり製図工に要求される。
【０００６】
写真術手段により、透明ホイルに彫版図面を転写することができ、これを通して印刷版上におかれたフォトレジスト層が露光される。図面の線に対応する領域では、版面が露出され、次いでエッチングによりインク受け窪みがつくられる。つくられる窪みの深さは、微細な線では同じエッチング時間でも太い線よりエッチング深さが浅くなるから、エッチング時間だけでなく線幅にも依存する。エッチングを数回繰り返すことにより、極めて限られた態様でしかないが、差が非常に大きく、線幅にほとんど依存しないエッチング深さを、この方法で印刷版上に得ることが可能である。個々のエッチング作業の間に、ある領域において被覆層がさらに版に施されるかまたは版から除去される。追加の作業工程のため、上記の方法は極めて精巧になる。さらに、作成可能な構造の微細度が限られ、エッチング結果を精確に再現することはできない。
【０００７】
国際公開第９７／４８５５５号パンフレットは、線からなる図面を彫込みにより印刷版面に転写する方法を提示している。図面のそれぞれの線に対して、その線の縁の輪郭に沿って延びる経路が彫込み工具用に計算される。この方法には版エッチングで生じる限界はないが、以降の変更の可能性をほとんど提供しない、精巧で融通性のない彫版図面作成がやはり必要である。
【０００８】
国際公開第８３／００５７０号パンフレットは、ラスター要素の自由選択によりハーフトーン画像を表現する方法を説明している。規則的に配されたラスター要素で全画像領域がカバーされ、ある画像領域の色調値がこの画像領域に対応するラスター要素をあらかじめ適切な色調値に割り当てられた線厚で表現することにより描写される。しかし、そのような、画像領域全体に一様に配されたラスター構造では、特に肖像画において、人工的な、生気のない表情が生じる。さらに、通常は、単独のラスター要素の形状寸法を十分識別でき、潜在的偽造者が知ることができる、画像領域が必ず存在する。ラスターの構造は全画像領域にわたって一定であるから、この方法でラスター表示された画像は比較的容易に再現及び贋造できる。
【０００９】
本発明の課題は、デザインがより複雑であり、したがって贋造に対してより安全な、線描凹版でつくられた印刷画像をもつ、データ記憶媒体を提案することにある。さらに、いかなる画像意匠も線描凹版印刷版に転写するための、従来技術の限界を有していない、方法が提案されるべきである。特に、提案される方法は画像意匠のより高速でより融通性のある変換を可能にし、画像意匠のグラフィック変換において変更及び修正を容易にし、より複雑な印刷画像デザインを可能にするべきである。
【００１０】
上記の課題は、独立請求項の特徴をもつデータ記憶媒体及び方法により解決される。本発明の有用な発展形が従属請求項の内容である。
【００１１】
本発明にしたがうデータ記憶媒体は、線描凹版で印刷され、彫版の態様で描写された、ハーフトーン画像を有する。すなわち、様々な視覚的印象を得るために印刷画像において間隔、線幅、形状及びタイプを選択的に変えることができる不規則線構造により、表現されるべき画像意匠の輪郭、コントラスト及び色調値が描写される。印刷画像は、微細構造により少なくとも部分的に重畳される、反復印刷構造要素、例えば線または交差線を有する。構造要素と一体化された微細構造は、印刷画像の複雑性をはるかに高め、よって偽造可能性及び贋造可能性を疑いもなく低める。さらに、微細構造により、構造要素で得られる視覚的印象をさらに変えることが可能になる。それにもかかわらず、線構造の個々のデザイン及び配置によりつくられる、彫版技術でつくられた画像意匠に特有の表現性及び有生気性が保たれる。
【００１２】
微細構造は、断点がなく連続していても、または規則的または不規則的な間隔で中断されていてもよい、印刷された構造要素に存在する、空白、すなわち無印刷の領域で形成することができる。同様に、印刷された構造要素を微細構造の重畳により分解することができる。すなわち、本来はインクが載っている構造要素領域が、陽画で描写された個々の印刷文字またはシンボルで置き換えられる。構造要素の輪郭だけが変わらない。微細構造は、任意のデザイン、英数字、ロゴ、シンボル、幾何学図形等のテキストを形成することができる。
【００１３】
微細構造が適宜にデザインされれば、技術的補助具がなければ読み取ることができない、印刷画像内で目に見えるかまたは画像内に隠された、追加情報または正規性認証印として微細構造を用いることができる。同様に、コピー防止構造として微細構造を形成することが可能である。
【００１４】
微細構造が陰画で、すなわち印刷領域に囲まれた無印刷空白領域として、描写されていれば、特に線または交差線の交差領域を有用にデザインすることができる。すなわち、印刷線内に無印刷線を空白のまま残しておくことが可能であり、無印刷線は二重線または多重線としてデザインすることもできる。無印刷線は、印刷線の幾何学的中心線に精確に平行に延びることが好ましい。空白領域は、例えば読取可能なテキストまたは製造者特有のロゴを表す、文字、模様、シンボルとしてデザインすることもできる。空白領域の大きさに依存して、そのようなテキストまたはシンボルは補助具、例えば拡大鏡を用いるかまたは用いずに容易にチェックすることができる。
【００１５】
構造要素が交差線で形成されていれば、特に交差領域全体または交差領域に平行に延びる線領域を空白のまま残しておくことができる。同様に、交差領域内に任意のデザインの文字またはシンボルを空白のまま残しておき、よって文字またはシンボルを陰画で描写することができる。
【００１６】
他方で、微細構造が陽画で描写されていれば、構造要素、例えば線が、個別に陽画印刷された任意の文字またはシンボルで分解される。文字またはシンボルは相互連結するかまたは分離しておくことができ、分解されるべき線の幾何学的中心線に沿って配されることが好ましい。文字またはシンボルは一定の大きさで、または大きさを変えて、組み込むことができる。分解されるべき線の線幅が変化していれば、好ましい実施形態では、線幅にしたがって大きさ及び／または線厚が変化する文字またはシンボルにより、縁のない線が描写される。
【００１７】
印刷技術による微細構造の確実な再現のため、陽画の線厚は２５μｍ以上であることが好ましく、一方陰画の空白領域は３５μｍないしそれより大きい白無地幅を有することが好ましい。陽画及び陰画は任意に組み合せることもできる。すなわち、陽画も陰画も、印刷画像内の相異なる場所で用い得るだけでなく、構造要素内に任意の配置または順序で組み合せることもできる。微細構造に陽画と陰画のいずれが選択されるかに関わらず、構造要素の文字及び／またはシンボルを構造要素内で任意に組み合せることができ、隣接する構造要素は、同じか、規則的に変わるかまたは完全に相異なる微細構造をもってデザインされる。微細構造による重畳のため、印刷画像に用いられる線構造は少なくとも２００μｍの線幅を有することが好ましい。
【００１８】
本発明のハーフトーン画像をつくるため、画像意匠は本発明の方法にしたがってデジタルデータレコードとして利用可能にされ、画像データは画素データとして存在する。画像意匠は画素データを基にして視覚表示され、したがって以降の彫版図面の態様での画像意匠のグラフィック変換に対する原図として役立たせることができる。オペレータによる指定にしたがって、画像意匠の輪郭及びハーフトーンを描写する個々の線構造が電子データ処理システムで生成される。異なる視覚的印象を得るべき画像領域に対しては異なる線構造が生成される。線構造を描写するデジタル画像データは、ベクトルベースのデータフォーマットで格納される。望ましければ、線構造の個々の線または対応する画像データが電子データ処理システムで処理される。これは、画像または画像領域の視覚的印象の細部まで正しい表現またはニュアンス変化を達成するために役立たせることができる。必要に応じて処理されたデジタル画像データは、ベクトルベースのデータフォーマットを保ったまま格納される。これらのデジタル画像データは次いで、線構造に対応する窪みが線描凹版印刷版面につくられるような方法で、精密彫版装置を制御するために用いられる。
【００１９】
線描凹版印刷版の作成における本手法の特別な利点は、物理的に存在する彫版図面を作成する中間工程を、デジタル画像データをプリンタまたはフィルム焼付器に出力することで省略できることである。他方で、従来の彫込みまたはエッチング法にはこの中間結果が必要である。付加中間工程のそれぞれは時間と労力がかかるだけでなくエラー源でもあり得るから、本発明の方法はより高速でありより経済的であるだけでなく、より確実でもある。彫版図面の出力及び彫込みまたはエッチングでの彫版図面の使用には必然的に許容差がともなうから、本発明の方法は、デジタル画像データの直接処理により、細部まで正しく、寸法的により精確な、画像意匠の線描凹版印刷版への変換も可能にする。さらに、デジタルで格納された画像意匠の細部を、本発明の微細構造のような、変更された線構造で置き換えて描写することが、大した労力もかけずに可能である。画像意匠は、固定寸法を必ず有する具体的な既存図面で何も変更する必要なしに、電子データ処理システムを用いて、任意に、比例拡大縮小、回転及び鏡像反転させることができる。処理された画像意匠の変更異形のそれぞれについて、新しいプリントアウトをつくるかあるいはフィルムに焼き付けることも必要ではない。
【００２０】
画像意匠が不規則な線構造で描写される、本発明に関して、線構造は連続線及び断点のある線だけを指すのではなく、破線、一点鎖線及び点線も指す。数学的な線に沿って規則的間隔で配されるその他の幾何学的シンボルも、本発明にしたがう線構造を構成することができる。
【００２１】
彫込みは、フライス加工、掻き落とし及び平削りのような切削法を用いて、またレーザ彫込みのような非接触材料除去法により、本発明にしたがって行うことができる。精密フライス加工法が用いられることが好ましい。彫版は印刷版としてそのまま使用でき、あるいは線描凹版印刷に用いられる印刷版が初めにつくられる普通の成形及び複製プロセスのための原版として役立たせることができる。
【００２２】
本発明の方法を実行するための画像データがまだデジタル画像ファイルとして存在していなければ、初めに画像意匠が電子的に取り込まれて、デジタイズされなければならない。この目的のため、表現されるべき意匠から画像が初めに作成され、次いで、通常“画素”と呼ばれる個々の画像点に分解される。それぞれの画素について、座標だけでなく、無彩色階調値または色調値も検出される。画像化されるべき意匠の選択は、全く制限を受けない。用いられる原画は実物、例えば彫刻、建物または風景、あるいは写真または絵画のようなハーフトーン画像とすることができる。画像として既に存在する意匠をデジタイズするためには、好ましくは、スキャナーを用いることができる。スキャナーが適切な解像度を有していなければならないことは当然である。実物像をデジタイズするためには、ビデオカメラまたはデジタルカメラを用いることが好ましい。時間に関して互いに独立に配置される連続方法工程シーケンスを可能にするため、“画素データ”と称されるデジタル画像データが格納される。
【００２３】
デジタル画像データの視覚表示は画像データを基にして、好ましくはモニタ上で、行われる。望ましいかまたは必要であれば、電子データ処理システムにおける画像データの処理を指す、電子的加筆修正が画像データに行われる。加筆修正は、邪魔な細部を除去するため、輪郭を強めるか弱めるため、または必要に応じて個々の画像領域についてのみ、画像のコントラストを変えるために、行うことができる。
【００２４】
彫版図面を手作業で作成する手法に類似して、表現されるべき画像意匠の輪郭及びハーフトーンを描写する不規則線構造がオペレータによる指定にしたがって電子データ処理システムで生成される。画素データを基にして行われる画像意匠の視覚表示が本方法においては原図として役立つ点が有利である。オペレータが所望の線構造を前景で生成している間に、画素データにより描写されるデジタイズ済画像意匠がモニタ上で背景に挿入されれば、画像意匠の線構造への変換が特に容易になる。生成された線のパターンはオペレータにより手作業で特化することができ、一平面にある線パターンの座標は入力手段により検出されて、データ処理システムに転送される。これは、特に製図タブレットまたはコンピュータマウスを用いて適切に行うことができる；いわゆるトラックボールまたはジョイスティックも入力手段とすることができる。
【００２５】
線構造を描写するデジタル画像データはベクトルベースのデータフォーマットで格納される。特に極めて高解像度のグラフィックスでは、ベクトル表現に基づくデータフォーマットに必要なメモリ空間が、解像度が同じ画素ベースのデータフォーマットより小さい。以降の処理工程は、データ量が少なくなっていることから、より高速に実行することができる。
【００２６】
与えられた画像意匠を、魅力的かつ細部まで正しい態様で、描写すべき線構造の生成及び処理のためには、それぞれの変更中に線構造をそのまま視覚表示することが有利である。これにより、オペレータが、例えばモニタ上で、オペレータが開始した変更を段階毎に即時に画像で見てとり、画像の見栄えへの変更の影響をチェックすることが可能になる。線構造を描写するデジタル画像データの処理の間、線または交差線のような構造要素は選択的に変更できる。そのようにして処理されたデジタル画像データは最終的に格納され、その後はいつであっても、精密彫版装置を制御するためにそのまま用いられる。ベクトル表現に基づくデータフォーマットは、処理された画像データの格納の間も保たれる。
【００２７】
彫版装置の制御は、デジタル画像データにより表現される線構造のパターン及び形状寸法にしたがって、インクを受けるための窪みを線描凹版印刷版面につくることにより行われる。
【００２８】
本発明の方法により、印刷版の彫込深さとは独立に線幅の値を指定することが基本的に可能になる。この値は、彫り込まれるべき線の全てまたはいくつかに対して基本的に一定とすることができるが、特定の線幅に依存するあらかじめ定められた数学的関係によるプログラム制御で計算することもできる。技術的に可能な範囲内である限り、オペレータが、ただ１本の線、線の一部領域または線群に対して任意に所望の彫込深さを指定することも可能である。特に線幅の狭い線では、変換可能な彫込深さが製造工学に関する制限を受けることは当然である。
【００２９】
本発明の方法により、印刷されるべき意匠の簡単な処理、特に本発明の構造要素の処理が可能になる。特に、個々の線の終端の線厚及び形状を選択的に変えることができる。線の終端には、例えば長方形、半円形または先細りの形状を与えることができる。さらに、線を引き伸ばすか、押し縮めるか、歪ませるか、あるいは線の基本形状を変えることが可能である。例えば、線の対向する境界縁に、平行経路ではなく、線または線の一部がレンズマメ形または槍形の基本形状を有するように、互いに逆向きの曲率が与えられる。全ての処理工程を、単独の線についても完全な画像領域を描写する全線群について同時にも行うことができる。さらに、本発明の方法により、印刷される線に帰着する彫込みを、全面的に行うのではなく、幾何学的中心線に沿う領域を彫り込まずに行うことが可能になる。彫込みが線の２つの縁に沿ってのみ行われれば、あらかじめ定められた線幅内に二重線が生じる。別の新しいデザインの可能性が交差線からなる構造要素について得られる。例えば、交差領域が彫り込まれないようにして彫版するためのデジタル画像データを作成することができる。したがって、対応する印刷版で印刷されたデータ記憶媒体では、線の交差領域にインクが全くない。別の変形では、交差する２本の線の内の１本だけが連続的に彫り込まれ、一方第２の線は交差領域で連続せずに、すなわち中断されて、中断された線の２つの領域は交差する連続線に接触しない。また別の変形では、線が二重線に分割されるだけでなく、少なくともある区画においては羽毛状にされる。
【００３０】
入手できる線描凹版印刷版の作成及び実際の印刷作業のために必要な装置と必要なノウハウはいずれも極めて限られた程度でしかなく、かなりの材料及び財務リソースが必要である。所要リソースにより潜在的な偽造者及び贋造者に対する相当な障壁が設けられるから、線描凹版印刷はセキュリティが求められる印刷、例えば、銀行券、株券、パスポート、ＩＤカード、高品位入場券及び同様の文書の作成に用いられることが好ましい。線描凹版印刷版をデザインするための本発明の方法により、線描凹版印刷されたデータ記憶媒体の印刷画像における、目で見ることができるかまたは拡大鏡を用いなければチェックできないセキュリティ要素として上述した構造要素を用いることができるような精細度をもって、これらの構造要素を変換することが可能になる。
【００３１】
線描凹版印刷版の作成に関して説明した不規則線構造により描写される画像意匠の作成についての本方法は、別の印刷プロセスのための原版または印刷版の作成にも基本的に適している。これまでは画像意匠の彫版の態様での表現モードへの変換が上で説明した方法では行われておらず、本方法で初めて線構造に追加の微細構造が重畳されるから、本発明の方法は、例えば、デジタルプリンタ、フィルム焼付器、乾板焼付器またはその他のデジタル印刷プロセスにおいて、上で説明したようにしてつくられたデジタル画像データを処理するために有益に用いることもできる。上で説明した、可能性並びに、表現モードの有生気性、個別性及び複雑性のような、利点は、本発明の方法により、オフセット印刷のような別の印刷プロセスに対しても利用できる。
【００３２】
他の利点は以下の実施例の説明から得られるであろう。
【００３３】
図１は彫版の態様の人物の肖像画を示す。すなわち、全ての輪郭及び画素が、彫版表現では通常であるように、様々な線構造を用いて描写されている。これらの構造は、例えば上着及び髭の画像領域におけるように連続するかまたは断点のある線から、あるいは耳、頬及び額の領域でよく認められるように破線または点線からなることができる。従来技術で既知の方法にしたがえば、そのような画像は金属板に手作業で直接彫り込まれるか、または紙に手作業で製図される。画像意匠の彫版図面への変換に際しては、様々な陰影及び色調値または無彩色階調値が、色調の異なる画像領域及び／または様々な線幅及び線間隔に対して様々なタイプの線構造を用いることにより描写される。したがって、ここで示されている肖像画における額、頬及び耳の領域のような、明度の高い箇所は、付加的に破線または一点鎖線または点線とされている、微細で比較的間隔が大きい線で描写されることが好ましい。明度の低い画像領域、例えばここで示されている肖像画における帽子または上着は、幅広の密接した線で表現されることが好ましい。上着または鼻側面の領域のような、明度の低い領域をつくるかまたは変化した視覚印象を得るため、“主層”と称されるほとんど平行な第１の線群に、同様にほとんど平行な第２の線群からなる、いわゆる“二次層”を重畳することもできる。
【００３４】
本発明の方法にしたがう、そのような画像意匠の線描凹版印刷版への変換において、肖像画の彫版表現に対して用いられる原図は、例えばデジタルカメラを用いてデジタイズされた絵画とすることができる。画素ベースのデータフォーマットで格納された画像データは次いで電子的に加筆修正され、個々の画像領域のコントラストが変えられる。（例えば上着の襞または鼻の外形線の）顕著な輪郭の変容を強調するかまたは和らげることが有益なことが多い。加筆修正された画素データがモニタ上でオペレータに視覚表示されると、以降の作業工程が容易になることが判明した。画素データを基にした画像の表示は背景で行われ、一方肖像画の個々の要素及び細部を描写する線構造は前景においてオペレータによる指定にしたがって生成される。線のパターンは、例えば、パターンの座標を検出し、検出された座標をデータ処理システムに転送する、製図タブレット上でオペレータにより指定される。線の基本形状及び線幅が既に定められていれば、その線を即時にモニタ上に表示することができ、オペレータのとった処置をその場でチェックするためにその線がオペレータにより用いられる。したがって、オペレータの指定に基づく線の生成プロセスは、生成された線のモニタ上への即時表示とともに、自在な手書き製図にほとんど相当するが、電子的に生成されたどの線構造も引き続いて任意に処理できるという利点を有する。すなわち、例えば、既に生成されている線を引き続いて、引き伸ばすかまたは押し縮めること、線全体または個々の領域の線幅を変えること、線を歪ませることまたは線の終端の形状寸法を変更することが、いかなる問題もなしに可能である。例えば、図１においては、上着の右側を描写している線のほとんどは長方形で終端し、一方髭及び頭髪を描写している線のほとんどは先細りの終端を有している。半円形の線終端も他の非対称のまたはユーザが生成した形状も全く同様に可能である。変更及び処理は、単独の線についても、画像領域を一緒に表現している全線群について同時にも、行うことができる。
【００３５】
線構造を描写しているデジタル画像データの処理中に、個々の線または線群にある彫込深さを割り当てることができる。例えば、主層を、付随する二次層より深めにまたは浅めに彫り込むことができる。さらに、極めて密接していてさえ、線幅が等しいかまたは相異なる個々の線を彫込深さを大きく異ならせて変換することが可能である。例えば、線幅が等しい２本の極めて密接している線の１本を１０μｍの深さで線描凹版印刷版に彫り込むことができ、一方第２の線を１５０μｍの彫込深さでつくることができる。そのような構造は従来のエッチング技術では実現不可能である。
【００３６】
図２から８は肖像画の彫版表現の細部を示す。顔面の輪郭部分が画像領域の左上に認められると同時に、着衣の襟及び肩１の細部が中央の画像部分及び右下の画像部分に描写されている。画像意匠の相異なる領域が相異なる、すなわち様々な、したがって総じて不規則な線構造で表現されていることが、画像の細部に明瞭に認められる。
【００３７】
図２は、連続であるか断点があり、部分的に交差もしている、線構造をもつ、従来技術にしたがう表現モードで肖像画の細部を示す。個々の線には、付加的な副次構造または微細構造がない。
【００３８】
図３では右側の肩領域１を描写している線構造に微細構造が重畳されている。本実施例において、微細構造は、横線で形成されている印刷領域に囲まれた空白領域として存在する。空白領域は、周囲の印刷領域を形成している印刷された線の中心線上に精確に配置された陰画で描写された線を形成する。斜めに延びる二次層の細線は、空白領域、すなわち陰線が主層及び二次層の線の交差領域で中断されるような連続線に仕上げられている。
【００３９】
図４に示される実施例において、斜めに延びる二次層の細線は、主層の横線にある空白領域で中断されている。これにより、主層の空白領域が中断のない陰線になる。
【００４０】
図５の実施例では、肩領域１の主層の横に延びる線の空白領域が、やはり幾何学的中心線に精確に平行に延びる、陰画での極細二重線を形成している。斜めに延びる二次層の線はやはり不連続であって、主層の線との交差領域において同様に空白領域により中断されている。
【００４１】
図６ａでは、肩領域１の線の微細構造が、円及び短線の形態の単純ではあるが相異なる形状の輪郭をもつ空白領域で形成されている。一本の線内の空白領域は全て同じ形状の単純な幾何学的図形を有するが、隣り合う線は空白領域として相異なる図形を有する。
【００４２】
図６ｂでは、肩領域１の線構造には、隣り合う線において多桁の数字と文字とを交互に表現する陰画構造が組み込まれており、文字は部分的に単語を形成している。さらに、図６ｂでは襟を表現している線構造部分に、別の可能な組合せの例として、異なる微細構造が与えられている。襟の中間部分２において、線には陰画で描写された中心線が重畳されている。すなわち空白のまま残されている。左襟部分３の線には、単純な細長い形状の断続する空白領域からなる微細構造が重畳された。
【００４３】
図７では、微細構造が印刷された線内の空白領域によっても形成されており、本実施例では文字“Ｇ”及び“Ｄ”からなるロゴが陰画で描写されている。このロゴは微細構造が重畳された線に沿って一様な間隔で何度も繰り返されている。
【００４４】
図８ａでは、右側の肩領域１の横に延びる線に図７と同じロゴを描写する微細構造が組み込まれている。しかし、図８ａでは、ロゴに陽画が選択された。すなわち、ロゴは無印刷領域に囲まれた印刷構造で描写されている。したがって、微細構造が重畳された線はほとんど分解され、狭い縁の輪郭だけが保たれている。ロゴはやはり幾何学的中心線上に正確に配置されて、中心線に沿って何回も繰り返される。図８ａで描写された表現の代わりに、微細構造が重畳された線を完全に分解し、寸法及び、必要に応じて、分解されるべき線の幅にしたがって線厚も変わる、文字またはシンボルで、線の縁の輪郭パターンを描写することも可能である。この例が図８ｂに示される。図８ｂは、先に示された図とは異なる彫版表現の詳細を描写している。この詳細は、肖像画の顔面、左眼及び頭髪の部分の拡大図を示している。頭髪を描写している線の内の１本すなわち一房の頭髪が、塗潰しに仕上げられておらず、微細構造が与えられている。微細構造は、合せて単語“ＧＵＴＥＮＢＥＲＧ”を形成する、陽画の大文字からなっている。文字の配置及び大きさまたは高さは、一房の頭髪を描写する元の線のパターン及び外形輪郭にしたがう。さらに、この一房の頭髪が延びる方向に対して右傾角で配され、頭髪線をより短い単区画に細分する、極細の陰線が文字群の前後に組み込まれている。
【００４５】
本発明のデータ記憶媒体は、上記実施例に示された微細構造には決して限定されない。様々なタイプ及び種類の微細構造のいかなる変形及び組合せも、本発明にしたがって可能である。
【００４６】
図９は、構造要素としての交差線の様々な異形を拡大図で簡略に示す。図９ａは、いずれの線も塗潰しで印刷されている従来技術に相当する。図９ｂから９ｃでは、交差領域が別様にデザインされている。図９ｂには、１本の線だけが交差領域で断点なしに描写され、一方第２の線は交差領域で中断されて、この中断領域では印刷されていない、微細構造がある。中断された線の２つの部分は、これらが第１の連続線と接触しないように、間隔が空けられている。図９ｃにしたがう実施形態では、交差する線はいずれも交差領域で中断されており、両方の線にカバーされるはずの面が精確に空白のまま残されている。
【００４７】
図９ｄ及び９ｅにしたがう実施形態では、交差する２本の線の内の１本がその全線幅にわたる塗潰しでは描写されておらず、その線の境界を定めている２つの縁に沿ってのみ描写され、幾何学的中心線に沿って延びる領域が空白のまま残されている。図９ｅにしたがう実施形態では、空白の中心領域の幅が線の全長にわたって一定ではなく、線の終端点に向かって先細りになっている。
【００４８】
図９ｆは、１本の線がある副次区画で羽毛状のデザインを有することを示す。この副次区画は塗潰しでは描写されておらず、個々のより細い細分線に分割されている。細分線の終端は相異なる形状を有することができる。図９ｆに示される実施例では、細分線の終端が長方形及び先細りの形状を有している。細分線の幅及び細分線間の空白領域の幅の総和は、羽毛状にされていない元の線の幅に一致する。
【００４９】
図９ｂから９ｆに示される異形は、本発明のデータ記憶媒体の線描凹版画像に個別にまたは様々な組合せで一体化することができる、様々な種類の微細構造である。
【００５０】
線描凹版印刷版を作成するための本発明の方法により、線または交差線及び微細構造の上述の実施形態を、従来技術で既知の従来方法では再現し得ないような精細度をもって仕上げることが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図１】
彫版態様での肖像画の表現を示す
【図２】
微細構造をもたない従来の彫版表現の細部を示す
【図３】
微細構造の第１の異形をもつ彫版表現の細部を示す
【図４】
微細構造の第２の異形をもつ彫版表現の細部を示す
【図５】
微細構造の第３の異形をもつ彫版表現の細部を示す
【図６ａ】
微細構造の第４の異形をもつ彫版表現の細部を示す
【図６ｂ】
微細構造の第５の異形をもつ彫版表現の細部を示す
【図７】
微細構造の第６の異形をもつ彫版表現の細部を示す
【図８ａ】
微細構造の第７の異形をもつ彫版表現の細部を示す
【図８ｂ】
微細構造の第８の異形をもつ彫版表現の細部を示す
【図９ａ】
微細構造をもたない従来技術の交差線を示す
【図９ｂ】
微細構造をもつ交差線の第１の異形を示す
【図９ｃ】
微細構造をもつ交差線の第２の異形を示す
【図９ｄ】
微細構造をもつ交差線の第３の異形を示す
【図９ｅ】
微細構造をもつ交差線の第４の異形を示す
【図９ｆ】
微細構造をもつ交差線の第５の異形を示す
【符号の説明】
１　　肩領域
２　　襟の中間部分
３　　左襟部分

Claims (36)

1. 彫版の態様で、すなわち不規則線構造により表現され、反復する印刷された構造要素を有する、線描凹版により印刷されたハーフトーン画像をもつデータ記憶媒体において、前記構造要素が前記構造要素内に空白領域として存在する微細構造により少なくとも部分的に重畳されていることを特徴とするデータ記憶媒体。
2. 前記構造要素が線であることを特徴とする請求項１に記載のデータ記憶媒体。
3. 前記微細構造が前記線の中心線に沿って延びる連続なまたは断点のある領域により形成され、前記線の縁のほとんどが連続で断点のない輪郭として保たれていることを特徴とする請求項２に記載のデータ記憶媒体。
4. 前記微細構造が線終端を羽毛状にする、すなわち、いずれかの線を、少なくともある区画において、元の幅は保ちながら、分離された、実質的に平行な複数本の細分線に分割することを特徴とする請求項２に記載のデータ記憶媒体。
5. 前記構造要素が交差線であることを特徴とする請求項１に記載のデータ記憶媒体。
6. 前記微細構造が無印刷線領域で形成されていることを特徴とする請求項５に記載のデータ記憶媒体。
7. 前記交差線の交差領域が空白のまま残されていることを特徴とする請求項５に記載のデータ記憶媒体。
8. 彫版の態様で、すなわち不規則線構造により表現され、反復する印刷された構造要素を有する、線描凹版により印刷されたハーフトーン画像をもつデータ記憶媒体において、前記構造要素が前記構造要素を陽画印刷文字またはシンボルに分解する微細構造により少なくとも部分的に重畳されていることを特徴とするデータ記憶媒体。
9. 前記構造要素が線であることを特徴とする請求項８に記載のデータ記憶媒体。
10. 前記微細構造が、テキスト、英数字、ロゴ、シンボル、幾何学的図形またはこれらの組合せにより形成されていることを特徴とする請求項１から８のいずれか１項に記載のデータ記憶媒体。
11. 前記微細構造が、陰画、すなわち印刷領域に囲まれた空白領域、及び陽画の両者で、描写されていることを特徴とする請求項１から１０のいずれか１項に記載のデータ記憶媒体。
12. 画像意匠を線描凹版印刷版に変換する方法において：
    ａ．画素データとして存在し、画像意匠を表現する第１のデジタル画像データを提供する工程；
    ｂ．前記画素データを基にして前記画像意匠を視覚表示する工程；
    ｃ．不規則線構造を生成する工程であって、前記画像意匠の輪郭及びハーフトーンは、オペレータの指定にしたがう、ある領域における様々な線構造により描写されるものである工程；
    ｄ．前記線構造を描写する第２のデジタル画像データをベクトルベースのデータフォーマットで格納する工程；
    ｅ．必要に応じて前記線構造の個々の線を処理し、前記処理された第２の画像データを格納する工程；
    ｆ．線描凹版印刷版面に前記線構造に対応する窪みをつくるように、前記処理された第２の画像データに基づいて精密彫版装置を制御する工程；
    を有してなることを特徴とする方法。
13. 前記工程ｅにおける処理の間に、前記線が、前記線を陽画で描写される個別の文字またはシンボルに分解させる微細構造により少なくとも部分的に重畳されることを特徴とする請求項１２に記載の方法。
14. 前記工程ｅにおける処理の間に、前記線または前記線の交差領域が前記線または交差領域内に陰画で描写される微細構造により少なくとも部分的に重畳されることを特徴とする請求項１２に記載の方法。
15. 前記工程ｆにおける前記彫版装置の制御の間に、関係する彫込深さが、与えられた線幅からプログラム制御により計算されることを特徴とする請求項１２から１４のいずれか１項に記載の方法。
16. ある彫込深さが、単独の線または線群について前記オペレータにより指定されることを特徴とする請求項１２から１５のいずれか１項に記載の方法。
17. 少なくとも１本の線が塗潰しでは描写されず、空白の、彫込みがなされていない中心線により描写されることを特徴とする請求項１４から１６のいずれか１項に記載の方法。
18. 前記交差領域においては交差する線の彫込みがなされないことを特徴とする請求項１４から１７のいずれか１項に記載の方法。
19. 交差する２本の線の内の１本が完全に彫り込まれて前記交差領域において連続であるが、もう一方の１本は、前記交差する２本の線が接触しないように、前記交差領域において彫込みがなされず、したがって中断されることを特徴とする請求項１４から１７のいずれか１項に記載の方法。
20. いずれかの線が少なくともある区画において羽毛状の態様で描写されることを特徴とする請求項１２から１９のいずれか１項に記載の方法。
21. 請求項１２から２０のいずれか１項にしたがう方法により作成されていることを特徴とする線描凹版印刷版。
22. 不規則線構造をもつ画像意匠を作成する方法において：
    ａ．画素データとして存在し、画像意匠を表現する第１のデジタル画像データを提供する工程；
    ｂ．前記画素データに基づいて前記画像意匠を視覚表示する工程；
    ｃ．不規則線構造を生成する工程であって、前記画像意匠の輪郭及びハーフトーンは、オペレータの指定にしたがう、ある領域における様々な線構造により描写されるものである工程；
    ｄ．前記線構造を描写する第２のデジタル画像データをベクトルベースのデータフォーマットで格納する工程；
    ｅ．必要に応じて前記線構造の個々の線を処理する工程；
    ｆ．前記線構造に、少なくとも１本の線または１つの交差線が陰画で描写される輪郭を包囲するように、少なくとも部分的に微細構造を重畳し、前記処理された第２の画像データを格納する工程；
    を有してなることを特徴とする方法。
23. 不規則線構造をもつ画像意匠を作成する方法において：
    ａ．画素データとして存在し、画像意匠を表現する第１のデジタル画像データを提供する工程；
    ｂ．前記画素データに基づいて前記画像意匠を視覚表示する工程；
    ｃ．不規則線構造を生成する工程であって、前記画像意匠の輪郭及びハーフトーンは、オペレータの指定にしたがう、ある領域における様々な線構造により描写されるものである工程；
    ｄ．前記線構造を描写する第２のデジタル画像データをベクトルベースのデータフォーマットで格納する工程；
    ｅ．必要に応じて前記線構造の個々の線を処理する工程；
    ｆ．前記線構造に、少なくとも１本の線が陽画で描写される文字またはシンボルに分解されるように、少なくとも部分的に微細構造を重畳し、前記処理された第２の画像データを格納する工程；
    を有してなることを特徴とする方法。
24. 前記微細構造が、テキスト、英数字、ロゴ、シンボルまたは幾何学的図形を形成することを特徴とする請求項１３，１４，２２または２３に記載の方法。
25. 前記工程ａにおいて前記画素データを提供するために、画像意匠がデジタイズされ、前記画像意匠が個々の画素様画像点に分解され、それぞれの画像点について座標及び無彩色階調値または色調値が決定され、格納されることを特徴とする請求項１２，２２または２３に記載の方法。
26. 前記デジタイズが、スキャナ、ビデオカメラまたはデジタルカメラによる行われることを特徴とする請求項２５に記載の方法。
27. 前記画素データが電子的に加筆修正されることを特徴とする請求項１２から２６のいずれか１項に記載の方法。
28. 前記画素データの加筆修正に際して前記デジタイズされた画像意匠のコントラストが少なくともある領域において変更されることを特徴とする請求項１２から２７のいずれか１項に記載の方法。
29. 前記工程ｂにおける前記画像意匠の前記視覚表示がモニタ上で行われることを特徴とする請求項１２から２８のいずれか１項に記載の方法。
30. 前記工程ｃにおける前記線構造の生成の間に、いずれかの線のパターンが２次元座標を検出するための入力手段を用いてオペレータにより手作業で指定されることを特徴とする請求項１２から２９のいずれか１項に記載の方法。
31. 前記入力手段が、コンピュータマウス、製図タブレット、トラックボールまたはジョイスティックであることを特徴とする請求項３０に記載の方法。
32. 前記線構造が、前記工程ｃ及びｅにおける前記線構造の生成及び処理の間に、遅延なしにそのまま視覚表示されることを特徴とする請求項１２から３１のいずれか１項に記載の方法。
33. 背景にある前記線構造の前記視覚表示が前記画素データにより描写される前記画像意匠で重畳されることを特徴とする請求項１２から３２のいずれか１項に記載の方法。
34. 前記工程ｅにおける前記線の処理の間に、前記線の線厚が変えられるか、または前記線の終端の形状が変更されることを特徴とする請求項１２から３３のいずれか１項に記載の方法。
35. 前記線に、半円形、長方形または先細りの終端が与えられることを特徴とする請求項３４に記載の方法。
36. 前記工程ｅにおける処理の間に、前記線が引き伸ばされるか、押し縮められるかまたは歪まされることを特徴とする請求項１２から３５のいずれか１項に記載の方法。