JP2004310036A - 液晶表示装置用アレイ基板の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】アレイ基板の上部にカラーフィルターを構成する構造において、薄膜トランジスタとゲート配線及びデータ配線の上部に不透明な有機樹脂でブラックマトリックスを形成して、カラーフィルターを中心にして上部と下部に各々第1透明電極及び第2透明電極を形成する。この時、前記第2透明電極は別途のPRパターニング工程を行わないで、基板の全面に透明電極を形成した後、これを部分的に結晶化して、非晶質と結晶質の選択的エッチングを通じてパターニング工程を行う。
【選択図】図4H
Description
−−第1の実施の形態−−
図3は、本発明による液晶表示装置用アレイ基板の構成を概略的に示した図面である。図3に示したように、基板100上に一方向に延長されたゲート配線102をお互い平行に構成して、前記ゲート配線102と垂直に交差させて多数の画素領域Pを定義するデータ配線116を構成する。
本発明の第2の実施の形態は、前述した薄膜トランジスタアレイ部の工程で前記ソース電極及びドレイン電極とアクティブ層を一度にパターニングしてCOT構造の液晶表示装置を制作する方法を提案する。
Claims (34)
- 基板上に構成されて一方向に延長されたゲート配線を形成する段階と;
前記ゲート配線と垂直に交差して多数の画素領域を定義するデータ配線を形成する段階と;
前記ゲート配線とデータ配線の交差時点に位置し、ゲート電極とアクティブ層とソース電極とドレイン電極を含む薄膜トランジスタを形成する段階と;
前記薄膜トランジスタとデータ配線の上部に第1絶縁膜を形成する段階と;
前記ドレイン電極の一部を除いた領域の第1絶縁膜上のブラックマトリックスを形成する段階と;
前記第1絶縁膜上のブラックマトリックスを包む第2絶縁膜を形成する段階と;
前記第2絶縁膜と下部の第1絶縁膜をエッチングして前記ドレイン電極の一部を露出する段階と;
前記パターニングされた第2絶縁膜が形成した基板の全面に透明導電性物質を蒸着して前記露出されたドレイン電極と接触する第1透明電極層を形成する段階と;
前記第1透明電極層をパターニングして前記露出したドレイン電極と接触する第1画素電極を前記画素領域に形成する段階と;
前記第1画素電極の上部にカラーフィルターを形成する段階と;
前記カラーフィルターが形成された基板の全面に非晶質の第2透明電極層を前記第1画素電極の上部と前記カラーフィルターの上部に形成する段階と;
前記第2透明電極層の前記カラーフィルターに対応する部分にだけ、レーザーを照射して結晶化する段階と;
前記結晶化してない部分の非晶質透明電極を除去して前記画素領域に対応して下部の第1画素電極と接触する結晶化された第2画素電極を形成する段階
を含む液晶表示装置用アレイ基板の製造方法。 - 前記ゲート配線とゲート電極の上部にゲート絶縁膜を形成する段階をさらに含む
ことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置用アレイ基板の製造方法。 - 前記ゲート絶縁膜は前記アクティブ層とゲート電極の間に位置する
ことを特徴とする請求項2に記載の液晶表示装置用アレイ基板の製造方法。 - 前記薄膜トランジスタは、前記アクティブ層とソース電極及びドレイン電極の間にオーミックコンタクト層をさらに含む
ことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置用アレイ基板の製造方法。 - 前記ブラックマトリックスは、不透明な有機物質である
ことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置用アレイ基板の製造方法。 - 前記ブラックマトリックスは、不透明な感光性有機物質である
ことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置用アレイ基板の製造方法。 - 前記ゲート配線の上部にストレージキャパシターを形成する段階をさらに含む
ことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置用アレイ基板の製造方法。 - 前記ストレージキャパシターを形成する段階は前記ゲート配線の上部にストレージキャパシターの第1電極の役割を行うアイランド状のストレージ金属層を形成する段階を含み、前記ゲート電極はストレージキャパシターで第2電極の役割を行う
ことを特徴とする請求項7に記載の液晶表示装置用アレイ基板の製造方法。 - 前記ストレージキャパシターは前記第1画素電極と接触する
ことを特徴とする請求項8に記載の液晶表示装置用アレイ基板の製造方法。 - 前記第1絶縁膜及び第2絶縁膜は無機絶縁物質で形成する
ことを特徴とする請求項8に記載の液晶表示装置用アレイ基板の製造方法。 - 前記無機絶縁物質は窒化シリコン(SiNx)及び酸化シリコン(SiO2)の中の一つである
ことを特徴とする請求項10に記載の液晶表示装置用アレイ基板の製造方法。 - 前記カラーフィルターはカラー樹脂で構成されている
ことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置用アレイ基板の製造方法。 - 前記第2画素電極を形成する段階は前記第2透明電極層の中で結晶化してない非晶質部分だけを除去する除去液のOZ(((COOH)2・H2O+H2O))を印加する段階を含む
ことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置用アレイ基板の製造方法。 - 前記レーザーを照射する段階はUVランプを利用する
ことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置用アレイ基板の製造方法。 - 前記レーザーを照射する段階はKrFをレーザーの光源として利用する
ことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置用アレイ基板の製造方法。 - 基板上に一方向に延長されたゲート配線とここに連結されたゲート電極を形成する段階と;
前記ゲート電極上部に薄膜トランジスタを構成するアクティブ層とオーミックコンタクト層と、オーミックコンタクト層と接触して所定間隔離隔したソース電極及びドレイン電極を形成して、ソース電極で延長されて前記ゲート配線と垂直に交差して画素領域を定義するデータ配線を同一マスクを用いて同時に形成する段階と;
前記薄膜トランジスタ及びデータ配線の上部に第1絶縁膜を形成する段階と;
前記第1絶縁膜上に前記ドレイン電極の一部を除いた薄膜トランジスタとデータ配線及びゲート配線を包むブラックマトリックスを形成する段階と;
前記ブラックマトリックスが形成された基板全面の第1絶縁膜上に第2絶縁膜を形成する段階と;
前記第2絶縁膜と下部の第1絶縁膜をエッチングして前記ドレイン電極の一部を露出して前記画素領域に対応する基板の表面を露出する段階と;
前記パターニングされた第2絶縁膜が形成された基板の全面に透明導電性物質を蒸着して前記露出されたドレイン電極と接触する第1透明電極層を形成する段階と;
前記第1透明電極層をパターニングして前記露出されたドレイン電極と接触する第1画素電極を前記画素領域に形成する段階と;
前記第1画素電極の上部にカラーフィルターを形成する段階と;
前記カラーフィルターが形成された基板の全面に非晶質の第2透明電極層を前記第1画素電極の上部と前記カラーフィルターの上部に形成する段階と;
前記第2透明電極層の前記カラーフィルターに対応した部分にだけレーザーを照射して結晶化する段階と;
前記結晶化されてない部分の非晶質の透明電極を除去して前記画素領域に対応して下部の第1画素電極と接触する結晶化された第2画素電極を形成する段階と
を含むことを特徴とする液晶表示装置用アレイ基板の製造方法。 - 前記マスクは、光が完全に透過する透過部と、光が完全に遮断される遮断部と光の一部だけ透過する半透過部で構成されている
ことを特徴とする請求項16に記載の液晶表示装置用アレイ基板の製造方法。 - 前記透過部は薄膜トランジスタを除いた画素領域に対応し、前記遮断部はデータ配線と薄膜トランジスタに対応し、前記半透過部は前記データ電極に対応する
ことを特徴とする請求項17に記載の液晶表示装置用アレイ基板の製造方法。 - 前記半遮断部はスリット及び半遮断性物質の中から構成する
ことを特徴とする請求項18に記載の液晶表示装置用アレイ基板の製造方法。 - 前記アクティブ層は純粋非晶質シリコンであり、前記オーミックコンタクト層は不純物が含む非晶質シリコンである
ことを特徴とする請求項18に記載の液晶表示装置用アレイ基板の製造方法。 - 前記ゲート配線とゲート電極の上部にゲート絶縁膜を形成する段階を含む
ことを特徴とする請求項16に記載の液晶表示装置用アレイ基板の製造方法。 - 前記ゲート絶縁膜は前記アクティブ層とゲート電極の間に位置する
ことを特徴とする請求項21に記載の液晶表示装置用アレイ基板の製造方法。 - 前記薄膜トランジスタのオーミックコンタクト層は前記アクティブ層とソース電極及びドレイン電極の間に位置する
ことを特徴とする請求項16に記載の液晶表示装置用アレイ基板の製造方法。 - 前記ブラックマトリックスは不透明な有機物質である
ことを特徴とする請求項16に記載の液晶表示装置用アレイ基板の製造方法。 - 前記ブラックマトリックスは不透明な感光性有機物質である
ことを特徴とする請求項16に記載の液晶表示装置用アレイ基板の製造方法。 - 前記ゲート配線の上部にストレージキャパシターを形成する段階をさらに含む
ことを特徴とする請求項16に記載の液晶表示装置用アレイ基板の製造方法。 - 前記ストレージキャパシターを形成する段階は前記ゲート配線の上部にストレージキャパシターの第一電極の役割を行うアイランド状のストレージ金属層を形成する段階を含み、前記ゲート電極はストレージキャパシターで第2電極の役割を行う
ことを特徴とする請求項26に記載の液晶表示装置用アレイ基板の製造方法。 - 前記ストレージキャパシターは前記第1画素電極と接触する
ことを特徴とする請求項27に記載の液晶表示装置用アレイ基板の製造方法。 - 前記第1絶縁膜及び第2絶縁膜は無機絶縁物質で形成する
ことを特徴とする請求項16に記載の液晶表示装置用アレイ基板の製造方法。 - 前記無機絶縁物質は窒化シリコン(SiNx)及び酸化シリコン(SiO2)の中の一つである
ことを特徴とする請求項29に記載の液晶表示装置用アレイ基板の製造方法。 - 前記カラーフィルターはカラー樹脂で構成されている
ことを特徴とする請求項16に記載の液晶表示装置用アレイ基板の製造方法。 - 前記第2画素電極を形成する段階は前記第2透明電極層の中で結晶化してない非晶質部分だけを除去する除去液のOZ(((COOH)2・H2O+H2O))を印加する段階を含む
ことを特徴とする請求項16に記載の液晶表示装置用アレイ基板の製造方法。 - 前記レーザーを照射する段階はUVランプを利用する
ことを特徴とする請求項16に記載の液晶表示装置用アレイ基板の製造方法。 - 前記レーザーを照射する段階はKrFをレーザーの光源として利用する
ことを特徴とする請求項16に記載の液晶表示装置用アレイ基板の製造方法。
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