JP2004296062A - 薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 コイル絶縁層36の上に形成される積層体62を平坦化面上に形成できるため、前記磁極層を所定形状に形成でき、この結果、トラック幅Twを所定の寸法で形成することが可能であり、さらに前記積層体62上に形成される第2コイル片56と前記コイル絶縁層36の上面から露出する接続層61の上面61aとを確実且つ容易に接続させることができる。
【選択図】 図2
Description
前記下部コア層、前記***層及びバックギャップ層で囲まれた空間内に、前記磁性層と交叉する方向に伸長している複数本の第1コイル片が、ハイト方向に所定間隔を空けて形成され、各第1コイル片のトラック幅方向における端部から接続層が突出形成されて、前記第1コイル片はコイル絶縁層によって覆われており、
前記コイル絶縁層の上面、前記***層の上面、前記バックギャップ層の上面及び前記接続層の上面が共に同じ平坦化面で形成され、
前記磁性層が前記コイル絶縁層、***層及びバックギャップ層の平坦化面上に形成され、
前記磁性層上に絶縁層を介して、前記磁性層上を横断する複数本の第2コイル片が形成されており、
各第2コイル片のトラック幅方向における端部が、前記平坦化面から露出した接続層の上面に電気的に接続されて、隣りあう前記第1コイル片の端部どうしが、前記第2コイル片を介して接続されることにより前記トロイダル状に巻回するコイル層が形成されていることを特徴とするものである。
前記コイル絶縁層、***層及びバックギャップ層上に前記磁性層が形成され、前記磁性層上は、上面が平坦化面である絶縁層で覆われ、
この絶縁層の平坦化面上に、前記磁性層上を横断する複数本の第2コイル片が形成されており、
前記平坦化面と同一面上に、各第1コイル片のトラック幅方向における端部と電気的に接続する接続層の上面が露出して、各第2コイル片のトラック幅方向における端部が、前記接続層の上面に電気的に接続されて、隣りあう前記第1コイル片の端部どうしが、前記第2コイル片を介して接続されることにより前記トロイダル状に巻回するコイル層が形成されていることを特徴とするものである。
前記コイル絶縁層の上面、前記***層の上面、前記バックギャップ層の上面及び前記下側接続層の上面が共に同じ平坦化面で形成され、
前記磁性層が前記コイル絶縁層、***層及びバックギャップ層の前記平坦化面上に形成され、また、前記下側接続層と電気的に接続する上側接続層が形成され、
前記磁性層は、上面が平坦化面である絶縁層で覆われ、前記上側接続層の上面が前記平坦化面と同一面上で露出し、
前記絶縁層の平坦化面上に、前記磁性層上を横断する複数本の第2コイル片が形成されており、各第2コイル片のトラック幅方向における端部が、前記平坦化面から露出した上側接続層に電気的に接続されて、隣りあう前記第1コイル片の端部どうしが、前記第2コイル片を介して接続されることにより前記トロイダル状に巻回するコイル層が形成されていることを特徴とするものである。
(a)記録媒体との対向面側からハイト方向に下部コア層を延ばして形成する工程と、
(b)前記下部コア層上にコイル絶縁下地層を形成した後、所定領域の前記コイル絶縁下地層上に、前記磁性層と交叉する方向に伸長している複数本の第1コイル片を、ハイト方向に所定間隔を空けて形成する工程と、
(c)前記下部コア層上であって前記対向面からハイト方向に前記第1コイル片と接触しない位置で***層を形成し、前記***層のハイト方向後端面からハイト方向に離して、且つ前記第1コイル片と接触しない位置での前記下部コア層上にバックギャップ層を形成するとともに、各第1コイル片のトラック幅方向の端部から接続層を突出形成する工程と、
(d)前記第1コイル片上をコイル絶縁層で埋めた後、前記***層の上面、前記コイル絶縁層の上面、バックギャップ層の上面及び接続層の上面が同じ平坦化面となるまで、前記コイル絶縁層、***層、コイル絶縁層及び接続層を削る工程と、
(e)前記コイル絶縁層、***層及びバックギャップ層の前記平坦化面上に、前記***層とバックギャップ層間を繋ぐ磁性層を形成する工程と、
(f)前記磁性層上に絶縁層を形成し、この絶縁層の上に、前記磁性層上を横断する複数本の第2コイル片を形成するとともに、各第2コイル片のトラック幅方向における端部を、前記平坦化面から露出した接続層の上面に接続して、隣りあう前記第1コイル片の端部どうしを、前記第2コイル片を介して接続してトロイダル状に巻回するコイル層を形成する工程。
(g)前記接続層上に、前記磁性層の上面よりも高い位置にまで延びる上側接続層を形成する工程と、
(h)前記磁性層上を絶縁層で覆い、前記上側接続層の上面と前記絶縁層の上面が同じ平坦化面になるまで、前記絶縁層及び上側接続層を削る工程と、
(i)前記絶縁層の平坦化面上に、前記磁性層上を横断する複数本の第2コイル片を形成するとともに、各第2コイル片のトラック幅方向における端部を、前記平坦化面から露出した上側接続層の上面に接続して、隣りあう前記第1コイル片の端部どうしを、前記第2コイル片を介して接続してトロイダル状に巻回するコイル層を形成する工程。
図1に示す薄膜磁気ヘッドでは、複数本の第1コイル片55が、前記下部コア層29、***層32及びバックギャップ層33で囲まれた空間内に形成されている。前記下部コア層29上に***層32及びバックギャップ層33を***形成することで前記第1コイル片55を形成することができる空間を適切に形成している。特に前記***層32及びバックギャップ層33はメッキ形成されていることが、前記***層32及びバックギャップ層33の膜厚を厚く形成できるから、前記下部コア層29、***層32及びバックギャップ層33で囲まれる空間を広く取ることができ、前記第1コイル片55を所定の膜厚で形成しやすい。
下部磁極層549上には、非磁性のギャップ層550が積層されている。
前記上部磁極層551とバックギャップ層533上には上部コア層(磁性層)560がメッキ形成されている。前記上部コア層560は、バックギャップ層533を介して、前記下部コア層529のハイト側と前記磁極端層548とを接続しており、上部コア層560が本発明の磁性層に相当する。
32 ***層
33 バックギャップ層
36 コイル絶縁層
55 第1コイル片
56 第2コイル片
58、63、73 絶縁層
61 接続層(下側接続層)
62 磁極層
65、75 レジスト層
70 第1持ち上げ層
71 第2持ち上げ層
72 上側接続層
Claims (15)
- 記録媒体との対向面側からハイト方向に延びて形成された下部コア層上に、前記対向面からハイト方向に所定長さで形成された***層と、前記***層のハイト方向後端面からハイト方向に所定距離離れて形成されたバックギャップ層とが形成され、前記***層とバックギャップ層間をつなぐ磁性層と、前記磁性層の周囲をトロイダル状に巻回するコイル層とを有する薄膜磁気ヘッドにおいて、
前記下部コア層、前記***層及びバックギャップ層で囲まれた空間内に、前記磁性層と交叉する方向に伸長している複数本の第1コイル片が,ハイト方向に所定間隔を空けて形成され、各第1コイル片のトラック幅方向における端部から接続層が突出形成されて、前記第1コイル片はコイル絶縁層によって覆われており、
前記コイル絶縁層の上面、前記***層の上面、前記バックギャップ層の上面及び前記接続層の上面が共に同じ平坦化面で形成され、
前記磁性層が前記コイル絶縁層、***層及びバックギャップ層の前記平坦化面上に形成され、
前記磁性層上に絶縁層を介して、前記磁性層上を横断する複数本の第2コイル片が形成されており、
各第2コイル片のトラック幅方向における端部が、前記平坦化面から露出した接続層の上面に電気的に接続されて、隣りあう前記第1コイル片の端部どうしが、前記第2コイル片を介して接続されることにより前記トロイダル状に巻回するコイル層が形成されていることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。 - 記録媒体との対向面側からハイト方向に延びて形成された下部コア層上に、前記対向面からハイト方向に所定長さで形成された***層と、前記***層のハイト方向後端面からハイト方向に所定距離離れて形成されたバックギャップ層とが形成され、前記***層とバックギャップ層間をつなぐ磁性層と、前記磁性層の周囲をトロイダル状に巻回するコイル層とを有する薄膜磁気ヘッドにおいて、
前記下部コア層、前記***層及びバックギャップ層で囲まれた空間内に、前記磁性層と交叉する方向に伸長している複数本の第1コイル片が形成され、前記第1コイル片はコイル絶縁層によって覆われており、
前記コイル絶縁層、***層及びバックギャップ層上に前記磁性層が形成され、前記磁性層上は、上面が平坦化面である絶縁層で覆われ、
この絶縁層の平坦化面上に、前記磁性層上を横断する複数本の第2コイル片が形成されており、
前記平坦化面と同一面上に、各第1コイル片のトラック幅方向における端部と電気的に接続する接続層の上面が露出して、各第2コイル片のトラック幅方向における端部が、前記接続層の上面に電気的に接続されて、隣りあう前記第1コイル片の端部どうしが、前記第2コイル片を介して接続されることにより前記トロイダル状に巻回するコイル層が形成されていることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。 - 記録媒体との対向面側からハイト方向に延びて形成された下部コア層上に、前記対向面からハイト方向に所定長さで形成された***層と、前記***層のハイト方向後端面からハイト方向に所定距離離れて形成されたバックギャップ層とが形成され、前記***層とバックギャップ層間をつなぐ磁性層と、前記磁性層の周囲をトロイダル状に巻回するコイル層とを有する薄膜磁気ヘッドにおいて、
前記下部コア層、前記***層及びバックギャップ層で囲まれた空間内に、前記磁性層と交叉する方向に伸長している複数本の第1コイル片が形成され、各第1コイル片のトラック幅方向における端部から下側接続層が突出形成されて、前記第1コイル片はコイル絶縁層によって覆われており、
前記コイル絶縁層の上面、前記***層の上面、前記バックギャップ層の上面及び前記下側接続層の上面が共に同じ平坦化面で形成され、
前記磁性層が前記コイル絶縁層、***層及びバックギャップ層の前記平坦化面上に形成され、また、前記下側接続層と電気的に接続する上側接続層が形成され、
前記磁性層は、上面が平坦化面である絶縁層で覆われ、前記上側接続層の上面が前記平坦化面と同一面上で露出し、
前記絶縁層の平坦化面上に、前記磁性層上を横断する複数本の第2コイル片が形成されており、各第2コイル片のトラック幅方向における端部が、前記平坦化面から露出した上側接続層に電気的に接続されて、隣りあう前記第1コイル片の端部どうしが、前記第2コイル片を介して接続されることにより前記トロイダル状に巻回するコイル層が形成されていることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。 - 前記***層の上に、下から下部磁極層、ギャップ層及び前記磁性層である上部磁極層の順に構成された積層構造が設けられ、前記積層構造の前記対向面でのトラック幅方向における幅寸法でトラック幅Twが決定される請求項1ないし3のいずれかに記載の薄膜磁気ヘッド。
- 前記***層は、少なくとも下から下部磁極層、非磁性金属材料で形成されたギャップ層及び上部磁極層の順にメッキ形成され、対向面でのトラック幅方向における幅寸法でトラック幅Twが規定される磁極端層であり、前記磁極端層の上に前記磁性層が積層されている請求項1ないし3のいずれかに記載の薄膜磁気ヘッド。
- 前記磁性層は、前記上部磁極層よりも飽和磁束密度が低い請求項5記載の薄膜磁気ヘッド。
- 少なくとも一組の隣り合う前記第1コイル片において、前記第1コイル片間の、ハイト方向に隣りあう端部と端部の距離が、これらの前記第1コイル片間の前記磁性層に重なる領域における最小距離より大きい請求項1ないし6のいずれかに記載の薄膜磁気ヘッド。
- 前記複数本の第1コイル片は、前記磁性層と重なる領域において、互いに平行に形成されている部位を有する請求項7に記載の薄膜磁気ヘッド。
- 少なくとも一組の隣り合う前記第2コイル片において、前記第2コイル片間の、ハイト方向に隣りあう端部と端部の距離が、これらの前記第2コイル片間の前記磁性層に重なる領域における最小距離より大きい請求項1ないし8のいずれかに記載の薄膜磁気ヘッド。
- 前記複数本の第2コイル片は、前記磁性層と重なる領域において、互いに平行に形成されている部位を有する請求項9に記載の薄膜磁気ヘッド。
- 前記第2コイル片の電流が流れる方向と直交する第1の方向の長さ寸法は、前記第1コイル片の前記第1の方向の長さ寸法よりも大きい請求項1ないし10のいずれかに記載の薄膜磁気ヘッド。
- 前記第2コイル片の膜厚は、前記第1コイル片の膜厚よりも大きい請求項1ないし11のいずれかに記載の薄膜磁気ヘッド。
- 以下の工程を有することを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。
(a)記録媒体との対向面側からハイト方向に下部コア層を延ばして形成する工程と、
(b)前記下部コア層上にコイル絶縁下地層を形成した後、所定領域の前記コイル絶縁下地層上に、前記ハイト方向と交叉する方向に伸長している複数本の第1コイル片を、ハイト方向に所定間隔を空けて形成する工程と、
(c)前記下部コア層上であって前記対向面からハイト方向に前記第1コイル片と接触しない位置で***層を形成し、前記***層のハイト方向後端面からハイト方向に離して、且つ前記第1コイル片と接触しない位置での前記下部コア層上にバックギャップ層を形成するとともに、各第1コイル片のトラック幅方向の端部から接続層を突出形成する工程と、
(d)前記第1コイル片上をコイル絶縁層で埋めた後、前記***層の上面、前記コイル絶縁層の上面、バックギャップ層の上面及び接続層の上面が同じ平坦化面となるまで、前記コイル絶縁層、***層、コイル絶縁層及び接続層を削る工程と、
(e)前記コイル絶縁層、***層及びバックギャップ層の平坦化面上に、前記***層とバックギャップ層間を繋ぐ、磁性層を形成する工程と、
(f)前記磁性層上に絶縁層を形成し、この絶縁層の上に、前記磁性層上を横断する複数本の第2コイル片を形成するとともに、各第2コイル片のトラック幅方向における端部を、前記平坦化面から露出した接続層の上面に接続して、隣りあう前記第1コイル片の端部どうしを、前記第2コイル片を介して接続してトロイダル状に巻回するコイル層を形成する工程。 - 前記(c)工程で、前記***層、バックギャップ層及び接続層を同じ材質で且つ同時に形成する請求項13記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
- 前記(f)工程に代えて以下の工程を有する請求項13または14に記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法。
(g)前記接続層上に、前記磁性層の上面よりも高い位置にまで延びる上側接続層を形成する工程と、
(h)前記磁性層上を絶縁層で覆い、前記上側接続層の上面と前記絶縁層の上面が同じ平坦化面になるまで、前記絶縁層及び上側接続層を削る工程と、
(i)前記絶縁層の平坦化面上に、前記磁性層上を横断する複数本の第2コイル片を形成するとともに、各第2コイル片のトラック幅方向における端部を、前記平坦化面から露出した上側接続層の上面に接続して、隣りあう前記第1コイル片の端部どうしを、前記第2コイル片を介して接続してトロイダル状に巻回するコイル層を形成する工程。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7760466B2 (en) | 2005-11-21 | 2010-07-20 | Tdk Corporation | Thin film magnetic head with a metal lamination part having concave connection surface |
US7764464B2 (en) | 2005-01-12 | 2010-07-27 | Tdk Corporation | Thin film magnetic head having solenoidal coil and method of manufacturing the same |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3950827B2 (ja) * | 2002-11-22 | 2007-08-01 | アルプス電気株式会社 | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
JP3950807B2 (ja) * | 2003-03-12 | 2007-08-01 | アルプス電気株式会社 | 薄膜磁気ヘッド |
JP3950828B2 (ja) * | 2003-03-14 | 2007-08-01 | アルプス電気株式会社 | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
US7791837B2 (en) * | 2006-03-31 | 2010-09-07 | Tdk Corporation | Thin film device having thin film coil wound on magnetic film |
JP4706927B2 (ja) * | 2006-03-31 | 2011-06-22 | Tdk株式会社 | 薄膜デバイス |
US7676816B2 (en) * | 2006-06-30 | 2010-03-09 | Sap Ag | Systems and methods for integrating services |
US7729084B2 (en) | 2006-12-22 | 2010-06-01 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Formation of low resistance damascene coils |
US20080247086A1 (en) * | 2007-02-08 | 2008-10-09 | Daniel Wayne Bedell | Method for forming interleaved coils with damascene plating |
JP2009205710A (ja) * | 2008-02-26 | 2009-09-10 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands Bv | 垂直磁気記録ヘッドおよびその製造方法 |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2002A (en) * | 1841-03-12 | Tor and planter for plowing | ||
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US6195232B1 (en) * | 1995-08-24 | 2001-02-27 | Torohead, Inc. | Low-noise toroidal thin film head with solenoidal coil |
FR2745111B1 (fr) | 1996-02-15 | 1998-03-13 | Commissariat Energie Atomique | Tete magnetique verticale a bobinage integre et son procede de realisation |
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JPH11316910A (ja) * | 1998-05-01 | 1999-11-16 | Sony Corp | 薄膜磁気ヘッド及びその製造方法 |
US6246541B1 (en) * | 1998-05-29 | 2001-06-12 | Hitachi Metals, Ltd. | Thin film magnetic head with reduced magnetic gap by incorporating coil conductors with convex surfaces |
JP3747135B2 (ja) * | 1999-08-06 | 2006-02-22 | アルプス電気株式会社 | 薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法 |
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JP2002334409A (ja) * | 2001-05-08 | 2002-11-22 | Alps Electric Co Ltd | 薄膜磁気ヘッド及びその製造方法 |
JP3950789B2 (ja) * | 2002-07-17 | 2007-08-01 | アルプス電気株式会社 | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
JP3842767B2 (ja) * | 2002-11-22 | 2006-11-08 | アルプス電気株式会社 | 薄膜磁気ヘッド |
JP3950827B2 (ja) * | 2002-11-22 | 2007-08-01 | アルプス電気株式会社 | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
JP2004296061A (ja) * | 2002-11-22 | 2004-10-21 | Alps Electric Co Ltd | 薄膜磁気ヘッド |
JP3944138B2 (ja) * | 2003-03-07 | 2007-07-11 | アルプス電気株式会社 | 薄膜磁気ヘッド |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7764464B2 (en) | 2005-01-12 | 2010-07-27 | Tdk Corporation | Thin film magnetic head having solenoidal coil and method of manufacturing the same |
US7760466B2 (en) | 2005-11-21 | 2010-07-20 | Tdk Corporation | Thin film magnetic head with a metal lamination part having concave connection surface |
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