JP2004233994A - 光干渉型表示パネル及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】 特に、光学層を形成する前に、予め支持層を形成することにより製造工程を容易にした光干渉型表示パネル及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の光干渉型表示パネルの製造方法は、基板１０を有し、該基板１０の表面に順次に支持層１１、光学層１２、犠牲層１３及び導体層１４が形成され、その後、犠牲層１３が除去されることを特徴とするもので、基板１０上に支持層１１を形成する工程と、基板１０上に光学層１２を形成する工程と、基板１０上に、犠牲層１３を構成すべき素材を積層し、平坦化して犠牲層１３を形成する工程と、前記支持層１１同士の間に形成される犠牲層１３上に導体層１４を形成する工程と、前記導体層１４の下方における犠牲層１３を除去して、該導体層１４を支持層１１により支持させる工程とからなる。
【選択図】 図１

Description

本発明は、特に、光学層を形成する前に、予め支持層を形成することにより製造工程を容易にした光干渉型表示パネル及びその製造方法に関するものである。

一般の陰極線管表示装置は装置が大型となっているという欠点があることから、近年では小型化された平面型表示装置が広く受入れられている。現在よく見かける液晶表示装置も平面型表示装置の一種であり、形態においてはＣＲＴモニタと比較して大幅に小型化された。
しかし、各メーカーでは引き続き異なるタイプの平面型表示装置の研究開発が続けられているが、その反面では、携帯型電子製品（例えば、携帯電話、ＰＤＡ、電子ペーパーなど）に液晶表示装置を組込んだ際に使用電力の負荷が増加するという問題がある。故に、現在では如何にして表示装置の消費電力を抑えるかが最大の課題である。

また、一般の液晶表示装置において消費電力が最も多いのはバックライトユニットであり、各メーカーはこの問題を解決するために反射板を採用している。即ち、この技術を用いれば自然光をパネルに照射して反射させるものであることから、バックライトを使用しなくても、或いはバックライトの使用度を減らしつつ、所要の光を確保することができるので、確実に消費電力を低下させることができる。

また、反射型液晶表示装置は、一般の液晶表示装置と同様にその表示パネルに設けられているカラーフィルタ、偏光フィルムなどにより、カラー画像を表示すると共に、光の進行方向を制御する。しかし、この構成では、カラーフィルタ、偏光フィルムなどにより光が損失してしまうため、入射光の有効利用に悪影響を及ぼしていた。

前記問題に鑑み、その後、光干渉型表示パネルを用いた表示装置が開発された。この技術では可視光による、異なるフィルムにおける光干渉（Interference）現象を利用することで、三原色である赤色光、青色光、緑色光、及び白色光、黒色光を表示することができる。これによれば、干渉型表示パネルにカラーフィルタや偏光フィルムを用いなくても、カラー画像を表示できると共に、光透過率を高めることができるので、低消費電力の携帯型電子製品に適している。

次に、前記光干渉型表示パネルの構造を説明する。単一画素を示す図３からも分かるように、該光干渉型表示パネルはガラス或いは高分子材料から構成される基板７０の表面に光学層７１及び光学層７１の両端部にそれぞれ支持層７２が設けられ、該各支持層７２の間に導体層７３が架設されると共に、該導体層７３と光学層７１との間に適当な間隙が形成されている。

また、ＭＥＭＳ（Micro Electro Mechanical System）においては、外部の駆動回路から光学層７１及び、導体層７３に対して電界を印加させ、導体層７３を光学層７１の方向に僅かに離間・接近させ、導体層７３と光学層７１との間隔を変化させることにより、入射光に対する干渉作用を異ならせ、異なる色光を表示することができるようにしている。

さらに、前記光干渉型表示パネルの製造方法について説明する。
図４Ａ，Ｂに示すように、碁板７０上に周知の技術である薄膜形成、フォトリソグラフィー或いはエッチングなどにより光学層７１及び犠牲層７０１を形成し、それら光学層７１及び犠牲層７０１の表面にネガ型レジストを塗布すると共に、背面露光、現像などの工程によりパターン化を行なう。
その後、図４Ｃに示すように、ネガ型レジストを除去して支持層７２を設け、続いて、図４Ｄに示すように、犠牲層７０１上に導体層７３を二つの支持層７２上を跨ぐように形成し、最後に図４Ｅに示すように、導体層７３の下方の犠牲層７０１を除去し、導体層７３を支持層７２により支持する。

しかし、前記工程では支持層７２を形成する際、光学層７１が先に形成されることから、背面露光を行なう必要があるので、製造工程数が多く且つ複雑であった。

本発明に係る光干渉型表示パネルの製造方法は、基板１０を有し、該基版１０の表面に順次に支持層１１、光学層１２、犠牲層１３及び導体層１４が形成され、その後、犠牲層１３が除去されることを特徴とする。

また、基板１０と、前記基板１０の表面に位置する支持層１１と、前記基板１０の表面に、その一部が支持層１１上に重なるように形成される光学層１２と、前記光学層１２における、支持層１１に重なる部分の上面に架設される導体層１４とを含むことを特徴とする光干渉型表示パネルを提供する。

上述したように、本発明の光干渉型表示パネル及び光干渉型表示パネルの製造方法によれば、光学層を形成する前に、支持層を完成させることから、該支持層を形成する時は一般の露光現像を行なえばよく、精密な背面露光を行なう必要はないので、製造工程をより簡素化できると共に、製造効率を向上させ、更には低コスト化をも図ることができる。

以下、添付図面を参照して本発明の好適な実施の形態を詳細に脱明する。

図１のＡ〜Ｅは本発明に係る一実施例を示す光干渉型表示パネルの製造方法の各工程を示す側面断面図であり、図２のＡ〜Ｄは本発明に係る光干渉型表示パネルにおける光学層の各層の異なる組み合わせを示す側面断面図である。

本発明に係る光干渉型表示パネルの製造方法につて説明する。
本発明の光干渉型表示パネルの製造方法は、以下の工程による。即ち、図１のＡに示すように、ガラス或いは高分子材料により成る基板１０上に支持層１１を形成する工程と、図１のＢに示すように、前記基板１０上に光学層１２を形成する工程と、図１のＣに示すように、前記基板１０の表面に、犠牲層１３を構成すべき素材を積層し、平坦化して犠牲層１３を形成する工程と、図１のＤに示すように、前記支持層１１同士の間に形成される犠牲層１３上に少なくとも反射層を含む導体層１４を形成する工程と、前記導体層１４の下方における犠牲層１３を除去して、該導体層１４を支持層１１により支持させる工程と、からなる。
前記製造過程においては、支持層１１は精密な背面露光技術を用いなくても、一般に採用されている露光現像技術により完成させることができる。

また、図２のＡでは光学層１２は少なくとも透明電極１２１、吸収層１２２及び単層又は複数層の誘電層１２４から成り、図２のＢ〜Ｄにおいては更に誘電層１２３が形成される構成となっており、これら透明電極１２１、吸収層１２２、誘電層１２３及び誘電層１２４は図面に示すように異なる組み合わせとした光干渉型表示パネルとしてもよい。

前記製造方法により製造された光干渉型表示パネルは、精密なアライメントを行なう必要がないと共に、前記光学層１２はエッチングした後、その一部が支持層１２上に形成されるので、導体層１４は光学層１２における、支持層１１と重なる部分に架設される。

上述したように、本発明によれば、緻密な背面露光を行なう必要がなく、製造工程をより簡素化できると共に、製造効率を向上させ、更には低コスト化を図った光干渉型表示パネルを提供することができる。

Ａ〜Ｅは本発明に係る一実施例を示す光干渉型表示パネルの製造方法の各工程を示す側面断面図である。 Ａ〜Ｄは本発明に係る光干渉型表示パネルにおける光学層の各層の異なる組み合わせを示す側面断面図である。 従来の光干渉型表示パネルの側面断面図である。 従来の光干渉型表示パネルの製造工程を示す斜視図である。 従来の光干渉型表示パネルの製造工程を示す斜視図である。 従来の光干渉型表示パネルの製造工程を示す斜視図である。 従来の光干渉型表示パネルの製造工程を示す斜視図である。 従来の光干渉型表示パネルの製造工程を示す斜視図である。

符号の説明

１０ 基板
１１ 支持層
１２ 光学層
１２１ 透明電極
１２２ 吸収層
１２３ 誘電層
１２４ 誘電層
１３ 犠牲層
１４ 導体層
７０ 基板
７０１ 犠牲層
７１ 光学層
７２ 支持層
７３ 導体層

Claims (11)

1. 基板１０を有し、該基板１０の表面に順次に支持層１１、光学層１２、犠牲層１３及び導体層１４が形成され、その後、犠牲層１３が除去されることを特徴とする光干渉型表示パネルの製造方法。
2. 基板１０上に支持層１１を形成する工程と、
   基板１０上に光学層１２を形成する工程と、
   基板１０上に、犠牲層１３を構成すべき素材を積層し、平坦化して犠牲層１３を形成する工程と、
   前記支持層１１同士の間に形成される犠牲層１３上に導体層１４を形成する工程と、
   前記導体層１４の下方における犠牲層１３を除去して、該導体層１４を支持層１１により支持させる工程と、
   を有することを特徴とする請求項１に記載の光干渉型表示パネルの製造方法。
3. 前記光学層１２はその一部が支持層１１に重なり、その光学層１２における、支持層１１に重なる部分の上面に導体層１４が架設されることを特徴とする請求項１又は２に記載の光干渉型表示パネルの製造方法。
4. 前記基板１０はガラス又は高分子材料から成ることを特微とする請求項１又は２に記載の光干渉型表示パネルの製造方法。
5. 前記光学層１２は少なくとも透明電極１２１、吸収層１２２及び誘電層１２４から成り、該誘電層１２４は単層又は複数層であることを特徴とする請求項３に記載の光干渉型表示パネルの製造方法。
6. 前記導体層１４は少なくとも反射層を含むことを特徴とする請求項３に記載の光干渉型表示パネルの製造方法。
7. 基板１０と、
   基板１０の表面に位置する支持層１１と、
   前記基板１０の表面に、その一部が支持層１１上に重なるように形成される光学層１２と、
   前記光学層１２における、支持層１１に重なる部分の上面に架設される導体層１４と、
   を含むことを特徴とする光干渉型表示パネル。
8. 前記導体層１４、光学層１２及び支持層１１は基板１０の同一側に形成されることを特徴とする請求項７に記載の光干渉型表示パネル。
9. 前記基板１０はガラス又は高分子材料から成ることを特徴とする請求項７に記載の光干渉型表示パネル。
10. 前記光学層１２は少なくとも透明電極１２１、吸収層１２２及び誘電層１２４から成り、該誘電層１２４は単層又は複数層であることを特徴とする請求項７に記載の光干渉型表示パネル。
11. 前記導体層１４は少なくとも反射層を含むことを特徴とする謂求項７に記載の光干渉型表示パネル。

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