JP2004223477A - クリーンルーム設備のガス除去装置 - Google Patents

クリーンルーム設備のガス除去装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2004223477A
JP2004223477A JP2003017113A JP2003017113A JP2004223477A JP 2004223477 A JP2004223477 A JP 2004223477A JP 2003017113 A JP2003017113 A JP 2003017113A JP 2003017113 A JP2003017113 A JP 2003017113A JP 2004223477 A JP2004223477 A JP 2004223477A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
air
clean room
harmful gas
gas
water
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2003017113A
Other languages
English (en)
Inventor
Atsuko Hanabuchi
温子 花渕
Junta Hirata
順太 平田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Plant Technologies Ltd
Original Assignee
Hitachi Plant Technologies Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Plant Technologies Ltd filed Critical Hitachi Plant Technologies Ltd
Priority to JP2003017113A priority Critical patent/JP2004223477A/ja
Publication of JP2004223477A publication Critical patent/JP2004223477A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Central Air Conditioning (AREA)
  • Ventilation (AREA)
  • Gas Separation By Absorption (AREA)
  • Drying Of Gases (AREA)

Abstract

【課題】外気中に含まれる有害ガス及びクリーンルームで発生した有害ガスを確実に除去できるクリーンルーム設備のガス除去装置を提供する。
【解決手段】本発明の有害ガス除去装置50は、外調機14から供給される空調エアも、クリーンルーム建屋16内で循環する循環エアも通過するクリーンルーム12の床下空間部42に配置されている。この有害ガス除去装置50によれば、床下空間部42に吸引された空気が水接触エレメント60を通過することによって、その空気中に含まれる有害ガスが加湿され、更に水との気液接触によって有害ガスが除去される。そして、加湿された空気が冷却コイル62によって冷却されることにより水分に凝縮され、この凝縮水中に有害ガス成分を取り込むことにより空気から有害ガスを完全に除去する。
【選択図】 図1

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明はクリーンルーム設備のガス除去装置に係り、特に半導体工場などのクリーンルームにおいて、デバイスに悪影響を与える水溶性のガス状化学物質を除去するクリーンルーム設備のガス除去装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体製造工場などのクリーンルーム設備では、クリーンルーム内の清浄度を保持するために、クリーンルームに供給する空調エア中の塵などの粒子を、ファンフィルタユニットに内蔵されたHEPAフィルタなどのフィルタによって除去している。
【0003】
また、クリーンルーム内に供給される空調エア中に有害ガスが含まれていたり、クリーンルーム内で有害ガスが発生したりした場合には、製品の品質管理などの問題から、これらの有害ガスを除去する必要がある。有害ガスとしては、火山帯などに多く含有されるSO、HSや海塩粒子中のNa、薬品蒸発時に発生するHF、HCl、NH、工場排気に含まれるSOなどがある。
【0004】
従来、有害ガス含有気体の有害ガス成分(水溶性のガス状化学物質)を水分中に溶解させ、有害ガスを気体中から除去する有害ガス除去装置が提案されている(例えば、特許文献1)。
【0005】
この有害ガス除去装置は、取り込んだ外気をクリーンルームに要求される温湿度に調整する空調機に内蔵されており、水接触エレメント及び冷却装置から構成される。この有害ガス除去装置によれば、取り込んだ外気を水接触エレメントに通過させることによって、外気中に含まれる有害ガスを加湿し、更に水との気液接触によって有害ガスを除去する。そして、加湿された気体を冷却装置によって冷却することにより水分を凝縮させ、凝縮水中に有害ガス成分を取り込むことにより外気から有害ガスを完全に除去し、クリーンルーム内への有害ガスの流入を阻止している。
【0006】
【特許文献1】
特開2001−87618号公報(3頁−4頁 図1)
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、前記従来の有害ガス除去装置は、外気の空調機に内蔵されているので、外気に含有する有害ガスは除去できるが、クリーンルームで発生した有害ガスやクリーンルームの躯体から揮発したNHなどの有害ガスは除去できないという問題があった。
【0008】
特に、垂直一方向流方式と称されるエア循環方式のクリーンルーム設備は、ファンフィルタユニットからクリーンルームに供給された空調エアを、グレーチング床を介して床下空間部に吸引し、この後、空調エアの一部をリターン空間部及び天井空間部を通過させ、前記ファンフィルタユニットによって前記クリーンルームに再び供給するように構成されている。したがって、このようなクリーンルーム設備は、外気に含まれる有害ガスとともに循環する空調エア中に含まれる有害ガスをも除去する必要があった。
【0009】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、外気中に含まれる有害ガス及びクリーンルームで発生した有害ガスを確実に除去することができるクリーンルーム設備のガス除去装置を提供することを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】
本発明は、前記目的を達成するために、ファンフィルタユニットによって除塵された空気をクリーンルームに供給し、該空気をクリーンルームの多孔床を介して床下空間部に吸引するとともに、該吸引した空気を前記ファンフィルタユニットを介して再びクリーンルームに供給するクリーンルーム設備において、前記床下空間部の空気流路上流側に、有害ガス含有の前記気体を加湿する水接触エレメントが設置されるとともに、前記空気流路の下流側に、前記水接触エレメントによって加湿された気体を冷却することにより水分を凝縮させる凝縮手段が設置されたことを特徴とする。
【0011】
本発明によれば、外気も循環エアも通過するクリーンルームの床下空間部に、水接触エレメントと凝縮手段とから構成される有害ガス除去装置を配置している。この有害ガス除去装置によれば、床下空間部に吸引された空気(外気及び循環エア)が水接触エレメントを通過することによって、空気中に含まれる有害ガスが加湿され、更に水との気液接触によって有害ガスが除去される。そして、加湿された空気が凝縮手段によって冷却されることにより水分に凝縮され、この凝縮水中に有害ガス成分を取り込むことにより空気から有害ガスを完全に除去する。これによって、本発明は、外気中に含まれる有害ガス及びクリーンルームで発生した有害ガスを確実に除去できる。
【0012】
【発明の実施の形態】
以下、添付図面に従って本発明に係るクリーンルーム設備のガス除去装置の好ましい実施の形態を詳説する。
【0013】
図1に示す実施の形態のクリーンルーム設備10は、クリーンルーム12と空調機である外調機14とから構成される。外調機14は、取り込んだ外気をクリーンルーム12が要求する温湿度に調整し、この調整した空調エアをクリーンルーム建屋16の天井空間部18にダクト20を介して供給する機能を有している。この外調機14は、その筐体22内にプレフィルタ24、中性能フィルタ26、予熱コイル28、冷却コイル30、ファン32、再熱コイル34、及びHEPAフィルタ36が所定の位置に内蔵されている。
【0014】
天井空間部18に供給された空調エアは、クリーンルーム12の天井面に敷設されたファンフィルタユニット38に吸引され、ファンフィルタユニット38に内蔵されたHEPAフィルタなどの高性能フィルタを通過することにより、微粒子が更に除去されてクリーンルーム12の作業空間13に天井面から真下に向けて供給される。
【0015】
作業空間13に供給された空調エアは、作業空間13に設置された洗浄装置やエッチング装置などの化学薬品取扱装置、及び他の機器から発生したガスや熱などを取り込み、グレーチング床(多孔床に相当)40を介して床下空間部42に吸引される。床下空間部42に吸引された空調エアは、後述する有害ガス除去装置50を通過してリターン空間部52に流れ、このリターン空間部52を通過して天井空間部18に導かれた後、ファンフィルタユニット38によって作業空間13に再度供給される。なお、有害ガス除去装置50を通過した空調エアの一部は、排気口54からクリーンルーム建屋16の外部に排気される。すなわち、実施の形態のクリーンルーム設備10は、空調エアの一部を排気しながら残りの空調エアを循環使用するとともに、排気分に相当する空調エアを外調機14から得るようにした、垂直一方向流方式と称されるエア循環方式のクリーンルーム設備である。
【0016】
有害ガス除去装置50は、水接触エレメント60及び冷却コイル(凝縮手段に相当)62から構成され、水接触エレメント60は、床下空間部42の図1上で矢印で示す空気流路の上流側に設置され、冷却コイル62は、前記空気流路の下流側に設置されている。
【0017】
水接触エレメント60は図2に示す如く、矩形状に形成された本体フレーム64内にグラスファイバー製の加湿モジュール66、66…を上下方向に複数個配置することにより構成されている。加湿モジュール66の上部には、散水装置68が設置される。この散水装置68は、不図示のタンクに貯留された水を、供給ポンプ70によって吸水し、これをノズル72を介して加湿モジュール66の上部に滴下供給する。このように、加湿モジュール66に水を滴下供給することによって、水接触エレメント60を通過する気体が加湿される。
【0018】
すなわち、空気3aが水接触エレメント60を通過するとき、空気3a中の水溶性ガス(有害ガス)が水接触エレメント60の表面の水膜に溶解し除去される。またその時、水接触エレメント60を通過した空気3bの露点温度は、空気3aよりも上昇し、その後、冷却コイル62にて、クリーンルームの設定露点温度まで冷却され空気3cとなる。その際、空気3b中の水分が冷却コイル1の表面で凝縮するが、その凝縮水中に水接触エレメント2で除去できなかったガス成分が溶解し除去される。なお、冷却コイル62には、冷却コイル62に冷媒を供給する冷水往管74が接続されるとともに、熱交換に寄与した冷媒を冷却装置(不図示)に戻す冷水戻管76が接続されている。また、水接触エレメント60及び冷却コイル62から出るドレンは、ドレンパン78、80からドレン配管82を介して排水される。水接触エレメント60及び冷却コイル62の供給水はその種類を問わない。
【0019】
図3は、有害ガス除去装置50による空気の状態変化を示した空気線図である。図2において、状態1(空気3a)の空気が水接触エレメント60を通過する際、断熱加湿により状態2(空気3b)となって露点温度が上昇する(例えば図3においてD.P:約10.5℃→約12.5℃)。その後、冷却コイル62を通過しクリーンルーム内管理露点温度(例えば図3においてD.P:約10.5℃)まで冷却されて状態3(図2の空気3c)となる。この時、冷却コイル62におけるエアの入り出の温度差Δtは、10.5℃程度になる。
【0020】
このように構成された有害ガス除去装置50によれば、外調機14から供給される空調エア(外気)も、クリーンルーム建屋16内で循環する循環エアも通過するクリーンルーム12の床下空間部42に配置されている。この有害ガス除去装置50によれば、床下空間部42に吸引された空気(外気及び循環エア)が水接触エレメント60を通過することによって、その空気中に含まれる有害ガスが加湿され、更に水との気液接触によって有害ガスが除去される。そして、加湿された空気が冷却コイル62によって冷却されることにより水分に凝縮され、この凝縮水中に有害ガス成分を取り込むことにより空気から有害ガスを完全に除去する。
【0021】
このように、実施の形態の有害ガス除去装置50によれば、外気中に含まれる有害ガス及びクリーンルームで発生した有害ガスを確実に除去できるとともに、除塵空気中の水溶性ガス成分を、除去率を低下させることなく除去することができる。
【0022】
また、有害ガス除去装置50の冷却コイル62においては、供給する冷水温度を0〜7℃と低温化し、潜熱処理機能を持たせているため、エアの入り出の温度差Δtは、従来の顕熱処理用の冷却コイルに比べ大幅に上昇する。その結果、通過風量を低減することができる。
【0023】
なお、水接触エレメント60への供給水量は、水接触エレメント60での理論蒸発量の1.3倍であり、水膜を形成する最小水量である。
【0024】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明に係るクリーンルーム設備のガス除去装置によれば、外気も循環エアも通過するクリーンルームの床下空間部に、水接触エレメントと凝縮手段とから構成される有害ガス除去装置を配置したので、外気中に含まれる有害ガス及びクリーンルームで発生した有害ガスを確実に除去できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態のクリーンルーム設備を示す構造図
【図2】実施の形態の有害ガス除去装置の構成及び作用を示した説明図
【図3】実施の形態の有害ガス除去装置による空気状態を示した空気線図
【符号の説明】
10…クリーンルーム設備、12…クリーンルーム、14…外調機、16…クリーンルーム建屋、18…天井空間部、24…プレフィルタ、26…中性能フィルタ、28…予熱コイル、30…冷却コイル、32…ファン、34…再熱コイル、36…HEPAフィルタ、38…ファンフィルタユニット、40…グレーチング床、42…床下空間部、50…有害ガス除去装置、52…リターン空間部、60…水接触エレメント、62…冷却コイル、64…本体フレーム、66…加湿モジュール、68…散水装置、70…供給ポンプ

Claims (1)

  1. ファンフィルタユニットによって除塵された空気をクリーンルームに供給し、該空気をクリーンルームの多孔床を介して床下空間部に吸引するとともに、該吸引した空気を前記ファンフィルタユニットを介して再びクリーンルームに供給するクリーンルーム設備において、
    前記床下空間部の空気流路上流側に、有害ガス含有の前記気体を加湿する水接触エレメントが設置されるとともに、前記空気流路の下流側に、前記水接触エレメントによって加湿された気体を冷却することにより水分を凝縮させる凝縮手段が設置されたことを特徴とするクリーンルーム設備のガス除去装置。
JP2003017113A 2003-01-27 2003-01-27 クリーンルーム設備のガス除去装置 Pending JP2004223477A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003017113A JP2004223477A (ja) 2003-01-27 2003-01-27 クリーンルーム設備のガス除去装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003017113A JP2004223477A (ja) 2003-01-27 2003-01-27 クリーンルーム設備のガス除去装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2004223477A true JP2004223477A (ja) 2004-08-12

Family

ID=32904351

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003017113A Pending JP2004223477A (ja) 2003-01-27 2003-01-27 クリーンルーム設備のガス除去装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2004223477A (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008082696A (ja) * 2006-08-29 2008-04-10 Taisei Corp 集塵排気システム
GB2464215A (en) * 2008-10-08 2010-04-14 Grid Xitek Ltd Breathable air cleaning apparatus
CN107883514A (zh) * 2017-12-11 2018-04-06 广东美的制冷设备有限公司 新风换气装置
CN110925875A (zh) * 2019-12-12 2020-03-27 宁波奥克斯电气股份有限公司 空调***及空调***的控制方法

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008082696A (ja) * 2006-08-29 2008-04-10 Taisei Corp 集塵排気システム
JP4678694B2 (ja) * 2006-08-29 2011-04-27 大成建設株式会社 集塵排気システム
GB2464215A (en) * 2008-10-08 2010-04-14 Grid Xitek Ltd Breathable air cleaning apparatus
GB2464170A (en) * 2008-10-08 2010-04-14 Grid Xitek Ltd Breathable air cleaning apparatus for use in a mobile environment
GB2464170B (en) * 2008-10-08 2011-07-13 Grid Xitek Ltd Air cleaning apparatus
GB2464215B (en) * 2008-10-08 2011-11-16 Grid Xitek Ltd Air cleaning apparatus
CN107883514A (zh) * 2017-12-11 2018-04-06 广东美的制冷设备有限公司 新风换气装置
CN110925875A (zh) * 2019-12-12 2020-03-27 宁波奥克斯电气股份有限公司 空调***及空调***的控制方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5944894A (en) Substrate treatment system
US20180001249A1 (en) Methods Apparatuses Assemblies Devices and Systems for Conditioning and Purifying Air
JP4606600B2 (ja) 処理空気供給装置及び方法
JP2000320865A (ja) 汚染ガス除去空気調和装置
JP3415404B2 (ja) 処理システム
JP2004223477A (ja) クリーンルーム設備のガス除去装置
JP2001280657A (ja) 空調機
US11187422B1 (en) Air purifier/conditioner (APC)
JP2007255749A (ja) 空気調和装置
JP3315037B2 (ja) 空気調和装置
JP2014122740A (ja) 空調機および手術室の空調システム
JP4616976B2 (ja) 空気浄化空調装置及び空気浄化空調方法
JP2010139213A (ja) 空調システム
JP4911968B2 (ja) 外気冷熱利用方法及び空調システム
KR100789555B1 (ko) 공기정화 공조장치 및 공기정화 공조방법
JP7224996B2 (ja) クリーンルームの空調システム
JP3798993B2 (ja) 空気調和装置
JPH10205822A (ja) 空気調和機
JP2000061246A (ja) 空気清浄装置
JP4435898B2 (ja) 空気浄化空調装置及び空気浄化空調方法
JP4168163B2 (ja) ガス不純物の除去システム
JP3290921B2 (ja) 空気調質方法およびその装置
JP2001087618A (ja) 有害ガス除去装置
JP3208753B2 (ja) クリーンルーム用空調機
JP2020186819A (ja) 地下水利用型熱交換装置およびこれを用いた空調システム