JP2004207407A - Spin cleaner - Google Patents

Spin cleaner Download PDF

Info

Publication number
JP2004207407A
JP2004207407A JP2002373208A JP2002373208A JP2004207407A JP 2004207407 A JP2004207407 A JP 2004207407A JP 2002373208 A JP2002373208 A JP 2002373208A JP 2002373208 A JP2002373208 A JP 2002373208A JP 2004207407 A JP2004207407 A JP 2004207407A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
centrifugal
casing
spin
cleaning
wing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2002373208A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masashi Inamitsu
政司 稲光
Masaki Kusuhara
昌樹 楠原
Takanori Moriya
隆憲 森谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
WAKOMU DENSO KK
Original Assignee
WAKOMU DENSO KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by WAKOMU DENSO KK filed Critical WAKOMU DENSO KK
Priority to JP2002373208A priority Critical patent/JP2004207407A/en
Publication of JP2004207407A publication Critical patent/JP2004207407A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
  • Cleaning In General (AREA)
  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a spin cleaner having higher minutely cleaning ability. <P>SOLUTION: This spin cleaner is provided with a nozzle 1 which sprays a cleaning material upon an object 2 to be cleaned and a rotating body formed as a casing 3 and having a plurality of centrifugal vanes 4 at positions surrounding the object 2. This spin cleaner is improved in workability for removing dust and a coating film removed from the object 2, by producing a function of discharging splashes or mists 15 sprayed from the nozzle 1 and shaken off from the object 2 to the outside of the vanes 4 through the rotation of the vanes 4, and a function of preventing the regression of the discharged splashes or mists 15 to the inside of the vanes 4. Consequently, this spin cleaner, which removes the dust or coating film from the object 2 by spraying the cleaning material composed of a gas, liquid, or their mixture upon the object 2 while rotating the object 2 in the casing 3, can prevent the once removed splashes or mists 15 containing dust or coating film from adhering again to cleaned surfaces. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO&NCIPI

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、スピン洗浄装置に関し、特に、被洗浄物からゴミや塗膜を除去するためのスピン洗浄装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、スピン洗浄装置は一般に、ケーシング内に被洗浄物を装填し、ノズルを用いて被洗浄物の洗浄を行う装置として構成される。このようなスピン洗浄装置を用いたシリコンウェハーやガラス基板、並びにフォトマスク表面の精密洗浄は、半導体デバイスの製造過程において重要な位置を占めるに至っている。この様な状況において、微細化する回路パターン上のゴミや塗膜を除去するために、スピン洗浄装置が実用に供されている。
【０００３】
従来実用上のスピン洗浄装置は、ケーシング内で被洗浄物を回転させ、洗浄面に薬液や純水を流したりスクラビングブラシで擦ったりしてゴミや塗膜の除去を行う。この他に、高圧の薬液を噴霧するなどして上記の除去を行っている。
【０００４】
図７は、現在実用中のスピン洗浄機の一例を示している。本従来例のスピン洗浄機は、ケーシング１４内に装着された被洗浄物を洗浄する装置である。この洗浄のための給気を上方から行い、下方の排気側にポンプやブロアーを用いて減圧する事により、上から下へのダウンフローを発生させている。洗浄物から振り飛ばされた飛沫やミスト１５は、ケーシング内部のダウンフローによりケーシング外に排出される。
【０００５】
本発明と技術分野の類似する先願発明例１として、下記の公開文献１がある。
【０００６】
【公開文献１】
特開平０７−０３７８５４号公報
「スピンドライヤー」
【０００７】
本先願発明例１は、平面板とその平面板に垂直に固定されている数個の垂直壁からなる回転体を用いており、シリコンウェハーを中心部に固定するシロッコファン、そのシロッコファンに垂直にシリコンウェハーのオリフラー部分に乾燥ガスを照射するための噴射口を有する支柱を設けてなる、スピンドライヤーを開示している。
【０００８】
上記先願発明例１におけるスピンドライヤーは、シリコンウェハーを回転させないので、シリコンウェハーの慣性モーメントの中心を求める必要性は全くない。そのため装置が簡素化され、シリコンウェハーが回転により破損して装置や他のシリコンウェハーの破損は皆無となる、としている。また、スピンドライヤーを多段にすることにより、洗浄、乾燥の効率がよく、シリコンウェハーの品質とコスト低減を図れ、さらに、液体窒素または液体水素による洗浄効果により、シリコンウェハー表面のシリコン酸化物の微粒子等が除去できる。このため、シミ残りが少なく、次工程以後の歩留まりが減少する効果を有する、としている。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、近年、より高い高速液流を用いて洗浄を行うプロセスが登場し、ケーシング内で飛沫やミストがより激しく散乱するようになってきている。その結果、この発生する飛沫やミストに対してダウンフローが不充分である場合、被洗浄物から振り飛ばされた飛沫やミストはケーシングの外へ排出される前にケーシング内壁１４に衝突して跳ね返り、再び洗浄面へと移動し、洗浄表面への再付着を起こす問題点が生じている。
【００１０】
本発明は、より高い精密洗浄能力を有するスピン洗浄装置を提供することを目的とする。さらに詳述すると、本発明は、一度除去されたゴミや塗膜を含む飛沫やミストが再び洗浄面に付着することを防止したスピン洗浄装置を提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
かかる目的を達成するため、本発明の所定のケーシング内で被洗浄物を回転しこの被洗浄物に気体や液体またはそれらの混合物から成る洗浄体を噴射することで被洗浄物からゴミや塗膜を除去するスピン洗浄装置において、洗浄体を被洗浄物へ噴射するノズルと、ケーシング内で且つ被洗浄物の周囲の位置に複数枚の遠心翼を有する回転体とを備え、ノズルから噴射され被洗浄物から振り飛ばされた飛沫やミストを、遠心翼の回転により該遠心翼の外側へ排出させる排出機能と、排出された飛沫やミストの遠心翼の内側への回帰を防止する回帰防止機能とを生じさせ、被洗浄物から除去されたゴミや塗膜の除去の実行性を高めたことを特徴としている。
【００１２】
また、上記遠心翼は、回転軸から排気方向に対して所定の角度を有して回転体上に固定され、湾曲を有する熊手状に形成されて構成するとよい。
【００１３】
なお、上記のケーシングは、遠心翼の回転により飛沫やミストへ生じさせる遠心力方向に排気口を有し、排出機能の実行性を高め、排気口へ接続された吸気力により、または回転体を回転駆動することにより、該回転体の回転力を生じさせ、遠心翼による排気機能の形成、排気口へ接続された吸気力、回転体と連結する遠心翼の回転駆動力の何れかを有することにより、排出機能の実行性を高めるとよい。
【００１４】
【発明の実施の形態】
次に、添付図面を参照して本発明によるスピン洗浄装置の実施の形態を詳細に説明する。図１から図６を参照すると、本発明のスピン洗浄装置の一実施形態が示されている。図１が本実施形態のスピン洗浄装置の断面構成例、図２がケーシング外観の斜視図、図３が上面図であり、図４が遠心翼の構成例を示す斜視図である。また、図５および図６が、動作例を説明するための図である。
【００１５】
本実施形態のスピン洗浄装置では、ケーシング内で洗浄物を回転し、被洗浄物に気体や液体またはそれらの混合物を噴射することで、洗浄物からゴミや塗膜を除去する。本除去動作において、ケーシング内に装備した複数枚の遠心翼を回転し、被洗浄物から除去したゴミや塗膜を含む気体や液体の飛沫をケーシングの内壁に吸い込むことで、被洗浄物から除去したゴミや塗膜が洗浄物へ再付着しない。本特徴を有するスピン洗浄装置の構成の内容を以下に詳述する。
【００１６】
図１に示すように示す様に、本実施形態のスピン洗浄装置は、流体噴射用のノズル１、洗浄物２、ケーシング３、吸込壁を作り出す遠心翼４、飛沫やミストを吸い込むための吸込面５、遠心翼を回転するための遠心翼回転軸６、ワークテーブル８と洗浄物を回転するためのワークテーブル回転軸７、ワークホルダー９を固定するためのワークテーブル８、洗浄物を固定するためのワークホルダー９、遠心翼を固定し回転するための回転テーブル１０、飛沫やミストを排気するための排気口１１を設けて構成される。
【００１７】
図１のケーシング３は、例えば、図２に示す外観を有する。図１の遠心翼４は、図３に示すように、回転テーブル１０の上に複数の遠心翼４を設けて成るものである。さらに、図４は、図３中のＡ部を拡大図示したものであり、吸込壁を作り出す遠心翼４の詳細な構成例を示している。遠心翼４は、湾曲を有する熊手状に形成され、回転軸から排気方向に対して所定の角度を有して、回転テーブル１０上に固定されている。
【００１８】
上記回転テーブル上に配置された遠心翼４の配置構成によれば、テーブル内側近傍の空気をより効率的に収集し、テーブル外側へ送り出すことが可能となる。また、テーブル内側と外側との間の直線的な空間部がより狭く構成される。本構成形態により、内側から外側への飛沫やミストの排気稼働能力の向上と、外側から内側への飛沫やミストの回帰が阻止される。
【００１９】
図５および図６は、上記に構成されるスピン洗浄装置の動作例を示している。これらの２つの図において、図５中の間隔ｈは、洗浄物２の外側の端と、遠心翼４の吸込面５との間の距離を示す。図６は、この距離ｈを横軸とし、且つ縦軸を静圧力として、動作中のケーシング３内における圧力勾配１３の形態例を示している。これら動作例を示す図５および図６において、回転している洗浄物２へノズル１から流体を噴射し、洗浄物２からゴミや塗膜を除去する。除去されたゴミや塗膜は、飛沫やミスト１２となってケーシング３の中に散乱する。このとき遠心翼４を回転させると、遠心翼４の翼部分の気体が遠心力を受けケーシング３の外側へ誘導される。
【００２０】
除去されたゴミや塗膜が飛沫やミスト１２となってケーシング３の内に散乱中の時、遠心翼４の翼部分の気体が回転されて、遠心力を受けた散乱飛沫やミスト１２はケーシング３の外へ排気される。その結果、ケーシング中央から吸込面５にかけて圧力勾配１３が生じる。この圧力勾配１３により飛沫やミスト１２は吸込面５へ向かって移動し吸い込まれるので、壁による跳ね返りが無く、洗浄物２に再付着すること無く排気される。なお、図６は圧力勾配の形成形態例を示している。
【００２１】
上記の排気動作の吸気および排気において、排気口１１への外部からの吸引により、この吸気力に誘導されての回転テーブル１０を回転させ、吸排気を形成する。但し、この吸排気形成は、回転テーブル１０を直接駆動して、遠心翼４の回転によって生じさせてもよい。
【００２２】
上記の構成において、被洗浄物２と吸込面５との間における、除去されたゴミや塗膜である飛沫やミスト１２の排出動作に対して、障壁となるものが無い。さらに、遠心翼４が熊手状に構成されており、回転による吸込み能力を高めると共に吸込壁を形成する。この吸込み壁が、遠心翼４により外側へ一旦排出された飛沫やミスト１２に対して逆流を防止する。この結果、ケーシング３の内壁へ衝突したゴミや塗膜が、ワークテーブル８側へ舞い戻る事を防止する。
【００２３】
なお、上述の実施形態は本発明の好適な実施の一例である。ただし、これに限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変形実施が可能である。
【００２４】
【発明の効果】
以上の説明より明らかなように、本発明のスピン洗浄装置は、被洗浄物の周囲の位置に複数枚の遠心翼を有する回転体とを備え、ノズルから噴射され被洗浄物から振り飛ばされた飛沫やミストを遠心翼の回転により遠心翼の外側へ排出させる排出機能と、排出された飛沫やミストの遠心翼の内側への回帰を防止する回帰防止機能とを生じさせている。これにより、飛沫やミストを被洗浄物に再付着させないので、異物の除去効果に優れている。また、排気流量が大きいため噴射流体の速度を上げられ、より精密で強力な洗浄を行うことができる。さらに、遠心翼により、強力な排気ができるので、ポンプやブロアー等の排気装置を別に設置する必要がない。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のスピン洗浄装置の実施形態を示した図である。
【図２】ケーシングの外観を示した斜視図である。
【図３】回転テーブルの構成例を示した平面図である。
【図４】図３のＡ部の拡大図であり遠心翼の構造例を示した斜視図である。
【図５】スピン洗浄装置の動作を説明するための概念図である。
【図６】スピン洗浄装置内の静圧分布状態例を示した特性図である。
【図７】従来装置の説明図である。
【符号の説明】
１ ノズル
２ 被洗浄物
３ ケーシング
４ 遠心翼
５ 吸込面
６ 遠心翼回転軸
７ ワークテーブル回転軸
８ ワークテーブル
９ ワークホルダー
１０ 回転テーブル
１１ 排気口
１２ 飛沫やミスト
１３ 圧力勾配
１４ ケーシング内壁
１５ 飛沫やミスト[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a spin cleaning device, and more particularly to a spin cleaning device for removing dust and a coating film from an object to be cleaned.
[0002]
[Prior art]
2. Description of the Related Art Conventionally, a spin cleaning device is generally configured as a device in which an object to be cleaned is loaded in a casing and the object to be cleaned is cleaned using a nozzle. Precision cleaning of silicon wafers, glass substrates, and photomask surfaces using such a spin cleaning apparatus has occupied an important position in the process of manufacturing semiconductor devices. In such a situation, a spin cleaning device has been put to practical use in order to remove dust and a coating film on a circuit pattern to be miniaturized.
[0003]
2. Description of the Related Art Conventionally, a practical spin cleaning device rotates an object to be cleaned in a casing, and removes dust and a coating film by flowing a chemical solution or pure water on a cleaning surface or rubbing with a scrubbing brush. In addition, the above removal is performed by spraying a high-pressure chemical.
[0004]
FIG. 7 shows an example of a spin cleaning machine currently in practical use. The spin washer of this conventional example is an apparatus for washing an object to be washed mounted in a casing 14. The air for this cleaning is supplied from above, and the pressure is reduced by using a pump or a blower on the lower exhaust side, thereby generating a down flow from above to below. The splashes and mist 15 shaken off from the cleaning object are discharged out of the casing by a downflow inside the casing.
[0005]
Patent Document 1 listed below is a first prior invention example similar to the present invention in the technical field.
[0006]
[Publication 1]
JP-A-07-037854, "Spin dryer"
[0007]
The prior invention example 1 uses a rotator composed of a flat plate and several vertical walls fixed vertically to the flat plate, and a sirocco fan for fixing a silicon wafer at the center and a sirocco fan for the sirocco fan. Disclosed is a spin dryer in which a column having an injection port for irradiating a dry gas onto a silicon wafer orifice vertically is provided.
[0008]
Since the spin dryer in the above-mentioned invention example 1 does not rotate the silicon wafer, there is no need to find the center of the moment of inertia of the silicon wafer at all. Therefore, the apparatus is simplified, and the silicon wafer is damaged by rotation, so that the apparatus and other silicon wafers are not damaged. In addition, by using multiple stages of spin dryers, the efficiency of cleaning and drying is improved, and the quality and cost of the silicon wafer can be reduced. In addition, due to the cleaning effect of liquid nitrogen or liquid hydrogen, fine particles of silicon oxide on the surface of the silicon wafer can be obtained. Etc. can be removed. For this reason, it is said that there is little stain remaining and the yield after the next step is reduced.
[0009]
[Problems to be solved by the invention]
However, in recent years, a process for cleaning using a higher high-speed liquid flow has appeared, and splashes and mist have been more strongly scattered in the casing. As a result, if the downflow is insufficient with respect to the generated droplets and mist, the droplets and mist shaken off from the object to be washed collide with the casing inner wall 14 before being discharged out of the casing and bounce off. Then, it again moves to the cleaning surface and causes a problem of re-adhering to the cleaning surface.
[0010]
An object of the present invention is to provide a spin cleaning device having higher precision cleaning capability. More specifically, it is an object of the present invention to provide a spin cleaning apparatus that prevents splashes and mist containing dust and coating once removed from adhering to a cleaning surface.
[0011]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve the above object, the object to be cleaned is rotated in a predetermined casing of the present invention, and a cleaning body made of a gas, a liquid, or a mixture thereof is sprayed on the object to be cleaned, so that dust and a coating film are removed from the object to be cleaned. In a spin cleaning apparatus for removing an object, a nozzle for injecting a cleaning object to an object to be cleaned and a rotating body having a plurality of centrifugal blades in a casing and at a position around the object to be cleaned are provided. A discharge function that discharges the splashes and mist shaken off from the cleaning object to the outside of the centrifugal wing by rotating the centrifugal wing, and a return prevention function that prevents the discharged droplets and mist from returning to the inside of the centrifugal wing. , And the practicability of removing dust and a coating film removed from the object to be cleaned is enhanced.
[0012]
Further, the centrifugal wing may be fixed on the rotating body at a predetermined angle from the rotation axis to the exhaust direction, and may be formed in a curved rake shape.
[0013]
In addition, the above-mentioned casing has an exhaust port in the direction of centrifugal force generated by the rotation of the centrifugal wing to produce droplets and mist, to enhance the practicability of the exhaust function, and by the suction force connected to the exhaust port, or by rotating the rotating body. By rotating and generating a rotational force of the rotating body, the centrifugal blade has one of an exhaust function, an intake force connected to an exhaust port, and a rotational driving force of the centrifugal blade connected to the rotating body. In this case, it is preferable to improve the execution performance of the discharge function.
[0014]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Next, an embodiment of a spin cleaning apparatus according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. 1 to 6, there is shown an embodiment of the spin cleaning apparatus of the present invention. 1 is a cross-sectional configuration example of the spin cleaning device of the present embodiment, FIG. 2 is a perspective view of the appearance of a casing, FIG. 3 is a top view, and FIG. 4 is a perspective view showing a configuration example of a centrifugal impeller. FIGS. 5 and 6 are diagrams for explaining an operation example.
[0015]
In the spin cleaning apparatus according to the present embodiment, dust and a coating film are removed from a cleaning object by rotating the cleaning object in a casing and injecting a gas, a liquid, or a mixture thereof onto the object to be cleaned. In this removal operation, multiple centrifugal wings installed in the casing are rotated, and gas and liquid droplets including dust and coating film removed from the object to be washed are sucked into the inner wall of the casing, thereby removing the object from the object to be washed. Dust and coatings do not reattach to the wash. The details of the configuration of the spin cleaning device having this feature will be described in detail below.
[0016]
As shown in FIG. 1, a spin cleaning device according to the present embodiment includes a nozzle 1 for fluid ejection, a cleaning object 2, a casing 3, a centrifugal wing 4 for creating a suction wall, and a suction surface for sucking droplets and mist. 5. Centrifugal impeller rotating shaft 6 for rotating the centrifugal impeller, work table 8 and work table rotating shaft 7 for rotating the washing object, work table 8 for fixing the work holder 9, and fixing the washing object. , A rotary table 10 for fixing and rotating the centrifugal wing, and an exhaust port 11 for exhausting droplets and mist.
[0017]
The casing 3 in FIG. 1 has, for example, the appearance shown in FIG. The centrifugal impeller 4 shown in FIG. 1 has a plurality of centrifugal impellers 4 provided on a turntable 10 as shown in FIG. Further, FIG. 4 is an enlarged view of a portion A in FIG. 3, and shows a detailed configuration example of the centrifugal wing 4 that creates the suction wall. The centrifugal wing 4 is formed in a curved rake shape, is fixed on the rotary table 10 at a predetermined angle from the rotation axis to the exhaust direction.
[0018]
According to the arrangement of the centrifugal wings 4 arranged on the rotary table, it becomes possible to more efficiently collect air near the inside of the table and send it out of the table. Further, the linear space between the inside and outside of the table is configured to be narrower. This configuration improves the exhaust operation capability of splashes and mist from inside to outside, and prevents return of splashes and mist from outside to inside.
[0019]
5 and 6 show an operation example of the spin cleaning apparatus configured as described above. In these two figures, the distance h in FIG. 5 indicates the distance between the outer end of the cleaning object 2 and the suction surface 5 of the centrifugal impeller 4. FIG. 6 shows an example of the form of the pressure gradient 13 in the casing 3 during operation, with the distance h as the horizontal axis and the vertical axis as the static pressure. 5 and 6 showing these operation examples, a fluid is ejected from the nozzle 1 to the rotating cleaning object 2 to remove dust and a coating film from the cleaning object 2. The removed dust and the coating film are scattered in the casing 3 as splashes and mist 12. At this time, when the centrifugal wing 4 is rotated, the gas in the wing portion of the centrifugal wing 4 receives centrifugal force and is guided to the outside of the casing 3.
[0020]
When the removed dust and coating film are scattered in the casing 3 as splashes or mist 12, the gas in the wing portion of the centrifugal wing 4 is rotated, and the scattered splash or mist 12 subjected to the centrifugal force is removed from the casing. It is exhausted out of 3. As a result, a pressure gradient 13 is generated from the center of the casing to the suction surface 5. Since the droplets and mist 12 move toward the suction surface 5 and are sucked by the pressure gradient 13, they are exhausted without rebounding from the wall and re-adhering to the cleaning object 2. FIG. 6 shows an example of a pressure gradient formation mode.
[0021]
In the intake and exhaust of the exhaust operation described above, the rotary table 10 is rotated by the suction force by the external suction to the exhaust port 11 to form intake and exhaust. However, the intake and exhaust may be generated by directly driving the rotary table 10 and rotating the centrifugal impeller 4.
[0022]
In the above configuration, there is no barrier between the object to be cleaned 2 and the suction surface 5 with respect to the operation of discharging the removed dust and the mist 12 which is the coating film. Further, the centrifugal wings 4 are formed in a rake shape, which increases the suction capability by rotation and forms a suction wall. The suction wall prevents backflow of the droplets and the mist 12 once discharged to the outside by the centrifugal wing 4. As a result, it is possible to prevent the dust and the paint film colliding against the inner wall of the casing 3 from returning to the work table 8 side.
[0023]
The above embodiment is an example of a preferred embodiment of the present invention. However, the present invention is not limited to this, and various modifications can be made without departing from the scope of the present invention.
[0024]
【The invention's effect】
As is clear from the above description, the spin cleaning apparatus of the present invention includes a rotating body having a plurality of centrifugal blades at positions around the object to be cleaned, and is sprayed from the nozzle and shaken off from the object to be cleaned. It has a discharge function of discharging the droplets and mist to the outside of the centrifugal wing by rotation of the centrifugal wing, and a return preventing function of preventing the discharged droplets and mist from returning to the inside of the centrifugal wing. Thereby, the droplets and mist are not re-adhered to the object to be cleaned, so that the effect of removing foreign substances is excellent. Further, since the exhaust flow rate is large, the speed of the jet fluid can be increased, and more precise and powerful cleaning can be performed. Further, since the centrifugal wing enables strong exhaustion, it is not necessary to separately install an exhaust device such as a pump and a blower.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a diagram showing an embodiment of a spin cleaning apparatus of the present invention.
FIG. 2 is a perspective view showing an appearance of a casing.
FIG. 3 is a plan view showing a configuration example of a turntable.
4 is an enlarged view of a portion A in FIG. 3 and is a perspective view showing a structural example of a centrifugal wing.
FIG. 5 is a conceptual diagram for explaining the operation of the spin cleaning device.
FIG. 6 is a characteristic diagram showing an example of a static pressure distribution state in the spin cleaning device.
FIG. 7 is an explanatory diagram of a conventional device.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Nozzle 2 Object to be washed 3 Casing 4 Centrifugal impeller 5 Suction surface 6 Centrifugal impeller rotating shaft 7 Work table rotating shaft 8 Work table 9 Work holder 10 Rotating table 11 Exhaust port 12 Spray and mist 13 Pressure gradient 14 Casing inner wall 15 Spray and mist

Claims (6)

所定のケーシング内で被洗浄物を回転し該被洗浄物に気体や液体またはそれらの混合物から成る洗浄体を噴射することで該被洗浄物からゴミや塗膜を除去するスピン洗浄装置において、
前記洗浄体を前記被洗浄物へ噴射するノズルと、
前記ケーシング内で且つ前記被洗浄物の周囲の位置に複数枚の遠心翼を有する回転体とを備え、
前記ノズルから噴射され前記被洗浄物から振り飛ばされた飛沫やミストを、前記遠心翼の回転により該遠心翼の外側へ排出させる排出機能と、
前記排出された前記飛沫やミストの前記遠心翼の内側への回帰を防止する回帰防止機能とを生じさせ、
前記被洗浄物から除去された前記ゴミや塗膜の除去の実行性を高めたことを特徴とするスピン洗浄装置。In a spin cleaning apparatus that rotates a cleaning object in a predetermined casing and ejects a cleaning body made of a gas, a liquid, or a mixture thereof to the cleaning object to remove dust and a coating film from the cleaning object,
A nozzle for injecting the cleaning body onto the object to be cleaned,
A rotating body having a plurality of centrifugal wings in the casing and at a position around the object to be cleaned,
A discharge function for discharging droplets and mist ejected from the nozzle and shaken off from the object to be washed, to the outside of the centrifugal wing by rotation of the centrifugal wing,
A return prevention function of preventing the discharged droplets and mist from returning to the inside of the centrifugal wing,
A spin cleaning apparatus, wherein the operability of removing the dust and the coating film removed from the object to be cleaned is enhanced. 前記遠心翼は、回転軸から排気方向に対して所定の角度を有して前記回転体上に固定されて構成されたことを特徴とする請求項１に記載のスピン洗浄装置。2. The spin cleaning apparatus according to claim 1, wherein the centrifugal impeller is configured to be fixed on the rotating body at a predetermined angle from a rotation axis to an exhaust direction. 3. 前記遠心翼は、湾曲を有する熊手状に形成されて構成されたことを特徴とする請求項１または２に記載のスピン洗浄装置。The spin cleaning apparatus according to claim 1, wherein the centrifugal wing is formed in a rake shape having a curved shape. 前記ケーシングは、前記遠心翼の回転により前記飛沫やミストへ生じさせる遠心力方向に排気口を有し、前記排出機能の実行性を高めたことを特徴とする請求項１から３の何れかに記載のスピン洗浄装置。The casing according to any one of claims 1 to 3, wherein the casing has an exhaust port in a direction of centrifugal force generated by the rotation of the centrifugal wing to the droplets and the mist, thereby enhancing the practicability of the discharge function. The spin cleaning device as described in the above. 前記排気口へ接続された吸気力により、または前記回転体を回転駆動することにより、該回転体の回転力を生じさせたことを特徴とする請求項４に記載のスピン洗浄装置。5. The spin cleaning apparatus according to claim 4, wherein a rotating force of the rotating body is generated by suction force connected to the exhaust port or by rotating the rotating body. 前記遠心翼による排気機能の形成、前記排気口へ接続された吸気力、前記回転体と連結する遠心翼の回転駆動力の何れかを有することにより、前記排出機能の実行性を高めたことを特徴とする請求項１から５の何れかに記載のスピン洗浄装置。The execution of the discharge function is enhanced by forming any one of the exhaust function by the centrifugal wing, the suction force connected to the exhaust port, and the rotational driving force of the centrifugal wing connected to the rotating body. The spin cleaning apparatus according to any one of claims 1 to 5, wherein
JP2002373208A 2002-12-24 2002-12-24 Spin cleaner Pending JP2004207407A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002373208A JP2004207407A (en) 2002-12-24 2002-12-24 Spin cleaner

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002373208A JP2004207407A (en) 2002-12-24 2002-12-24 Spin cleaner

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2004207407A true JP2004207407A (en) 2004-07-22

Family

ID=32811576

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002373208A Pending JP2004207407A (en) 2002-12-24 2002-12-24 Spin cleaner

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2004207407A (en)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012047793A (en) * 2010-08-24 2012-03-08 Toho Technology Corp Photomask cleaning device and photomask cleaning system
CN102441539A (en) * 2010-09-30 2012-05-09 承澔科技股份有限公司 Element cleaning machine easy for flow guide
JP2015023138A (en) * 2013-07-18 2015-02-02 株式会社ディスコ Spinner cleaning apparatus
CN104492743A (en) * 2014-06-23 2015-04-08 苏州市旗腾环保科技有限公司 Eight-station fixed-point and fixed-position rotary cleaning machine
CN107570458A (en) * 2017-08-01 2018-01-12 刘红 A kind of rotary degreasing unit of steel backing of vehicle brake block
CN113945072A (en) * 2021-10-18 2022-01-18 北京烁科精微电子装备有限公司 Drying system and drying method
CN116197162A (en) * 2022-11-11 2023-06-02 江苏大通精密机械零部件有限公司 Workpiece cleaning device based on flushing fluid circulation
CN116321782A (en) * 2022-12-30 2023-06-23 益阳市明正宏电子有限公司 PCB board surface cleaning device

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012047793A (en) * 2010-08-24 2012-03-08 Toho Technology Corp Photomask cleaning device and photomask cleaning system
CN102441539A (en) * 2010-09-30 2012-05-09 承澔科技股份有限公司 Element cleaning machine easy for flow guide
JP2015023138A (en) * 2013-07-18 2015-02-02 株式会社ディスコ Spinner cleaning apparatus
CN104492743A (en) * 2014-06-23 2015-04-08 苏州市旗腾环保科技有限公司 Eight-station fixed-point and fixed-position rotary cleaning machine
CN107570458A (en) * 2017-08-01 2018-01-12 刘红 A kind of rotary degreasing unit of steel backing of vehicle brake block
CN113945072A (en) * 2021-10-18 2022-01-18 北京烁科精微电子装备有限公司 Drying system and drying method
CN113945072B (en) * 2021-10-18 2022-11-29 北京烁科精微电子装备有限公司 Drying system and drying method
CN116197162A (en) * 2022-11-11 2023-06-02 江苏大通精密机械零部件有限公司 Workpiece cleaning device based on flushing fluid circulation
CN116321782A (en) * 2022-12-30 2023-06-23 益阳市明正宏电子有限公司 PCB board surface cleaning device
CN116321782B (en) * 2022-12-30 2024-04-16 益阳市明正宏电子有限公司 PCB board surface cleaning device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI557792B (en) Substrate treatment device, substrate treatment method, and memory medium
JP2003275696A (en) Substrate washing apparatus and substrate washing method
US6220771B1 (en) Wafer backside protection apparatus
TW201340197A (en) Substrate treatment device, substrate treatment method, and memory medium
JP3559228B2 (en) Rotary substrate processing equipment
JP2014130884A5 (en)
US6494220B1 (en) Apparatus for cleaning a substrate such as a semiconductor wafer
JP2004207407A (en) Spin cleaner
JPH10308374A (en) Method and equipment for cleaning
JP4502854B2 (en) Substrate processing apparatus and processing method
KR20020068455A (en) High rpm megasonic cleaning
KR20100013651A (en) Jet unit and wafer cleaning apparatus having the same
JP7050875B2 (en) Board cleaning equipment
TWI747060B (en) Processing cup unit and substrate processing apparatus
KR100558479B1 (en) Spin coater used to manufacturing semiconductor, having rinse drain unit
JP3946026B2 (en) Spin processing equipment
JP6966917B2 (en) Board processing method and board processing equipment
TWI747062B (en) Processing cup unit and substrate processing apparatus
JPH09270410A (en) Liquid ejecting nozzle and cleaning device provided with this nozzle
KR20010048080A (en) A cleaner for cleaning catch cup in spin coater
JP2004349376A (en) Sheet-fed type spin liquid processing apparatus
KR100872488B1 (en) Cleaning system for substrate
WO2016076303A1 (en) Substrate washing device
JP2005046661A (en) Liquid-used cleaning/drying method and apparatus
KR20160076351A (en) Wafer treating apparatus for wafer polished by chemical mechanical polishing process

Legal Events

Date Code Title Description
A711 Notification of change in applicant

Effective date: 20051102

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

A711 Notification of change in applicant

Effective date: 20051102

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20051213

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20080624

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080702

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080901

A02 Decision of refusal

Effective date: 20081001

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02