JP2004163420A5 - - Google Patents

Claims (16)

1. 検査対象パターン画像と前記検査対象パターンを製造するために使用するデータを用いて検査するパターン検査装置であって、
   前記データから線分もしくは曲線で表現された基準パターンを生成する生成手段と、
   前記基準パターンを使って前記荷電粒子線を走査する条件を設定し、前記検査対象パターンに荷電粒子線を走査して前記検査対象パターン画像を生成する生成手段と、
   前記検査対象パターン画像のエッジを検出する手段と、
   前記検査対象パターン画像のエッジと前記線分もしくは曲線で表現された基準パターンとを比較することにより、前記検査対象パターンを検査する検査手段とを備えることを特徴とするパターン検査装置。
2. 請求項１に記載のパターン検査装置において、前記検査対象パターン画像を生成する生成手段は、前記基準パターンが存在しない領域を走査しないように走査条件を設定することを特徴とするパターン検査装置。
3. 請求項１に記載のパターン検査装置において、前記検査対象パターン画像を生成する生成手段は、前記基準パターンの線幅を使って、前記検査対象パターン画像の倍率が変わるように、走査条件を設定することを特徴とするパターン検査装置。
4. 請求項１に記載のパターン検査装置において、前記検査対象パターン画像を生成する生成手段は、前記基準パターンを使って前記荷電粒子線を走査する条件の一つである前記荷電粒子線の走査方向を設定することを特徴とするパターン検査装置。
5. 請求項４に記載のパターン検査装置において、前記荷電粒子線の走査方向は、前記荷電粒子線が前記検査対象パターンを構成する線分の方向のすべてにより垂直になる方向とすることを特徴とするパターン検査装置。
6. 請求項５に記載のパターン検査装置において、前記荷電粒子線の走査方向は、
   縦線の前記検査対象パターンが存在する領域では横方向とし、
   横線の前記検査対象パターンが存在する領域では縦方向とし、
   縦線と横線の前記検査対象パターンが混在する領域では４５度方向、−４５度方向、４５度方向の逆方向である−１３５度と、−４５度方向の逆方向である１３５度のいずれかの方向とすることを特徴とするパターン検査装置。
7. 請求項５に記載のパターン検査装置において、前記検査対象パターン画像を生成する生成手段は、複数の異なる前記走査方向を設定して、複数の前記検査対象パターン画像を生成し、
   前記エッジを検出する手段は、前記荷電粒子線が前記検査対象パターンのエッジにより垂直になる方向である走査方向で得られた前記検査対象パターン画像からエッジを検出することを特徴とするパターン検査装置。
8. 請求項７に記載のパターン検査装置において、前記荷電粒子線の走査方向は、縦線の前記検査対象パターンと横線の前記検査対象パターンが混在する領域では、縦方向と横方向の２方向とし、
   前記エッジを検出する手段は、前記基準パターンの縦線に対応する前記検査対象パターン画像のエッジを横方向の走査で得られた前記検査対象パターン画像から取得し、前記基準パターンの横線に対応する前記検査対象パターン画像のエッジを縦方向の走査で得られた前記検査対象パターン画像から検出することを特徴とするパターン検査装置。
9. 検査対象パターン画像と前記検査対象パターンを製造するために使用するデータを用いて検査するパターン検査装置であって、
   前記データから線分もしくは曲線で表現された基準パターンを生成する生成手段と、
   前記検査対象パターンに荷電粒子線を走査して前記検査対象パターン画像を生成し、前記検査対象パターン画像の画素の位置を置き換えることで回転した画像を取得する生成手段と、
   前記検査対象パターン画像のエッジを検出する手段と、
   前記検査対象パターン画像のエッジと前記線分もしくは曲線で表現された基準パターンとを比較することにより、前記検査対象パターンを検査する検査手段とを備えることを特徴とするパターン検査装置。
10. 検査対象パターン画像と前記検査対象パターンを製造するために使用するデータを用いて検査するパターン検査装置であって、
    前記データから線分もしくは曲線で表現された基準パターンを生成する生成手段と、
    前記検査対象パターンに荷電粒子線を走査して前記検査対象パターン画像を生成する生成手段と、
    前記検査対象パターン画像のエッジを検出する手段と、
    前記検査対象パターン画像のエッジと前記線分もしくは曲線で表現された基準パターンとを比較することにより、前記検査対象パターンを検査する検査手段とを備え、
    前記検査対象パターンの領域に前記荷電粒子線を走査して六角形の前記検査対象パターン画像を生成し、順次、前記領域に隣接した前記検査対象パターンの領域に前記荷電粒子線を走査して六角形の前記検査対象パターン画像を生成し、連続した前記検査対象パターン画像を生成することを特徴とする画像生成装置。
11. 検査対象パターン画像と前記検査対象パターンを製造するために使用するデータを用いて検査するパターン検査装置であって、
    前記データから線分もしくは曲線で表現された基準パターンを生成する生成手段と、
    前記検査対象パターンに、荷電粒子線の走査方向に対して垂直方向の振幅を持たせた走査をして前記検査対象パターン画像を生成する生成手段と、
    前記検査対象パターン画像のエッジを検出する手段と、
    前記検査対象パターン画像のエッジと前記線分もしくは曲線で表現された基準パターンとを比較することにより、前記検査対象パターンを検査する検査手段とを備えることを特徴とするパターン検査装置。
12. 検査対象パターン画像と前記検査対象パターンを製造するために使用するデータを用いて検査するパターン検査装置であって、
    前記データから線分もしくは曲線で表現された基準パターンを生成する生成手段と、
    前記検査対象パターンに荷電粒子線を走査して前記検査対象パターン画像を生成する生成手段と、
    前記検査対象パターン画像のエッジを検出する手段と、
    前記検査対象パターン画像のエッジと前記線分もしくは曲線で表現された基準パターンとを比較することにより、前記検査対象パターンを検査する検査手段とを備え、
    前記検査対象パターン画像を生成する生成手段は、前記検査対象パターン画像のエッジを検出するのに使用する部分を前記荷電粒子線で走査し、前記検査対象パターン画像のエッジを検出するのに使用する部分以外の部分を走査せずに前記検査対象パターン画像を生成することを特徴とするパターン検査装置。
13. 請求項１２に記載のパターン検査装置において、前記検査対象パターン画像を生成する生成手段は、前記検査対象パターン画像のエッジを検出するのに使用する部分以外を走査しないことにより、検査対象パターンが存在するサンプルのチャージアップによる前記検査対象パターン画像の変形を低減することを特徴とするパターン検査装置。
14. 検査対象パターン画像と前記検査対象パターンを製造するために使用するデータを用いて検査するパターン検査方法であって、
    前記データから線分もしくは曲線で表現された基準パターンを生成し、
    前記基準パターンを使って前記荷電粒子線を走査する条件を設定し、前記検査対象パターンに荷電粒子線を走査して前記検査対象パターン画像を生成し、
    前記検査対象パターン画像のエッジを検出し、
    前記検査対象パターン画像のエッジと前記線分もしくは曲線で表現された基準パターンとを比較することにより、前記検査対象パターンを検査することを特徴とするパターン検査方法。
15. 検査対象パターン画像と前記検査対象パターンを製造するために使用するデータを用いて検査するパターン検査方法であって、
    前記データから線分もしくは曲線で表現された基準パターンを生成し、
    前記検査対象パターンに荷電粒子線を走査して前記検査対象パターン画像を生成し、前記検査対象パターン画像の画素の位置を置き換えることで回転した画像を取得し、
    前記検査対象パターン画像のエッジを検出し、
    前記検査対象パターン画像のエッジと前記線分もしくは曲線で表現された基準パターンとを比較することにより、前記検査対象パターンを検査することを特徴とするパターン検査方法。
16. 検査対象パターン画像と前記検査対象パターンを製造するために使用するデータを用いて検査するパターン検査方法であって、
    前記データから線分もしくは曲線で表現された基準パターンを生成し、
    前記検査対象パターンに荷電粒子線を走査して前記検査対象パターン画像を生成し、
    前記検査対象パターン画像のエッジを検出し、
    前記検査対象パターン画像のエッジと前記線分もしくは曲線で表現された基準パターンとを比較することにより、前記検査対象パターンを検査し、
    前記検査対象パターン画像の生成で、前記検査対象パターン画像のエッジを検出するのに使用する部分を前記荷電粒子線で走査し、前記検査対象パターン画像のエッジを検出するのに使用する部分以外の部分を走査せずに前記検査対象パターン画像を生成することを特徴とするパターン検査方法。