JP2004117610A - 光ファイバアレイ及び光ファイバアレイ用基板 - Google Patents

Abstract

【課題】接着剤を充填する間隙部分に気泡が生じない光ファイバアレイとそれに使用される光ファイバアレイ用基板を提供する。
【解決手段】溝形成部３ａと平坦部３ｂとを段差９をつけて形成した基板３と蓋板４とからなり、基板３の溝形成部３ａに設けた両側壁が開き角度θを持つ複数の溝５に、光ファイバ２を収納配列して蓋板４で押さえて位置決めし、光ファイバ２と基板３及び蓋板４との間に生じる間隙部分７，８に接着剤６を充填して接着一体化する光ファイバアレイ１であって、光ファイバ２と基板３の上面と蓋板４の下面との間に生じる間隙部分７の横断面積をＳ１とし、基板３の溝５と光ファイバと２の間に生じる間隙部分８の横断面積をＳ２としたとき、Ｓ１＞Ｓ２とする。
【選択図】　　　　図１

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、複数の光ファイバを位置決めして接着剤により一体化する光ファイバアレイと、そのための光ファイバアレイ用基板に関する。
【０００２】
【従来の技術】
光ファイバアレイは、複数本の光ファイバを所定のピッチで平行に位置決めして配列し、プレーナ型の光導波路（ＰＬＣ）との接続又は多心光ファイバ同士を接続するのに用いられる。図１は一般的な光ファイバアレイの概略を示す図で、図１（Ａ）は斜視図、図１（Ｂ）及び図１（Ｃ）はａ１−ａ１の部分断面図である。図中、１は光ファイバアレイ、２は光ファイバ、２ａはファイバ被覆部、３は基板、３ａは溝形成部、３ｂは平坦部、４は蓋板、５は溝（Ｖ字状溝）、６は接着材、７，８は間隙、９は段差部を示す。
【０００３】
図１（Ａ）に示すように、光ファイバアレイ１は、基板３と蓋板４との間に複数の光ファイバ２を所定の配列ピッチＴで平行一列に保持固定して構成される。基板３は、溝形成部３ａと平坦部３ｂとを段差部９で示すように段差をつけて形成され、溝形成部３ａの上面には光ファイバ２を収納する複数の溝５が平行に形成されている。溝５は、図１（Ｂ）に示すように、一般的にはＶ字状に形成されていて、光ファイバ２はＶ字状の溝５の両側面と蓋板４の押さえ面の３点で位置決めされる。また、光ファイバ２の配列ピッチＴを光ファイバ２の外径に近づけた高密度配列の光ファイバアレイの場合は、図１（Ｃ）に示すようになる。
【０００４】
上記の光ファイバアレイ１を製造する場合、光ファイバ２の先端の被覆を除去してガラスの裸ファイバを露出させて基板３の溝５に収納配列し、上方から蓋板４で押さえて位置決めする。この後、基板３の溝形成部３ａの先端側又は後端側から接着剤６を注入する。接着剤６は、光ファイバ２と基板３と蓋板４との間に生じる間隙７内、並びに光ファイバ２と溝５との間に生じる間隙８内に毛細管作用で浸入し、これらの間隙を埋めて、光ファイバ２と基板３と蓋板４とを接着一体化する。
【０００５】
光ファイバ２は、露出されたガラスの裸ファイバをＶ字状の溝５に収納配列し、被覆が残るファイバ被覆部２ａを基板３の平坦部３ｂ上に載置する。光ファイバ２が蓋板４により押さえられ接着剤６で接着固定された後、ファイバ被覆部２ａは平坦部３ｂに他の接着剤（図示せず）により接着固定される（例えば、特開２００１−３４３５４７号公報参照）。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
以上のように構成される光ファイバアレイ１において、例えば、接着剤６を基板３の先端部側から付与し、毛細管作用で間隙７及び８内に充填したとする。接着剤６は、光ファイバ２と基板３の上面と蓋板４の下面との間に生じる間隙７と、光ファイバ２と基板３の溝５との間に生じる間隙８の２つの異なる間隙内に毛細管作用で浸入して充填される。上方の間隙７の横断面積Ｓ１が、下方の間隙８の横断面積Ｓ２より小さい場合、上方の間隙７内を毛細管作用で接着剤が浸入する速度は、下方の間隙８内を毛細管作用で接着剤が浸入する速度より速い。
【０００７】
図２は、図１（Ｂ）のａ２−ａ２断面を示し、基板３の先端側から接着剤６を付与した例を示す図である。図２（Ｂ）に示すように、上方の間隙７の横断面積Ｓ１が下方の間隙８の横断面積Ｓ２より小であるとすると、上述した接着剤６の浸入速度の違いにより、上方の間隙７内に浸入した接着剤６は、下方の間隙８内に浸入した接着剤６より、溝形成部３ａの後端の出口側に早くに到達し、余分の接着剤が出口から流れ出て下方に垂れる。
【０００８】
下方に垂れた接着剤は、下方の間隙８の出口側を塞ぐ形となる。下方の間隙８の出口側まで接着剤６が十分浸入していないうちに間隙８の出口を塞がれると、間隙８内に気泡Ｐが残る。間隙８内に気泡Ｐが残ると光ファイバ２と基板３との接着力が低下し、基板３が剥がれるやすくなる。また、間隙８内に気泡Ｐが残ると、温度変化により気泡Ｐが膨張変化し、光ファイバ２に曲げや側圧を与え、伝送損失を増加させる原因となる。
【０００９】
本発明は、上述した事情に鑑みてなされたもので、接着剤を充填する間隙部分に気泡が生じない光ファイバアレイとそれに使用される光ファイバアレイ用基板の提供を課題とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明による光ファイバアレイは、溝形成部と平坦部とを段差をつけて形成した基板と蓋板とからなり、基板の溝形成部に設けた両側壁が開き角度を持つ複数の溝に、光ファイバを収納配列して蓋板で押さえて位置決めし、光ファイバと基板及び蓋板との間に生じる間隙部分に接着剤を充填して接着一体化する光ファイバアレイであって、光ファイバと基板の上面と蓋板の下面との間に生じる間隙部分の横断面積をＳ１とし、基板の溝と光ファイバとの間に生じる間隙部分の横断面積をＳ２としたとき、Ｓ１＞Ｓ２としたものである。
【００１１】
また、本発明による光ファイバアレイ用基板は、複数の光ファイバを、基板の溝形成部に設けた両側壁が開き角度を持つ溝に収納配列して蓋板で押さえて位置決めし、光ファイバとの間に生じる間隙部分に接着剤を充填して接着一体化する光ファイバアレイ用基板であって、溝の両側壁間の開き角度を７０°を超え１００°未満としたものである。
【００１２】
【発明の実施の形態】
図１及び図２により、本発明の実施形態の概略を説明する。なお、図１及び図２は、従来技術の説明に用いた図であるが、形状自体は従来のものと同じであるので、本発明の基本形態の説明に援用する。
【００１３】
本発明による光ファイバアレイ１は、図１（Ａ）に示すように従来例で説明したのと同様に、基板３と蓋板４との間に複数の光ファイバ２を所定のピッチで平行一列に保持固定して構成される。基板３は、溝形成部３ａと平坦部３ｂとを段差部９で示すように段差をつけた形状で形成され、溝形成部３ａの上面には光ファイバ２を収納する複数の溝５が形成されている。光ファイバ２は、先端部分の被覆を除去されてガラスの裸ファイバを露出した状態とされ、溝形成部３ａの溝５に収納配列され、被覆が除去されていないファイバ被覆部２ａは平坦部３ｂに載置される。
【００１４】
溝５は、図１（Ｂ）に示すように、例えば、Ｖ字状に形成されていて、溝５の両側壁は互いに平行でない開き角度θを有している。光ファイバ２が溝５内に収納されたとき、開き角度θを有する溝の両側壁と接する２点と、蓋板４の押さえ面で接する１点の合計３点で、光ファイバの位置決めが行なわれる。なお、蓋板４は光ファイバの位置決めができる程度で軽く押さえ、接着により一体化された後は、押さえ力は解放される。光ファイバ２が蓋板４により押さえられ接着剤６で接着固定された後、平坦部３ｂには他の接着剤（図示せず）が塗布され、ファイバ被覆部２ａが接着固定される。
【００１５】
光ファイバ２を接着する接着剤６には、例えば、硬化前の粘度が２．０Ｐａ・ｓ程度のエポキシ系紫外線硬化型の接着剤が用いられる。また、基板３と蓋板４には、光ファイバ２と熱膨張係数が近似するガラス（パイレックス（登録商標）ガラス、石英ガラス等）又はセラミック等が用いられ、溝加工は切削又はプレス成形で形成される。
【００１６】
光ファイバ２を基板３の溝５にそれぞれ収納配列し、上から蓋板４で押さえて位置決めした後、接着剤６が基板３の溝形成部３ａの先端側又は後部側から注入される。接着剤６は、図１（Ｂ）に示すように、光ファイバ２と基板３の上面と蓋板４の下面との間に生じる間隙７内、並びに光ファイバ２と溝５との間に生じる間隙８内に毛細管作用で浸入し、これらの間隙７，８を埋めて、光ファイバ２と基板３と蓋板４とを接着一体化する。
【００１７】
本発明では、接着作業時に上方に位置する光ファイバ２と基板３の上面と蓋板４の下面との間に生じる間隙７の横断面積をＳ１とし、接着作業時に下方に位置する光ファイバ２と溝５との間に生じる間隙８の横断面積をＳ２としたとき、Ｓ１＞Ｓ２となるように溝５の開き角度、基板３と蓋板４との間隔等を設定する。
【００１８】
図２（Ａ）に示すように、接着剤６を一方の側（図では左側）から間隙７，８内に同時に注入したとき、接着剤６は毛細管作用により同時に間隙７，８内を他方の出口側（図では溝形成部３ａの後端部）に向かって浸入する。下方の間隙８の横断面積Ｓ２を、上方の間隙７の横断面積Ｓ１より小さくすることにより、接着剤６の浸入速度は、横断面積の小さい下方の間隙８の方が、上方の間隙７より速くなる。このため、下方の間隙８内が接着剤６で完全に満たされた後に、上方の間隙７が同様に接着剤６で満たされ、間隙８内に気泡が生じることはない。
【００１９】
上述の図２（Ａ）に対して、図２（Ｂ）は、解決すべき課題の項でも説明したように、下方の間隙８の横断面積Ｓ２が、上方の間隙７の横断面積Ｓ１より大きい場合である。この場合、接着剤６の浸入速度は、横断面積の大きい下方の間隙８の方が、上方の間隙７より遅くなる。このため、下方の間隙８内が接着剤６で完全に満たされないうちに、上方の間隙７が接着剤６で満たされ、間隙７の出口からあふれ出た余分の接着剤が下方に垂れて下方の間隙８の出口を塞ぎ、間隙８内に気泡Ｐが生じてしまう。
【００２０】
上記した間隙７の横断面積Ｓ１と間隙８の横断面積Ｓ２との相対関係は、光ファイバ２の外径、ファイバの配列ピッチＴ、溝５の両側壁の開き角度θや形状によって変化する。光ファイバ２の外径は、通常の規格化された外径０．１２５ｍｍのものを用いるとして一定とすれば、ファイバの配列ピッチＴを大きくすれば、間隙７側の横断面積Ｓ１は比較的容易に大きくすることができる。また、溝５をＶ字状として両側壁の開き角度θを大きくすることにより間隙８側の横断面積Ｓ２は比較的容易に小さくすることができる。
【００２１】
しかし、ファイバの配列ピッチＴは、接続する相手側の光導波路の小形化、高集積化が進展していて、光ファイバ２のガラス外径にほぼ等しいピッチ（０．１２７ｍｍ）での形成が可能となっており、これに合わす必要がある。また、溝５の開き角度θをあまり大きくすると、光ファイバ２の位置決めが不安定となる。
【００２２】
図３は、図１（Ｃ）に示すように、光ファイバ２のガラス外径を０．１２５ｍｍ、配列ピッチＴを０．１２７ｍｍ、溝５をＶ字状とした高密度配列における、溝の開き角度θとＳ２／Ｓ１との関係を求めた図である。この図から、Ｓ２／Ｓ１＜１とするには、Ｖ字状溝５の開き角度θは７０°を超える角度にする必要がある。また、経験的にＶ字状溝５の開き角度θが１００°以上になると、光ファイバ２が横ずれしたりして位置決めが不安定となる。したがって、位置決めという観点からは、Ｓ２／Ｓ１＞０．３で、開き角度θを１００°未満とする必要がある。なお、通常は上記のファイバ配列で、Ｖ字状溝５の開き角度θは６０°程度に設定されている。
【００２３】
図４は、溝５の断面形状の他の例を示す図である。基板３の溝５の断面形状を図１に示すようにＶ字状とするする代わりに、図４（Ａ）に示すように、Ｖ字の谷部５ｂを平坦にした逆台形状とすることができる。ただし、平坦にした谷部５ｂは、光ファイバ２には接触しないものとする。この逆台形状溝は、Ｖ字状溝によるファイバの位置決め機能を損なわずに、光ファイバ２と溝５との間に生じる間隙８の横断面積Ｓ２を小さくすることができる。この結果、溝５の開き角度θをＶ字状溝の場合と同じとすれば、Ｓ２／Ｓ１をより小さくすることができる。また、Ｓ２／Ｓ１をＶ字状溝の場合と同じとすれば、開き角度θを更に小さくすることができる。
【００２４】
また、基板３の溝５の断面形状を図１に示すようにＶ字状とするする代わりに、図４（Ｂ）に示すように、Ｖ字の谷部５ｂを円弧状にしたＵ字状とすることができる。ただし、円弧状にした谷部５ｂは、光ファイバ２には接触しないものとし、また、Ｕ字状溝の両側壁はＶ字状溝の場合と同様な開き角度を持っているものとする。このＵ字状溝は、Ｖ字状溝によるファイバの位置決め機能を損なわずに、光ファイバ２と溝５との間に生じる間隙８の横断面積Ｓ２を小さくすることができる。この結果、溝５の開き角度θをＶ字状溝又は逆台形状溝の場合と同じとすれば、Ｓ２／Ｓ１を更に小さくすることができる。また、Ｓ２／Ｓ１をＶ字状溝又は逆台形状溝の場合と同じとすれば、開き角度θを更に小さくすることができる。
【００２５】
図５は、他の実施形態を説明する光ファイバアレイ用の基板を示す図で、図５（Ａ）は基板の部分斜視図、図５（Ｂ）はＶ字状溝の開き角度の変化状態を示す図である。図中の符号は、図１及び図２で用いたのと同じ符号を用いることにより説明を省略する。図５は、基板３の溝形成部３ａに形成されたＶ字状溝５の開き角度θを、溝形成部３ａの後端の段差部９側で次第に大きくなるようにし、Ｖ字状溝５の谷部５ｂの深さ位置を溝形成部３ａの上面から一定とした例である。
【００２６】
光ファイバ２の配列ピッチＴが小さく、図５のように頂部５ａが先鋭形状となる場合は、Ｖ字状溝５の開き角度θが次第に大きくなるにしたがって、Ｖ字状溝５の頂部５ａの高さが次第に低くなり、谷部５ｂとの差が小さい浅い形状のＶ字状溝となる。しかし、光ファイバ２の配列ピッチＴが大きく、Ｖ字状溝５の頂部５ａが平坦となる場合は、図５（Ａ）の右端に示すＶ字状溝５の変化部５ｅで示すように、平坦な部分が次第に狭くなる形状となる。
【００２７】
図５（Ａ）に示すように、Ｖ字状溝５の開き角度θは、例えば、Ｖ字状溝５の長手方向中央部以降の位置から段差部９側に向けて、滑らかに次第に拡大させていくのが望ましい。なお、光ファイバ２の位置決めは、少なくともＶ字状溝５の長手方向の中央位置より前方の開き角度θが変化していない直線状部分で行なわれる。
【００２８】
この開き角度θが変化していない直線状部分においては、図１で説明した間隙７の横断面積Ｓ１と間隙８の横断面積Ｓ２が、Ｓ１＞Ｓ２となるようにＶ字状溝５の開き角度、基板３と蓋板４との間隔等が設定されているのが好ましい。また、光ファイバが図１（Ｃ）のような高密度の配列ピッチＴで形成されている場合は、直線状部分におけるＶ字状溝５の両側壁間の開き角度は、７０°を超え１００°未満とするのが好ましい。
【００２９】
図５（Ｂ）は、図５（Ａ）のＶ字状溝５の長手方向のｂ−ｂ，ｃ−ｃ，ｄ−ｄ位置における溝断面の変化状態を示した図である。ｂ−ｂ位置におけるＶ字状溝５の開き角度はθ１で、ｃ−ｃ位置ではθ２、ｄ−ｄ位置ではθ３で、θ１＜θ２＜θ３となる。長手方向の各位置におけるＶ字状溝５の谷部５ｂの深さ位置Ｈを溝形成部３ａの上面ラインから一定とすると、頂部５ａの高さが次第に低くなり、谷部５ｂとの差が小さい浅い形状のＶ字状溝となる。
【００３０】
Ｖ字状溝５を以上のように形成することにより、溝形成部３ａの段差部９側でＶ字状溝５と蓋板４との間の間隔が次第に拡大する。この結果、段差部９側の樹脂充填間隙の横断面積が増加し、接着剤が浸入しやすい形態となる。したがって、接着剤を段差部９側から基板の先端側に向けて毛細管作用により浸入させることにより、間隙内に気泡を生じさせることなくスムーズに間隙内に接着剤を充填することができる。また、段差部９が緩やかに変化するため、後部に付与される他の接着剤（図示せず）による応力集中を軽減し、損失増加を防止することができる。
【００３１】
更に上記構成により、光ファイバ２は、溝形成部３ａの段差部９側でＶ字状溝５の両側壁との接触から次第に離れ、後端部エッジ５ｃとは接触しない浮いた状態となる。この結果、溝形成部３ａの段差部９で光ファイバ２に傷が付かず、断線の発生を防止することができる。
【００３２】
図６は、図５に代わる他の実施形態を示す図で、図６（Ａ）は基板の部分斜視図、図６（Ｂ）はＶ字状溝の深さの変化状態を示す図である。図中の符号は、図１及び図２で用いたのと同じ符号を用いることにより説明を省略する。図６は、基板３の溝形成部３ａに形成されたＶ字状溝５の深さを、溝形成部３ａの後端の段差部９側で次第に深くなるようにし、Ｖ字状溝５の開き角度θは一定とした例である。
【００３３】
光ファイバ２の配列ピッチＴが小さく、図６のように頂部５ａが先鋭形状となる場合は、Ｖ字状溝５の谷部５ｂが次第に深くなるにしたがって、頂部５ａの高さも次第に低くなり、頂部５ａと谷部５ｂの相対高さは不変で、Ｖ字状溝５の横断面積もほぼ一定となる。しかし、光ファイバ２の配列ピッチＴが大きく、Ｖ字状溝５の頂部５ａが平坦となる場合は、図６（Ａ）の右端に示すＶ字状溝５の変化部５ｅで示すように、平坦な部分が次第に狭くなる形状となる。
【００３４】
図６（Ａ）に示すように、Ｖ字状溝５の谷部５ｂは、例えば、Ｖ字状溝５の長手方向中央部以降の位置から段差部９側に向けて、滑らかに次第に深くさせていくのが望ましい。なお、光ファイバ２の位置決めは、少なくともＶ字状溝５の長手方向の中央位置より前方の谷部５ｂの深さが変化していない直線状の部分で行なわれる。
【００３５】
この開き角度θが変化していない直線状部分においては、図１で説明した間隙７の横断面積Ｓ１と間隙８の横断面積Ｓ２が、Ｓ１＞Ｓ２となるようにＶ字状溝５の開き角度、基板３と蓋板４との間隔等が設定されているのが好ましい。また、光ファイバが図１（Ｃ）のような高密度の配列ピッチＴで形成されている場合は、直線状部分におけるＶ字状溝５の両側壁間の開き角度は、７０°を超え１００°未満とするのが好ましい。
【００３６】
図６（Ｂ）は、図６（Ａ）のＶ字状溝５の長手方向のｂ−ｂ，ｃ−ｃ，ｄ−ｄ位置における溝の深さの変化状態を示した図である。ｂ−ｂ位置におけるＶ字状溝５の谷部５ｂの深さは、溝形成部３ａの上面ラインからｂ−ｂ位置ではＨ１、ｃ−ｃ位置ではＨ２、ｄ−ｄ位置ではＨ３で、Ｈ１＜Ｈ２＜Ｈ３となる。
【００３７】
Ｖ字状溝５を以上のように形成することにより、図５の例の場合と同様に、溝形成部３ａの段差部９側でＶ字状溝５と蓋板４との間の間隙が次第に拡大する。この結果、段差部９側の樹脂充填間隙の横断面積が増加し、接着剤が浸入しやすい形態となる。したがって、接着剤を段差部９側から基板の先端側に向けて毛細管作用により浸入させることにより、間隙内に気泡を生じさせることなくスムーズに接着剤を充填することができる。また、段差部９が緩やかに変化するため、後部に付与される他の接着剤（図示せず）に対する応力集中を軽減し、損失増加を防止することができる。
【００３８】
更に上記構成により、図５の例と同様に光ファイバ２は、溝形成部３ａの段差部９側でＶ字状溝５の両側壁との接触から次第に離れ、後端部エッジ５ｃとは接触しない浮いた状態となる。この結果、溝形成部３ａの段差部９で光ファイバ２に傷が付かず、断線の発生を防止することができる。
【００３９】
上述した、本発明による光ファイバアレイに用いる基板の形成は、上下金型を用いたプレス成形で形成するのが好ましい。Ｖ字状溝が長手方向で直線状の均一な形状でないことから、研削による機械加工は高度の制御と精密作業となり、生産性がよくない。しかし、プレス成形の場合は、金型を一旦作製すればよいので、金型のコストは多少増加するが、生産性の問題は生じない。また、プレス成形で形成されたＶ字状溝は、研削加工したものと比べて表面粗さが均一で滑らかなため、間隙内への接着剤の流れ性もよく、信頼性の高い光ファイバアレイ用基板及び光ファイバアレイを製造することができる。
【００４０】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、本発明によれば、光ファイバと基板の溝との間に生じる間隙部分に、気泡の発生を生じさせない状態で接着剤を充填することができ、基板の剥がれを防止すると共に、損失の増加を防止することができる。また、溝形成部の段部側の間隙を拡大することにより、応力集中と断線を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明による光ファイバアレイの概略を説明する図である。
【図２】基板の先端側から接着剤を付与したときの接着剤の流れを説明する図である。
【図３】基板のＶ字状溝の開き角度と間隙の横断面積の関係を説明する図である。
【図４】基板の溝形状の他の例を示す図である。
【図５】基板のＶ字状溝の他の形状を示す図である。
【図６】基板のＶ字状溝の他の形状を示す図である。
【符号の説明】
１…光ファイバアレイ、２…光ファイバ、２ａ…ファイバ被覆部、３…基板、３ａ…溝形成部、３ｂ…平坦部、４…蓋板、５…溝（Ｖ字状溝）、５ａ…頂部、５ｂ…谷部、５ｃ…後端部エッジ、５ｅ…変化部、６…接着剤、７，８…間隙、９…段差部。

Claims (9)

1. 溝形成部と平坦部とを段差をつけて形成した基板と蓋板とからなり、前記基板の溝形成部に設けた両側壁が開き角度を持つ複数の溝に、光ファイバを収納配列して前記蓋板で押さえて位置決めし、前記光ファイバと前記基板及び前記蓋板との間に生じる間隙部分に接着剤を充填して接着一体化する光ファイバアレイであって、
   前記光ファイバと前記基板の上面と前記蓋板の下面との間に生じる間隙部分の横断面積をＳ１とし、前記基板の溝と前記光ファイバとの間に生じる間隙部分の横断面積をＳ２としたとき、Ｓ１＞Ｓ２であることを特徴とする光ファイバアレイ。
2. 前記光ファイバの外径を１２５μｍ、配列ピッチを１２７μｍとし、前記溝の両側壁間の開き角度を７０°を超え１００°未満としたことを特徴とする請求項２に記載の光ファイバアレイ。
3. 前記溝がＶ字状溝であることを特徴とする請求項１又は２に記載の光ファイバアレイ。
4. 前記溝が逆台形状溝であることを特徴とする請求項１又は２に記載の光ファイバアレイ。
5. 前記溝がＵ字状溝であることを特徴とする請求項１又は２に記載の光ファイバアレイ。
6. 前記基板の溝形成部の段差側で、前記Ｖ字状溝の開き角度が徐々に広がっていることを特徴とする請求項３に記載の光ファイバアレイ。
7. 前記基板の溝形成部の段差側で、前記Ｖ字状溝の深さが徐々に深くなっていることを特徴とする請求項３に記載の光ファイバアレイ。
8. 複数の光ファイバを、基板の溝形成部に設けた両側壁が開き角度を持つ溝に収納配列して蓋板で押さえて位置決めし、前記光ファイバとの間に生じる間隙部分に接着剤を充填して接着一体化する光ファイバアレイ用基板であって、
   前記溝の両側壁間の開き角度を７０°を超え１００°未満としたことを特徴とする光ファイバアレイ用基板。
9. プレス成形により形成されていることを特徴とする請求項８に記載の光ファイバアレイ用基板。

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