JP2004095706A - 液処理装置 - Google Patents

Abstract

【課題】処理液吸引手段の吸引による被処理基板の浮上りを防止して、被処理基板に対する均一な液処理を行うこと。
【解決手段】ガラス基板Ｇを保持するスピンチャック１０と、ガラス基板表面と一定の隙間をおいて相対的に平行移動可能な液処理面２１を有するノズルヘッド２０と、ガラス基板表面に帯状に現像液を供給する現像液供給ノズル２２と、液処理面２１に現像液供給ノズル２２と平行に設けられ、現像液供給ノズル２２から供給された現像液を吸引すると共に、ガラス基板Ｇの表面に現像液の流れを形成する吸引ノズル２３と、スピンチャック１０に設けられ、吸引ノズル２３による吸引によりガラス基板Ｇが浮き上がるのを阻止するガラス基板Ｇの裏面を吸引により保持する吸引保持部材１８を具備し、吸引保持部材１８を、吸引ノズル２３とエジェクタ７７とを接続する現像液吸引用管路７６に接続する。
【選択図】　　　　図７

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、例えばレチクル等のフォトマスク用ガラス基板に処理液を供給して処理する液処理装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、半導体デバイスの製造工程においては、半導体ウエハやＬＣＤ用ガラス基板等（以下にウエハ等という）の表面に例えばレジスト液を塗布し、ステッパー等の露光装置を用いて回路パターンを縮小してレジスト膜を露光し、露光後のウエハ表面に現像液を塗布して現像処理を行うフォトリソグラフィー技術が用いられている。
【０００３】
上記露光処理工程においては、例えばステッパー（縮小投影露光装置）等の露光装置が用いられており、レチクル等のフォトマスクに光を照射し、フォトマスクに描画されている回路パターンの原図を縮小してウエハ上に転写している。
【０００４】
ところで、このフォトマスクの製造工程においても、上記ウエハ等と同様にフォトリソグラフィ技術が用いられており、レジスト塗布工程、露光処理工程、現像処理工程という一連のプロセス工程を経ているが、フォトマスクはウエハ等に回路パターンを投影するための原図であるため、線幅等のパターン寸法は更に高精度が要求される。
【０００５】
従来のフォトマスクの現像方法には、フォトマスク用のガラス基板をスピンチャック上に吸着保持して低速で回転し、スプレーノズルを用いて現像液をガラス基板上に噴霧状に吐出しながら現像処理を行うスプレー式現像方法や、ガラス基板とスキャンノズルを相対移動させながら、スキャンノズルから供給される現像液をガラス基板上に液盛りし、静止状態で現像処理を行うパドル式現像方法等が知られている。
【０００６】
しかし、スプレー式現像では、現像液と反応して生成された溶解生成物が、回転による遠心力によってガラス基板の辺部や角部に流れるため、この部分で現像液との反応が抑制され、線幅等のパターン寸法が不均一になるという問題があった。また、パドル式現像では、溶解生成物が特定の場所に流れるということはなく、スプレー式現像のような問題は生じないが、パターンの幾何学的構造やパターン密度の差異により、溶解生成物の生成量や現像液の濃度が局所的に異なり、エッチング速度等が変化するローディング効果と呼ばれる現象が生じ、回路パターンが不均一になるという問題があった。
【０００７】
そこで、従来では、スプレー式やパドル式に比べて現像液の消費量を抑制することができると共に、処理の均一性の向上が図れる現像方法として、ガラス基板とスキャンノズルを相対移動させながら、スキャンノズルからガラス基板表面に供給される現像液を処理液吸引手段によって吸引する供給・吸引式方法が採用されている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来の供給・吸引式方法においては、処理中に、処理液吸引手段による吸引によって被処理基板が浮き上がる虞があり、この被処理基板の浮上りによって処理液の流が不安定となり、処理の均一性が損なわれるという問題があった。
【０００９】
この発明は上記事情に鑑みてなされたもので、処理液吸引手段の吸引による被処理基板の浮上りを防止して、被処理基板に対する均一な液処理が可能な液処理装置を提供することを目的とするものである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、この発明の液処理装置は、板状の被処理基板を保持する保持手段と、　上記被処理基板の表面と一定の隙間をおいて相対的に平行移動可能な液処理面を有するノズルヘッドと、　上記液処理面に設けられ、上記被処理基板表面に帯状に処理液を供給する処理液供給手段と、　上記液処理面に上記処理液供給手段と平行に設けられ、処理液供給手段から供給された処理液を吸引すると共に、上記被処理基板表面に処理液の流れを形成する処理液吸引手段と、を具備する液処理装置において、　上記保持手段は、上記処理液吸引手段による吸引により上記被処理基板が浮き上がるのを阻止する浮上り防止手段を具備する、ことを特徴とする（請求項１）。
【００１１】
この発明において、上記浮上り防止手段は、処理液吸引手段による吸引により被処理基板が浮き上がるのを阻止するもので、例えば、吸引により被処理基板を保持する吸引式保持、あるいは、機械的機構により被処理基板を保持するメカニカル式保持等とすることができる。
【００１２】
吸引により被処理基板を保持する吸引式保持においては、上記浮上り防止手段は、被処理基板の裏面を吸引により保持する吸引保持部材を具備し、上記吸引保持部材を、処理液吸引手段と、吸引源と、処理液吸引手段と吸引源とを接続する処理液吸引用管路とからなる処理液吸引ラインに接続する方が好ましい（請求項２）。この場合、上記吸引用管路に、この吸引用管路内の吸引圧を検知する吸引圧検知手段を介設し、この吸引圧検知手段からの検知信号に基づいて被処理基板の保持の有無を検知可能に形成する方が好ましい（請求項３）。
【００１３】
また、上記浮上り防止手段は、被処理基板を載置する載置部表面との間に隙間をおいて支持する位置決めピンと、吸引源に接続され、上記被処理基板の裏面を吸引により保持する伸縮可能な吸引保持部材とを具備する構造としてもよい（請求項４）。あるいは、上記浮上り防止手段は、被処理基板を載置する載置部表面との間に隙間をおいて支持する位置決めピンと、上記被処理基板の裏面との間に隙間を残して被処理基板を吸引する非接触吸引保持部材とを具備する構造とすることも可能である（請求項５）。この場合、上記非接触吸引保持部材に接続する吸引用管路に切換手段を介して逆流防止用流体の供給源を接続する方が好ましい（請求項６）。ここで、逆流防止用流体としては、例えば空気や窒素ガス等の気体、あるいは、純水等の液体を使用することができる。
【００１４】
また、機械的機構により被処理基板を保持するメカニカル式保持においては、上記浮上り防止手段は、被処理基板の側辺の三方を包囲すると共に、対向する両側辺を挟持する一対の側部保持体と、これら両側部保持体を対向方向に接離移動する接離移動手段とを具備する構造とすることができる（請求項７）。
【００１５】
この発明において、上記側部保持体は、被処理基板の側面に当接する保持ピンと、この保持ピンを摺動可能に嵌挿する取付穴と、上記保持ピンを常時突出方向に弾性力を付勢するばね部材とを具備する構造とすることができる（請求項８）。また、上記側部保持体は、被処理基板の側面に当接する保持ピンと、この保持ピンを摺動可能に嵌挿する取付穴と、上記保持ピンを常時突出方向に弾性力を付勢するばね部材と、上記被処理基板の挟持側面と直交する両側面に当接する補助保持部材とを具備する構造とする構造としてもよい（請求項９）。更には、上記側部保持体は、被処理基板の対向する側面に当接する第１の保持部と、上記被処理基板の他の対向する側面に当接する第２の保持部とを有する保持部材を具備し、上記保持部材を、上記側部保持体に対して水平方向に回動可能に枢着してなる、構造としてもよい（請求項１０）。
【００１６】
請求項１記載の発明によれば、保持手段に、処理液吸引手段による吸引により被処理基板が浮き上がるのを阻止する浮上り防止手段を具備することにより、処理中に、処理液吸引手段による吸引によって被処理基板が浮き上がるのを阻止することができるので、被処理基板表面と一定の隙間をおいて相対的に平行移動すると共に、処理液吸引手段により処理液を吸引することにより、被処理基板の表面に一定幅の処理液の流れを形成することができる。
【００１７】
請求項２記載の発明によれば、浮上り防止手段は、被処理基板の裏面を吸引により保持する吸引保持部材を具備し、吸引保持部材を、処理液吸引手段と、吸引源と、処理液吸引手段と吸引源とを接続する処理液吸引用管路とからなる処理液吸引ラインに接続することにより、処理液吸引手段、吸引源及び処理液吸引用管路とからなる処理液吸引ラインと、被処理基板の保持用の吸引ラインとを共通化することができる。また、吸引源が共通するため、処理液の吸引回収における吸引力と、被処理基板の吸引保持における吸引力との和を一定にすることができ、双方の吸引力の強弱のバランスを利用して被処理基板の浮き上がりを防止することができる。例えば、被処理基板が浮き上がると処理液の吸引回収における吸引力が弱まる一方、被処理基板の吸引保持における吸引力が強まって被処理基板の浮き上がりを防止することができる。
【００１８】
この場合、吸引用管路に、この吸引用管路内の吸引圧を検知する吸引圧検知手段を介設し、この吸引圧検知手段からの検知信号に基づいて被処理基板の保持の有無を検知可能に形成することにより、吸引保持部材により被処理基板の吸引保持が適切な状態か否かを監視することができる（請求項３）。
【００１９】
請求項４記載の発明によれば、浮上り防止手段は、被処理基板を載置する載置部表面との間に隙間をおいて支持する位置決めピンと、吸引源に接続され、被処理基板の裏面を吸引により保持する伸縮可能な吸引保持部材とを具備することにより、被処理基板を吸引保持部材による吸引によって保持すると共に、被処理基板を位置決めピン上に支持させることができる。
【００２０】
請求項５記載の発明によれば、浮上り防止手段は、被処理基板を載置する載置部表面との間に隙間をおいて支持する位置決めピンと、被処理基板の裏面との間に隙間を残して被処理基板を吸引する非接触吸引保持部材とを具備するので、被処理基板に接触することなく非接触吸引保持部材による吸引によって保持すると共に、被処理基板を位置決めピン上に支持させることができる。この場合、非接触吸引保持部材に接続する吸引用管路に切換手段を介して逆流防止用流体の供給源を接続することにより、非接触吸引保持部材の吸引口部側に向けて逆流防止用流体を供給することができ、非接触吸引保持部材内に液が進入するのを防止することができる（請求項６）。
【００２１】
また、請求項７記載の発明によれば、浮上り防止手段は、被処理基板の側辺の三方を包囲すると共に、対向する両側辺を挟持する一対の側部保持体と、これら両側部保持体を対向方向に接離移動する接離移動手段とを具備することにより、被処理基板の側面を保持して被処理基板の浮き上がりを防止することができる。
【００２２】
この場合、側部保持体は、被処理基板の側面に当接する保持ピンと、この保持ピンを摺動可能に嵌挿する取付穴と、保持ピンを常時突出方向に弾性力を付勢するばね部材とを具備することにより、被処理基板の対向する側辺間に寸法誤差が生じたとしても、ばね部材の弾性力が吸収した状態で被処理基板の対向する側辺を保持ピンによって保持することができる（請求項８）。
【００２３】
また、側部保持体に、被処理基板の側面に当接する保持ピンと、この保持ピンを摺動可能に嵌挿する取付穴と、保持ピンを常時突出方向に弾性力を付勢するばね部材と、被処理基板の挟持側面と直交する両側面に当接する補助保持部材とを具備することにより、被処理基板の対向する２辺の他に直交する２辺を保持することができる（請求項９）。更には、側部保持体は、被処理基板の対向する側面に当接する第１の保持部と、被処理基板の他の対向する側面に当接する第２の保持部とを有する保持部材を具備し、保持部材を、側部保持体に対して水平方向に回動可能に枢着することにより、被処理基板の対向する２辺の他に直交する２辺を同時に保持することができる（請求項１０）。
【００２４】
【発明の実施の形態】
以下に、この発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。この実施形態では、この発明の液処理装置を、フォトマスク用の被処理基板、例えばレチクル用のガラス基板Ｇに現像処理を行う現像処理装置に適用した場合について説明する。
【００２５】
◎第一実施形態
上記現像処理装置１は、図１に示すように、中心部に配設されたガラス基板Ｇの搬送手段例えば搬送アーム２を挟んで複数のガラス基板Ｇを収容するカセットＣの搬入・搬出ユニット３と対向する位置に設置される現像処理ユニット４内に配設されている。なお、搬送アーム２の左右の対向位置には、ガラス基板Ｇを加熱又は冷却する熱処理ユニット５と、レジスト塗布処理ユニット６が設置されている。このように構成される塗布・現像処理システムにおいて、搬送アーム２は、水平の３６０度に回転可能に形成されると共に、水平のＸ，Ｙ方向に伸縮可能に形成され、かつ、垂直のＺ方向に移動可能に形成されている。このように形成される搬送アーム２により、カセットＣ、現像処理ユニット４、熱処理ユニット５及びレジスト塗布処理ユニット６に対してそれぞれガラス基板Ｇの搬入・搬出を行うことができる。
【００２６】
上記現像処理装置１は、図２ないし図５に示すように、搬送アーム２により、現像処理ユニット４内に搬入されるレジスト液の塗布及び回路パターンの露光が終了したガラス基板Ｇを水平状態に吸引保持する水平方向に回転可能な保持手段例えばスピンチャック１０と、このスピンチャック１０を回転する駆動モータ１１と、ガラス基板Ｇと一定の隙間をおいて相対的に平行移動可能な後述する液処理面２１を有するノズルヘッド２０と、このノズルヘッド２０を水平のＸ方向に移動すると共に、垂直のＺ方向に移動可能なノズル移動手段３０と、スピンチャック１０に設けられ、現像処理開始前のノズルヘッド２０が位置する助走ステージ４０及びスピンチャック１０の側方を包囲する昇降可能なカップ５０とで主に構成されている。
【００２７】
この場合、スピンチャック１０は、図４及び図６に示すように、中空回転軸１２に連結されており、この中空回転軸１２に装着された従動プーリ１３と、駆動モータ１１の駆動軸１１ａに装着された駆動プーリ１４とに掛け渡されるタイミングベルト１５を介して駆動モータ１１からの動力が伝達されるようになっている。ここでは、タイミングベルト１５を介して駆動モータ１１からの動力を中空回転軸１２に伝達する場合について説明したが、中空回転軸１２に中空モータを装着して中空回転軸１２及びスピンチャック１０を回動するようにしてもよい。
【００２８】
また、スピンチャック１０の載置面の４角領域の４箇所の角部には、ガラス基板Ｇを僅かな隙間をおいて支持するプロキシミティーピン１６が突設されると共に、ガラス基板Ｇの角部の隣接する辺を保持する回転規制ピン１７が突設されている。
【００２９】
更に、スピンチャック１０の載置面には、処理中に、ガラス基板Ｇが浮き上がるのを阻止する浮上り防止手段である３個の吸引保持部材１８が取り付けられている。これら吸引保持部材１８によってガラス基板Ｇの下面縁部（パターン形成領域外）を吸引により保持することができるように構成されている。これら吸引保持部材１８は、図５に示すように、スピンチャック１０の回転中心を挟んで対向する一方の位置に１個と、他方の位置に２個配設されている。この場合、吸引保持部材１８は、図５（ｂ）に示すように、少なくともスピンチャック１０の回転中心側の面１８ａが流線形の円弧状例えば平面視略楕円形に形成されている。このように、吸引保持部材１８の少なくともスピンチャック１０の回転中心側の面１８ａを流線形の円弧状に形成することにより、リンス処理時にリンス液が吸引保持部材１８の円弧状面１８ａを伝って外方に円滑に流すことができる。
【００３０】
また、吸引保持部材１８に接続する吸引用管路１８ｂは、図７に示すように、後述する現像液吸引ノズル２３（処理液吸引手段）とエジェクタ７７（吸引源）と現像液吸引ノズル２３とエジェクタ７７とを接続する現像液吸引用管路７６とからなる現像液吸引ライン（処理液吸引ライン）に接続されている。すなわち、吸引保持部材１８は、吸引用管路１８ｂを介して現像液吸引ラインのエジェクタ７７に接続されている。この場合、吸引用管路１８ｂには、吸引用管路１８ｂ内の吸引圧を検知する吸引圧検知手段例えばバキュームセンサ１８ｃと開閉弁Ｖ５が介設されている。これらバキュームセンサ１８ｃと開閉弁Ｖ５は、後述する制御手段例えばＣＰＵ１００に電気的に接続されており、バキュームセンサ１８ｃは、検知信号がＣＰＵ１００に伝達され、ＣＰＵ１００によりガラス基板Ｇが適切に保持されたか否かが監視できるようになっている。また、開閉弁Ｖ５はＣＰＵ１００からの制御信号に基づいて開閉動作し得るように構成されている。
【００３１】
なお、スピンチャック１０の中心部には、裏面洗浄用ノズル１９が設けられている。この裏面洗浄用ノズル１９は、中空回転軸１２との間にベアリング１９ａを介して取り付けられて回転しないようになっており、中空部１２ａ内に配設された洗浄液供給チューブ１９ｂを介して図示しない洗浄液供給源に接続されている。
【００３２】
上記助走ステージ４０は、中心部にガラス基板Ｇの外形より若干大きな、例えばガラス基板Ｇとの隙間が約１ｍｍの方形孔４１を有するドーナツ状の円板部材４２と、この円板部材４２の上面をスピンチャック１０にて保持されたガラス基板Ｇの表面と同一平面上に位置するようにスピンチャック１０の上面の同心円上に適宜間隔をおいて立設される複数の固定ピン４３とで構成されている。このように、助走ステージ４０を円板部材４２にて形成することにより、ガラス基板Ｇの洗浄及び乾燥時にスピンチャック１０を回転しても、乱気流が生じるのを防止することができる。なお、スピンチャック１０にて保持されるガラス基板Ｇと助走ステージ４０の方形孔４１との間には、約１ｍｍの隙間が生じるが、隙間に入った液の表面張力によりウォータシールドが形成されるので、液は下方に落下することがない。
【００３３】
また、図４及び図６に示すように、スピンチャック１０の載置部の下方には、スピンチャック１０に設けられた貫通孔１０ａを貫通してガラス基板Ｇの下面縁部（パターン形成領域外）を支持する昇降可能な３本の支持ピン６０が設けられている。これら３本の支持ピン６０は、連結板６１上に立設されており、連結板６１と連結する昇降手段例えばエアーシリンダ６２の伸縮動作によってスピンチャック１０の載置部の上方に出没可能に形成されている。なお、この場合、３本の支持ピン６０は、上記吸引保持部材１８と点対称となる位置に設けられている。このように構成される支持ピン６０によって上記搬送アーム２との間でガラス基板Ｇの受け渡しが行われる。すなわち、搬送アーム２がガラス基板Ｇをスピンチャック１０の上方に搬送した状態で、上昇してガラス基板Ｇの下面縁部を支持してガラス基板Ｇを受け取り、その後、支持ピン６０は下降してガラス基板Ｇをスピンチャック１０の上面に載置した後、スピンチャック１０と干渉しない下方位置に待機する。また、処理が済んだ後には、上昇してガラス基板Ｇをスピンチャック１０の上方に突き上げ、搬送アーム２にガラス基板Ｇを受け渡した後、下降する。
【００３４】
一方、上記カップ５０は、図４に示すように、スピンチャック１０の外方を包囲する筒状のカップ本体５１と、このカップ本体５１の上端縁から上方に向かって縮径テーパ状に延在し、上記助走ステージ４０の円板部材４２の外周縁部に干渉しない範囲で近接する開口５２を有する縮径テーパ部５３とで構成されており、カップ本体５１に取り付けられたブラケット５４に連結する移動手段例えばカップ移動用エアーシリンダ５５の伸縮動作によって図４に示す通常位置と、上方に移動する洗浄・乾燥位置とに切り換わるように構成されている。なお、カップ本体５１はカップ移動用エアーシリンダ５５のロッド５５ａと平行に配設されるガイドバー５６を有しており、このガイドバー５６が現像処理装置１の固定部に装着された軸受け部５７に摺動自在に嵌挿されている。
【００３５】
また、カップ５０の下端部には、カップ本体５１の外方を包囲する外壁５８ａを有する有底ドーナツ円筒状の固定カップ５８が配設されている。この固定カップ５８の底部には排液管路５８ｂが接続されている。また、スピンチャック１０の載置部の下部と固定カップ５８の上部との間には、スピンチャック１０側から排出される排液すなわち処理液や洗浄液を固定カップ５８内に流す内カップ５９が配設されている。
【００３６】
一方、上記ノズルヘッド２０は、ガラス基板Ｇのパターン形成領域の幅と同じかそれ以上の長さに形成されると共に、ガラス基板と一定の隙間例えば５０μｍ〜３ｍｍ、より好ましくは５０μｍ〜５００μｍを空けて相対的に平行移動可能な液処理面２１を有する略直方体状に形成されている。このノズルヘッド２０には、液処理面２１に設けられ、ガラス基板Ｇに帯状に現像液を供給（吐出、塗布）する現像液供給ノズル２２（処理液供給手段）と、液処理面２１に現像液供給ノズル２２と平行に設けられ、現像液供給ノズル２２が供給した現像液を吸引し、ガラス基板Ｇの表面に現像液の流れを形成する現像液吸引ノズル２３（以下に吸引ノズル２３という）｛処理液吸引手段｝と、吸引ノズル２３を挟んで現像液供給ノズル２２と対向する位置に設けられ、ガラス基板Ｇの表面に例えば純水等のリンス液（洗浄液）を供給（吐出、塗布）するサイドリンスノズル２４（洗浄液供給手段）とが設けられている。
【００３７】
現像液供給ノズル２２は、図７に示すように、泡抜き等を行うため一旦現像液を収容する収容部２５をノズルヘッド２０内に有しており、現像液が貯留される現像液タンク７０（現像液供給源）から現像液を供給する現像液供給管路７１と、収容部２５の現像液の泡抜きを行う泡抜き管路（図示せず）とに接続されている。
【００３８】
また、現像液供給管路７１には、現像液の温度を調節する温度調節機構７２（処理液温度調節手段）と、現像液を圧送する図示しない圧送手段例えばポンプと、現像液供給管路内の現像液の流量を検出する現像液流量計１３０（処理液流量検出手段）とが設けられており、例えば圧縮空気によって開閉を制御されるエアオペレーションバルブ等の開閉弁Ｖ１（処理液流量調節手段）によって現像液の流量調節が可能に形成されている。
【００３９】
温度調節機構７２は、図７に示すように、現像液供給管路７１とノズルヘッド２０との接続部に設けられ、現像液供給管路７１が温度調節管路７３内を通るように形成される二重管構造となっている。また、温度調節管路７３は、現像液供給管路７１内を上方から下方へ流れる現像液に対し、ヒータ７４等で温調された液体例えば純水を循環手段例えば循環ポンプ７５により温度調節管路７３内を下方から上方へ循環するように構成されている。このように構成することにより、現像液の温度を調節することができるので、現像液の粘度及びエッチング速度（処理速度、反応速度）等を一定にすることができ、更に均一な現像処理を行うことができる。
【００４０】
また、現像液供給ノズル２２は、図８に示すように、現像液供給ノズル２２の長手方向に例えば１ｍｍピッチで等間隔に設けられる複数の供給孔２６（処理液供給孔）と、これら供給孔２６の下部に連通され現像液供給ノズル２２の長手方向に設けられる例えば１ｍｍ幅のスリット２７と、スリット２７の下部に連通され現像液をガラス基板Ｇに供給（吐出、塗布）する拡開テーパ状の現像液供給口２８（処理液供給口）と、この現像液供給口２８内の長手方向に設けられ、均一に現像液を吐出する整流緩衝棒例えば円柱状の石英棒２９とで構成されている。ここでは、整流緩衝棒が石英棒２９にて形成される場合について説明したが、整流緩衝棒は、親水性であれば石英以外に例えばセラミックス等で形成することも可能である。
【００４１】
現像液供給ノズル２２を、このように構成することにより、供給孔２６から流出する現像液は、スリット２７で合流した後、現像液供給口２８の壁面を伝って流れる一方、石英棒２９の表面で拡散させることができる。したがって、スリット２７で供給孔による現像液の吐出むらを防止し、石英棒２９でガラス基板Ｇに均一に現像液を供給（吐出、塗布）することができ、現像液供給ノズル２２と後述する吸引ノズル２３との間に、新しい現像液を常時供給しつつ均一な現像液の流れを形成して、溶解生成物を除去しながら均一な現像液の流れを形成して、均一な現像処理をすることができる。
【００４２】
吸引ノズル２３は、現像液やリンス液等の現像処理に用いられた処理液（廃液）を吸引するスリット状の吸引口２３ａが、現像液供給ノズル２２の液処理面２１の移動方向両側に平行に設けられている。ここで、吸引口２３ａの長手方向の長さは、現像液供給ノズル２２両端からの現像液の染み出しを防ぐため、現像液供給口２８の長手方向の長さより長く形成される方が好ましい。また、吸引口２３ａのスリットは、幅が広過ぎると吸引口２３ａ付近で現像状態が悪くなるため、供給された現像液をサイドリンスノズル２４側に漏らさないように吸引できる範囲で可及的に狭く形成される方が好ましい。更に、吸引ノズル２３は、現像液供給ノズル２２から供給され、現像処理に供された現像液を円滑に吸引し、均一な現像液の流れを形成するため、図７に示すように、吸引口２３ａを現像液供給口２８側に向くように形成する方が好ましい。
【００４３】
また、吸引ノズル２３は、図７に示すように、現像液吸引用管路７６を介して、吸引口２３ａが吸引する現像液やリンス液等の廃液の吸引量を調節可能な減圧機構例えばエジェクタ７７（吸引源）と、現像処理装置１の移動方向前方側及び後方側の各吸引口２３ａそれぞれの吸引量を検出可能な吸引流量計１５０　（吸引量検出手段）と、現像液吸引用管路７６の開閉を行い吸引量を調節する、例えば圧縮空気によって開閉を制御されるエアオペレーションバルブ等の開閉弁Ｖ２，Ｖ３（吸引量調節手段）と、吸引した廃液を気体と液体に分離して回収するトラップタンク７８と、このトラップタンク７８の圧力を検出可能な圧力センサ７９と、トラップタンク７８内に回収された廃液を回収する廃液タンク８０とで構成される吸引部８１に接続されている。これら吸引ノズル２３、現像液吸引用管路７６及びエジェクタ７７等にて処理液吸引ラインが形成されている。そして、この処理液吸引ラインに、吸引用管路１８ｂを介して吸引保持部材１８が接続されている。
【００４４】
この場合、現像液吸引用管路７６を吸引ノズル２３の上端から吸引すると、その部分の直下の吸引口２３ａ付近で現像液の流れが特異になり、現像処理が不均一になる虞があるため、現像液吸引用管路７６は、ガラス基板Ｇのパターン形成領域から外れる位置の上端に設けるか、又は、吸引ノズル２３の両側端に設ける方が好ましい。
【００４５】
なお、上記吸引部８１は、エジェクタ７７、トラップタンク７８及び圧力センサ７９を用いる代わりに、吸引口が吸引する廃液の吸引量を調節可能な吸引手段（吸引源）例えば吸引ポンプを用いることも可能である。
【００４６】
サイドリンスノズル２４は、図７に示すように、吸引ノズル２３を挟んで現像液供給ノズル２２と対向する位置に平行に設けられており、スリット状のリンス液供給口２４ａから液処理面２１とガラス基板Ｇとの間に例えば純水等のリンス液を供給可能に形成されている。
【００４７】
また、サイドリンスノズル２４は、図７に示すように、リンス液供給管路８２を介してリンス液供給源例えばリンス液供給タンク８３に接続されており、リンス液供給管路８２には、現像液供給管路７１と同様に、リンス液の温度を調節する温度調節機構８４（洗浄液温度調節手段）と、リンス液を圧送する図示しないポンプ等の圧送手段と、リンス液供給管路８２内のリンス液の流量を検出するリンス液流量計１４０（洗浄液流量検出手段）と、圧縮空気等によって開閉制御されるエアオペレーションバルブ等の開閉弁Ｖ４（洗浄液流量調節手段）とが設けられている。
【００４８】
このように構成することにより、サイドリンスノズル２４が供給したリンス液の一部を吸引ノズル２３が吸引し、現像液が吸引ノズル２３からサイドリンスノズル２４側へ広がるのを防止することができるので、ガラス基板Ｇ上の現像液の幅を一定にすることができ、現像時間を一定にして均一な現像処理を行うことができる。勿論、ガラス基板Ｇ上のパーティクル等を除去することもできる。
【００４９】
なお、サイドリンスノズル２４は、ノズルヘッド２０のスキャン方向の前方側のサイドリンスノズル２４から供給されるリンス液は、処理前のガラス基板Ｇのプリウエットに供され、現像液のぬれ性の向上に寄与する。また、後方のサイドリンスノズル２４から供給されるリンス液によって現像の停止が行われるようになっている。なお、サイドリンスノズル２４は、ノズルヘッド２０と分離して設けることも可能である。
【００５０】
上記のように構成されるノズルヘッド２０を水平方向（Ｘ方向）に移動（スキャン）及び垂直方向（Ｚ方向）に移動するノズル移動手段３０は、図３に示すように、スピンチャック１０の一側方に配設されるガイドプレート３１に設けられる一対の互いに平行な水平ガイドレール３２に摺動可能に装着される水平移動台３３と、この水平移動台３３を水平方向に移動する例えばボールねじ機構にて形成される水平移動機構３４と、水平移動台３３に対して垂直方向に移動可能に装着される垂直移動基部３５の上端からスピンチャック１０側に延在し、先端部がノズルヘッド２０を保持するアーム３６と、アーム３６を垂直方向に移動する例えばボールねじ機構にて形成される垂直移動機構３７とで構成されている。
【００５１】
また、ノズルヘッド２０における移動方向（Ｘ方向）の一方の端部には、ノズルヘッド２０の液処理面２１とガラス基板Ｇとの間隔を検出可能な間隔検出手段例えばレーザ変位計９０（図２参照）が取り付けられている。このレーザ変位計９０の検出信号が制御手段例えば中央演算処理装置１００（以下にＣＰＵ１００という）に伝達され、ＣＰＵ１００からの制御信号によって垂直移動機構３７のモータが駆動して、ノズルヘッド２０の液処理面２１とガラス基板Ｇとの間に一定の隙間例えば１ｍｍ〜５０μｍの隙間を精度良く形成することができる。
【００５２】
また、現像処理装置１は、垂直移動機構３７以外にも、ＣＰＵ１００（制御手段）に電気的に接続されており、現像液流量計１３０、リンス液流量計１４０、吸引流量計１５０、圧力センサ７９、レーザ変位計９０（間隔検出手段）等の検出信号と、予め記憶された情報とに基づいて、開閉弁Ｖ１，Ｖ２，Ｖ３，Ｖ４，Ｖ５、現像処理装置１のスキャンスピード等を制御可能に構成されている。
【００５３】
また、ノズル待機位置の外方には、リンスノズル８が配設されている。このリンスノズル８は、図２に示すように、水平方向に正逆回転するモータ８ａの駆動軸８ｂに一端が連結されるアーム８ｃの先端部に装着されており、モータ８ａの駆動によってガラス基板Ｇの中心部を通る円弧状の軌跡を描いて移動し得るように構成されている。また、リンスノズル８は、図示しない、垂直移動機構によって更に垂直方向にも移動可能に形成されている。なお、リンスノズル８は、図示しないリンス液供給管路を介してリンス液供給源例えばリンス液供給タンク８３に接続されている。
【００５４】
以下に、上記のように構成される現像処理装置１を用いた現像処理方法について説明する。
【００５５】
まず、搬送アーム２により搬入されるガラス基板Ｇは、現像処理ユニット４の搬入出口部に配設された厚さ検出手段例えばレーザ光の反射を利用して距離を測定するレーザ変位計１０１によって厚さが検出される。この場合、レーザ変位計１０１は、図９（ａ）に示すように、ガラス基板Ｇの上方から塗布されているＣｒ層１０２までの距離と、ガラス基板Ｇの下方からガラス基板Ｇの裏面までの距離とを測定して比較演算するか、図９（ｂ）に示すように、ガラス基板Ｇの下方からガラス基板Ｇの裏面までの距離と、Ｃｒ層１０２までの距離を測定して比較演算することによりガラス基板Ｇの厚さを検出し、ＣＰＵ１００に記憶させることができる。これにより、１００μｍ程度の誤差があるガラス基板Ｇの厚さを正確に検出して、後述する現像処理装置１の液処理面２１とガラス基板Ｇ表面との間の変位情報を更に正確に検出することができる。
【００５６】
なお、レーザ変位計１０１（厚さ検出手段）は、必ずしも現像処理ユニット４の搬入出口に設ける必要はなく、現像処理前の処理ユニット例えば熱処理ユニット５の搬入出口部に配設して、同様にガラス基板Ｇの厚さを検出して、その検出信号をＣＰＵ１００に伝達するようにしてもよい。
【００５７】
次に、搬送アーム２によってガラス基板Ｇがスピンチャック１０の上方位置に搬送されると、エアーシリンダ６２（昇降手段）が駆動され、支持ピン６０がスピンチャック１０に設けられた貫通孔１０ａを貫通して上方に突出して、ガラス基板Ｇの下面縁部を支持する。この状態で、搬送アーム２は現像処理ユニット４内から退避してガラス基板Ｇは支持ピン６０に受け渡される。次に、支持ピン６０が下降してガラス基板Ｇをスピンチャック１０の載置部上に載置すると、ガラス基板Ｇの角部は回転規制ピン１７によって保持される。この際、エジェクタ７７が作動すると共に、開閉弁Ｖ５が開放して吸引保持部材１８による吸引作用によってガラス基板Ｇは吸引保持される。
【００５８】
スピンチャック１０にガラス基板Ｇが吸引保持されると、ＣＰＵ１００の制御信号によりノズル移動手段３０の水平移動機構３４が作動して、ノズルヘッド２０をノズル待機位置から助走ステージ４０まで移動する。ノズルヘッド２０が助走ステージ４０に達すると、助走ステージ４０に向かって予め所定温度に温調されたリンス液を供給（吐出）しつつノズルヘッド２０をガラス基板Ｇの上方をスキャン（水平移動）させて、ガラス基板Ｇの表面全体にリンス液を塗布する（プリウエット工程）。これにより、現像液を供給（吐出、塗布）する前に、ガラス基板Ｇを処理温度に調節することができると共に、現像液のぬれ性を良好にすることができる。
【００５９】
プリウエット工程が終了すると、現像処理装置１は、レーザ変位計１０１により検出されたガラス基板Ｇの厚さデータに基づいてスキャンし、ガラス基板Ｇと液処理面２１との間隔をレーザ変位計９０により検出しながらスキャン開始位置まで戻る。検出された変位情報はＣＰＵ１００に記憶される。この場合、プリウエット工程とデータ取りとを同時に行うことも勿論可能である。
【００６０】
なお、上記説明では、プリウエット工程終了後に変位情報を検出しているが、変位情報の検出方法はこれに限らず、レーザ変位計９０を、現像処理装置１の進行方向後方側に設けて、プリウエット工程と同時に行うことも可能である。
【００６１】
ノズルヘッド２０がスキャン開始位置すなわち助走ステージ４０と対向する位置に戻った状態において、助走ステージ４０に向かってサイドリンスノズル２４からリンス液が供給（吐出）され、ノズルヘッド２０の液処理面２１と助走ステージ４０との間に液膜が形成、すなわち液処理面２１と助走ステージ４０との間にリンス液が満たされた状態にし、吸引ノズル２３を作動して、吸引ノズル２３の吸引作用により、吸引ノズル２３の内部全域に液を満たして空気の混入による泡噛みによって液の適正な流れが乱されないような状態で現像処理に備える。このとき、サイドリンスノズル２４からリンス液を供給しつつ現像液供給ノズル２２から現像液を供給（吐出）すると共に、吸引ノズル２３から吸引して現像液の流を形成してもよい。このように、ノズルヘッド２０の液処理面２１と助走ステージ４０との間に液膜を形成することにより、外部からの空気の入り込みすなわち泡噛みを防止することができる。
【００６２】
一方、ＣＰＵ１００は、現像処理装置１のスキャンスピードを現像時間が確保できる速度に制御すると共に、開閉弁Ｖ１，Ｖ２，Ｖ３，Ｖ４の開口度を制御して、液処理面２１とガラス基板Ｇとの間に、一定幅の現像液の流れを形成し得るように、現像液及びリンス液（純水）の供給（吐出、塗布）及び吸引を制御する。
【００６３】
この際、吸引流量が吸引流量上限値より多いと、ガラス基板Ｇが吸引ノズル２３によって吸引されてスピンチャック１０の載置部から浮き上がろうとするが、ガラス基板Ｇが浮き上がると、吸引ノズル２３の吸引力が弱まり、これと反対に吸引保持部材１８の吸引力が強まるので、ガラス基板Ｇの浮き上がりが阻止される。つまり、ガラス基板Ｇが吸引ノズル２１に吸着、あるいは、浮き上がった場合、吸引保持部材１８からガラス基板Ｇが外れると、吸引圧力が下がるので、ガラス基板Ｇは元に戻り、吸引保持部材１８に吸着される。したがって、吸引ノズル２３と吸引保持部材１８で自動的にバランスが取られて、処理を停止させることがない。通常、ガラス基板Ｇの浮き上がりをバキュームセンサ１８ｃで検出し、アラームを出力して処理を停止するが、この場合、バキュームセンサ１８ｃに所定時間（例えば１秒）経過後、又は所定圧力（例えば１３３３２．２Ｐａ）以上低下したときに警報を出力する。
【００６４】
これにより、ノズルヘッド２０の液処理面２１とガラス基板Ｇの表面との間の隙間を一定に維持することができ、ガラス基板Ｇの表面に一定幅の現像液の流れを形成することができる。
【００６５】
なお、現像液が所定幅以上に広がるのを防止するため、ＣＰＵ１００によって、リンス液の供給（吐出、塗布）及び吸引が、現像液の供給（吐出、塗布）よりも若干早く開始するように制御してもよい。
【００６６】
現像処理装置１による現像液及びリンス液の供給（吐出、塗布）及び吸引は、助走ステージ４０上のスキャン開始位置から終了まで断続的に実行される。この際、ガラス基板Ｇと液処理面２１との隙間を図示しないレーザ変位計等の間隔検出手段により検出し、その検出信号をＣＰＵ１００に送り、ＣＰＵ１００において、検出信号と予め記憶された情報とに基づいて、現像液が吸引ノズル２３の位置からサイドリンスノズル２４側に染み出さず、かつ現像液の流速を高速に保つことができる幅になるように現像処理装置１を垂直移動機構３７によって上下させて調整する。なお、現像処理の際、裏面洗浄ノズル１９からガラス基板Ｇの裏面に向かってリンス液を供給（吐出）することにより、ガラス基板Ｇの裏面に現像液が回り込むのを阻止することができる。
【００６７】
現像処理が終了して、ノズルヘッド２０がカップ５０の外側に退避すると、カップ移動用エアーシリンダ５５が駆動して、カップ５０が上方へ移動する。また、リンスノズル８がガラス基板Ｇの上方のリンス液供給時にガラス基板Ｇに衝撃を与えない位置まで移動し、例えば純水等のリンス液をガラス基板Ｇ上に供給（吐出）することによりリンス処理を行う。このリンス処理において、開閉弁Ｖ５が閉じて吸引保持部材１８によるガラス基板Ｇの吸引保持は解除された状態で、スピンチャック１０が回転するが、回転規制ピン１７によってガラス基板Ｇはスピンチャック１０と共に回転する。
【００６８】
リンス処理が終了すると、モータ１１が駆動してスピンチャック１０が高速回転例えば２０００ｒｐｍで回転してガラス基板Ｇに付着するリンス液を振り切り乾燥する。ガラス基板Ｇ及びスピンチャック１０から飛散されるリンス液はカップ５０内に受け止められ、固定カップ５８の底部に接続する排液管路５８ｂを介して外部に排出される。
【００６９】
乾燥処理が終了して、カップ５０が下降した後、エアーシリンダ６２が作動して支持ピン６０を上昇し、スピンチャック１０に載置されたガラス基板Ｇをスピンチャック１０の上方へ押し上げる。すると、装置外から現像処理ユニット４内に挿入される搬送アーム２がガラス基板Ｇの下方に進入し、この状態で、支持ピン６０が下降すると、ガラス基板Ｇは搬送アーム２に受け渡され、搬送アーム２によりガラス基板Ｇは現像処理ユニット４から外部に搬出されて処理が終了する。
【００７０】
◎第二実施形態
図１０は、この発明における浮上り防止手段の第二実施形態を示す図で、（ａ）はガラス基板の非保持状態、（ｂ）はガラス基板の保持状態を示す要部断面図、図１１は、図１０の平面図である。
【００７１】
第二実施形態は、浮上り防止手段１８Ａを、ガラス基板Ｇを載置するスピンチャック１０の載置部表面との間に隙間をおいて支持する位置決めピン１８ｄと、吸引源（図示せず）に接続され、ガラス基板Ｇの裏面を吸引により保持する伸縮可能な蛇腹式の吸引保持部材１８ｅとで構成した場合である。この場合、吸引保持部材１８ｅは、第一実施形態と同様に、スピンチャック１０の回転中心を挟んで対向する一方の位置に１個と、他方の位置に２個配設されている（図１１参照）。一方、位置決めピン１８ｄは、吸引保持部材１８ｅと点対称となる位置に設けられている。なお、第二実施形態においては、３本の支持ピン６０は、位置決めピン１８ｄと干渉しないように、吸引保持部材１８ｅと位置決めピン１８ｄが位置する対向する両側辺部と直交する辺部に設けられている（図１１参照）。
【００７２】
上記のように構成される第二実施形態の浮上り防止手段１８Ａによれば、図１０（ａ）及び図１２（ａ）に示すように、ガラス基板Ｇを３個の吸引保持部材１８ｅ上に載置した状態で、吸引源（図示せず）を駆動すると共に、開閉弁Ｖ５を開放すると、ガラス基板Ｇは吸引によって吸引保持部材１８ｅに吸引されると共に、ガラス基板Ｇは位置決めピン１８ｄ上に支持される（図１０（ｂ）及び図１２（ｂ）参照）。これにより、ガラス基板Ｇの高さが正確に位置決めされ、高さ精度の向上が図れる。したがって、現像処理における現像液の流れの形成を更に安定させることができると共に、均一な現像処理を行うことができる。
【００７３】
なお、第二実施形態において、その他の部分は、第一実施形態と同じであるので、同一部分には、同一符号を付して説明は省略する。
【００７４】
◎第三実施形態
図１３は、この発明における浮上り防止手段の第三実施形態を示す要部断面図である。
【００７５】
第三実施形態は、非接触によりガラス基板Ｇを吸引保持して、ガラス基板Ｇの汚れを可及的に少なくした場合である。
【００７６】
すなわち、第三実施形態の浮上り防止手段１８Ｂは、ガラス基板Ｇを載置する載置部表面との間に隙間をおいて支持する位置決めピン１８ｄと、ガラス基板Ｇの裏面との間に隙間例えば０．１ｍｍ〜０．５ｍｍを残してガラス基板Ｇを吸引する非接触吸引保持部材１８ｆとを具備してなる。この場合、非接触吸引保持部材１８ｆと吸引源例えばエジェクタ７７とを接続する吸引用管路１８ｂに三方切換弁１８ｇ（切換手段）を介して逆流防止用流体例えば窒素（Ｎ２）ガスの供給源１８ｈが接続されている。なお、三方切換弁１８ｇは上記ＣＰＵ１００に電気的に接続されており、ＣＰＵ１００からの制御信号に基づいて切り換え動作するようになっている。
【００７７】
このように構成される第三実施形態の浮上り防止手段１８Ｂによれば、ガラス基板Ｇに接触することなく非接触吸引保持部材１８ｆによる吸引によって保持すると共に、ガラス基板Ｇを位置決めピン１８ｄ上に支持させることができる。したがって、上記第一実施形態及び第二実施形態に比べてガラス基板Ｇへのパーティクル等の付着による汚れを防止することができる。
【００７８】
この場合、非接触吸引保持部材１８ｆに接続する吸引用管路１８ｂに三方切換弁１８ｇを介して逆流防止用流体例えばＮ２ガスの供給源１８ｈが接続されているので、現像処理時には、三方切換弁１８ｇを吸引源例えばエジェクタ７７側に切り換えて、図１４（ａ）に示すように、非接触吸引保持部材１８ｆによる吸引によって保持すると共に、ガラス基板Ｇを位置決めピン１８ｄ上に支持させる。また、洗浄処理時には、三方切換弁１８ｇをＮ２ガスの供給源１８ｈ側に切り換えて、図１４（ｂ）に示すように、非接触吸引保持部材１８ｆの吸引口部側に向けてＮ２を供給することにより、非接触吸引保持部材１８ｆ内にリンス液が進入するのを防止することができる。
【００７９】
なお、上記説明では、逆流防止用流体がＮ２ガスである場合について説明したが、Ｎ２ガスに代えて純水を用いてもよい。
【００８０】
なお、第三実施形態において、その他の部分は、第一及び第二実施形態と同じであるので、同一部分には、同一符号を付して説明は省略する。
【００８１】
◎第四実施形態
図１５は、この発明における浮上り防止手段の第四実施形態を示すもので、（ａ）はガラス基板を保持した状態を示す要部断面図、（ｂ）はガラス基板の非保持状態を示す要部断面図、図１６は、第四実施形態の浮上り防止手段の一部を断面で示す要部平面図（ａ）及び（ａ）のＩＶ部拡大断面図（ｂ）である。
【００８２】
第四実施形態は、ガラス基板Ｇの保持を、上記第一ないし第四実施形態の吸引による保持に代えて機械的機構によりガラス基板の側辺を保持するメカニカル式保持機構とした場合である。
【００８３】
第四実施形態の浮上り防止手段１８Ｃは、図１６に示すように、ガラス基板Ｇの側辺の三方を包囲すると共に、対向する両側辺を挟持する一対の平面視略コ字状の側部保持体２００と、これら両側部保持体２００を対向方向に接離移動する接離移動手段例えばエアーシリンダ２１０とを具備する。この場合、側部保持体２００の基部２０１の対向面（挟持面）の左右両側には、対向面に開口する取付穴２０３が設けられており、これら取付穴２０３内には、ガラス基板Ｇの側面に当接する保持ピン２０４が摺動可能に嵌挿され、保持ピン２０４と取付穴２０３の底部との間に、保持ピン２０４を常時突出方向に弾性力を付勢するばね部材例えば圧縮コイルばね２０５が縮設されている。また、側部保持体２００の両側腕部２０２の先端側の対向する面部には、ガラス基板Ｇの挟持側面と直交する両側面にそれぞれ当接する補助保持部材２０６が設けられている。この場合、補助保持部材２０６は、図１６（ｂ）に示すように、腕部２０２の先端側角部に設けられた切欠き２０７内に出没可能に配設されるコロ部材２０８にて形成されると共に、ばね部材２０９によって常時突出方向に弾性力が付勢されている。
【００８４】
上記のように構成される第四実施形態の浮上り防止手段１８Ｃは、上記スピンチャック１０の外方側に配設されており、現像処理時に、エアーシリンダ２１０が作動して、両側部保持体２００を近接する方向に移動することで、ガラス基板Ｇの対向する側面に保持ピン２０４が当接した状態で挟持する一方、ガラス基板Ｇの挟持側面と直交する両側面にそれぞれ補助保持部材２０６が当接した状態で保持するように構成されている。したがって、ガラス基板Ｇの対向する側辺間に寸法誤差が生じたとしても、圧縮コイルばね２０５の弾性力が吸収した状態でガラス基板Ｇの対向する側辺を保持ピン２０４によって保持することができ、ガラス基板Ｇの裏面に接触することなく、かつ、接触面積を少なくした状態でガラス基板Ｇの浮き上がりを防止することができる。
【００８５】
なお、第四実施形態における浮上り防止手段１８Ｃの側部保持体２００の上面は平坦面２２０となっており、この側部保持体２００の平坦面２２０をガラス基板Ｇの表面と同一平面とすることにより、側部保持体２００の平坦面２２０を助走ステージとして利用することができ、現像処理時の泡噛みを防止することができる。すなわち、現像処理時にエアーシリンダ２１０を作動して両側部保持体２００を近接させると共に、スピンチャック１０上に載置されたガラス基板Ｇを挟持（保持）した状態で、ノズルヘッド２０を側部保持体２００の上方に移動させて、現像液供給ノズル２２から現像液を供給（吐出）させ、ノズルヘッド２０の液処理面２１と側部保持体２００の上面との間に液膜を形成、つまり液処理面２１と側部保持体２００の上面との間に現像液を満たした状態とすることにより、泡噛みを防止した状態で、現像処理に備えることができる。これにより、現像液の流れの形成を安定化させることができると共に、液処理の均一性の向上が図れる。
【００８６】
なお、第四実施形態において、その他の部分は、第一実施形態と同じであるので、同一部分には、同一符号を付して説明は省略する。
【００８７】
◎第五実施形態
図１７は、この発明における浮上り防止手段の第五実施形態のガラス基板の保持状態を示す概略平面図（ａ）及び（ａ）のＶ部拡大平面図（ｂ）である。
【００８８】
第五実施形態の浮上り防止手段１８Ｄは、第四実施形態の浮上り防止手段１８Ｃと同様に、ガラス基板Ｇの側辺の三方を包囲すると共に、対向する両側辺を挟持する一対の平面視略コ字状の側部保持体２００と、これら両側部保持体２００を対向方向に接離移動するエアーシリンダ２１０（接離移動手段）とを具備している。また、側部保持体２００の基部２０１と腕部２０２との連結部の内方角部には、ガラス基板Ｇの対向する側面に当接する第１の保持部２３１と、ガラス基板Ｇの他の対向する側面に当接する第２の保持部２３２とを有するベルクランク状の保持部材２３０が設けられている。この場合、保持部材２３０は、側部保持体２００に対して水平方向に回動可能に枢着されている。なお、第２の保持部２３２は、図１７（ｂ）に示すように、保持部材２３０の一方の腕部２３３に摺動及び回動可能に装着されると共に、ばね部材２３４の弾性力によって常時ガラス基板Ｇの側面に当接する方向に弾性力が付勢されている。
【００８９】
上記のように構成される第五実施形態の浮上り防止手段１８Ｄによれば、エアーシリンダ（図１７において図示せず）を作動して側部保持体２００同士を近接方向に移動すると、第１の保持部２３１がガラス基板Ｇの側面に当接して、保持部材２３０が枢着部を支点として反時計方向に回転する一方、第２の保持部２３２がガラス基板Ｇの側面に当接する方向に弾性力を付勢した状態で移動する。したがって、多少の寸法の誤差があってもガラス基板Ｇの対向する２辺の他に直交する２辺を同時に保持することができる。
【００９０】
なお、第五実施形態において、その他の部分は、第一及び第四実施形態と同じであるので、同一部分には、同一符号を付して説明は省略する。
【００９１】
◎その他の実施形態
上記第一ないし第五実施形態においては、この発明に係る液処理装置を、レチクル用のガラス基板Ｇの現像処理に適用する場合について説明したが、これに限らず、ウエハやＬＣＤ等の現像処理に適用することも勿論可能である。
【００９２】
【発明の効果】
以上に説明したように、この発明によれば、上記のように構成されているので、以下のような効果が得られる。
【００９３】
１）請求項１記載の発明によれば、処理中に、処理液吸引手段による吸引によって被処理基板が浮き上がるのを阻止することができるので、被処理基板表面と一定の隙間をおいて相対的に平行移動すると共に、処理液吸引手段により処理液を吸引することにより、被処理基板の表面に一定幅の処理液の流れを形成することができ、処理の均一性の向上を図ることができる。
【００９４】
２）請求項２記載の発明によれば、処理液吸引手段、吸引源及び処理液吸引用管路とからなる処理液吸引ラインと、被処理基板の保持用の吸引ラインとを共通化することができ、また、吸引源を共通にするため、処理液の吸引回収における吸引力と、被処理基板の吸引保持における吸引力との和を一定にすることができ、双方の吸引力の強弱のバランスを利用して被処理基板の浮き上がりを防止することができる。この場合、吸引用管路に、この吸引用管路内の吸引圧を検知する吸引圧検知手段を介設し、この吸引圧検知手段からの検知信号に基づいて被処理基板の保持の有無を検知可能に形成することにより、吸引保持部材により被処理基板の吸引保持が適切な状態か否かを監視することができ、装置の信頼性の向上を図ることができる（請求項３）。
【００９５】
３）請求項４記載の発明によれば、被処理基板を吸引保持部材による吸引によって保持すると共に、被処理基板を位置決めピン上に支持させることができるので、上記１）及び２）に加えて、更に被処理基板の高さの位置決めを容易かつ正確にすることができ、更に処理の均一性の向上を図ることができる。
【００９６】
４）請求項５記載の発明によれば、浮上り防止手段は、被処理基板を載置する載置部表面との間に隙間をおいて支持する位置決めピンと、被処理基板の裏面との間に隙間を残して被処理基板を吸引する非接触吸引保持部材とを具備するので、上記１）ないし３）に加えて、更に被処理基板に接触することなく非接触吸引保持部材による吸引によって保持すると共に、被処理基板を位置決めピン上に支持させることができ、被処理基板へのパーティクル等の付着を防止することができる。この場合、非接触吸引保持部材に接続する吸引用管路に切換手段を介して逆流防止用流体の供給源を接続することにより、非接触吸引保持部材の吸引口部側に向けて逆流防止用流体を供給することができ、非接触吸引保持部材内に液が進入するのを防止することができる（請求項６）。
【００９７】
５）請求項７記載の発明によれば、浮上り防止手段は、被処理基板の側辺の三方を包囲すると共に、対向する両側辺を挟持する一対の側部保持体と、これら両側部保持体を対向方向に接離移動する接離移動手段とを具備するので、上記１）に加えて、更に被処理基板の側面を保持して被処理基板の浮き上がりを防止することができ、被処理基板の裏面の汚れを防止することができる。
【００９８】
６）請求項８記載の発明によれば、側部保持体は、被処理基板の側面に当接する保持ピンと、この保持ピンを摺動可能に嵌挿する取付穴と、保持ピンを常時突出方向に弾性力を付勢するばね部材とを具備するので、上記５）に加えて、更に被処理基板の対向する側辺間に寸法誤差が生じたとしても、ばね部材の弾性力が吸収した状態で被処理基板の対向する側辺を保持ピンによって保持することができ、更に安定した状態で被処理基板を保持することができると共に、浮上りを確実に防止することができる。
【００９９】
７）請求項９記載の発明によれば、側部保持体に、被処理基板の側面に当接する保持ピンと、この保持ピンを摺動可能に嵌挿する取付穴と、保持ピンを常時突出方向に弾性力を付勢するばね部材と、被処理基板の挟持側面と直交する両側面に当接する補助保持部材とを具備するので、上記５）に加えて、更に被処理基板の対向する２辺の他に直交する２辺を保持することができ、更に安定した状態で被処理基板を保持することができると共に、浮上りを確実に防止することができる。
【０１００】
８）請求項１０記載の発明によれば、側部保持体は、被処理基板の対向する側面に当接する第１の保持部と、被処理基板の他の対向する側面に当接する第２の保持部とを有する保持部材を具備し、保持部材を、側部保持体に対して水平方向に回動可能に枢着することにより、上記５）に加えて、更に被処理基板の対向する２辺の他に直交する２辺を同時に保持することができ、更に安定した状態で被処理基板を保持することができると共に、浮上りを確実に防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の液処理装置を適用した液処理システムの一例を示す概略構成図である。
【図２】この発明に係る現像処理装置の概略平面図である。
【図３】この発明におけるノズルヘッドの移動手段を示す斜視図（ａ）及び移動手段の垂直移動機構を示す断面図（ｂ）である。
【図４】上記現像処理装置の概略断面図である。
【図５】上記現像処理装置の要部を示す平面図（ａ）及び（ａ）のＩＩ部の拡大平面図（ｂ）である。
【図６】図５のＩ−Ｉ線に沿う断面図である。
【図７】この発明におけるノズルヘッドと第一実施形態の浮上り防止手段を示す断面図である。
【図８】上記ノズルヘッドの要部を示す断面図（ａ）及び（ａ）のＩＩＩ−ＩＩＩ線に沿う断面図である。
【図９】この発明における厚さ検出手段を示す概略断面図である。
【図１０】この発明における浮上り防止手段の第二実施形態の非吸引及び吸引状態を示す概略断面図である。
【図１１】第二実施形態における浮上り防止手段を示す概略平面図である。
【図１２】第二実施形態における浮上り防止手段の非吸引及び吸引状態を示す要部断面図である。
【図１３】この発明における浮上り防止手段の第三実施形態を示す要部断面図である。
【図１４】第三実施形態の浮上り防止手段における非接触吸引保持部材による吸引保持の状態を示す断面図（ａ）及び非接触吸引保持部材の吸引口部側に向けてＮ２を供給する状態を示す断面図（ｂ）である。
【図１５】この発明における浮上り防止手段の第四実施形態における保持状態を示す要部断面図（ａ）及び非保持状態を示す要部断面図（ｂ）である。
【図１６】第四実施形態の浮上り防止手段の一部を断面で示す要部平面図（ａ）及び（ａ）のＩＶ部拡大断面図（ｂ）である。
【図１７】この発明における浮上り防止手段の第五実施形態の保持状態を示す概略平面図（ａ）及び（ａ）のＶ部拡大平面図（ｂ）である。
【符号の説明】
Ｇ　ガラス基板（被処理基板）
１０　スピンチャック（保持手段）
１８　吸引保持部材（浮上り防止手段）
１８Ａ〜１８Ｄ　浮上り防止手段
１８ｂ　吸引用管路
１８ｃ　バキュームセンサ（吸引圧検知手段）
１８ｄ　位置決めピン
１８ｅ　吸引保持部材
１８ｆ　非接触吸引保持部材
１８ｇ　三方切換弁（切換手段）
２０　ノズルヘッド
２１　液処理面
２２　現像液供給ノズル（処理液供給手段）
２３　現像液吸引ノズル（処理液吸引手段）
７６　現像液吸引用管路（処理液吸引用管路）
７７　エジェクタ（吸引源）
２００　側部保持体
２０３　取付穴
２０４　保持ピン
２０５　圧縮コイルばね（ばね部材）
２０６　補助保持部材
２１０　エアーシリンダ（接離移動手段）
２３０　保持部材
２３１　第１の保持部
２３２　第２の保持部

Claims (10)

1. 板状の被処理基板を保持する保持手段と、
   上記被処理基板の表面と一定の隙間をおいて相対的に平行移動可能な液処理面を有するノズルヘッドと、
   上記液処理面に設けられ、上記被処理基板表面に帯状に処理液を供給する処理液供給手段と、
   上記液処理面に上記処理液供給手段と平行に設けられ、処理液供給手段から供給された処理液を吸引すると共に、上記被処理基板表面に処理液の流れを形成する処理液吸引手段と、を具備する液処理装置において、
   上記保持手段は、上記処理液吸引手段による吸引により上記被処理基板が浮き上がるのを阻止する浮上り防止手段を具備する、ことを特徴とする液処理装置。
2. 請求項１記載の液処理装置において、
   上記浮上り防止手段は、被処理基板の裏面を吸引により保持する吸引保持部材を具備し、
   上記吸引保持部材を、処理液吸引手段と、吸引源と、処理液吸引手段と吸引源とを接続する処理液吸引用管路とからなる処理液吸引ラインに接続してなる、ことを特徴とする液処理装置。
3. 請求項２記載の液処理装置において、
   上記吸引用管路に、この吸引用管路内の吸引圧を検知する吸引圧検知手段を介設し、この吸引圧検知手段からの検知信号に基づいて被処理基板の保持の有無を検知可能に形成してなる、ことを特徴とする液処理装置。
4. 請求項１ないし３のいずれかに記載の液処理装置において、
   上記浮上り防止手段は、被処理基板を載置する載置部表面との間に隙間をおいて支持する位置決めピンと、吸引源に接続され、上記被処理基板の裏面を吸引により保持する伸縮可能な吸引保持部材とを具備する、ことを特徴とする液処理装置。
5. 請求項１ないし３のいずれかに記載の液処理装置において、
   上記浮上り防止手段は、被処理基板を載置する載置部表面との間に隙間をおいて支持する位置決めピンと、上記被処理基板の裏面との間に隙間を残して被処理基板を吸引する非接触吸引保持部材とを具備する、ことを特徴とする液処理装置。
6. 請求項５記載の液処理装置において、
   上記非接触吸引保持部材に接続する吸引用管路に切換手段を介して逆流防止用流体の供給源を接続してなる、ことを特徴とする液処理装置。
7. 請求項１記載の液処理装置において、
   上記浮上り防止手段は、被処理基板の側辺の三方を包囲すると共に、対向する両側辺を挟持する一対の側部保持体と、これら両側部保持体を対向方向に接離移動する接離移動手段とを具備する、ことを特徴とする液処理装置。
8. 請求項７記載の液処理装置において、
   上記側部保持体は、被処理基板の側面に当接する保持ピンと、この保持ピンを摺動可能に嵌挿する取付穴と、上記保持ピンを常時突出方向に弾性力を付勢するばね部材とを具備する、ことを特徴とする液処理装置。
9. 請求項７記載の液処理装置において、
   上記側部保持体は、被処理基板の側面に当接する保持ピンと、この保持ピンを摺動可能に嵌挿する取付穴と、上記保持ピンを常時突出方向に弾性力を付勢するばね部材と、上記被処理基板の挟持側面と直交する両側面に当接する補助保持部材とを具備する、ことを特徴とする液処理装置。
10. 請求項７記載の液処理装置において、
    上記側部保持体は、被処理基板の対向する側面に当接する第１の保持部と、上記被処理基板の他の対向する側面に当接する第２の保持部とを有する保持部材を具備し、
    上記保持部材を、上記側部保持体に対して水平方向に回動可能に枢着してなる、ことを特徴とする液処理装置。

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