JP3948559B2 - 液処理装置 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、例えばレチクル等のフォトマスク用ガラス基板に処理液を供給して処理する液処理装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、半導体デバイスの製造工程においては、半導体ウエハやＬＣＤ用ガラス基板等（以下にウエハ等という）の表面に例えばレジスト液を塗布し、ステッパー等の露光装置を用いて回路パターンを縮小してレジスト膜を露光し、露光後のウエハ表面に現像液を塗布して現像処理を行うフォトリソグラフィー技術が用いられている。
【０００３】
上記露光処理工程においては、例えばステッパー（縮小投影露光装置）等の露光装置が用いられており、レチクル等のフォトマスクに光を照射し、フォトマスクに描画されている回路パターンの原図を縮小してウエハ上に転写している。
【０００４】
ところで、このフォトマスクの製造工程においても、上記ウエハ等と同様にフォトリソグラフィ技術が用いられており、レジスト塗布工程、露光処理工程、現像処理工程という一連のプロセス工程を経ているが、フォトマスクはウエハ等に回路パターンを投影するための原図であるため、線幅等のパターン寸法は更に高精度が要求される。
【０００５】
ここで、フォトマスクの現像方法には、フォトマスク用のガラス基板をスピンチャック上に吸着保持して低速で回転し、スプレーノズルを用いて現像液をガラス基板上に噴霧状に吐出しながら現像処理を行うスプレー現像という方法がある。
【０００６】
また、ガラス基板とスキャンノズルを相対移動させながら、スキャンノズルから供給される現像液をガラス基板上に液盛りし、静止状態で現像処理を行うパドル現像という方法もある。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、スプレー現像では、現像液と反応して生成された溶解生成物が、回転による遠心力によってガラス基板の辺部や角部に流れるため、この部分で現像液との反応が抑制され、線幅等のパターン寸法が不均一になるという問題があった。
【０００８】
また、パドル現像では、溶解生成物が特定の場所に流れるということはなく、スプレー現像のような問題は生じないが、パターンの幾何学的構造やパターン密度の差異により、溶解生成物の生成量や現像液の濃度が局所的に異なり、エッチング速度等が変化するローディング効果と呼ばれる現象が生じ、回路パターンが不均一になるという問題があった。
【０００９】
この発明は上記事情に鑑みてなされたもので、レチクル等のフォトマスク（被処理基板）に対する欠陥のない均一な現像処理が可能な液処理装置を提供することを目的とするものである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、この発明の第１の液処理装置は、板状の被処理基板を載置する載置手段と、上記載置手段と共働して上記被処理基板を保持する保持手段と、上記保持手段に保持される被処理基板の保持位置を調整可能な保持位置調整手段と、上記保持手段に保持された被処理基板表面に、帯状に処理液を供給する液供給手段と、上記被処理基板と液供給手段とを相対的に平行移動可能な移動手段と、を具備することを特徴とする（請求項１，２）。
【００１１】
また、この発明の第２の液処理装置は、板状の被処理基板を搬入・搬出する受渡部と、上記被処理基板に処理を施す処理部と、上記被処理基板を載置する載置手段と、上記処理部に配設され、上記載置手段と共働して上記被処理基板を保持する保持手段と、上記受渡部と処理部との間で上記載置手段を搬送可能な搬送手段と、上記保持手段に保持される被処理基板の保持位置を調整可能な保持位置調整手段と、上記保持手段に保持された被処理基板表面に、帯状に処理液を供給する液供給手段と、上記被処理基板と液供給手段とを相対的に平行移動可能な移動手段と、を具備することを特徴とする（請求項３，４）。
【００１２】
この発明において、上記受渡部に、上記被処理基板の厚さを検出する厚さ検出手段を配設してなる方が好ましい（請求項５）。
【００１３】
また、上記保持位置調整手段は、保持手段に保持される被処理基板の保持位置を調整可能な構造であれば、任意の構造でよいが、好ましくは、上記保持位置調整手段を、保持手段に設けられ、被処理基板の上面縁部を当接して液供給手段との間隔を調整する当接部と、載置手段の下部に設けられ、上記当接部に上記被処理基板が当接する力を弾性力によって調整可能な押え力調整機構とで構成してなる方がよい（請求項１，３）。
【００１４】
また、この発明において、上記被処理基板の表面に洗浄液を供給可能な洗浄液供給手段を更に具備する方が好ましい（請求項８）。
【００１５】
また、この発明において、液処理装置内の雰囲気を排気可能な排気管路と、廃液を回収する排液管路と、少なくとも保持手段から溢流する廃液を、上記排液管路に回収可能に傾斜する底面を有するドレイン部と、を具備する方が好ましい（請求項９）。
【００１６】
また、この発明において、上記液供給手段は、被処理基板と平行に設けられ、一定の隙間を形成する液処理面を有するノズルヘッドと、上記液処理面に設けられ、上記被処理基板表面に帯状に処理液を供給する処理液供給部と、上記液処理面に処理液供給部と平行に設けられ、上記処理液供給部から供給された処理液を吸引すると共に、上記被処理基板の表面に処理液の流れを形成可能な処理液吸引部と、を具備し、上記ノズルヘッドは、上記被処理基板表面に液切り用気体を供給可能な液切り手段と一体に形成される方が好ましい（請求項２，４）。また、上記液切り手段は、上記被処理基板と相対的に平行移動する方向に対し、一方に傾斜する帯状に液切り用気体を供給可能な吐出口を有するか、あるいは、上記被処理基板と相対的に平行移動する方向に対し、左右双方に傾斜する凸状に液切り用気体を供給可能な吐出口を有する方が好ましい（請求項６，７）。
【００１７】
また、この発明において、上記液供給手段は、被処理基板の表面との間隔を検出可能な間隔検出手段と、上記間隔検出手段の検出信号に基づいて、上記液供給手段を昇降可能な昇降手段とを具備する方が好ましい（請求項１０）。
【００１８】
また、この発明において、上記間隔検出手段を、液供給手段の進行方向前方側に一定の間隔を空けて少なくとも両側を含む複数設けると共に、上記昇降手段を、上記液供給手段の長手方向に一定の間隔を空けて複数設ける方が好ましい（請求項１１）。
【００１９】
また、少なくとも上記液供給手段の処理液供給量及び処理液吸引量と、移動手段の駆動とを制御可能な制御手段を具備する方が好ましい（請求項１２）。
【００２０】
請求項５，１０，１１記載の発明によれば、板状の被処理基板を所定位置に保持した状態で、被処理基板表面の変位情報を検出し、この変位情報に基づいて処理液を供給する液供給手段の高さ位置を調整すると共に、被処理基板と液供給手段とを相対的に平行移動して、被処理基板表面に帯状に処理液を供給することにより、被処理基板表面と液供給手段との隙間を確実に一定にして処理液を供給することができる。
【００２１】
請求項１，３記載の発明によれば、保持手段に保持される被処理基板の保持位置を調整可能な保持位置調整手段を具備するので、保持手段に保持される被処理基板表面と液供給手段との隙間を確実に一定にして処理液を供給することができる。
【００２２】
請求項８記載の発明によれば、被処理基板の表面に洗浄液を供給可能な洗浄液供給手段を具備するので、液処理後、確実に被処理基板を洗浄することができ、被処理基板の処理むらを防止することができる。
【００２３】
請求項９記載の発明によれば、ドレイン部は、液処理装置内の雰囲気を排気する排気管路と、少なくとも保持手段から溢流する廃液を排液管路に回収可能に傾斜する底面を有するので、ドレイン部の底面に廃液が残ることなく、速やかに排気、排液を行うことができ、パーティクル等の発生を抑制することができる。
【００２４】
請求項２，４記載の発明によれば、液供給手段は、被処理基板と平行に設けられ、一定の隙間を形成する液処理面を有するノズルヘッドと、液処理面に設けられ、被処理基板表面に帯状に処理液を供給する処理液供給部と、液処理面に処理液供給部と平行に設けられ、処理液供給部から供給された処理液を吸引すると共に、被処理基板の表面に処理液の流れを形成可能な処理液吸引部と、を具備するので、ローディング効果等を抑えて均一な液処理をすることができる。
【００２５】
請求項２，４，６，７記載の発明によれば、被処理基板に液切り用気体を供給して、被処理基板表面に残留している大量の洗浄液の液切りを行うことができるので、後に行う乾燥工程でミストの発生を抑えることができる。
【００２６】
請求項１２記載の発明によれば、少なくとも液供給手段の処理液供給量及び処理液吸引量と、移動手段の駆動とを制御可能な制御手段を具備するので、被処理基板に最適な液処理をすることができる。
【００２７】
【発明の実施の形態】
以下に、この発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。この実施形態では、この発明の液処理装置を、フォトマスク用の被処理基板、例えばレチクル用のガラス基板Ｇに現像処理を行う現像処理装置に適用した場合について説明する。
【００２８】
現像処理装置は、図１に示すように、レジスト液の塗布及び回路パターンの露光が終了したガラス基板Ｇを装置内に搬入し、または現像処理が終了したガラス基板Ｇを装置外へ搬出する受渡部１と、受渡部１から搬入されたガラス基板Ｇを現像処理する処理部３と、受渡部１と処理部３との間でガラス基板Ｇを搬送する搬送手段２とで主に構成されている。
【００２９】
受渡部１には、ガラス基板Ｇの縁部を支持して上下方向に昇降可能な複数例えば３本の支持ピン（図示せず）がマスクステージ４の内側に設けられ、外部から挿入される搬送アーム等の搬送手段（図示せず）と、後述するマスクステージ４との間でガラス基板Ｇを受け渡し可能に構成されている。
【００３０】
また、受渡部１には、厚さ検出手段例えばレーザ光の反射を利用して距離を測定するレーザ変位計１０１が設けられている。この場合、図１４（ａ）に示すように、ガラス基板Ｇの上方から塗布されているＣｒ層１０２までの距離と、ガラス基板Ｇの下方からガラス基板Ｇの裏面までの距離とを測定して比較演算するか、図１４（ｂ）に示すように、ガラス基板Ｇの下方からガラス基板Ｇの裏面までの距離と、Ｃｒ層１０２までの距離を測定して比較演算することによりガラス基板Ｇの厚さを検出し、ＣＰＵ１００に記憶させることができる。これにより、１００μｍ程度の誤差があるガラス基板Ｇの厚さを正確に検出して、後述する液供給手段６の液処理面６２とガラス基板Ｇ表面との間の変位情報を更に正確に検出することができる。
【００３１】
マスクステージ４は、図２に示すように、ガラス基板Ｇより大きい略正方形に設けられており、載置（保持）されるガラス基板Ｇの露光部分がマスクステージ４に触れないように、マスクステージ４との間に僅かに隙間を設けてガラス基板Ｇの２辺を載置（保持）可能な一対の載置部４１が設けられている。また、各載置部４１には、ガラス基板Ｇが水平方向にずれるのを防止するためにガラス基板Ｇの端部を係止する係止部４２が形成されている。
【００３２】
搬送手段２は、図３に示すように、上記マスクステージ４を受渡部１と処理部３の下方との間でＸ方向に水平に移動可能な搬送機構１２１と、処理部３の下方に搬送されたマスクステージ４を上下方向に移動可能な昇降機構１２６（図４参照）とを具備している。
【００３３】
搬送機構１２１は、例えば受渡部１から処理部３の下方までＸ方向に延びるように設けられるボールねじ機構１２２と、このボールねじ機構１２２の両側に平行に設けられるマスクステージ用ガイドレール１２３と、後述する昇降機構１２６を上部に設けた搬送用載置台１２４（図４参照）とで構成され、例えばモータやエアシリンダ等の動力源１２５からの駆動力によりマスクステージ４を図中Ｘ方向に移動させることができる。この場合、マスクステージ４と共に移動し、ボールねじ機構１２２に清浄な空気をダウンフローさせて排気口に流すことができるノズル（図示せず）を取り付けるようにすれば、パーティクルがガラス基板Ｇに付着するのを防止することができるので好ましい。
【００３４】
また、昇降機構１２６は、図４に示すように、搬送用載置台１２４の上部に設けられ、例えばエアシリンダ等の駆動により、マスクステージ４を図中上下方向に移動して、マスクステージ４を後述するノズルステージ５（保持手段）に昇降可能に形成されている。
【００３５】
処理部３は、図５に示すように、ガラス基板Ｇをマスクステージ４と共働して保持するノズルステージ５と、ノズルステージ５に保持されるガラス基板Ｇの保持位置を調整可能な保持位置調整手段１１０（図７参照）と、ガラス基板Ｇに現像液を供給（吐出、塗布）する液供給手段６と、この液供給手段６をノズルステージ５上のガラス基板Ｇに対し相対的に平行移動可能なスキャン機構７と、現像処理後のガラス基板Ｇを洗浄するリンスノズル８と、現像処理に用いられた処理液を排出するドレインパン９と、リンス後のガラス基板Ｇを乾燥する乾燥手段である例えばエアブローノズル１０とで主に構成されている。
【００３６】
ノズルステージ５は、図５に示すように、中央にガラス基板Ｇをマスクステージ４と共働して保持可能な嵌合部５１を有しており、ノズルステージ５上で液供給手段６を平行移動しながら現像液を供給可能に形成されている。
【００３７】
保持位置調整手段１１０は、図５ないし図７に示すように、ノズルステージ５の嵌合部５１のＸ方向に延びる２辺の上部に設けられ、ガラス基板Ｇの対向する上面縁部を当接して、液供給手段６との間隔を調整する当接部、例えば一対の押え板５２と、マスクステージ４の下面と昇降機構１２６の昇降部１２６ａとの間に縮設され、押え板５２にガラス基板Ｇが当接する力を弾性力によって調整可能な押え力調整機構、例えばばね１２７とで構成されている。このように保持位置調整手段１１０を設けることにより、ばね１２７でガラス基板Ｇを押え板５２に当て、液供給手段６とガラス基板Ｇとの間に一定の隙間を形成することができる。この場合、更に精度良く隙間を形成するには、後述する液供給手段６の高さを調整することにより行う。
【００３８】
なお、ばね１２７の代わりに、例えば気体の弾性力を利用した圧力調整用エアシリンダ等を用いてもよい。
【００３９】
なお、保持位置調整手段を、押え板５２とばね１２７とで構成する代わりに、図８に示すように、昇降機構１２６の昇降部１２６ａ上部に、ガラス基板Ｇの周縁下部を支持する伸縮可能な複数の支持手段、例えば３本の支持ピン１１１を設けるようにしてもよい。この場合、それぞれの支持ピン１１１に高さ調整用の駆動装置例えばボールねじ機構等を設け、液供給手段６とガラス基板Ｇとの間隔を検出可能な後述する間隔検出手段例えばレーザ変位計７８によって得られたデータに基づいて支持ピン１１１を伸縮し、ガラス基板Ｇの高さや傾きを微調整可能に形成することができる。
【００４０】
液供給手段６は、図９に示すように、ガラス基板Ｇのパターン形成領域の幅と同じかそれ以上の長さに形成されると共に、ガラス基板と一定の隙間を空けて相対的に平行移動可能な液処理面６２を有する略直方体状のノズルヘッド６１と、液処理面６２に設けられ、ガラス基板Ｇに帯状に現像液を供給（吐出、塗布）する現像液供給ノズル６３（処理液供給部）と、液処理面６２に現像液供給ノズル６３と平行に設けられ、現像液供給ノズル６３が供給した現像液を吸引し、ガラス基板Ｇの表面に現像液の流れを形成する現像液吸引ノズル６４（以下に吸引ノズル６４という）｛処理液吸引部｝と、吸引ノズル６４を挟んで現像液供給ノズル６３と対向する位置に設けられ、ガラス基板Ｇの表面に例えば純水等のリンス液（洗浄液）を供給（吐出、塗布）するサイドリンスノズル６５とを具備している。
【００４１】
また、液供給手段６は、図１５に示すように、ノズルヘッド６１に、連結金具１６９を介して液切りノズル１６５（液切り手段）を一体的に設けてもよい。液切りノズル１６５は、ガラス基板Ｇの幅と同じかそれ以上の長さに形成される略直方体上の液切り用ノズルヘッド１６６と、ガラス基板Ｇに帯状に液切りガス例えばエアを供給（吐出）可能なスリット状の吐出口１６４とを具備してなる。また、液切りノズル１６５は、図１６に示すように、エア供給管路１６３を介してエアを供給するエア供給源１６１と接続されており、エアを圧送する圧送手段例えばポンプ１６２と、エア供給管路１６３を開閉する開閉弁Ｖ５とを具備してなる。液切りノズル１６５をこのように構成することにより、吐出口１６４からリンス処理後のガラス基板Ｇの表面にエアを吹き付けて、ガラス基板Ｇ上に残留している大量のリンス液の液切りを行うことができ、先に液切りを行っておくことで、後述する乾燥工程でミストの発生を抑えることができる。この際、発生するミストは装置の上部に設けられる図示しない例えばファン等によるダウンフローによって舞上がりを防止すると共に、現像液処理装置の側面に局所排気用のダクト（図示せず）を設け、そこに吸引可能な構造とする方が好ましい。
【００４２】
また、液切りノズル１６５は、図１７（ａ）に示すように、吐出口１６４が、ガラス基板Ｇと相対的に平行移動する方向に対し、一方に傾斜する帯状にエアを供給可能に設ければ、ガラス基板Ｇ上に残留している液がガラス基板Ｇの中央に淀むことがなく、確実にガラス基板Ｇ表面の液切りを行うことができる。
【００４３】
また、液切りノズル１６５は、図１７（ｂ）に示すように、くの字状の吐出口１６４ｂを有する液切り用ノズルヘッド１６６Ｂにて構成するか、あるいは、図１７（ｃ）に示すように、円弧状の吐出口１６４ｃを有する液切り用ノズルヘッド１６６Ｃにて構成し、ガラス基板Ｇと相対的に平行移動する方向に対し、左右双方に傾斜する凸状にエアを供給可能に形成することによっても、ガラス基板Ｇ上に残留している液がガラス基板Ｇの中央に淀むことがなく、確実にガラス基板Ｇの表面を液切りすることができる。
【００４４】
なお、液切りノズル１６５は、スリット状のものに限らず、例えば、エアを吐出可能な複数の吐出口を長手方向に設けるものでもよい。
【００４５】
現像液供給ノズル６３は、図９に示すように、泡抜き等を行うため一旦現像液を収容する収容部１１をノズルヘッド６１内に有しており、現像液が貯留される現像液タンク１２（現像液供給源）から現像液を供給する現像液供給管路１３と、収容部１１の現像液の泡抜きを行う泡抜き管路１４（図１０参照）とに接続されている。
【００４６】
また、現像液供給管路１３には、現像液の温度を調節する温度調節機構１５と、現像液を圧送する図示しない圧送手段例えばポンプと、現像液供給管路内の現像液の流量を検出する現像液流量計１３０とが設けられており、例えば圧縮空気によって開閉を制御されるエアオペレーションバルブ等の開閉弁Ｖ１によって現像液の流量調節が可能に形成されている。
【００４７】
温度調節機構１５は、図９に示すように、現像液供給管路１３とノズルヘッド６１との接続部に設けられ、現像液供給管路１３が温度調節管路１６内を通るように形成される二重管構造となっている。また、温度調節管路１６は、現像液供給管路１３内を上方から下方へ流れる現像液に対し、ヒータ１７等で温調された液体例えば純水を循環手段例えば循環ポンプ１８により温度調節管路１６内を下方から上方へ循環するように構成されている。このように構成することにより、現像液の温度を調節することができるので、現像液の粘度及びエッチング速度（処理速度、反応速度）等を一定にすることができ、更に均一な現像処理を行うことができる。
【００４８】
泡抜き管路１４は、図１０に示すように、ノズルヘッド６１の上部から収容部１１に接続されており、現像液中に気泡が混入しないように、図示しない排気手段によって泡抜きをすることができるように構成されている。
【００４９】
また、現像液供給ノズル６３は、図１１及び図１２に示すように、現像液供給ノズル６３の長手方向に例えば１mmピッチで等間隔に設けられる複数の供給孔２０と、これら供給孔２０の下部に連通され現像液供給ノズル６３の長手方向に設けられる例えば１mm幅のスリット２１と、スリット２１の下部に連通され現像液をガラス基板Ｇに供給（吐出、塗布）する拡開テーパ状の現像液供給口２２と、この現像液供給口２２内の長手方向に設けられ、均一に現像液を吐出する円柱状の石英棒２３とで構成されている。
【００５０】
現像液供給ノズル６３を、このように構成することにより、供給孔２０から流出する現像液は、スリット２１で合流した後、現像液供給口２２の壁面を伝って流れる一方、石英棒２３の表面で拡散させることができる。したがって、スリット２１で供給孔による現像液の吐出むらを防止し、石英棒２３でガラス基板Ｇに均一に現像液を供給（吐出、塗布）することができ、現像液供給ノズルと後述する吸引ノズル６４との間に均一な現像液の流れを形成して、均一な現像処理をすることができる。
【００５１】
吸引ノズル６４は、図１２に示すように、現像液やリンス液等の現像処理に用いられた処理液（廃液）を吸引するスリット状の吸引口３５が、現像液供給ノズル６３の液処理面６２の移動方向両側に平行に設けられている。ここで、吸引口３５の長手方向の長さは、現像液供給ノズル６３両端からの現像液の染み出しを防ぐため、現像液供給口２２の長手方向の長さより長く形成される方が好ましい。また、吸引口３５のスリットは、幅が広過ぎると吸引口３５付近で現像状態が悪くなるため、供給された現像液をサイドリンスノズル６５側に漏らさないように吸引できる範囲で可及的に狭く形成される方が好ましい。更に、吸引ノズル６４は、現像液供給ノズル６３から供給され、現像処理に供された現像液を円滑に吸引し、均一な現像液の流れを形成するため、図９に示すように、吸引口３５を現像液供給口２２側に向くように形成する方が好ましい。
【００５２】
また、吸引ノズル６４は、図９に示すように、吸引管路３０を介して、吸引口３５が吸引する現像液やリンス液等の廃液の吸引量を調節可能な減圧機構例えばエジェクタ３１と、液供給手段６の移動方向前方側及び後方側の各吸引口３５それぞれの吸引量を検出可能な吸引流量計１５０と、吸引管路３０の開閉を行い吸引量を調節する、例えば圧縮空気によって開閉を制御されるエアオペレーションバルブ等の開閉弁Ｖ２，Ｖ３と、吸引した廃液を気体と液体に分離して回収するトラップタンク３２と、このトラップタンク３２の圧力を検出可能な圧力センサ３３と、トラップタンク３２内に回収された廃液を回収する廃液タンク３４とで構成される吸引部２００に接続されている。この場合、吸引管路３０を吸引ノズル６４の上端から吸引すると、その部分の直下の吸引口３５付近で現像液の流れが特異になり、現像処理が不均一になる恐れがあるため、吸引管路３０は、ガラス基板Ｇのパターン形成領域から外れる位置の上端に設けるか、又は、吸引ノズル６４の両側端に設ける方が好ましい。
【００５３】
なお、上記吸引部２００は、エジェクタ３１、トラップタンク３２及び圧力センサ３３を用いる代わりに、吸引口が吸引する廃液の吸引量を調節可能な吸引手段例えば吸引ポンプを用いることも可能である。
【００５４】
サイドリンスノズル６５は、図１２に示すように、吸引ノズル６４を挟んで現像液供給ノズル６３と対向する位置に平行に設けられており、スリット状のリンス液供給口３６から液処理面６２とガラス基板Ｇとの間に例えば純水等のリンス液を供給可能に形成されている。
【００５５】
また、サイドリンスノズル６５は、図９に示すように、リンス液供給管路３７を介してリンス液供給源例えばリンス液供給タンク３８に接続されており、リンス液供給管路３７には、現像液供給管路１３と同様に、リンス液の温度を調節する温度調節機構３９と、リンス液を圧送する図示しないポンプ等の圧送手段と、リンス液供給管路３７内のリンス液の流量を検出するリンス液流量計１４０と、圧縮空気等によって開閉制御されるエアオペレーションバルブ等の開閉弁Ｖ４とが設けられている。
【００５６】
このように構成することにより、サイドリンスノズル６５が供給したリンス液の一部を吸引ノズル６４が吸引し、現像液が吸引ノズル６４からサイドリンスノズル６５側へ広がるのを防止することができるので、ガラス基板Ｇ上の現像液の幅を一定にすることができ、現像時間を一定にして均一な現像処理を行うことができる。勿論、ガラス基板Ｇ上のパーティクル等を除去することもできる。
【００５７】
なお、サイドリンスノズル６５は、ノズルヘッド６１と分離して設けることも可能である。
【００５８】
スキャン機構７は、図５に示すように、図面上Ｘ方向に平行に２本設けられる液供給手段用ガイドレール７１と、液供給手段６を嵌合し、液供給手段用ガイドレール７１上をノズル待機位置７２（図中液供給手段６のある位置）とガラス基板Ｇとの間でＸ方向に移動可能なスキャンベース部７６と、モータ７５等の駆動手段により駆動可能に形成されるボールねじ機構７３と、スキャンベース部７６の一端に接続され、ボールねじ機構７３の駆動力を伝えるスキャンアーム７４とで構成されている。
【００５９】
また、スキャンベース部７６は、液供給手段６とガラス基板Ｇとの間隔を検出可能な間隔検出手段例えばレーザ変位計７８と、レーザ変位計７８の検出信号に基づいて、液供給手段６を昇降可能な例えばモータＭとボールねじ機構１７７等により構成される昇降機構７７(昇降手段)とを具備している（図２０参照）。したがって、液供給手段６とガラス基板Ｇとの間に一定の隙間例えば１mm〜５０μｍの隙間を精度良く形成することができる。
【００６０】
この場合、レーザ変位計７８と昇降機構７７は、スキャンベース部７６の中央部にそれぞれ単独で設けてもよいが、図５に示すように、２つのレーザ変位計７８ａ，７８ｂを、液供給手段６の進行方向前方側に一定の間隔を空けて設けると共に、２つの昇降機構７７ａ，７７ｂを、液供給手段の長手方向に一定の間隔を空けて設ける方が好ましい。このようにすれば、レーザ変位計７８ａ，７８ｂの検出信号を比較して、液供給手段６とガラス基板Ｇとの間隔のみならず、ガラス基板Ｇの傾きも検出することができるので、２つの昇降機構７７ａ，７７ｂにより液供給手段６の高さ及び傾きを制御することができ、液供給手段６とガラス基板Ｇとの間に更に高精度に隙間を形成することができる。なお、レーザ変位計７８の数は、少なくとも左右両側に２つ設けられていれば３以上の複数であってもよい。
【００６１】
ノズル待機位置７２には、図１８（ａ）に示すように、リンス液供給口７９ａからリンス液を供給してオーバーフローさせながら液供給手段６の液処理面６２及び側面を洗浄可能なノズル洗浄機構例えば容器状のノズル洗浄バス７９が設けられている。また、ノズル洗浄バス７９は、図示しない昇降手段、例えばボールねじ機構やエアシリンダ等により昇降可能に形成されており、液供給手段６がノズル待機位置７２の上方に来ると、ノズル洗浄バス７９を上昇してノズル洗浄バス７９の底面７９ｂと液処理面６２との隙間を狭い状態例えば１ｍｍに保ち、液供給手段６をノズル洗浄バス７９内で洗浄可能に形成されている。また、図１８（ｂ）に示すように、液供給手段６の２つのサイドリンスノズル６５のいずれか一方からリンス液を供給してノズル洗浄バス７９からオーバーフローさせると共に、そのリンス液の一部を、現像液供給ノズル６３を挟む側の吸引ノズル６４が吸引するように構成すれば、現像液供給ノズル６３の下部にリンス液の流れを形成することができるので、更に確実に現像液供給ノズル６３の洗浄を行うことができる。
【００６２】
リンスノズル８は、図５に示すように、ドレインパン９の外側に設けられるベース部８１の上端から水平のＹ方向にノズルステージ５の中心付近まで延びるアーム部８２の先端に吊持されており、ノズルステージ５の中心付近に例えば純水等のリンス液を供給（吐出・滴下）可能に構成されている。また、ベース部８１は、図示しないエアシリンダ等の昇降手段を有しており、リンス処理時には、ノズルステージ５上のガラス基板Ｇに衝撃を与えない高さまで下降してリンス液を供給（吐出・滴下）し、現像処理中には、ノズルステージ５上を移動する液供給手段６と干渉しない高さまで上昇して待機できるように構成されている。
【００６３】
なお、リンスノズル８は、ベース部８１の下部に図示しないリンスノズル用ガイドレールと、ボールねじ機構とを設けることにより、例えばモータ等の動力源からの駆動力により移動可能に形成し、ガラス基板Ｇ上をスキャンさせてリンス処理を行えるように構成することもできる。
【００６４】
ドレインパン９は、図１３（ａ）に示すように、受渡部１及び処理部３を囲う箱状に形成されており、ノズルステージ５から溢流した現像液やリンス液等の処理液（廃液）を回収する排液口９１を有する排液管路９２と、現像処理装置内の少なくとも液供給手段用ガイドレール７１やボールねじ機構７３の下部に設けられ、発生するパーティクル等を排気する排気口９３を有する排気管路９４とを具備している。また、ドレインパン９の底面９５は、図１３（ｂ）に示すように、排液口９１が最も低くなるように傾斜して設けられており、処理液（廃液）が排液口９１に円滑に流れるように形成されている。排液口９１に流れた廃液は排液管路９２を介してドレインパン９の下方に設けられる図示しない回収タンクに回収される。
【００６５】
エアブローノズル１０（乾燥手段）は、図５に示すように、受渡部１と処理部３との間に設けられている。また、エアブローノズル１０は、図１９に示すように、エア供給管路１７３を介してエアを供給するエア供給源１７１と接続されており、エアを圧送する圧送手段例えばポンプ１７２と、エア供給管路１７３を開閉する開閉弁Ｖ６とを具備し、上述した液切りノズル１６５と同じか、それ以上の圧力でエアブローを行うことができるように構成されている。
【００６６】
エアブローノズル１０をこのように構成することにより、ガラス基板Ｇが載置されたマスクステージ４を搬送機構１２１によって移動させると共に、スリット状の吐出口１０ａからリンス処理後のガラス基板Ｇの表面に帯状にエアを吹き付けて、ガラス基板Ｇ上に残留している液を吹き飛ばして乾燥することができる。この際、先に液切りノズル１６５によって液切りが行われているので、エアブローノズル１０によって高い圧力のエアをガラス基板Ｇ表面に当ててもミストの舞い上がりは少なく、再付着による欠陥のない均一な現像処理を行うことができる。
【００６７】
なお、発生するミストは、装置の上部に設けられる図示しない例えばファン等によるダウンフローによって舞上がりを防止すると共に、現像液処理装置の側面に局所排気用のダクト（図示せず）を設け、そこに吸引可能な構造とする方が好ましい。
【００６８】
また、エアブローノズルはスリット状のものに限らず、例えば、エアを吐出可能な複数の吐出孔を長手方向に設けるものでもよい。
【００６９】
また、エアブローノズル１０をガラス基板Ｇの上方に水平移動可能なエアブローノズルスキャンアームを設け、マスクステージ４を移動させる代わりにエアブローノズル１０を水平方向に移動してガラス基板Ｇにエアを吹き付けて乾燥するように構成することも可能である。
【００７０】
また、液供給手段６及びスキャン機構７は、制御手段例えばＣＰＵ１００に電気的に接続されており、現像液流量計１３０、リンス液流量計１４０、吸引流量計１５０、圧力センサ３３、レーザ変位計（間隔検出手段）等の検出信号と、予め記憶された情報とに基づいて、バルブＶ１，Ｖ２，Ｖ３，Ｖ４、液処理面６２とガラス基板Ｇとの距離（間隔）及び傾き、液供給手段６のスキャンスピード等を制御可能に構成されている。
【００７１】
以下に、上記のように構成される現像処理装置を用いた現像処理方法について説明する。
【００７２】
まず、受渡部１から図示しない搬送アーム等により搬入されたガラス基板Ｇは、厚さ検出手段１０１によってガラス基板Ｇの厚さを検出し、その情報をＣＰＵ１００に記憶した後、マスクステージ４の載置部４１に載置され、搬送機構１２１によってノズルステージ５の下方に搬送される。次いで、昇降機構１２６によって、ノズルステージ５の嵌合部５１まで搬送される。
【００７３】
ノズルステージ５では、押え板５２がガラス基板Ｇの端部２辺の上面を当接することにより、ガラス基板Ｇと液供給手段６の液処理面６２との間に正確に一定の隙間を形成して、ガラス基板Ｇを固定する。この時、押え板５２にガラス基板Ｇが当接する力は、ばね１２７の弾性力によって調整される。
【００７４】
ノズルステージ５にガラス基板Ｇが固定されると、ＣＰＵ１００の制御信号によりスキャン機構７は、液供給手段６をノズル待機位置７２からスキャン開始位置まで移動する。このスキャン開始位置に達すると、ガラス基板Ｇに予め所定温度に温調されたリンス液を供給（吐出、塗布）しつつスキャンさせて、ガラス基板Ｇの表面全体にリンス液を塗布する（プリウエット工程）。これにより、液処理装置６とガラス基板Ｇとの間に空気が入り込むのを防止することができる。
【００７５】
プリウエット工程が終了すると、液供給手段６は、レーザ変位計１０１により検出されたガラス基板Ｇの厚さデータに基いてスキャンし、ガラス基板Ｇと液処理面６２との間隔をレーザ変位計７８ａ，７８ｂにより検出しながらスキャン開始位置まで戻る。検出された変位情報はＣＰＵ１００に記憶される。
【００７６】
なお、上記説明では、プリウエット工程終了後に変位情報を検出しているが、変位情報の検出方法はこれに限らず、レーザ変位計７８を、液供給手段６の進行方向後方側に設けて、プリウエット工程と同時に行うことも可能である。
【００７７】
液供給手段６がスキャン開始位置に戻ると、ＣＰＵ１００は、液供給手段６のスキャンスピードを現像時間が確保できる速度に制御すると共に、開閉弁Ｖ１，Ｖ２，Ｖ３，Ｖ４の開口度を制御して、液処理面６２とガラス基板Ｇとの間に、一定幅の現像液の流れを形成し得るように、現像液及びリンス液（純水）の供給（吐出、塗布）及び吸引を開始する。なお、ＣＰＵ１００は、現像液が所定幅以上に広がるのを防止するため、リンス液の供給（吐出、塗布）及び吸引よりも現像液の供給（吐出、塗布）を若干遅く開始するように制御してもよい。
【００７８】
液供給手段６による現像液及びリンス液の供給（吐出、塗布）及び吸引はスキャン開始から終了まで断続的に実行される。この際、ガラス基板Ｇと液処理面６２との間隔や傾き等の変位情報が、ＣＰＵ１００に記憶された検出情報と予め記憶された情報とに基いて比較演算され、昇降機構７７ａ，７７ｂによって、液供給手段６の高さ及び傾きが、現像液が吸引ノズル６４の位置からサイドリンスノズル６５側に染み出さず、且つ現像液の流速を高速に保つことができる高さ、例えば１ｍｍ〜５０μｍ程度になるように調整される。
【００７９】
なお、液供給手段６の高さや傾きの位置調整は、現像処理を行いながら行うことも可能である。この場合は、液供給手段６とガラス基板Ｇ表面との間隔や傾き等の変位情報を、レーザ変位計７８ａ，７８ｂによって検出しながら、ＣＰＵ１００に予め記憶されている情報と比較演算し、逐次位置を調整して現像処理を行えばよい。
【００８０】
現像処理が終了すると、リンスノズル８がリンス液供給時にガラス基板Ｇに衝撃を与えない位置まで下降し、例えば純水等のリンス液をガラス基板Ｇ上に供給（吐出）することによりリンス処理を行う。この場合、リンスノズルを用いずに、現像液供給ノズル６３をノズル待機位置７２まで逆方向に移動しながら、サイドリンスノズル６５からリンス液を吐出（供給）してリンス処理することもできる。
【００８１】
また、リンス処理終了後、液切りノズル１６５を作動させ、液供給手段６をノズル待機位置７２に戻しつつ、ガラス基板Ｇの表面に、リンス液を吹き飛ばさず、液を切る程度の圧力でエアを供給し、ガラス基板Ｇ表面の液切りを行う。
【００８２】
また、液供給手段６がノズル待機位置７２の上方に戻ると、ノズル洗浄バス７９が上昇し、リンス液がオーバーフローされて、液供給手段６の液処理面６２及び側面の洗浄を行う。
【００８３】
リンス処理が終了すると、マスクステージ４は、昇降機構１２６によりノズルステージ５の嵌合部５１から下降した後、搬送機構１２１によって受渡部に搬送される。この際、エアブローノズル１０を作動させ、ガラス基板Ｇの両面にエアを吹き付けながらマスクステージ４を移動して、ガラス基板Ｇ上のリンス液を吹き飛ばし乾燥させる。なお、このときに発生するミストは、装置のダウンフローにより排出すると共に、ドレインパン９の側面に図示しない局所排気用のダクトを設けて吸引する。
【００８４】
マスクステージ４が、受渡部１に搬送されると、装置外から挿入される搬送手段例えば搬送アームによりガラス基板Ｇは搬出されて処理が終了する。
【００８５】
なお、現像処理中に、現像液流量計１３０、リンス液流量計１４０及び吸引流量計１５０の検出情報と、予め記憶された情報とに基づいて、ＣＰＵ１００が開閉弁Ｖ１，Ｖ２，Ｖ３，Ｖ４を制御するように構成することもできる。
【００８６】
この場合、吸引ノズル６４を、移動方向前方側の吸引量が移動方向後方側の吸引量より大きくなるように制御すれば、溶解生成物の発生量が多い前方側により多くの新鮮な現像液を供給することができると共に、現像液の流れを速くして溶解生成物を除去することができるので、更に均一な現像処理を行うことができる。
【００８７】
なお、上記説明では、この発明の液処理装置を、レチクル用のガラス基板Ｇの現像処理装置に適用する場合について説明したが、これに限らず、ウエハやＬＣＤ等の現像処理装置に適用することも勿論可能である。
【００８８】
【発明の効果】
以上に説明したように、この発明によれば、上記のように構成されているので、以下のような効果が得られる。
【００８９】
１）請求項５，１０，１１記載の発明によれば、板状の被処理基板を所定位置に保持した状態で、被処理基板表面の変位情報を検出し、この変位情報に基づいて処理液を供給する液供給手段の高さ位置を調整すると共に、被処理基板と液供給手段とを相対的に平行移動して、被処理基板表面に帯状に処理液を供給するので、被処理基板表面と液供給手段との隙間を確実に一定にして処理液を供給することができ、更に均一な液処理をすることができる。
【００９０】
２）請求項１，３記載の発明によれば、保持手段に保持される被処理基板の保持位置を調整可能な保持位置調整手段を具備するので、保持手段に保持される被処理基板表面と液供給手段との隙間を確実に一定にして処理液を供給することができ、被処理基板の液処理を均一にすることができる。
【００９１】
３）請求項８記載の発明によれば、被処理基板の表面に洗浄液を供給可能な洗浄液供給手段を具備するので、上記２）に加えて液処理後、確実に被処理基板を洗浄することができ、被処理基板の処理むらを防止して、更に均一な液処理をすることができる。
【００９２】
４）請求項９記載の発明によれば、ドレイン部は、液処理装置内の雰囲気を排気可能な排気管路と、少なくとも保持手段から溢流する廃液を排液管路に回収可能に傾斜する底面とを有するので、上記２），３）に加えてドレイン部の底面に廃液が残ることなく、速やかに排気、排液を行うことができ、パーティクル等の発生を抑制することができる。
【００９３】
５）請求項２，４記載の発明によれば、液供給手段は、被処理基板と平行に設けられ、一定の隙間を形成する液処理面を有するノズルヘッドと、液処理面に設けられ、被処理基板表面に帯状に処理液を供給する処理液供給部と、液処理面に処理液供給部と平行に設けられ、処理液供給部から供給された処理液を吸引すると共に、被処理基板の表面に処理液の流れを形成可能な処理液吸引部と、を具備するので、ローディング効果等を抑えて均一な液処理をすることができる。
【００９４】
６）請求項２，４，６，７記載の発明によれば、被処理基板に液切り用気体を供給して、被処理基板表面に残留している大量の洗浄液の液切りを行うことができるので、後に行う乾燥工程でミストの発生を抑えることができ、上記５）に加えて更に均一な液処理をすることができる。
【００９５】
７）請求項１２記載の発明によれば、少なくとも液供給手段の処理液供給量及び処理液吸引量と、移動手段の駆動とを制御可能な制御手段を具備するので、上記５）に加えて最適な液処理を施して、更に均一な液処理をすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 この発明の現像処理装置を示す概略構成図である。
【図２】 マスクステージを示す概略斜視図である。
【図３】 搬送手段を示す概略平面図である。
【図４】 昇降機構を示す概略正面図である。
【図５】 この発明の現像処理装置の処理部を示す概略平面図である。
【図６】 この発明の現像処理装置を示す概略正面図である。
【図７】 この発明における保持位置調整手段の構成を示す概略斜視図である。
【図８】 この発明における保持位置調整手段の別の構成を参考例として示す概略斜視図である。
【図９】 この発明における液供給手段の構成を示す概略断面図である。
【図１０】 この発明における液供給手段を示す概略斜視図である。
【図１１】 この発明における処理液供給部の要部を示す概略断面図（ａ）及びそのＩ−Ｉ線に沿う概略断面図（ｂ）である。
【図１２】 この発明における処理液供給部の構成を示す概略断面図（ａ）及びこの発明に係る液処理面を示す概略平面図（ｂ）である。
【図１３】 現像処理装置のドレインパンの構成を示す概略平面図（ａ）及びそのＩＩ−ＩＩ線に沿う概略断面図（ｂ）である。
【図１４】 この発明における厚さ検出手段を示す概略断面図である。
【図１５】 この発明における液切り手段の構成を示す概略平面図である。
【図１６】 この発明における液切り手段の構成を示す概略断面図である。
【図１７】 この発明における液切り手段の別の構成を示す概略平面図である。
【図１８】 ノズル洗浄バスの異なる構成を示す概略断面図である。
【図１９】 この発明における乾燥手段を示す概略正面図である。
【図２０】 この発明における昇降手段の構成を示す概略正面図である。
【符号の説明】
Ｇ ガラス基板（被処理基板）
１ 受渡部
２ 搬送手段
３ 処理部
４ マスクステージ（載置手段）
５ ノズルステージ（保持手段）
６ 液供給手段
７ スキャン機構（移動手段）
８ リンスノズル（洗浄液供給手段）
９ ドレインパン（ドレイン部）
１０ エアブローノズル（乾燥手段）
５２ 押え板（当接部）｛保持位置調整手段｝
６１ ノズルヘッド
６２ 液処理面
６３ 現像液供給ノズル（処理液供給部）
６４ 現像液吸引ノズル（処理液吸引部）
７７，７７ａ，７７ｂ 昇降機構（昇降手段）
７８，７８ａ，７８ｂ レーザ変位計（間隔検出手段）
９２ 排液管路
９４ 排気管路
９５ 底面
１００ ＣＰＵ（制御手段）
１０１ レーザ変位計（厚さ検出手段）
１１０ 保持位置調整手段
１１１ 支持ピン（支持手段）｛保持位置調整手段｝
１２７ ばね（押え力調整機構）｛保持位置調整手段｝
１６４，１６４ｂ，１６４ｃ 吐出口
１６５ 液切りノズル（液切り手段）

Claims (12)

1. 板状の被処理基板を載置する載置手段と、
   上記載置手段と共働して上記被処理基板を保持する保持手段と、
   上記保持手段に保持される被処理基板の保持位置を調整可能な保持位置調整手段と、
   上記保持手段に保持された被処理基板表面に、帯状に処理液を供給する液供給手段と、
   上記被処理基板と液供給手段とを相対的に平行移動可能な移動手段と、を具備し、
   上記保持位置調整手段を、上記保持手段に設けられ、被処理基板の上面縁部を当接して上記液供給手段との間隔を調整する当接部と、上記載置手段の下部に設けられ、上記当接部に上記被処理基板が当接する力を弾性力によって調整可能な押え力調整機構とで構成してなることを特徴とする液処理装置。
2. 板状の被処理基板を載置する載置手段と、
   上記載置手段と共働して上記被処理基板を保持する保持手段と、
   上記保持手段に保持される被処理基板の保持位置を調整可能な保持位置調整手段と、
   上記保持手段に保持された被処理基板表面に、帯状に処理液を供給する液供給手段と、
   上記被処理基板と液供給手段とを相対的に平行移動可能な移動手段と、を具備し、
   上記液供給手段は、上記被処理基板と平行に設けられ、一定の隙間を形成する液処理面を有するノズルヘッドと、上記液処理面に設けられ、上記被処理基板表面に帯状に処理液を供給する処理液供給部と、上記液処理面に処理液供給部と平行に設けられ、上記処理液供給部から供給された処理液を吸引すると共に、上記被処理基板の表面に処理液の流れを形成可能な処理液吸引部と、を具備し、
   上記ノズルヘッドは、上記被処理基板表面に液切り用気体を供給可能な液切り手段と一体に形成されることを特徴とする液処理装置。
3. 板状の被処理基板を搬入・搬出する受渡部と、
   上記被処理基板に処理を施す処理部と、
   上記被処理基板を載置する載置手段と、
   上記処理部に配設され、上記載置手段と共働して上記被処理基板を保持する保持手段と、
   上記受渡部と処理部との間で上記載置手段を搬送可能な搬送手段と、
   上記保持手段に保持される被処理基板の保持位置を調整可能な保持位置調整手段と、
   上記保持手段に保持された被処理基板表面に、帯状に処理液を供給する液供給手段と、
   上記被処理基板と液供給手段とを相対的に平行移動可能な移動手段と、を具備し、
   上記保持位置調整手段を、上記保持手段に設けられ、被処理基板の上面縁部を当接して上記液供給手段との間隔を調整する当接部と、上記載置手段の下部に設けられ、上記当接部に上記被処理基板が当接する力を弾性力によって調整可能な押え力調整機構とで構成してなることを特徴とする液処理装置。
4. 板状の被処理基板を搬入・搬出する受渡部と、
   上記被処理基板に処理を施す処理部と、
   上記被処理基板を載置する載置手段と、
   上記処理部に配設され、上記載置手段と共働して上記被処理基板を保持する保持手段と、
   上記受渡部と処理部との間で上記載置手段を搬送可能な搬送手段と、
   上記保持手段に保持される被処理基板の保持位置を調整可能な保持位置調整手段と、
   上記保持手段に保持された被処理基板表面に、帯状に処理液を供給する液供給手段と、
   上記被処理基板と液供給手段とを相対的に平行移動可能な移動手段と、を具備し、
   上記液供給手段は、上記被処理基板と平行に設けられ、一定の隙間を形成する液処理面を有するノズルヘッドと、上記液処理面に設けられ、上記被処理基板表面に帯状に処理液を供給する処理液供給部と、上記液処理面に処理液供給部と平行に設けられ、上記処理液供給部から供給された処理液を吸引すると共に、上記被処理基板の表面に処理液の流れを形成可能な処理液吸引部と、を具備し、
   上記ノズルヘッドは、上記被処理基板表面に液切り用気体を供給可能な液切り手段と一体に形成されることを特徴とする液処理装置。
5. 請求項３又は４記載の液処理装置において、
   上記受渡部に、上記被処理基板の厚さを検出する厚さ検出手段を配設してなることを特徴とする液処理装置。
6. 請求項２又は４記載の液処理装置において、
   上記液切り手段は、上記被処理基板と相対的に平行移動する方向に対し、一方に傾斜する帯状に液切り用気体を供給可能な吐出口を有することを特徴とする液処理装置。
7. 請求項２又は４記載の液処理装置において、
   上記液切り手段は、上記被処理基板と相対的に平行移動する方向に対し、左右双方に傾斜する凸状に液切り用気体を供給可能な吐出口を有することを特徴とする液処理装置。
8. 請求項１ないし７のいずれかに記載の液処理装置において、
   上記被処理基板の表面に洗浄液を供給可能な洗浄液供給手段を具備することを特徴とする液処理装置。
9. 請求項１ないし８のいずれかに記載の液処理装置において、
   液処理装置内の雰囲気を排気可能な排気管路と、廃液を回収する排液管路と、少なくとも保持手段から溢流する廃液を、上記排液管路に回収可能に傾斜する底面を有するドレイン部と、を具備することを特徴とする液処理装置。
10. 請求項１ないし９のいずれかに記載の液処理装置において、
    上記液供給手段は、被処理基板の表面との間隔を検出可能な間隔検出手段と、上記間隔検出手段の検出信号に基づいて、上記液供給手段を昇降可能な昇降手段とを具備することを特徴とする液処理装置。
11. 請求項１０記載の液処理装置において、
    上記間隔検出手段を、液供給手段の進行方向前方側に一定の間隔を空けて少なくとも両側を含む複数設けると共に、上記昇降手段を、上記液供給手段の長手方向に一定の間隔を空けて複数設けることを特徴とする液処理装置。
12. 請求項１ないし１１のいずれかに記載の液処理装置において、
    少なくとも上記液供給手段の処理液供給量及び処理液吸引量と、移動手段の駆動とを制御可能な制御手段を具備することを特徴とする液処理装置。

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