JP2004068812A - 超純水ポンプ - Google Patents
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Abstract
【解決手段】主送液に接する箇所は抗腐蝕処理がなされ、摺動部で発生する摩耗物の混入を防止する第1遮断流機構と、抗腐蝕処理がなし得ない箇所への化学的反応性の高い主送液の侵入を阻止する第2遮断流機構とを具え、前記第1遮断流機構は、回転軸と回転軸ケーシング内周面による第1遮断流流路と、ポンプ空間からの主送液による第1遮断流を前記第1遮断流流路から排出するための排出部とを具え、前記第2遮断流機構は、第2遮断流としての不活性液体の供給源と、前記第2遮断流を回転軸ケーシング内に送るとともに回転軸と回転軸ケーシング内周面による第2遮断流流路を介して前記第1遮断流に合流させるため回転軸ケーシングに形成される第2遮断流供給口と、を具える。
【選択図】図1
Description
【発明の属する技術分野】
本願発明は、半導体、液晶等の製造工程等に用いられる極めて高純度の活性液体を移送するための回転型ポンプに関し、詳しくは超純水等の活性液体とポンプ機構の金属部との絶縁により金属イオンをはじめ、その他の微粒子の発生を防止できるようにしたポンプに関するものである。
【0002】
【発明の背景】
半導体の高集積度を実現するには、製造時に使用する各種液体の高純度、特に不純物の含有量を極度に低くする必要がある。半導体製造の洗浄工程で用いられる超純水では、0.1ミクロン単位の微粒子量が問題とされ製品の収率に大きく影響を与える。特に超純水の移送用ポンプにあっては、回転摺動部から発生する摩耗微粒子の発生防止が大きな課題であったが、この課題は本願発明者により、日本国特許第1807169号、米国特許第5131806あるいは特開平3−26897号により解決されている。
【0003】
しかしながら、半導体の高集積度、液晶の高性能化が更に進むにつれ、超純水中の残存金属イオン濃度が大きな問題となって浮上し、今や金属イオンの含有量は1PPT(1兆分の1)以下まで要求されるようになっている。この金属イオンは、ウエット行程中のポンプ、パイプ、バルブ等全ての機器類の接液箇所において超純水の金属に対する溶解挙動により発現するものであり、特に18.20MΩ以上の抵抗値を有する最高度の超純水においては、極めて活発な金属等のイオン溶出が起こるとされている。
【0004】
【発明が解決すべき課題】
上記の不都合を解決するために、ポンプ等の機器において、超純水と接する筒所を4フッ化樹脂によりライニング、またコーティング等を施すこと等も行われているが、ポンプ回転摺動部、シール部は4フッ化樹脂によるライニング等の表面処理は施工不可能である。また、ポンプ回転摺動部、シール部に極めて化学的に安定な高硬度SiC(炭化けい素)を使用しても超純水による溶解挙動を抑止することができない。そして、現在の超純水に更にオゾン(O3)、フッ化水素(HF)等を微量含む機能超純水が使用されるようになりつつあり、金属、セラミックスはより大きなケミカルアタックに晒されることになり、前記のポンプ回転摺動部、即ちベアリング部、シール部における接液部の金属セラミックス等の溶出による腐食等の不都合がさらに問題視されるところである。
【0005】
【課題を解決するための手段】
本願発明は、超純水の移送等に使用するポンプにおいて、ポンプ空間と、このポンプ空間で回転する羽根車と、回転駆動源と羽根車を結ぶ回転軸と、ベアリング部およびシール部を有する回転軸ケーシングとを有して主送液に接する箇所に4フッ化樹脂のライニング等による抗腐蝕処理をなして構成するとともに、第2遮断流に接するベアリング部、シール部等の回転摺動部から発生する摩耗微粒子の送液への混入を防止するための第1遮断流機構と、回転軸摺動部における抗腐蝕処理不能箇所へのポンプ空間からの主送液の侵入を阻止するための第2遮断流機構とを具え、
前記第1遮断流機構は、回転軸と回転軸ケーシング内周面により構成される第1遮断流流路と、ポンプ空問から回転軸ケーシング内に一部流入させた主送液による第1遮断流を前記第1遮断流流路から排出するために、回転軸ケーシングにおいて羽根車寄りに設けた排出部と、これに接続する排出路とからなり、
前記第2遮断流機構は、第2遮断流としての潤滑性を有する不活性液体の供給源と、前記第2遮断流をベアリング部、シール部の位置する回転軸ケーシング内に送るとともに回転軸と回転軸ケーシング内周而により構成される第2遮断流流路を介して前記第1遮断流に合流させ、第1遮断流機構の前記排出路から排出するため、回転軸の回転摺動部側端部と前記排出路との問において回転軸ケーシングに形成される第2遮断流供給口と、第2遮断流供給源と第2遮断流供給口との問に設けられる供給路とから構成することにより前記従来の課題を解決しようとするものである。
【0006】
前記ポンプにおいて、第1遮断流機構の排出部は、ポンプの回転軸に互いに逆方向の流れの相会箇所に設けた遮断円板と、これを収納するため回転軸ケーシングに設けた円板室に開口することにより構成する。
【0007】
前記において、流路遮断円板にはラビリンスを形成し、第1・第2遮断流が互いにそれぞれの流路に流入しないようにすることがある。
【0008】
上記いずれかにおいて、回転軸ケーシング内の抗腐蝕処理不能箇所には第2遮断流供給口から流入する不活性液体からなる第2遮断流を常時充填して、第1遮断流流路から侵入する虞のあるケミカルアタック性の強い主送液から絶縁するようにする。
【0009】
【発明の実施形態】
この実施形態に係るポンプにおいて、回転軸ケーシングのベアリング部、シール部等の回転摺動部を除き、主送液(超純水)に接する箇所の表面は前述のように4フッ化樹脂のライニング等による抗腐蝕処理がなされている。第1遮断流機構において、ポンプ空問から回転軸ケーシング内に一部流入される主送液(超純水)による第1遮断流は、回転軸と回転軸ケーシング内周而により構成される第1遮断流流路、これに連続して回転軸ケーシングにおいて羽根車寄りに設けた排出部、この排出部に連結形成される排出路を経て回転軸ケーシング外に流出する。したがって、ベアリング部、シール部等の回転摺動部から発生する摩耗微粒子は、第2遮断流に含まれているが、この第1遮断流に阻まれて回転軸ケーシング内においてポンプ空間方向へ進入することはない。
【0010】
すなわち、第2遮断流機構において、第2遮断流としての超純水に対し潤滑性にとむ通常の不活性液体(水道水等の)は、その供給源から回転軸ケーシング内に送られ回転舳と回転軸ケーシング内周面により構成される第2遮断流流路を経て第1遮断流機椛における排出部へ流れるから、第1遮断流のベアリング部、シール部等の回転摺動部方向への進入は阻止される。また、回転軸ケーシング内に送られた第2遮断流としての不活性液体(水)は、回転軸ケーシング内で、第1遮断流機構とは回転軸の逆の方向すなわちベアリング部、シール部等の回転摺動部方向へ進行する。回転軸ケーシングの末端部すなわち回転摺動部方向の先端部はシール機構で閉鎖されているから、不活性液体(水)はベアリング部、シール部等の回転摺動部を含んで回転軸ケーシング内に充満し第1遮断流(超純水)と回転摺動部とを隔離する。
【0011】
不活性第2遮断流の第2遮断流供給口における圧力及び水量は、第1遮断流より高圧であるが、水量は第1遮断流より常に少量でよく、主として潤滑油の役目と冷却効果を持つ程度とする。回転軸ケーシング内に流入後は第1遮断流量より極めて少量であるので次第に同圧になるよう圧力が低下し、第1遮断流との合流排出時にはそれと同圧となり、したがって第2遮断流が羽根側のポンプ空問に進行流入することはない。
【0012】
第2遮断流を形成する不活性液体(水)の供給は、空気圧、水圧、電力により駆動するダイヤフラム、エアシリンダー駆動プランジャーポンプ等によりなる定量ポンプとするが、適当な水圧を有する水道水も利用できる。また、必要に応じて供給源と回転輔ケーシングとを繋ぐ供給路に、圧力調整弁、流量調整弁、開閉弁等を設けることもある。
【0013】
【発明の実施例】
図面に基づいて、本願発明の実施例を説明する。図1は、本発明に係る回転ポンプの要部を示す断面図である。図2はベアリングBを省略した本発明で、メカニカルシール部の固定環と回転環の位置が逆となっているが附番は図1と同じである。
図において、1はポンプ空間、2はこのポンプ空問1で回転する羽根車、3は回転駆動源Mと羽根車2を結ぶ回転軸、4はベアリング部Bおよびメカニカルシール部Sで固定環、S1回転環S2、を有する回転軸ケーシングである。前記各要素には、ベアリング部Bおよびシール部Sを除き主送液としての超純水に接する箇所に4フッ化樹脂のライニング等による抗腐蝕処理がなされており、太い実線で示されている。
【0014】
5aは、回転軸ケーシング4内周面において羽根車2方向端部とベアリング部Bとの問に形成された円板室で、この円板室5aには回転軸に設けた遮断円板5bが回転可能に収納されている。円板室5aフッ素樹脂製には円板5bの外周部に対応する箇所に第1遮断流機構の排出部5が構成されている。5cは前記円板室5aに連結形成される排出路で流量調節機構5e.5fを設けてある。また、円板室5aにはラビリンス5dが形成されていることもある。
ポンプ空問1側から前記円板室5aまでの問の回転軸3と回転軸ケーシング4内周面との問隙により構成される第1遮断流流路6と、排出部5と、排出路5cとにより第1遮断流機構が構成される。ポンプ空問1から、主送液としての超純水の分流が第1遮断流として第1遮断流流路6、排出部5、排出路5cに流通することにより、ベアリング部Bおよびシール部S方向からの摩耗微粒子を含む液のポンプ空間1への進入は阻止される。
【0015】
また、図において、Tは不活性液体(水)の供給源、pは定量ポンプ、7は回転軸ケーシング4のベアリング部B、シール部Sの中間箇所に・形成された第2遮断流供給口、8はベアリング部Bから前記円板室5aまでの間の回転軸3と回転軸ケーシング4内周面との間隙により構成される第2遮断流流路であり、これらにより第2遮断流機構が構成されている。この第2遮断流機構の位置、具体的には回転軸ケーシング4における第2遮断流供給口の設定位置は、ポンプ空問側を先頭(回転軸ケーシング4)とすると、第1遮断流機構の末端で遮断板の後方でなければならない。かくして、供給源丁からの不活性液体(水)が第2遮断流としてベアリング部B、第2遮断流流路8、前記排出部5、そして排出路5cに流通することにより、第1遮断流機構の排出部5方向からの第1遮断流(超純水)のベアリング部B方向への進入が阻止される。
【0016】
前記のように、第2遮断流は第1遮断流機構の排出部5において第1遮断流と合流して排出路5cから流出することになるが、排出部5を該実施例のように円板室5aと遮断円板5bとにより構成し、さらに円板5bにラビリンスを設ければ、両遮断流が混合しづらく、5bの回転により発生する遠心流となり、それぞれが排出路5cに流出するから、第1遮断流のベアリング郁B方向への進入の阻止にさらに寄与する。
【0017】
第2遮断流としての不活性液体は、通常の水道水でよく、第1遮断流より高圧少量で第2遮断流流路8に定量ポンプにより供給する。このように、第2遮断流は高圧かつ少量のため、排出部5において第1遮断流と同圧となり排出路5cに設けた流量調整弁等を介して系外に放出される。なお、合流した第1遮断流と第2遮断流との構成比は1.5:1程度から場合により50:1,100:1でもよく、主流の第1遮断流量で流れの方向は決定される。総括すれば系内に供給した第2遮断流より大量の排出量を確保することにより本発明は実施されるものである。
【0018】
ポンプ停止時間が長くなると、送液の超純水には接液部の金属セラミックスより発生する摩耗微粒子より金属イオンが発生する。このため、金属イオン等のイオン量がPPTまたはそれ以下の濃度を要求される超高純度の超純水質をポンプ起動直後より得るには、立ち上がり時に汚染されているボンプ系内を大量のフラッシュ超純水により洗浄することが必要となる。しかし、このフラッシングは過大な運転コスト上昇の原因となる。
そこで、本実施例では、ポンプの運転停止後、直ちに第2遮断流機構の動作を停止し、金属、セラミック等の摩耗微粒子を含んだ第2遮断流を停止する一方、主ポンプを再動作させて通常運転時の10/1以下程度の量の第1遮断流を循環させ金属、セラミックスの溶出イオンのポンプ空問への進入防止をさらに確実にする。第2遮断流機構には第2遮断流が充満しているので第1遮断流がベアリング部B方向へ進入する虞はないが、第2遮断流機構も流量を1/2程度にして連続的にあるいは問欠的に動作させてもよい。場合により、第1,第2遮断流路にそれぞれ逆止弁としてのリップシールLSを設けてもよい。
【0019】
要は、ポンプの停止時に発生した金属等のイオンがブラウン運動によりポンプ系内の全体に拡散するのを防ぐため、少量の遮断流を問欠的にまたは連続的に流通させて系内の高純度環境を維持することにある。
【0020】
【発明の効果】
本願発明は以上述べた構成、作用により、回転型ポンプの摺動部で発生した摩耗微粒子を低コストで効卒良く排出するとともに、主送液の摺動部への進入を効果的に阻止し、超純水等の主送液のポンプの摺動部への接触による金属等のイオン発生等の不都合を防止できるという効果がある。
以上は、本発明のシール方式に就いて、メカニカルシール、における固定環がポンプ室内にあり、回転環やスプリングがポンプ室外にある外装型(アウトサイド型)メカニカルシールに就き述べたが、回転環及びスプリングがポンプ室内にある内装型(インサイド型)メカニカルシール機構にも用いられるが殆ど同じものであるので図示説明は省略する。
更に、メカニカルシール以外の回転摺動部シール方式であるグランド、パッキン型、またはリップシール型にも本発明は図面に示す実施要領で有効にそのまま使用できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1図は本願の断面図
【図2】第2図は第1図のベアリング部を省略した機構の断面図。
Claims (5)
- ポンプ空間と、このポンプ空問で回転する羽根車と、回転駆動源と羽根車を結ぶ回転軸と、ベアリング部およびシール部を有する回転軸ケーシングとを有して主送液に接する箇所に抗腐蝕処理をなした回転型ポンプにおいて、ベアリング部、シール部等の回転摺動部から発生する摩耗微粒子を含む第2遮断流の主送液への混入を防止するための第1遮断流機構と、第2遮断流機構への主送液の侵入を阻止するための第2遮断流路を設け、
前記第1遮断流機構は、回転軸と回転軸ケーシング内周面により構成される第1遮断流流路と、ポンプ空問から回転軸ケーシング内に一部流入させた主送液による第1遮断流を前記第1遮断流流路末端から排出するために、回転軸ケーシングにおいて羽根車寄りに設けた排出部と、これに接続する排出路とからなり、
前記第2遮断流機構は、第2遮断流としてのポンプ接液部に対する不活性液体の供給源と、前記第2遮断流を後部回転軸ケーシング内に送るとともに回転軸と回転軸ケーシング内周面により構成される第2遮断流流路を介して前記第1遮断流に合流させ、第1遮断流機構の前記排出路から排出するため、回転軸の回転摺動部側端部と前記排出路との問において回転軸ケーシングに形成される第2遮断流供給口と、第2遮断流供給源と第2遮断流供給口との問に設けられる供給路と、から構成したことを特徴とするポンプ。 - 回転軸上を互いに逆方向に流れる端末部の相会点に位置する第1遮断流機構において、排出部はポンプの回転軸に設けた遮断円板とこれを収納するため回転軸ケーシングに設けた円板室と、からなり、第2遮断流はこれの供給口に於いて第1遮断流より高い液圧を有することを特徴とするポンプ。
- 請求項2において、遮断円板にはラビリンスを形成したことを特徴とするポンプ。
- 請求項1ないし3のいずれかにおいて、回転舳ケーシング内の回転摺動部の抗腐蝕処理不能箇所には第2遮断流供給口から流人する不活性液体からなる第2遮断流を常時充填して、第1遮断流流路から侵入する虞のある主送液から絶縁するようにしたことを特徴とするポンプ。
- 共用排出口より排出される第1・第2遮断流の混合液量は常に第2遮断流量より多量でその構成比は第2遮断流量1、第1遮断流量は少なくとも1.5以上であること。
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KR102641174B1 (ko) * | 2023-05-02 | 2024-02-27 | 윤홍태 | 반도체 제조용 호리젠탈 펌프 장치 |
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2003
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CN116857220B (zh) * | 2023-08-04 | 2023-12-22 | 丹东顺升机械设备有限公司 | 一种化工离心泵的轴端机械密封装置 |
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