JP2004041869A - 粉粒体の回転流動処理装置 - Google Patents

Abstract

【課題】処理室２内に流入した気体を、遠心力が弱く排出速度が速くなる処理室２内の軸芯域で、排出速度を遅くさせることができ、粒径の大小に関係なく粉粒体に対する向心力と遠心力をバランスさせながら効率よく排出し得て、流動層挙動における気体の流入と排出を最適なものとして運転制御できるばかりか、気流に同伴される粉粒体のバグフィルターへの附着量や、バグフィルターから通過してしまう流出量を減少させて製品回収率の向上を図ることができる粉粒体の流動処理装置を提供することを目的とする。
【解決手段】バグフィルター５を、処理室２内における配設割合を、前記気体流入手段２１２の面域幅よりも広く、または、気体流入手段２１２の面積比よりも大きく構成する。
【選択図】　図５

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、粉粒体を混合、造粒、コーティング、表面改質、乾燥、反応等により処理する流動処理装置の技術分野に属し、特に、微粒子状の粉粒体を処理するのに好適な流動処理装置に関するものである。
【０００２】
【従来技術】
近年、医薬品、農薬、肥料、食料品、セラミックス、電子・電池材料などのあらゆる分野において、品質の高い製品を製造するために、粒子の持つ機能性を高めることや粒子に新しい機能を付与することが要求されている。そして、粉粒体を混合、造粒、コーティング、表面改質、乾燥又は反応させる造粒プロセスにおいても、原料としてミクロン、ナノ領域の微粒子粉粒体を処理することが要求されてきている。例えば５０μｍ程度の造粒物を生成しようとすると、原料としては１０〜３０μｍ程度、さらには１桁ミクロン領域の微粒子を取り扱う必要が生じる。
処理材料の粒径が小さくなると凝集性や付着性が急速に増加するため、単に加熱エアーを処理室（容器）内に流入させる従来型の流動層装置では、装置自体の構造に起因して、粉粒体を均一に流動化及び分散制御することに限界があり、本願出願人は、特開２００２−１１９８４３号公報により開示された良好な流動層の形成制御を可能とする流動処理装置を提案した。
【０００３】
このものは、軸芯周りに通気性を有する筒状の気体通気手段を有する処理室を回転させて、処理室内の粉粒体に遠心力を与える一方、気体通気手段の外周域に形成した気体流入手段によって処理室内に気体を流入させて処理室内の粉粒体に向心力を与えて流動層の挙動を制御するよう構成したものである。
しかしながら、このものは、流動層の挙動制御の理論と方法を主体とするものであり、具体的な製品化へ向けた装置、すなわち、気体供給装置、操作用制御装置、モーター、造粒ノズル、操作パネル、気体供給管、配線といった各種装備との具体的配置や連繋、或いは処理室の大きさ、バグフィルターの目詰まり等に起因する気体の流入と排出の最適化維持、気体の供給構造等、装置の全体構成を、製作性、運転性などを考慮し、具現化に向けて解決すべき諸問題がある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記の如き問題点を一掃すべく創案されたものであって、一の目的は、処理室内に流入した気体を、遠心力が弱く排出速度が速くなる処理室内の軸芯域で、排出速度を遅くさせることができ、粒径の大小に関係なく粉粒体に対する向心力と遠心力をバランスさせながら効率よく排出し得て、流動層挙動における気体の流入と排出を最適なものとして運転制御できるばかりか、気流に同伴される粉粒体のバグフィルターへの附着量や、バグフィルターから通過してしまう流出量を減少させて製品回収率の向上を図ることができる回転流動処理装置を提供するにある。
また、他の一の目的は、気体流入手段に供給される気体を過度に循環させなくとも気体通気手段の面域全体から均等に処理室内へ気体を流入させることができると共に、供給口を小さなものにし得て、気体供給路をケーシングの外観面に突出することなく供給構造の製作を可能とし、結果、ケーシングや処理室との配置や気体供給装置などとの連繋を最適なものとして、装置全体における気体の供給構造を簡素化し、製作し易いものとすることができる回転流動処理装置を提供するにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために本発明が採用した１の技術手段は、ケーシング内に、軸芯周りに通気性を有する筒状の気体通気手段を配設してなる回転可能な処理室と、該処理室の外周側に形成され前記気体通気手段を介して処理室内に気体を流入させる気体流入手段と、前記処理室内に設けられ前記流入した気体を処理室外に排出するバグフィルターとを備えてなる粉粒体の流動処理装置であって、前記バグフィルターは、処理室内における配設割合を、前記気体通気手段の面域幅よりも広く、または、気体通気手段の面積よりも大きく構成されていることを特徴とするものである。
また、上記課題を解決するために本発明が採用した他の１の技術手段は、ケーシング内に、軸芯周りに通気性を有する筒状の気体通気手段を配設してなる回転可能な処理室と、該処理室の外周側に形成され前記気体通気手段を介して処理室内に気体を流入させる気体流入手段と、前記処理室内に設けられ前記流入した気体を処理室外に排出するバグフィルターとを備えてなる粉粒体の流動処理装置であって、前記気体流入手段は、前記ケーシングと前記通気手段との間に形成される気体流入路と、該気体流入路を形成する内壁に所定間隔をもって複数配設させた供給口とによって構成されることを特徴とするものである。
【０００６】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を好適な実施の形態として例示する粉粒体の流動処理装置に基づいて詳細に説明する。
図１は、流動処理装置の全体斜視図、図２は、ケーシング本体の動作説明図、図３は、流動処理装置のケーシング本体部を示す正面図、図４は、ケーシング本体の外カバー体を開いた状態を示す正面図、図５は、ケーシング本体部を示す側断面図である。これらの図に示すように、流動処理装置のケーシング１本体は、前面部に開口部１１２ａを有する切頭円錐型の円筒状で、その内部に粉粒体材料を処理するための円筒状の処理室２、該処理室２とケーシング内壁間に形成されたエアーの流入路（循環路）２１５、処理室２内の軸芯部に配設されたバグフィルター５を備えている。
【０００７】
前記エアー流入路２１５は、ケーシング１の内壁面と前記処理室２の通気手段としての円周面板（分散板）２１２の外周面域との間に形成されている。ケーシング１は、その後面部において、側面視Ｌ字状の本体ブラケット１１６に対しボルト１２５により一体的に固定される一方、前面部の開口部１１２ａは、円形の透明アクリル樹脂が組み込まれた略菱形平盤状の外カバー体（蓋体）１２で覆われる。外カバー体１２は、その上部において、スライド体１２８先端の蝶着部１２２において上下方向開閉可能に連結蝶着されており、下部に把持ハンドル１２３、左右に凹溝部１２４、１２４を有する。外カバー１２を開閉するには、ケーシング１の外周側面に水平回動可能に設けられた左右の緊締ハンドル１２６、１２６を、それぞれ前記凹溝部１２４、１２４に係合し、締め付け操作することで外カバー体１２をケーシング１（開口部１１２ａ）に圧接させて閉戸し、逆の操作で開戸するようになっている。更に開戸状態の外カバー体１２は、先端を側面視階段状に折曲するフレーム１２１に、後端をケースカバー１１上部にそれぞれ支持させた案内バー１２７に対し、摺動可能に設けられたスライド体１２８を後方へスライドさせることによって収納できるようになっている。
【０００８】
また、エアー流入路２１５の内壁を形成するケーシング１の後面部となるブラケット１１６には、エアー流入路２１５に所定の気体（加熱エアー、不活性ガスなどの各種ガス）を導入する供給口１３が、処理室２の外周廻りの面域に孔径約３０ｍｍ程度に孔加工され、所定間隔をもって都合１２個が配設されている。そして、これら供給口１３から導入した気体を、処理室２の回転、つまり、前記通気手段としての分散板２１２が軸芯周りに回転することに伴って、ケーシング１の内周面に沿って循環させるように構成し、これら前記エアー流入路２１５と複数の供給口１３により気体流入手段が構成される。一方、供給口１３の背面側には、後述する架台７の内部に備えられた気体供給装置（図示しない）からのエアーを各供給口１３に均等に配給するための気体供給室１３１が設けられており、例えば加熱エアーを導入する場合は、気体供給手段としてのブロワーで発生したエアーをヒーターで加熱して気体供給室１３１に導入する。
なお、供給口１３は、円形に形成したがこれに限定されるものでなく、楕円形、小判形等任意の形状としても良く、また、一つの供給口１３の配設面域に小さな供給口１３を複数穿設し、或いは、エアーの噴出に方向性を与えるように形成しても良い。
【０００９】
前記処理室２は、略切頭円錐状の後側固定板２２１と、円形透明アクリル樹脂が組み込まれた円盤状の内カバー体２１６とを所定間隔を存して対向させ、その間に通気手段としての円筒状の分散板２１２を挟み込んで形成されている。内カバー体２１６は、固定板２２１に対して着脱可能となっている。つまり、固定板２２１は、分散板（円周面板）２１２側から任意の幅を持って軸芯方向に立ち上がるリング状の立上り部２２１ａと、該立上り部から延設される傾斜部２２１ｂとにより形成されている。前記立上り部２２１ａには、複数のボルトピン２１４ａが設けられ、内カバー体２１６には、大小孔が連続する態様の複数の取付け孔２１４ｂが穿設されている。内カバー体２１６を固定板２２１に取付けするには、ボルトピン２１４ａのボルト頭に取付け孔２１４ｂの大孔を挿入し、内カバー体２１６を小孔側に回転することで前記ボルト頭に係止させ、上下のボルト２１４により固定される。内カバー体２１６を取り外す際には、この逆の操作によって行うことができ、分散板２１２を含めた着脱が可能となる。分散板２１２は、ケーシング１の内周壁面に対して所定間隔を存して配置されており、エアー（気体）流入路２１５に導入された気体が、分散板２１２を介して処理室２内に流入するように構成されている。
また、処理室２内には、二流体微噴霧用の造粒用ノズル４が設けられている。造粒用ノズル４は、配管を介して図示しないバインダー供給装置とコンプレッサーに接続され、該供給装置から供給される所定の造粒用バインダー液を処理室２内に噴霧するようになっている。
なお、分散板２１２は、処理する粉粒体の粒径などに応じて、孔径や材質の異なるものを適宜交換することが可能となっており、多孔板、スリット、金網、多層金網、メタルファイバーなどを用いることができる。例えば多層金網は、目開きの異なる複数枚の金網を重ね、所定の圧力と温度をかけて焼結して形成されたもので、粉粒体接触面を細かい目開きの金網で構成することにより、粉粒体による目詰まりを防止することができる。
【００１０】
前記後側固定板２２１の中央部には、後方に延出する円筒状の回転支軸２１７が一体的に連結され、該回転支軸２１７が、本体ブラケット１１６に一体的に設けられる筒状ホルダ１１８の内周部に軸受１１９を介して回転自在に支持されている。回転支軸２１７の下方には、モーター３（駆動装置）が配置されており、そのモーター軸３１１に一体的に設けられるプーリ３１２と、回転支軸２１７に一体的に設けられるプーリ３１３とが伝動ベルト３１４を介して連動連結されている。これにより、モーター３の駆動に応じて処理室２が回転し、内部の粉粒体に遠心力を与えることが可能になる。
【００１１】
前記バグフィルター５は、円筒状のメッシュ板で形成されており、中央に開口部を有する円盤状の後面板５１２と、中央が凹状に形成された円盤状の前面板５１３とを所定間隔を存して対向させ、その間に挟み込んで装着されている。後面板５１２と前面板５１３は、中央に設けられた蝶ボルト５１４により連結されており、該ボルト５１４の緊緩操作により前面板５１３およびバグフィルター５の着脱が可能となる。バグフィルター５は、分散板２１２に対して所定間隔を存して配置され、かつ、処理室２内における配設割合を、分散板２１２の面域幅よりも広く、または、分散板２１２の面積よりも大きく構成され、分散板２１２を介して処理室２に流入した気体が、バグフィルター５を介して排出されるように構成されている。
また、バグフィルター５は、処理する粉粒体の粒径などに応じて、孔径や材質の異なるものと適宜交換することが可能となっており、前記分散板２１２に用いるものと同材質の他に、リテーナーと該リテーナーに被装される各種材質からなる袋状のバグクロス（織布、不織布）により円筒状に構成したもの、あるいは面積を確保するために蛇腹状に形成したものを用いてもよい。
前記後面板５１２の中央の開口部には、後方に延出する円筒状の排出管５１１が一体的に連結されており、前記処理室２からバグフィルター５に排出された気体が、排出管５１１を介して装置外部（系外）に排出されるように構成されていると共に、排出管５１１は、前記回転支軸２１７の内周部に回動自在に支持される。
また、バグフィルター５内には、図示しない逆洗ノズルが設けられており、圧縮ガスを瞬時かつ間欠的に噴出してバグフィルター５に附着した粉体を剥離させ、前記分散板２１２側へ戻すようになっている。なお、バグフィルター５を、公知のリテーナーと該リテーナーに被装される袋状のバグクロスを用いた構成を利用して圧縮ガスによりバグクロスを瞬時に膨らませ、粉粒体を飛散させるようにしてもよい。
【００１２】
本体ブラケット１１６の左右側に形成された取付面に対し、それぞれ一対の支軸１１６ａ、１１６ｂが取り付けられており、本体ブラケット１１６は、この支軸１１６ａ、１１６ｂを介して架台７へ回転可能に軸支されて装着される。すなわち、架台７は、底部７２１、左右立上り側部７２２、７２３に各種装備（図示しない）が内装されるよう正面視略凹状に形成されており、立上り側部７２２、７２３が前記支軸１１６ａ、１１６ｂを軸支する支持部（支持フレーム）となって、ケーシング本体１は、前記凹状の空間域に上下方向に回動可能に軸架されることになる。前記底部７２１内には、ブロアー、ヒーター等を含む気体供給装置が装備され、立上り側部７２２内には、操作パネル７２２ａによりケーシング本体１を上下回動させるモーター、処理室２内の粉粒体に対する遠心力と向心力を制御する制御パネル等の各種運転を制御する操作用制御装置が装備され、立上り側部７２３内には、前記バグフィルター５を通過して排出管５１１から配管ホース５１１ａを介して系外に排出された粉粒体を捕集する捕集用バグフィルター６２が装備される。
一方、前記支軸１１６ｂは管状に形成されており、この管内を利用して、前記気体供給装置と気体供給室１３１とを結ぶ気体供給管、モーター３への配線等を挿通させ、ケーシング１と架台７側の各種装備とを連繋している。
これにより、ケーシング１は、処理室２の回転軸が上方から下方まで回動変姿することが可能に構成され、処理室２の回転軸を垂直とする縦型の場合と、水平とする横型の場合の何れにも使用できるようになっているが、本装置においては、ケーシング１の開口部１１２ａを図２（Ａ）に示すように上方に向けて（回転軸芯が垂直方向）粉粒体の投入を行い、前記開口部１１２ａを図１に示すように横方向に向けて（回転軸芯が水平方向）粉粒体処理を行い、前記開口部１１２ａを図２（Ｂ）に示すように下方に向けて（回転軸芯が垂直方向）粉粒体の取り出しを行うようになっている。
【００１３】
次に、このように構成された装置において、粉粒体を混合、造粒しながら乾燥処理する方法について説明する。処理室２内に一定量の粉粒体を投入するには、まず、ケーシング１の開口部１１２ａを斜め上方に向けた状態で外カバー体１２および内カバー体２１６を開け、処理室２内に一定量の粉粒体を投入し、外カバー体１２および内カバー体２１６を閉じる。その後、ケーシング１を横向き姿勢に変姿させ、モーター３を駆動させて処理室２を回転させることにより粉粒体に遠心力を与え、前記円周面板２１２の内壁面側に均一に集積させる。一方、前記流入路２１５に導入された加熱エアーを前記円周面板２１２を介して処理室２内に流入させることにより、粉粒体に向心力を与えて分散流動化させ、流動層を形成する。
なお、排出管５１１内に材料の供給排出管を設けることで連続的に運転することができ、また処理室２を回転させながら供給排出管を介して粉粒体を投入すれば、所定の粉粒体量を短時間で容易に投入することができる。更に、必要に応じて前記造粒用ノズル４を利用して処理室２内に圧縮エアーを流入させることにより、流動層形成がスムーズに行えると共に、極めて短時間で粉体層を均一な厚みに形成することができる。
ここで、処理室２内においては、わずかではあるが粉体層の内側（軸芯方向）ほど風速が速くなり、一方粉粒体に与えられる遠心力が小さくなるため、粉体層表面から流動化が始まる。従って、処理室２の回転速度が一定でも、加熱エアーの供給量を変えることにより、特開２００２−１１９８４３号公報に説明されるように粉粒体が流動化しない固定層、部分流動層、完全なる流動層を形成することができる。
【００１４】
叙述の如く構成された本発明の実施例の形態において、処理室２内において、円周面域から円筒状の処理室２に気体を流入することで粉粒体の流動層を形成し混合、造粒、乾燥処理が行われるのであるが、その際、処理室２の最外周部である前記通気手段としての分散板（円周面板）２１２側と、中心部のバグフィルター５側とでは、中心部側の方が流速が速くなり、結果、細かい粒子ほど気流に同伴して中心部に移動し易く、移動した粒子が円周面域側に戻りづらいという現象があらわれる。また、バグフィルター５が目詰まりを起こした際に、排出効率がが悪くなり、圧力損失が生じ、遠心力と向心力のバランスが崩れる危惧がある。
ところが、本装置における前記処理室２に配設されたバグフィルター５は、処理室内２における配設割合が、外周面域を形成する分散板２１２の面域幅よりも広く、または、分散板２１２の面積よりも大きく構成されている。
これにより、処理室２内に流入した気体を、遠心力が弱く排出速度が速くなる処理室２内の軸芯域で、排出速度を遅くさせることができ、粒径の大小に関係なく粉粒体に対する向心力と遠心力をバランスさせながら効率よく気流を排出し得て、気体の偏流を回避し、流動層挙動における気体の流入と排出を最適なものとして運転制御できるばかりか、気流に同伴される粉粒体のバグフィルターへの附着量や、バグフィルターから通過してしまう粉粒体の流出量を減少させて製品回収率の向上を図ることができ、もって、処理室２内の粉粒体に対して、遠心力と向心力という反対方向からの力の作用をバランス良く与えることで良好な流動層が形成できるという制御特性を向上させ、制御手段による遠心力と向心力のバランス調整操作も一層容易に行うことができ、ミクロン、ナノ領域の微粒子粉粒体を確実に処理することができ、処理効率の向上を図ることができる。
【００１５】
この処理室内２における分散板２１２とバグフィルター５との配設割合は、処理室２を、切頭円錐状、すなわち、軸芯方向に対し、前記分散板２１２側から任意の幅を持って立ち上がる立上り部２２１ａと、該立上り部２２１ａから延設される傾斜部２２１ｂとで形成させ、広くなった中心域全体を有効活用しバグフィルター５の配設領域とする配設構成によりなされる。結果、遠心力が弱くなる処理室２内の軸芯域側の粉粒体に対し、排出管５１１側への排出作用と共に前記傾斜部２２１ｂで遠心力を弱め、流速を遅くすることによりバグフィルター５に付着しても逆線ノズルにより飛ばされた粉粒体を含めて流動層を形成する立上り部２２１ａ側にスムーズに移動させることができる。
なお、本実施例における処理室２は、後側固定板２２１の形状を切頭円錐状に形成したが、これに限定されることなく、内カバー体２１６に切頭円錐形状を適用しても良く、後側固定板２２１と内カバー体２１６の両者に適用し全体を菱形の円筒状としても良い。
【００１６】
また、前記傾斜部２２１ｂは、ケーシング１の後方（ブラケット１１６側）に向けて形成されていることにより、前記立上り部２２１ａ側へのスムーズな粉粒体移動と共に、傾斜部２２１ｂの背面側に掲載された空間をエアーの流入路２１５として利用でき、ケーシング１内におけるエアー流入路２１５を大きく形成できる結果、流入路２１５（ケーシング１）内における加熱エアーの蓄積量を増やして、分散板２１２への一層の等圧化がなされて、処理室２内に均一に分散流入させることができる。
【００１７】
また、前記気体流入手段は、前記ケーシング１と前記分散板２１２との間に形成されるエアー流入路２１５と、該エアー流入路２１５を形成する内壁に所定間隔をもって複数配設させた供給口１３とによって構成されることにより、エアー流入路２１５に供給される気体を過度に循環させなくとも分散板２１２の面域全体から均等に処理室内へ気体を流入させることができると共に、供給口１３を小さなものにし得て、気体供給路をケーシング１の外観面に突出することなく供給構造の製作を可能とし、結果、ケーシング１や処理室２との配置や気体供給装置との連繋を最適なものとして、装置全体における気体の供給構造を簡素化し、製作し易いものとすることができる。
しかも、供給口１３は、流入路２１５の内壁を形成するブラケット１１６に設けられているので、供給口１３から供給される気体を、分散板２１２と平行する方向に向けて流出することができ、分散板２１２への直接的な流出（噴出）が回避され、流入路２１５内を加熱エアーの供給による循環のない状態で等圧化することができ、分散板２１２の回転に伴って生じる循環による循環路とすることができる。
なお、供給口１３は、ブラケット１１６以外の流入路２１５の内壁を形成するケーシング１に設けても良く、エアーの流出方向も任意であることは勿論である。
【００１８】
さらに、供給口１３（ブラケット１１６）の背面側には、気体供給装置からのエアーを各供給口１３、１３・・・に配給するためのドーナツ状（環状）の気体供給室１３１が隣設されており、供給口１３はこの気体供給室１３１に連通されている構成となっている。したがって、気体供給装置から供給されるエアーは、この気体供給室１３１に一旦蓄えられ、各供給口１３、１３・・・に対して均等にエアーを分配でき、流入路２１５内へ流出することができる。しかも、気体供給室１３１は、モーター３や排出管５１１（気体排出路）などと共にブラケット１１６の背面側に配設することができ、ケーシング１や処理室２との配置や気体供給装置との連繋を最適なものとして、装置全体における気体の供給構造を簡素化し、制作し易いものとすることができる。
【００１９】
また、前記ケーシング１は、前方に向けて軸形が小さくなるよう傾斜する切頭円錐型（断面視略台形状）に形成されているため、ケーシング１の傾斜側面部分が流入路２１５となる傾斜内壁を構成することとなり、各供給口１３、１３・・・から流入路２１５内へ供給されたエアーは、当該傾斜内壁に向けて流出させることができ、分散板２１２の円周面域方向に流れを向けることが可能となって、処理室２内への均一な分散流入をサポートすることができる。
【００２０】
一方、架台７は、左右に立上り側部７２２、７２３を有し全体が正面視略凹状となるよう形成されており、処理室２（ケーシング１）は、架台７の左右に立上り側部７２２、７２３間に形成される空間の凹状部内に回転軸芯と直交する支軸１１６ａ、１１６ｂを介して装着されているので、この立上り側部７２２、７２３が支軸１１６ａ、１１６ｂを軸支する支持部（支持フレーム）となって、処理室２を上下方向回転可能に支持する構成が担保され、上向き・横向き・下向きの姿勢に変姿させることができ、粉粒体の投入・処理・取出など各作業に適合した０〜９０゜の範囲の傾斜姿勢を含めた変姿過程を利用した処理が可能となり、縦型と横型の何れにおいても使用することができる。
しかも、一方の支軸１１６ｂは筒状に形成されており、この筒状支軸１１６ｂ内を、処理室２と架台７とを結ぶ気体供給管、配線等の配設路（配設管）に構成してあるので、これら供給管や配線が外観露出することが無く、不用意に処理物が附着し反応を誘発するなどの損傷への危惧を一掃でき、しかも、架台７の底部７２１内、立上り側部７２２、７２３内に装備された機器との連繋を図ることができる。
【００２１】
また、前記処理室２の前面側、およびケーシング１の前面側に、開閉可能な内・外カバー体２１６、１２が設けられ、内カバー体２１６は、ボルトの緊締操作等で着脱自在に構成され、外カバー体１２は、上部（または下部であっても良い）で蝶着されると共に、開放した状態で後方にスライド収納すべく構成されているため、ケーシング１内に処理室２を閉じこめた構造とし、それぞれが独立区画したものとして構成でき、その結果、処理室２の開閉と密閉を容易にすることができると共に、開放された外カバー体１２が粉粒体の出し入れ操作や、それに伴う上向き姿勢や下向き姿勢に変姿しても邪魔になることがない。
しかも、内カバー体２１６および外カバー体１２は、透明部材で形成されるため、粉粒体の流動化および処理状況を目視で確認しながら、その挙動を制御することができる。
【００２２】
【発明の効果】
本発明は、バグフィルター５を、処理室２内における配設割合を、前記気体通気手段２１２の面域幅よりも広く、または、気体通気手段２１２の面積よりも大きく構成したことにより、処理室２内に流入した気体を、遠心力が弱く排出速度が速くなる処理室２内の軸芯域で、排出速度を遅くさせることができ、粒径の大小に関係なく粉粒体に対する向心力と遠心力をバランスさせながら効率よく排出し得て、流動層挙動における気体の流入と排出を最適なものとして運転制御できるばかりか、気流に同伴される粉粒体のバグフィルターへの附着量や、バグフィルターから通過してしまう流出量を減少させて製品回収率の向上を図ることができる。
また、本発明は、気体流入手段を、ケーシング１と通気手段２１２との間に形成される気体流入路２１５と、該気体流入路２１５を形成する内壁に所定間隔をもって複数配設させた供給口１３とによって構成したことにより、気体流入手段に供給される気体を過度に循環させなくとも気体通気手段２１２の面域全体から均等に処理室２内へ気体を流入させることができると共に、供給口１３を小さなものにし得て、気体供給路をケーシング１の外観面に突出することなく供給構造の製を可能とし、結果、ケーシング１や処理室２との配置や気体供給装置などとの連繋を最適なものとして、装置全体における気体の供給構造を簡素化し、製し易いものとすることができる
【図面の簡単な説明】
【図１】流動処理装置の全体斜視図
【図２】ケーシング本体の動作説明図
【図３】流動処理装置のケーシング本体部を示す正面図図
【図４】ケーシング本体の外カバー体を開いた状態を示す正面図
【図５】ケーシング本体部を示す側断面図
【符号の説明】
１　　　　ケーシング
１１　　　ケースカバー
１１２ａ　開口部
１１６　　ブラケット
１１６ａ　支軸
１１６ｂ　支軸
１１８　　筒状ホルダ
１１９　　軸受
１２　　　外カバー体
１２１　　フレーム
１２２　　蝶着部
１２３　　把持ハンドル
１２４　　凹溝部
１２５　　ボルト
１２６　　緊締ハンドル
１２７　　案内バー
１２８　　スライド体
１３　　　供給口
１３１　　気体供給室
２　　　　処理室
２１２　　分散板（円周面板）
２１２　　気体通気手段
２１４　　ボルト
２１４ａ　ボルトピン
２１４ｂ　取付け孔
２１５　　エアー流入路（循環路）
２１６　　内カバー体
２１７　　回転支軸
２２１　　固定板
２２１ａ　立上り部
２２１ｂ　傾斜部
３　　　　モーター
３１１　　モーター軸
３１２　　プーリ
３１３　　プーリ
３１４　　伝動ベルト
４　　　　造粒用ノズル
４１　　　逆洗ノズル
５　　　　バグフィルター
５１１　　排出管
５１１ａ　配管ホース
５１２　　後面板
５１３　　前面板
５１４　　蝶ボルト
６２　　　捕集用バグフィルター
７　　　　架台
７２１　　底部
７２２　　立上り側部
７２２ａ　操作パネル
７２３　　立上り側部

Claims (12)

1. ケーシング内に、軸芯周りに通気性を有する筒状の気体通気手段を配設してなる回転可能な処理室と、該処理室の外周側に形成され前記気体通気手段を介して処理室内に気体を流入させる気体流入手段と、前記処理室内に設けられ前記流入した気体を処理室外に排出するバグフィルターとを備えてなる粉粒体の流動処理装置であって、前記バグフィルターは、処理室内における配設割合を、前記気体通気手段の面域幅よりも広く、または、気体通気手段の面積よりも大きく構成されていることを特徴とする粉粒体の回転流動処理装置。
2. 請求項２において、前記処理室は、軸芯方向に対し、前記気体通気手段側から任意の幅を持って立ち上がる立上り部と、該立上り部から延設される傾斜部とで形成されていることを特徴とする粉粒体の回転流動処理装置。
3. 請求項３において、前記傾斜部は、ケーシング後方に向けて形成されていることを特徴とする回転粉粒体の流動処理装置。
4. ケーシング内に、軸芯周りに通気性を有する筒状の気体通気手段を配設してなる回転可能な処理室と、該処理室の外周側に形成され前記気体通気手段を介して処理室内に気体を流入させる気体流入手段と、前記処理室内に設けられ前記流入した気体を処理室外に排出するバグフィルターとを備えてなる粉粒体の流動処理装置であって、前記気体流入手段は、前記ケーシングと前記通気手段との間に形成される気体流入路と、該気体流入路を形成する内壁に所定間隔をもって複数配設させた供給口とによって構成されることを特徴とする粉粒体の回転流動処理装置。
5. 請求項４において、前記供給口は、該供給口の背面側に形成され、気体供給装置からの気体を各供給口に配給する気体供給室に連通されていることを特徴とする粉粒体の回転流動処理装置。
6. 請求項４乃至５において、前記気体供給室は、前記ケーシングを挟んだ前記供給口部位で処理室の背面側に隣設されていることを特徴とする粉粒体の回転流動処理装置。
7. 請求項４乃至６において、前記供給口は、同心円状に一重または２重または放射状に設けられていることを特徴とする粉粒体の回転流動処理装置。
8. 請求項４乃至７において、前記気体供給室は、環状に形成されることを特徴とする粉粒体の回転流動処理装置。
9. 請求項１乃至８において、前記処理室は、所定の気体供給装置、捕集用バグフィルター、操作用制御装置等が装備される架台を全体が正面視略凹状となるよう形成せしめ、該凹状部内に支軸を介して装着されていることを特徴とする粉粒体の回転流動処理装置。
10. 請求項９において、前記支軸の一方を筒状に形成し、該筒状支軸内を、処理室と架台とを結ぶ気体供給管、配線等の配設路に構成してあることを特徴とする粉粒体の回転流動処理装置。
11. 請求項１乃至１０において、前記処理室の前面側、およびケーシング前面側に、開閉可能な内・外カバー体が設けられ、処理室用の内カバー体は、着脱自在に構成され、ケーシング用の外カバー体は、上部または下部で蝶着されると共に、開放した状態で後方にスライド収納すべく構成されていることを特徴とする粉粒体の回転流動処理装置。
12. 請求項１乃至１１において、前記ケーシングは、前方に向けて傾斜する切頭円錐型に形成されていることを特徴とする粉粒体の回転流動処理装置。

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