JPH0624620B2 - 粉粒体処理装置 - Google Patents
粉粒体処理装置Info
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- JPH0624620B2 JPH0624620B2 JP60084166A JP8416685A JPH0624620B2 JP H0624620 B2 JPH0624620 B2 JP H0624620B2 JP 60084166 A JP60084166 A JP 60084166A JP 8416685 A JP8416685 A JP 8416685A JP H0624620 B2 JPH0624620 B2 JP H0624620B2
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- Japan
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- slit
- granular material
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- powdery
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Description
【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は粉粒体処理装置に、特に、粉粒体の造粒，コー
チング，混合，乾燥等を生産性良く行うことのできる粉
粒体処理装置に関する。
チング，混合，乾燥等を生産性良く行うことのできる粉
粒体処理装置に関する。
一般に、たとえば医薬，食品，フェライト，トナー等に
用いられる粉粒体の造粒，コーチング，混合，乾燥等に
は、従来から様々な型式の機械装置が使用されている。
用いられる粉粒体の造粒，コーチング，混合，乾燥等に
は、従来から様々な型式の機械装置が使用されている。
このような従来装置の１つとして、造粒筒内の下部の全
面に金網を設け、かつ金網の上部に回転円板を設けた構
造が特開昭５４−６２９７８号および特開昭５６−１３
３０２４号公報に開示されている。しかし、この従来装
置は造粒コーチングは可能であるものの、造粒物が回転
円板と金網との間に入り込み、回転円板の回転により金
網の全面にすり付けられて粉砕されてしまうという問題
点があった。さらに、この従来装置は生産性が低いとい
う問題点もあった。
面に金網を設け、かつ金網の上部に回転円板を設けた構
造が特開昭５４−６２９７８号および特開昭５６−１３
３０２４号公報に開示されている。しかし、この従来装
置は造粒コーチングは可能であるものの、造粒物が回転
円板と金網との間に入り込み、回転円板の回転により金
網の全面にすり付けられて粉砕されてしまうという問題
点があった。さらに、この従来装置は生産性が低いとい
う問題点もあった。
また、特公昭４６−２２５４４号および特公昭４７−４
７７９４号公報には、容器底部を回転円板で形成し、こ
の回転円板の回転と、該回転円板と容器壁との間の間隙
から吹き込まれるスリットエアとの働きによる遠心転動
作用でコーチングを行う構造が開示されている。しかし
ながら、この従来装置は基本的にはコーチングを主眼と
するもので、造粒操作のために適用しても生産性が低
く、量産には不向きであるという重大な欠点があった。
また、この従来装置は重質で球形の造粒物は形成できる
が、軽質のものには不適当であるという問題点もある。
７７９４号公報には、容器底部を回転円板で形成し、こ
の回転円板の回転と、該回転円板と容器壁との間の間隙
から吹き込まれるスリットエアとの働きによる遠心転動
作用でコーチングを行う構造が開示されている。しかし
ながら、この従来装置は基本的にはコーチングを主眼と
するもので、造粒操作のために適用しても生産性が低
く、量産には不向きであるという重大な欠点があった。
また、この従来装置は重質で球形の造粒物は形成できる
が、軽質のものには不適当であるという問題点もある。
そこで本出願人は、これらの問題点を解決するために特
開昭５９−５５３３７号に公報に示す造粒コーチング装
置を提供し、所期の効果を得ている。
開昭５９−５５３３７号に公報に示す造粒コーチング装
置を提供し、所期の効果を得ている。
ところで、この装置ではスリットエアは装置外部の給気
ファンから流量調整弁を通してスリット下部に位置する
スリットチャンバに供給され、そこからスリットを通し
て造粒筒内へ噴出される。しかしながら、スリットエア
を環状のスリットの各部から均一に噴出させることは回
転板が回転する必要上、精密な構造が要求されるので必
ずしも容易ではなく、スリットチャンバへの入口径路に
近い部分のスリットから多く、そこから遠い部分のスリ
ットからは少し噴出する。したがって少量のエアしか噴
出しない部分では、造粒筒内の粉粒体がスリットから落
下し、原料の無駄や装置内部の汚染を生じるおそれがあ
り得ることを本発明者は見い出した。
ファンから流量調整弁を通してスリット下部に位置する
スリットチャンバに供給され、そこからスリットを通し
て造粒筒内へ噴出される。しかしながら、スリットエア
を環状のスリットの各部から均一に噴出させることは回
転板が回転する必要上、精密な構造が要求されるので必
ずしも容易ではなく、スリットチャンバへの入口径路に
近い部分のスリットから多く、そこから遠い部分のスリ
ットからは少し噴出する。したがって少量のエアしか噴
出しない部分では、造粒筒内の粉粒体がスリットから落
下し、原料の無駄や装置内部の汚染を生じるおそれがあ
り得ることを本発明者は見い出した。
本発明の目的は、回転板と造粒筒側との間に形成される
スリットから粉粒体が落下することを防止でき、原料の
無駄や装置内部の汚染を排除できる粉粒体処理装置を提
供することにある。
スリットから粉粒体が落下することを防止でき、原料の
無駄や装置内部の汚染を排除できる粉粒体処理装置を提
供することにある。
本発明の他の目的は、製品の嵩密度や硬度，粒度等を所
望通りにコントロールでき、球形度の高い製品を生産性
良く得ることのできる粉粒体処理装置を提供することに
ある。
望通りにコントロールでき、球形度の高い製品を生産性
良く得ることのできる粉粒体処理装置を提供することに
ある。
本発明による造粒コーチング装置は、造粒およびコーチ
ングが行われる粉粒体が投入される胴体部と、この胴体
部内の底部でほぼ水平に回転し、通気可能な通気部を有
する回転板と、この回転板の外周面と前記胴体部の内周
面との間に形成された環状のスリットと、前記回転板の
下側に設けられ、前記スリットを介して前記胴体部内に
スリットガスを供給するスリットガス通路と、前記通気
部を介して前記胴体部内にガスを供給するガス通路とに
区分する環状隔壁と、前記スリットガス通路内における
前記スリットの下方の全面を覆うよう前記スリットの下
方に環状に配置され、前記スリットを通るスリットガス
の流れを均一にするとともに前記粉粒体の落下を防止す
る通気性の粉粒体落下防止整流部材とを有し、回転板と
この回転板に形成された通気部から噴出するガスとスリ
ットから噴出するガスによって粉粒体を流動させつつ造
粒コーチング処理を行うものである。
ングが行われる粉粒体が投入される胴体部と、この胴体
部内の底部でほぼ水平に回転し、通気可能な通気部を有
する回転板と、この回転板の外周面と前記胴体部の内周
面との間に形成された環状のスリットと、前記回転板の
下側に設けられ、前記スリットを介して前記胴体部内に
スリットガスを供給するスリットガス通路と、前記通気
部を介して前記胴体部内にガスを供給するガス通路とに
区分する環状隔壁と、前記スリットガス通路内における
前記スリットの下方の全面を覆うよう前記スリットの下
方に環状に配置され、前記スリットを通るスリットガス
の流れを均一にするとともに前記粉粒体の落下を防止す
る通気性の粉粒体落下防止整流部材とを有し、回転板と
この回転板に形成された通気部から噴出するガスとスリ
ットから噴出するガスによって粉粒体を流動させつつ造
粒コーチング処理を行うものである。
〔実施例１〕 第１図は本発明による粉粒体処理装置の一実施例を示す
全体的概略断面図である。
全体的概略断面図である。
この実施例における粉粒体処理装置は、ほぼ直立状態で
設地され、その中に投入した粉粒体の造粒およびコーチ
ングを行う略円筒状の造粒筒１を有している。造粒筒１
の底部側面には、造粒およびコーチングを完了した製品
を取り出すための排出シュート２および排出口の開閉用
の排出弁３が設けられている。
設地され、その中に投入した粉粒体の造粒およびコーチ
ングを行う略円筒状の造粒筒１を有している。造粒筒１
の底部側面には、造粒およびコーチングを完了した製品
を取り出すための排出シュート２および排出口の開閉用
の排出弁３が設けられている。
前記排出シュート２とほぼ同じレベルにおける造粒筒１
内の底部には、該造粒筒１内でほぼ水平方向に回転して
造粒コーチングを行うための回転円板４が設けられてい
る。
内の底部には、該造粒筒１内でほぼ水平方向に回転して
造粒コーチングを行うための回転円板４が設けられてい
る。
回転円板４は、造粒筒１の胴体部のほぼ中心に略垂直状
に設けられた回転軸５を可変速式のモータ６からベルト
７を経て所望方向に回転駆動することにより回転され
る。
に設けられた回転軸５を可変速式のモータ６からベルト
７を経て所望方向に回転駆動することにより回転され
る。
また、回転円板４は孔あけによる多孔板で作られた通気
部８を有している。この通気部８は孔あけによる多孔板
以外にも粉粒体が漏れない程度の細孔を持つ焼結板また
は金網の如き編組物等で作ることができる。
部８を有している。この通気部８は孔あけによる多孔板
以外にも粉粒体が漏れない程度の細孔を持つ焼結板また
は金網の如き編組物等で作ることができる。
回転円板４の周縁と造粒筒１の胴体部の内壁面との間の
間隙は環状のスリット９として形成されている。この環
状のスリット９を通って造粒筒１内に供給されるスリッ
トガスと、回転円板４の通気部８を通って造粒筒１内に
供給されるガスをそれぞれ別個にコトロールすることに
より、粉粒体に対しスリットガスまたは通気部８を通る
ガスだけのフローパターンとは異なるフローパターンを
与え、所望の製品を製造することができる。
間隙は環状のスリット９として形成されている。この環
状のスリット９を通って造粒筒１内に供給されるスリッ
トガスと、回転円板４の通気部８を通って造粒筒１内に
供給されるガスをそれぞれ別個にコトロールすることに
より、粉粒体に対しスリットガスまたは通気部８を通る
ガスだけのフローパターンとは異なるフローパターンを
与え、所望の製品を製造することができる。
そのため、回転円板４の下側には、上端に該回転円板４
の下面に形成した環状溝の中に入り込むラビリンス式の
シールリング１０を設けた環状隔壁１１が底壁１２畳に
設置され、これらの環状隔壁１１により、スリット９を
通って造粒筒１内に噴出されるスリットガスと、通気部
８を通って造粒筒１内に噴出されるガスとの各々のガス
通路１３，１４が別系統として区分して形成され、互い
に独立にガス流量をコントロールできるよう構成されて
いる。
の下面に形成した環状溝の中に入り込むラビリンス式の
シールリング１０を設けた環状隔壁１１が底壁１２畳に
設置され、これらの環状隔壁１１により、スリット９を
通って造粒筒１内に噴出されるスリットガスと、通気部
８を通って造粒筒１内に噴出されるガスとの各々のガス
通路１３，１４が別系統として区分して形成され、互い
に独立にガス流量をコントロールできるよう構成されて
いる。
さらに、スリットガス通路１３内には環状のスリット９
の下方の全面を覆うようにスリット９の下方に位置し、
金網、多孔板、織布等からなる整流板１５が設けられて
いる。整流板１５は通気性を有し、スリット９を通るガ
スの流れを均一にし、かつスリット９から粉粒体が落下
することを防止するという２つの機能を併有した粉粒体
落下防止整流部材として設けられているものであり、そ
の目的は以下に説明するように、スリット９を通るスリ
ットガスの流れをコントロールしてスリット９からの粉
粒体の落下を防止することにある。
の下方の全面を覆うようにスリット９の下方に位置し、
金網、多孔板、織布等からなる整流板１５が設けられて
いる。整流板１５は通気性を有し、スリット９を通るガ
スの流れを均一にし、かつスリット９から粉粒体が落下
することを防止するという２つの機能を併有した粉粒体
落下防止整流部材として設けられているものであり、そ
の目的は以下に説明するように、スリット９を通るスリ
ットガスの流れをコントロールしてスリット９からの粉
粒体の落下を防止することにある。
すなわち、通気部８およびスリット９から造粒筒１内に
供給されるガスは最初は給気ファン１６から共通的に吹
き出され、給気ダクト１７内のフィルタ１８を経て清浄
化され、次に熱交換器１９で所望の加熱または冷却温度
とされた後、給気ダクト１７の底部に供給されるが、こ
の給気ダクト１７の底部から造粒筒１の底部に至る給気
路は、前記ガス通路１３，１４を仕切る前記環状隔壁１
１につながる隔壁２０でスリットガス通路２１と通気部
８へのガス通路２２とに仕切られている。これらのスリ
ットガス通路２１とガス通路２２は、それぞれ前記した
スリットガス通路１３およびガス通路１４の各々と流通
している。また、各々のガス通路２１，２２の入口付近
には、スリットガス流量調整弁２３と、ガス流量調整弁
２４とが配設されている。これらの流量調整弁２３，２
４を独立的に制御することにより、スリット９または通
気部８を通って造粒筒１内に噴出される２つのガス流に
よって様々なフローパターンを得ることができる。
供給されるガスは最初は給気ファン１６から共通的に吹
き出され、給気ダクト１７内のフィルタ１８を経て清浄
化され、次に熱交換器１９で所望の加熱または冷却温度
とされた後、給気ダクト１７の底部に供給されるが、こ
の給気ダクト１７の底部から造粒筒１の底部に至る給気
路は、前記ガス通路１３，１４を仕切る前記環状隔壁１
１につながる隔壁２０でスリットガス通路２１と通気部
８へのガス通路２２とに仕切られている。これらのスリ
ットガス通路２１とガス通路２２は、それぞれ前記した
スリットガス通路１３およびガス通路１４の各々と流通
している。また、各々のガス通路２１，２２の入口付近
には、スリットガス流量調整弁２３と、ガス流量調整弁
２４とが配設されている。これらの流量調整弁２３，２
４を独立的に制御することにより、スリット９または通
気部８を通って造粒筒１内に噴出される２つのガス流に
よって様々なフローパターンを得ることができる。
ところで、その場合において、回転円板４が回転する必
要上、スリット６の巾は全体的に均一であるのが好まし
いが、製造上の公差あるいは回転軸５の角度のずれ等に
よりスリット９の巾が部分的に小さくなることも考えら
れる他、一定の巾であっても、スリットガス通路１３の
位置によっては、スリット９から噴出されるスリットガ
スの流量には部分的に差が出る場合がありうる。そこ
で、本実施例では、スリット９のすぐ下方にスリットガ
スの流れに抵抗を与える整流板１５を設けることによ
り、スリット９から噴出するスリットガスの流量を全体
的に均一にすることができ、造粒操作中にスリット９か
ら粉粒体が落下することを防止するものである。本実施
例１の整流板１５は面積が回転円板４の面積に比してか
なり小さく、整流板１５と回転円板４との間に粉粒体が
挟み込まれてこすられるという現象は発生しないことが
本発明者の実験によい認められた。
要上、スリット６の巾は全体的に均一であるのが好まし
いが、製造上の公差あるいは回転軸５の角度のずれ等に
よりスリット９の巾が部分的に小さくなることも考えら
れる他、一定の巾であっても、スリットガス通路１３の
位置によっては、スリット９から噴出されるスリットガ
スの流量には部分的に差が出る場合がありうる。そこ
で、本実施例では、スリット９のすぐ下方にスリットガ
スの流れに抵抗を与える整流板１５を設けることによ
り、スリット９から噴出するスリットガスの流量を全体
的に均一にすることができ、造粒操作中にスリット９か
ら粉粒体が落下することを防止するものである。本実施
例１の整流板１５は面積が回転円板４の面積に比してか
なり小さく、整流板１５と回転円板４との間に粉粒体が
挟み込まれてこすられるという現象は発生しないことが
本発明者の実験によい認められた。
さらに、原料投入時は従来装置では回転円板を下させス
リット９を間隙をゼロにして原料の落下を防止する必要
があったが、本実施例１では整流板１５が投入原料の落
下を直接防止するため、回転円板４の昇降装置が不要と
なる。
リット９を間隙をゼロにして原料の落下を防止する必要
があったが、本実施例１では整流板１５が投入原料の落
下を直接防止するため、回転円板４の昇降装置が不要と
なる。
また、本実施例１では、スリット９のうち、スリットガ
スの流量の特に大きい部分、たとえば第１図においてス
リットガス通路１３の噴出口の上方の部分には、たとえ
ば三日月状の形状を有する抵抗部材１５ａを別設するこ
とができる。この抵抗部材１５ａはスリットガス通路１
３から噴出されるスリットガスを一度この抵抗部材１５
ａに当てて流速を弱めることができるので、スリットガ
ス通路１３の噴出口に相当する部分のみのスリットガス
流量が他の部分よりも大きくなることを防止でき、スリ
ットガスの流量をより均一化できる。もっとも、抵抗部
材１５ａは必ずしも設けなくてもよい。
スの流量の特に大きい部分、たとえば第１図においてス
リットガス通路１３の噴出口の上方の部分には、たとえ
ば三日月状の形状を有する抵抗部材１５ａを別設するこ
とができる。この抵抗部材１５ａはスリットガス通路１
３から噴出されるスリットガスを一度この抵抗部材１５
ａに当てて流速を弱めることができるので、スリットガ
ス通路１３の噴出口に相当する部分のみのスリットガス
流量が他の部分よりも大きくなることを防止でき、スリ
ットガスの流量をより均一化できる。もっとも、抵抗部
材１５ａは必ずしも設けなくてもよい。
また、抵抗部材１５ａを設ける代わりに、整流板１５の
金網のスリットガス通路１３の噴出口の上方の部分にお
いて開口面積を小さくし、他の部分は開口面積をより大
きくすれば、スリット９のガス流量の大きい部分は抵抗
が大きく、ガス流量の少ない部分は抵抗が小さくなり、
スリットガス流量の均一化をさらに良好にすることがで
きる。
金網のスリットガス通路１３の噴出口の上方の部分にお
いて開口面積を小さくし、他の部分は開口面積をより大
きくすれば、スリット９のガス流量の大きい部分は抵抗
が大きく、ガス流量の少ない部分は抵抗が小さくなり、
スリットガス流量の均一化をさらに良好にすることがで
きる。
〔実施例２〕 第２図は本発明の他の実施例を示す拡大部分断面図であ
る。
る。
本実施例２では、整流板１５として多孔板を用いた構造
であり、その整流作用によりスリットガスの流量を均一
にすることができる。
であり、その整流作用によりスリットガスの流量を均一
にすることができる。
勿論、この実施例２においても、スリットガスの流量の
大きい部分に抵抗部材を設けるか、あるいはその部分の
多孔の個数または大きさを大とし、他の部分を小とする
ことによって、さらに均一なスリットガス流量を得るこ
とができる。
大きい部分に抵抗部材を設けるか、あるいはその部分の
多孔の個数または大きさを大とし、他の部分を小とする
ことによって、さらに均一なスリットガス流量を得るこ
とができる。
〔実施例３〕 第３図は本発明のさらに他の実施例を示す拡大部分断面
図である。
図である。
この実施例３においては、通気部８が金網で構成される
と共に、整流板１５が織布で構成されている。
と共に、整流板１５が織布で構成されている。
本実施例の場合も、整流板１５の働きによりスリット９
を通るガス流量が全体的に均一化され、しかも粉粒体が
スリット９から落下して原料の無駄や汚染を起こすこと
を防止できる。
を通るガス流量が全体的に均一化され、しかも粉粒体が
スリット９から落下して原料の無駄や汚染を起こすこと
を防止できる。
なお、本発明は前記実施例に限定されるものではなく、
他の様々な変形が可能である。
他の様々な変形が可能である。
たとえば、整流部材や抵抗部材の構造等を前記実施例以
外のものとすることは任意に可能である。
外のものとすることは任意に可能である。
スリットガス通路内におけるスリットの下方の全面を覆
うように前記スリットの下方に環状に配置された粉粒体
落下防止整流部材を有し、この粉粒体落下防止整流部材
がスリットを通るスリットガスの流れを均一にするとと
もに粉粒体の落下を防止するという２つの機能を同時に
果たすことにより、原料や製品がスリットから落下して
無駄や装置内部の汚染を生じることを防止することがで
きる。
うように前記スリットの下方に環状に配置された粉粒体
落下防止整流部材を有し、この粉粒体落下防止整流部材
がスリットを通るスリットガスの流れを均一にするとと
もに粉粒体の落下を防止するという２つの機能を同時に
果たすことにより、原料や製品がスリットから落下して
無駄や装置内部の汚染を生じることを防止することがで
きる。
(2)．前記(1)により、製品の嵩密度や硬度，粒度等を所
望通りにコントロールでき、球形度の高い製品を生産性
良く得ることができる。
望通りにコントロールでき、球形度の高い製品を生産性
良く得ることができる。
(3)．整流部材を、スリットガス流量の大きい部分は抵
抗が大きく、流量の少ない部分は抵抗が小さくなるよう
構成することにより、スリットのガス流量をさらに均一
化することができる。
抗が大きく、流量の少ない部分は抵抗が小さくなるよう
構成することにより、スリットのガス流量をさらに均一
化することができる。
(4)．スリットのガス流量の大きい部分のみに抵抗部材
を設けることにより、スリットのガス流量をさらに均一
にすることができる。
を設けることにより、スリットのガス流量をさらに均一
にすることができる。
第１図は本発明による粉粒体処理層装置の一実施例を示
す概略的全体断面図、第２図は本発明の他の実施例の拡
大部分断面図、第３図は本発明のさらに他の実施例の拡
大部分断面図である。 １……造粒筒、２……排出シュート、 ３……排出弁、４……回転円板、 ５……回転軸、６……モータ、 ７……ベルト、８……通気部、 ９……スリット、１０……シールリング、 １１……環状隔壁、１２……底壁、 １３……スリットガス通路、 １４……ガス通路、１５……整流板、 １５ａ……抵抗部材、１６……給気ファン、 １７……給気ダクト、 １８……フィルタ、１９……熱交換器、 ２０……隔壁、 ２１……スリットガス通路、 ２２……ガス通路、 ２３……スリットガス流量調整弁、 ２４……ガス流量調整弁、 ２５……スプレー、２６……バグフィルタ、 ２７……パルスジェット。
す概略的全体断面図、第２図は本発明の他の実施例の拡
大部分断面図、第３図は本発明のさらに他の実施例の拡
大部分断面図である。 １……造粒筒、２……排出シュート、 ３……排出弁、４……回転円板、 ５……回転軸、６……モータ、 ７……ベルト、８……通気部、 ９……スリット、１０……シールリング、 １１……環状隔壁、１２……底壁、 １３……スリットガス通路、 １４……ガス通路、１５……整流板、 １５ａ……抵抗部材、１６……給気ファン、 １７……給気ダクト、 １８……フィルタ、１９……熱交換器、 ２０……隔壁、 ２１……スリットガス通路、 ２２……ガス通路、 ２３……スリットガス流量調整弁、 ２４……ガス流量調整弁、 ２５……スプレー、２６……バグフィルタ、 ２７……パルスジェット。
Claims (7)
- 【請求項１】造粒およびコーチングが行われる粉粒体が
投入される胴体部と、 この胴体部内の底部でほぼ水平に回転し、通気可能な通
気部を有する回転板と、 この回転板の外周面と前記胴体部の内周面との間に形成
された環状のスリットと、 前記回転板の下側に設けられ、前記スリットを介して前
記胴体部内にスリットガスを供給するスリットガス通路
と、前記通気部を介して前記胴体部内にガスを供給する
ガス通路とに区分する環状隔壁と、 前記スリットガス通路内における前記スリットの下方の
全面を覆うよう前記スリットの下方に環状に配置され、
前記スリットを通るスリットガスの流れを均一にすると
ともに前記粉粒体の落下を防止する通気性の粉粒体落下
防止整流部材とを有することを特徴とする粉粒体処理装
置。 - 【請求項２】前記粉粒体落下防止整流部材が金網である
ことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の粉粒体処
理装置。 - 【請求項３】前記粉粒体落下防止整流部材が多孔板であ
ることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の粉粒体
処理装置。 - 【請求項４】前記粉粒体落下防止整流部材が織布である
ことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の粉粒体処
理装置。 - 【請求項５】前記粉粒体落下防止整流部材が、前記スリ
ットのガスの流れ易い部分は抵抗が大きく、前記スリッ
トのガスの流れにくい部分は抵抗が小さく構成されてい
ることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の粉粒体
処理装置。 - 【請求項６】前記スリットのガスの流れ易い部分のみに
抵抗部材が設けられていることを特徴とする特許請求の
範囲第１項記載の粉粒体処理装置。 - 【請求項７】前記回転板の通気部を通るガスと、前記ス
リットを通るガスとはそれぞれ独立に制御されることを
特徴とする特許請求の範囲第１項記載の粉粒体処理装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60084166A JPH0624620B2 (ja) | 1985-04-19 | 1985-04-19 | 粉粒体処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60084166A JPH0624620B2 (ja) | 1985-04-19 | 1985-04-19 | 粉粒体処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61242628A JPS61242628A (ja) | 1986-10-28 |
| JPH0624620B2 true JPH0624620B2 (ja) | 1994-04-06 |
Family
ID=13822906
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60084166A Expired - Fee Related JPH0624620B2 (ja) | 1985-04-19 | 1985-04-19 | 粉粒体処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0624620B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10203887A (ja) * | 1997-01-16 | 1998-08-04 | Mitsubishi Chem Corp | 被覆粒状肥料の製造方法 |
| DE60038561T2 (de) | 1999-06-07 | 2009-05-14 | Freund Industrial Co., Ltd. | Granulationsvorrichtung mit zentrifugalrollen und verfahren zur behandlung von puder und granularem material mit dieser vorrichtung |
| DE102018208932A1 (de) * | 2018-06-06 | 2019-12-12 | Glatt Gesellschaft Mit Beschränkter Haftung | Anströmboden für einen Fluidisierungsapparat |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5995924A (ja) * | 1982-11-22 | 1984-06-02 | Furointo Sangyo Kk | 造粒コ−チング装置 |
-
1985
- 1985-04-19 JP JP60084166A patent/JPH0624620B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61242628A (ja) | 1986-10-28 |
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