JP2004004993A - 液晶装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 液晶装置LPの液晶装置用基板AMにおいて、シール層GSの下層側には、画素部21の外周縁に沿って形成されたギャップ制御領域41、42、43、44の途切れ部分40にシフトレジスタに接続された検査用の入出力信号端子XEP1 、XEP2 、XEP3 、XEP4 、YEP1 、YEPが形成されている。
【選択図】 図1
Description
(液晶装置の全体構成)
図1および図2は、それぞれ、本発明を適用した液晶装置の平面図、およびそのH−H′線における断面図である。
シール層GSには、エポキシ樹脂や各種の紫外線硬化樹脂などを用いることができ、それに配合されるギャップ材としては直径約2μm〜約6μmの円筒や球状のグラスファイバーあるいはガラスビーズなどを用いることができる。
(液晶装置用基板および画素部の構成)
図3は、本形態の液晶装置に用いられる駆動回路内蔵型の液晶装置用基板のブロック図である。
(駆動回路の構成)
再び図3において、液晶装置用基板AMに構成されているデータ線駆動回路22は、X側シフトレジスタ回路221、バッファ回路222、X側シフトレジスタ回路221からバッファ回路222を介して出力された信号に基づいて動作するTFTからなるアナログスイッチS1 、S2 、S3 ・・・を備えるサンプルホールド回路224、および6相に展開された各画像信号に対応する6本の画像信号線VID1〜VID6が構成されている。
(ギャップ制御領域の構成)
図8および図9はそれぞれ、図1に示す液晶装置のコーナー部分付近AAの拡大図、およびコーナー部分付近BBの拡大図である。
(ギャップ制御領域41の改良例)
図10に示すように、データ線駆動回路22の側では、基板外周縁から画素部21に向かって形成されたX側シフトレジスタ回路221、バッファ回路222、画像信号線VID1〜VID6、サンプルホールド回路224のうち、画像信号線VID1〜VID6の形成領域からサンプルホールド回路224の形成領域に至る領域を利用してギャップ制御領域41を構成してもよい。すなわち、バッファ回路222とサンプルホールド回路224とを接続する多数のサンプリング信号入力用配線パターン225、および画像信号線VID1〜VID6とサンプルホールド回路224とを接続する画像信号サンプリング用配線パターン226のいずれについても、データ線Xと同時形成された配線層412と、走査線Yと同時形成された配線層413との2段重ねにしておき、これらの重なり部分でギャップ制御領域41を構成してもよい。ここで、画像信号線VID1〜VID6の形成領域もシール層GSの下層側に配置すれば、画像信号線VID1〜VID6とサンプルホールド回路224とを接続する画像信号サンプリング用配線パターン226が画像信号線VID1〜VID6と重なる部分217でも配線層が2段重ねになるので、ギャップ制御に利用できる。
(検査回路の構成)
図1に示すように、本形態の液晶装置用基板AMでは、さらに、画素部21に対してデータ線駆動回路22が形成されている側とは反対側において、前記の表示画面見切り用のブラックマトリクスBM2に重なる領域には、データ線Xに対する検査回路70も形成されている。
それ故、検査用の入出力信号端子CX1 、CX2 、CX3 、CX4 、TX1 、TX2 、XEP1 、XEP2 、XEP3 、XEP4 、YEP1 、YEP2 が従来占有していた部分を省くことができるので、走査線駆動回路23やデータ線駆動回路22に対してはそれを構成するTFTのチャネル幅の拡張による動作速度の向上、あるいは大規模回路の導入などを行うことができる。すなわち、本形態の液晶装置LPでは、液晶装置用基板AMを大型化せずに、かつ、画素部21やシール層GSが占めている部分を縮小することなく、走査線駆動回路23やデータ線駆動回路22の形成領域を実質的に拡張することができる。また、逆にいえば、検査用の入出力信号端子CX1 、CX2 、CX3 、CX4 、TX1 、TX2 、XEP1 、XEP2 、XEP3 、XEP4 、YEP1 、YEP2 が従来占有していた部分を省いた分、液晶装置用基板AMの周辺部分(額縁領域26)を縮小できるので、同じ大きさの表示領域を有しながらも周辺部分が狭い液晶装置LPを構成することができる。しかも、検査用の入出力信号端子CX1 、CX2 、CX3 、CX4 、TX1 、TX2 、XEP1 、XEP2 、XEP3 、XEP4 、YEP1 、YEP2 の形成によって、この部分に凹凸が形成されても、これらの検査用の入出力信号端子CX1 、CX2 、CX3 、CX4 、TX1 、TX2 、XEP1 、XEP2 、XEP3 、XEP4 、YEP1 、YEP2 が形成されているのは、画素部21の外周縁に沿って形成されたギャップ制御領域41、42、43、44の途切れ部分40であるため、液晶装置用基板AMと対向基板OPとのセルギャップの精度を低下させることがない。しかも、これらの検査用の入出力信号端子は、ギャップ制御領域よりも低く形成されているので、セルギャップの精度に何等影響されることがない。また、検査用の入出力信号端子CX1 、CX2 、CX3 、CX4 、TX1 、TX2 、XEP1 、XEP2 、XEP3 、XEP4 、YEP1 、YEP2 は最終的にはシール層GSで覆われ、液晶側や対向基板OPから完全に絶縁分離された状態になるので、これらの検査用の入出力信号端子を介しての対向基板OPと液晶装置用基板AMとの間の無用なショートの発生を防止できる。
(液晶装置用基板の検査方法)
このような構成の液晶装置LPの製造工程のうち、そのデータ線X1 、X2 ・・・のオープンやショートなどを検査する方法を、図6を参照して説明する。
(液晶装置用基板AMの製造方法)
本形態に係る液晶装置用基板の製造方法を、図11ないし図14を参照して説明する。これらの図は、本形態の液晶装置用基板の製造方法を示す工程断面図であり、いずれの図においても、その左側部分には図5のA−A′線における断面(画素TFT部の断面)、中央部分には図8のC−C′線における断面(ギャップ制御領域の断面)、右側部分には図8のB−B′線における断面(検査用の入出力信号端子部の断面)を示してある。
従って、検査工程が終了した後には検査用信号入力端子9bがシール層GSで覆われることになるが、これらの検査用信号入力端子9bは検査工程に用いる他に使用することがないので、検査用信号入力端子9bをシール層GSの下層側に埋め込んでも差し支えない。
(製造方法の改良例)
上記形態では、図13(A)に示すように、ポリシリコン膜3をパターニングして、それを導電化したものを検査用の入出力信号端子部において検査用配線3b(検査用信号配線b1 、b2 、b3 、b4 、c1 、c2 )として用いたが、検査用配線3bについては、データ線Xと同時形成されたアルミニウム膜を利用してもよい。但し、検査用配線3bを構成するアルミニウム膜と、検査用の入出力信号端子9bを構成するITO膜とは電気的な接続が悪い。そこで、本例では、図15(A)に示す工程までは、図13(A)を参照して説明した工程までと同様に行い、図15(B)に示すように、第1の層間絶縁膜4にコンタクトホール5aを形成する際に、併せて、検査用の入出力信号端子部の側にもコンタクトホール5bを形成する。そして、図15(C)に示すように、第1の層間絶縁膜4の表面側に、データ線(ソース電極)を構成するためのアルミニウム膜6をスパッタ法などで形成した後、図15(D)に示すように、フォトリソグラフィ技術を用いて、アルミニウム膜6をパターニングする際に、検査用入出力端子部の側にもアルミニウム膜6を検査用信号配線6bとして残す。
(液晶装置の使用例)
上記実施の形態に係る液晶装置を透過型で構成した場合の電子機器への使用例を、図17ないし図21を参照して説明する。
22 データ線駆動回路
23 走査線駆動回路
25 実装端子
26 額縁領域
28、29 信号配線
40 ギャップ制御領域の途切れ部分
41、42、43、44 ギャップ制御領域
60 画素スイッチング用のTFT
210 画素部のコーナー部分
221 X側シフトレジスタ回路
224 サンプルホールド回路
AM 液晶装置用基板
BM1 ブラックマトリクス
BM2 表示画面見切り用のブラックマトリクス
CX1 、CX2 、CX3 、CX4 検査用の入出力信号端子
GS シール層LC 液晶
LP 液晶装置
OP 対向基板
PX 画素
Q1 、Q2 、Q3 ・・・ ビット信号
S1 、S2 、S3 ・・・ アナログスイッチ
TX1 、TX2 検査用の入出力信号端子
VID1〜VID6 画像信号線
X(X1 、X2 ・・・) データ線
XEP1 、XEP2 、XEP3 、XEP4 検査用の入出力信号端子
Y(Y1 、Y2 ・・・) 走査線
YEP1 、YEP2 検査用の入出力信号端子
a1 、a2 ・・・検査用TFT(検査用スイッチング回路)
b1 、b2 、b3 、b4 検査用信号配線
c1 、c2 検査用信号配線
Claims (6)
- 複数の画素からなる画素部と、該画素部を駆動するための駆動回路とを備える液晶装置用基板と、該液晶装置用基板に対向配置される対向基板と、前記画素部の外周縁に沿って、且つ前記対向基板と前記液晶装置用基板との間に形成されたギャップ材含有のシール層とを有する液晶装置であって、
前記駆動回路は、前記シール層の外側に設けられ、
前記液晶装置用基板には、
前記シール層の領域に、前記画素部のコーナー部に途切れ部分をもって当該画素部の外周縁に沿って形成され、前記画素部を構成する材料で形成されたギャップ制御領域と、
該ギャップ制御領域の前記途切れ部分に前記駆動回路に接続された検査用端子とを備えていることを特徴とする液晶装置。 - 検査回路を備え、前記検査回路側のギャップ制御領域と前記駆動回路側のギャップ制御領域との途切れ部分に、前記駆動回路に接続された検査用端子と前記検査回路に接続された検査端子が設けられていることを特徴とする請求項1に記載の液晶装置。
- 検査回路を備え、前記駆動回路に接続された検査用端子が設けられたコーナー部の途切れ部分とは、他のコーナー部の途切れ部分に前記検査回路に接続された検査端子が設けられていることを特徴とする請求項1に記載の液晶装置。
- 複数の画素からなる画素部と、該画素部を駆動するための駆動回路とを備える液晶装置用基板と、該液晶装置用基板に対向配置される対向基板と、前記画素部の外周縁に沿って、且つ前記対向基板と前記液晶装置用基板との間に形成されたギャップ材含有のシール層とを有する液晶装置であって、
前記駆動回路を構成するシフトレジスタ回路は、前記シール層の外側に設けられ、
前記液晶装置用基板には、
前記シール層の領域に、前記画素部のコーナー部に途切れ部分をもって当該画素部の外周縁に沿って形成され、前記画素部を構成する材料で形成されたギャップ制御領域と、
該ギャップ制御領域の前記途切れ部分に前記シフトレジスタ回路に接続された検査用端子とを備えていることを特徴とする液晶装置。 - 検査回路を備え、前記検査回路側のギャップ制御領域と前記駆動回路側のギャップ制御領域との途切れ部分に、前記シフトレジスタ回路に接続された検査用端子と前記検査回路に接続された検査端子が設けられていることを特徴とする請求項4に記載の液晶装置。
- 検査回路を備え、前記シフトレジスタ回路に接続された検査用端子が設けられたコーナー部の途切れ部分とは、他のコーナー部の途切れ部分に前記検査回路に接続された検査端子が設けられていることを特徴とする請求項4に記載の液晶装置。
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