JP2003512469A - アスコルビン酸から誘導されるケイ素化合物 - Google Patents

アスコルビン酸から誘導されるケイ素化合物

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Abstract

(57)【要約】 本発明は、少なくとも式(I)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】 本発明は、脂溶性で安定した、新規なアスコルビン酸のケイ素含有誘導体に関
する。また、本発明は、特にこれらの新規な誘導体を含む化粧品用及び製薬用組
成物、並びにそれらの使用に関する。
【0002】 多くのケイ素の誘導体が知られている。よって、特許出願FR2645863
には、シラノールファミリーに属する化合物と、有機又は無機酸のアルカリ金属
又はアンモニウム誘導体とで形成される分子複合体を記載している。このように
して、水に溶解する利点を有する分子の組合せが得られる。この文献は、特にモ
ノメチルシラントリオールとアスコルビン酸カリウムとで形成される分子複合体
を挙げている。しかしながら、この文献に明記されているように、特にそれらが
濃縮溶液である場合、これらの複合体の安定性はあまり良くない。特にそれらは
重合する傾向があり、それらの部分的な不溶化を引き起こす。また、2,3,5,
6-ビス(ジメチルシリル)アスコルベート又はアスコルボシリルは、特許出願W
O96/10575によって知られ;この場合では、それは反応性シラノール官
能基の前駆体であり、よってまた不安定である。
【0003】 本発明の目的は、アスコルビン酸から誘導される新規なケイ素含有化合物を提
供することにあり、前記化合物は、脂溶性であり、乾燥状態、及び希釈又は濃縮
溶液での両方で良好な安定性を有する。 従って、本発明の主題は、下記に定義されるような、アスコルビン酸から誘導
された新規なケイ素含有化合物にある。 本発明の他の主題は、下記に定義する式(2)から(4)の化合物を調製する
方法にあり、それは、下記に定義される式(5)から(7)の1つで表される対
応するシロキサン又はシラン誘導体の、下記に定義される式(I’)の化合物か
ら選択されるアスコルビン酸の有機誘導体でのヒドロシリル化反応、それに続く
、例えばイソプロピリデンの酸加水分解及び/又は接触水素化による脱ベンジル
化による得られた化合物の脱保護による。
【0004】 本発明の他の主題は、下記に定義される式(I’’’)の誘導体と次の式(8
): [ここで、Halはハロゲン、より詳細には塩素又はヨウ素を示し、基R、R' 、R'、R'、V、p及びqは上記と同じ意味を有する]のシラン誘導体と
の反応により下記に定義される式(2)のシラン誘導体を調製する方法にある。
【0005】 また、本発明の他の主題は、特に化粧品的又は製薬的に許容可能な媒体と上記
に定義されるようなアスコルビン酸から誘導される少なくとも1つのケイ素含有
化合物を含む、化粧品用又は製薬用組成物にある。 本発明の他の主題は、抗酸化及び/又は抗フリーラジカル剤としてのアスコル
ビン酸から誘導される少なくとも1つのこのようなケイ素含有化合物の、特に化
粧品用又は製薬用組成物における使用にある。 特に、この使用は、酸化ストレスの処置及び/又は日光への暴露による影響の
処置及び/又は特に皮膚、毛髪、まつげ、眉毛及び/又は爪の老化防止のための
化粧法、又は化粧品組成物における使用であってよい。
【0006】 また、この使用は、酸化ストレスの処置及び/又は電離又は太陽放射への暴露
の影響の処置、及び/又は特に皮膚、毛髪、まつげ、眉毛及び/又は爪の老化防
止、及び/又はフリーラジカルを生成する特定薬剤の使用による影響の処置のた
めの製薬用組成物の調製のためである。 従って、出願人はケイ素含有鎖に一又は複数のアスコルビン酸を共有的にグラ
フトすることにより、従来からの有機溶媒、特に油のような脂肪物質での非常に
良好な溶解特性、並びにこれらの媒体中での、又はそれ自体の高い安定性を有す
る新規な化合物が得られることを発見した。 さらに、これらの化合物が優れた化粧品特性を有することが分かった。
【0007】 従って、本発明に係る化合物は − 式(1): の少なくとも1つの単位を有するシリコーン含有鎖からなること、あるいは − 又は次の式(2): に相当するシランであることの何れかを特徴とし、 ここで: − Rは直鎖状、環状又は分岐状の、飽和又は不飽和の、場合によっては部分的
に又は全体にハロゲン化されていてもよい、C−C30の炭化水素基又は式 -
O-SiMeのトリメチルシリルオキシ基を示し; − aは1又は2に等しく、 − R'、R'、R'は同一又は異なっていて、直鎖状又は分岐状のC-C のアルキル基、直鎖状又は分岐状のC-Cのアルケニル基、又はトリメチ
ルシリルオキシ基から選択され; − Aは次の式(I): (ここで、L、L、L及びLは、水素又はケイ素含有鎖に基Aを結合さ
せる式(a)又は(a')の二価の基を示し、ただし、基L、L、L及び
の少なくとも1つが、好ましくは前記の基L、L、L及びLの1つ
のみが、次の式(a)又は(a'): (ここで: − Vは、直鎖状又は分岐状で、飽和又は不飽和の、場合によってはヒドロキシ
ル基、又は直鎖状又は分岐状で、飽和又は不飽和のC-Cのアルコキシ基と
置換されていてもよい、二価のC-Cの炭化水素基であり; − Rは、水素原子、ヒドロキシル基、又は直鎖状又は分岐状で、飽和又は不
飽和のC-Cの炭化水素基を示し; − pは0又は1、qは0又は1で、p+qが0ではないと理解される)の前記
二価の基を示す)の基である。
【0008】 従って、式(1)の単位を少なくとも1つ含むシリコーン含有鎖からなる本発
明に係る化合物は、特に式(1a): の少なくとも1つの単位、及び/又は式(1b): の少なくとも1つの単位を含む。
【0009】 好ましくは、それらは、例えば式(1c): の(ジ-)アルキルシロキサン型の少なくとも1つの他の単位を更に含んでいても
よい。
【0010】 従って、それらは特に、次の式(3)又は(4): [ここで: − 基Bは、同一又は異なっていて、基R及びAから選択され、 − rは0から50、好ましくは0と5の間の整数であり、 − sは0から20、好ましくは0、1又は2から選択される整数であって、た
だし、s=0の場合、2つの基Bの少なくとも1つがAに相当し、 − uは1から6、好ましくは1又は2から選択される整数であり、 − tは0から9、好ましくは2、3又は4から選択される整数であり、 − t+uは3から10であり、好ましくは3、4、5、又は6に等しいと理解
される]の1つで示され得る。
【0011】 好ましくは、基Rは、同一又は異なっていて、直鎖状、環状又は分岐状の、飽
和又は不飽和のC-C18の炭化水素基、及び直鎖状又は分岐状の、飽和又は
不飽和の、部分的にハロゲン化された、特にフッ素化された、C-Cの炭化
水素基から選択される。 さらにより好ましくは、基Rは、同一又は異なっていて、直鎖状又は分岐状の
-C10のアルキル基、フェニル基、及び直鎖状又は分岐状のフッ素化され
たC-Cのアルキル基から選択される。 メチル及び3,3,3-トリフルオロプロピル基を特に挙げられ得る。さらに特
には、基Rの数値的に少なくとも80%がメチル基である。 好ましくは、基R'、R'、R'は、同一又は異なっていて、直鎖状又は
分岐状のC-Cのアルキル基、特にメチル又はエチル基、及びトリメチルシ
リルオキシ基から選択される。
【0012】 一般に、式(1)、(2)、(3)又は(4)の1つに相当するケイ素含有誘
導体は、次の特性の少なくとも1つを有することが、特により好ましい: − RがCHである; − BがCHである; − R'、R'、R'が、CH又はトリメチルシリルオキシ基を示す; − Rが水素原子又はCHである; − Vが-CH-又は-CH-CH(OH)CH-である、 − pが1である、 − rが0から5の間である、 − sが1から2の間である、 − t+uが3から6の間である。
【0013】 好ましくは、式(a)又は(a’)に相当する二価の基は、直鎖状又は分岐状
で、飽和又は不飽和の、場合によってはヒドロキシル化された、二価のC-C
の炭化水素基、例えばメチレン(-CH-)、エチレン(-CH-CH-)
、プロピレン(-CH-CH-CH-)、n-ブチレン(-CH-CH-CH -CH-)、又はイソブチレン(-CH-CH(CH)-CH-)基、及び基
-CH=CH-CH-、-CH=C(CH)-CH-、-CH=CH-CH(CH)-及
び-CH-CH(OH)-CH-から選択される。
【0014】 式(1)、より詳細には式(3)に相当する好ましいケイ素含有誘導体として
は、特に次の化合物を挙げることができる: − 5-(1,2-ジヒドロキシエチル)-3-ヒドロキシ-4-(3-[1,3,3,3-テト
ラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]ジシロキサニル]プロピルオキシ)-5
H-フラン-2-オン、 − 5-(1,2-ジヒドロキシエチル)-4-ヒドロキシ-3-(3-[1,3,3,3-テト
ラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]ジシロキサニル]プロピルオキシ)-5
H-フラン-2-オン、 − 5-(1,2-ジヒドロキシエチル)-3-ヒドロキシ-4-[2-メチル-3-[1,3,
3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]ジシロキサニル]プロピル
オキシ]-5H-フラン-2-オン、 − 5-(1,2-ジヒドロキシエチル)-4-ヒドロキシ-3-[2-メチル-3-[1,3,
3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]ジシロキサニル]プロピル
オキシ]-5H-フラン-2-オン、 − 5-(1,2-ジヒドロキシエチル)-4-[3-[3-[2-メチル-3-[1,3,3,3-
テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]ジシロキサニル]プロピルオキシ]
-2-ヒドロキシ-プロピルオキシ]-3-ヒドロキシ]-5H-フラン-2-オン、及び − 5-(1,2-ジヒドロキシエチル)-3-[3-[3-[2-メチル-3-[1,3,3,3-
テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]ジシロキサニル]プロピルオキシ]
-2-ヒドロキシ-プロピルオキシ]-4-ヒドロキシ]-5H-フラン-2-オン。
【0015】 式(2)に相当する好ましいケイ素含有誘導体の中で、次の化合物を挙げるこ
とができる: − 5-(1,2-ジヒドロキシエチル)-3-ヒドロキシ-4-トリメチルシラニルメ
トキシ-5H-フラン-2-オン、 − 5-(1,2-ジヒドロキシエチル)-4-ヒドロキシ-3-(3-トリメチルシラニ
ルメトキシ)-5H-フラン-2-オン、 − 5-(1,2-ジヒドロキシエチル)-3-ヒドロキシ-4-(3-トリメチルシラニ
ルプロピルオキシ)-5H-フラン-2-オン、及び − 5-(1,2-ジヒドロキシエチル)-4-ヒドロキシ-3-(3-トリメチルシラニ
ルプロピルオキシ)-5H-フラン-2-オン。
【0016】 式(1)から(4)の誘導体の調製のための方法は、例えば基Aの全てが水素
原子であるような相当するシロキサン又はシラン誘導体で始まるヒドロシリル化
反応を用いて、従来のように実施されうる。このシロキサン又はシラン誘導体は
、以下の説明において、「SiH含有誘導体」と呼ぶ。 SiH基は、ケイ素含有鎖の鎖中及び/又は末端に存在していてよい。これら
のSiH含有誘導体は、ケイ素工業においてよく知られ、一般に商業的に入手可
能な製品である。それらは、例えば特許米国特許第3220972号、米国特許
第3697473号及び米国特許第4340709号に記載されている。
【0017】 式(2)から(4)の化合物を調製することのできるSiH含有誘導体は、次
の式(5)から(7)で表され得る: (ここで: − R'、R'、R'、R、r、s、t及びuは、上で与えられる意味を有
し、 − B'は同一又は異なっていて、基R及び水素原子から選択され、ただしs=
0の場合、2つの基B'の少なくとも1つはHを示す)。
【0018】 上記の式(2)から(4)の本発明に係る化合物の調製のために、当該方法は
次のように実施することができる。 式(5)、(6)又は(7)のSiH含有誘導体のヒドロシリル化の反応は、
好ましくは触媒として有効な量の白金触媒の存在下で、次の式(I’): [ここで、L'、L'、L'及びL'は、ベンジルオキシ基に相当するか、
又は次の2つの式(b)及び(b’): (ここで、R、V及びpは上記と同じ意味を有し、基L'及びL'は、さら
にアスコルビン酸残基と共に少なくとも1つのC-のアルキル基又はフェニ
ル基、特にメチル、エチル又はフェニル基で、さらに又は2つのアルキル又はフ
ェニル基で置換されたメチレンジオキシ環を形成することが可能であり; ただし、少なくとも1つの基L'、L'、L'及びL'は基(b)又は(b
’)を示す。)の1つに相当する]の化合物から選択されるアスコルビン酸の有
機誘導体で実施される。
【0019】 即ち、ヒドロシリル化反応は次の2つの反応の1つによって実施することがで
きる:
【0020】 これらの誘導体(I’)は、特に、従来の方法で、式(I”): [ここで、L"1、L"2、L"3及びL"4は、ベンジルオキシ基又は水素原子を
示し、ただし、基L"1、L"2、L"3及びL"4の少なくとも1つは、水素を示
す]の誘導体とアルケン又はアルケニルハロゲン化物の縮合により得ることがで
きる。
【0021】 式(I")のこれらの誘導体は、当業者によく知られている従来の方法に従っ
て調製してもよく;いくつかは、特に特許出願EP411184に記載されてい
る。 式(I’)のアスコルビン酸誘導体での式(5)、(6)又は(7)のSiH
含有誘導体のヒドロシリル化の後、文献で知られている従来の脱保護法に従って
、例えば、接触水素化による脱ベンジル化及び/又はイソプロピリデンの酸加水
分解によって得られた化合物の脱保護を実施することが可能である。 こうして、本発明に係る上記の式(2)から(4)の化合物が得られる。
【0022】 さらに、 − 式(I’’’): [ここで、L"、L"、L"及びL"はベンジルオキシ基又は水素原子を示
し、 L"、L"は、さらにアスコルビン酸残基と共に、少なくとも1つのC-
アルキル基又はフェニル基、特にメチル、エチル又はフェニル基で、さらに又は
2つのアルキル又はフェニル基で置換されたメチレンジオキシ環を形成すること
ができ; ただし、基L"、L"、L"及びL"の少なくとも1つは水素を表す]の誘
導体を、 − 次の式(8): [ここで、Halはハロゲン、より詳細には塩素又はヨウ素を示し、基R、R' 、R'、R'、V、p及びqは上記と同じ意味を有する]のシラン誘導体と
反応させることからなる他の合成方法に従って、式(2)のシラン誘導体を調製
することができる。
【0023】 本発明に係る化合物は、通常本発明の組成物中に、組成物の全重量に対して0
.1から10重量%、好ましくは0.5から5重量%の割合で存在する。 これらの組成物は、特に化粧品用又は製薬用組成物であってよく、従ってさら
に化粧品的に又は製薬的に許容可能な媒体、つまりケラチン物質、例えば体や顔
の皮膚、粘膜、半粘膜、頭皮並びに表面増殖体(superficial body growths)例え
ば爪、毛髪、まつげ及び眉毛に適した媒体を含む。 本発明に係る組成物は、化粧品的又は製薬的に許容可能なあらゆる製剤形態(g
alenic form)、例えば場合によっては多相で、場合によっては増粘又はゲル化し
た溶媒又は水性アルコール媒体中のローション、懸濁液、分散体又は溶液の形態
;ゲル、フォーム、スプレー、又は水中油、油中水又は多重エマルジョンの形態
;ルーズな、コンパクトな又は成形した粉末の形態;又は固体又は無水ペースト
の形態で提供されてもよい。
【0024】 当分野の技術者は、彼らの一般的な知識に基づき、一方で使用する成分の性質
、特に担体中でのそれらの安定性を、他方で組成物に想定される用途を考慮に入
れて、適した製剤形態、並びにその調製方法を選択することができるであろう。 従って組成物は、考慮される分野で通常使用されるアジュバント、例えば脂肪
物質、有機溶媒、水、シリコーン、増粘剤、軟化剤、サンスクリーン剤、消泡剤
、保湿剤、香料、保存料、界面活性剤、フィラー、金属イオン封鎖剤、アニオン
性、カチオン性、非イオン性及び/又は両性ポリマー、推進剤、アルカリ性化又
は酸性化剤、染料、顔料又はナノ顔料、化粧品有効成分から選択される少なくと
も1つの成分を含みうる。 脂肪物質の中で、特に動物、植物、鉱物又は合成由来の油及び/又はロウ類;
-C32の脂肪酸;C-C32の脂肪酸エステル;C-C32の脂肪アル
コールを挙げることができる。より詳細には、ワセリン、パラフィン、ラノリン
、硬化ラノリン、アセチル化ラノリン、硬化パーム油、硬化ヒマシ油、液体パラ
フィン、パラフィン油、パーセリン(Purcellin)油、シリコーン油、揮発性又は
その他のイソパラフィンを挙げることができる。
【0025】 有機溶媒の中で、C-Cの低級ポリオール、例えばエタノール、イソプロ
パノール、プロピレングリコール、グリセリン又はソルビトールを挙げることが
できる。 もちろん、当業者は、本発明に係る化合物に元来付随する有利な特性を、想定
される添加によって、損なう、又は実質的に損なうことがないように、上に挙げ
た可能な添加化合物及び/又はそれらの量を選択することに留意するであろう。 本発明の化合物は、特に脂肪物質、例えばミグリオール、アルコール(特にエ
タノール)、グリコール(特にプロピレングリコール)及びシリコーン油(特に
PDMS)において、優れた脂溶性を有することが観察された。さらに、それら
は、少なくとも1つの脂肪相又は化粧品的に許容可能な有機溶媒を含む通常の化
粧品担体に均一に分配されてなる。
【0026】 さらに、本発明に係る化合物は、良好な抗酸化及び/又は抗フリーラジカル特
性を持ちうることが観察された。 従ってそれらは、酸化ストレスの処置及び/又は日光暴露の影響の処置、及び
/又は特に皮膚、毛髪、まつげ、眉毛及び/又は爪の老化防止を意図した、化粧
品用又は製薬用組成物において極めて特別な用途が見いだされる。 従ってそれらを含む組成物は、体及び/又は顔の皮膚、及び/又は毛髪、まつ
げ、眉毛及び/又は爪に適用するための組成物として極めて特別な用途が見いだ
される。
【0027】 特に、これらの組成物は: − ヒト表皮又は毛髪を紫外線から守る組成物(抗日光用組成物)として; − 特に、シャンプーの前又は後、染色又は脱色の前又は後、パーマ又は髪をス
トレートにする前、間又はした後に適用するための、シャンプー、ローション、
ゲル又は洗い流し組成物の形態、ヘアースタイリング又はトリートメントローシ
ョン又はゲルの形態、ブロードライ又はヘアセットローション又はゲルの形態、
ヘアラッカーの形態、パーマ又は髪をストレートにするための、髪を染色又は脱
色するための組成物の形態である、毛髪の保護又は治療又はケアのための化粧品
組成物として; − 体及び/又は顔の皮膚のケア用組成物、例えば表皮のためのトリートメント
クリーム、デイクリーム、ナイトクリーム、抗シワ用クリーム、保湿クリーム、
ハンド又はフットクリームとして; − まつげ、眉毛、毛髪、体又は顔のためのメイクアップ組成物、例えばファン
デーション、リップスティック、アイシャドウ、ブラッシャー、アイライナー、
マスカラ、染色ゲル、マニキュアとしての用途がありうる。
【0028】 本発明は、次の実施例でさらに詳細に例示される。 実施例1:5-(1,2-ジヒドロキシエチル)-3-ヒドロキシ-4-トリメチルシラ
ニルメトキシ-5H-フラン-2-オンの調製
【0029】 a)第1工程:5-(2,2-ジメチル-[1,3]-ジオキソラン-4-イル)-3-ヒドロ
キシ-4-トリメチルシラニルメトキシ-5H-フラン-2-オンの調製 19.26g(0.09mol)の(イオドメチル)トリメチルシランを、75
mlのジメチルスルホキシド(DMSO)中の12.96g(0.06mol)
の5-(2,2-ジメチル-[1,3]ジオキソラン-4-イル)-3,4-ジヒドロキシ-5
H-フラン-2-オン(M. E. Jung等J. Am. Chem. Soc.,1980, 102, 6304に従って
調製)及び7.56g(0.09mol)の重炭酸ナトリウムの混合物に、窒素
下で添加する。 全体を55℃で19時間加熱する。混合物を冷却し、150mlの水に投入す
る。混合物を室温(25℃)で1時間撹拌する。沈殿物を濾過する。それを水で
洗浄し、真空下で乾燥させる。 11.1g(収率61%)の所望の生成物を白色固体の形態で得た。 1H NMRスペクトル(CDCl、200MHz):4.40(d、J=4
Hz、1H);4.15(m、2H);4.07(m、1H);3.89(m、
2H);1.28(s、3H);1.25(s、3H);0.00(s、9H)
【0030】 b)第2工程:5-(1,2-ヒドロキシエチル)-3-ヒドロキシ-4-トリメチルシ
ラニルメトキシ-5H-フラン-2-オンの調製 80mlのメタノールと40mlの2N HCl水溶液の混合物中の上記誘導
体(6.4g、0.021mol)を50℃で2時間加熱した。大部分のメタノ
ールを取り除くために、混合物を40℃の真空下で乾燥させる。残物を200m
lの水に投入する。混合物を重炭酸ナトリウムで中和する。混合物をエチルアセ
テートで抽出する。有機相を食塩水で洗浄し、NaSOで乾燥させる。溶媒
を蒸発させる。 シリカで精製して、無色の油を得る(溶離液:シクロヘキサン/エチルアセテ
ート 50/50)。4.0g(収率72%)の所望の生成物が無色の油の形態
で得られる。 1H NMRスペクトル(CDCl、200MHz):4.54(d、J=2
Hz、1H);4.22(m、2H);3.80(m、3H);0.01(s、
9H)。
【0031】 実施例2:5-(1,2-ジヒドロキシエチル)-4-ヒドロキシ-3-(3-トリメチル
シラニルメトキシ)-5H-フラン-2-オンの調製
【0032】 a)第1工程:4-ベンジルオキシ-5-(2,2-ジメチル-[1,3]-ジオキソラン-
4-イル)-3-ヒドロキシ-5H-フラン-2-オンの調製 臭化ベンジル(13.0ml、0.11mol)を、125mlのDMSO中
の5-(2,2-ジメチル-[1,3]ジオキソラン-4-イル)-3,4-ジヒドロキシ-5
H-フラン-2-オン(21.62g、0.1mol)と重炭酸ナトリウム(12
.6g、0.15mol)の混合物に、窒素下で添加する。混合物を55℃で1
6時間加熱する。それを冷却し、250mlの水に投入する。混合物をエチルア
セテートで抽出する。有機相を食塩で洗浄し、NaSOで乾燥させる。溶媒
を蒸発させる。 茶色の油が得られ、それをシリカで精製して(溶離液:シクロヘキサン/エチ
ルアセテート 75/25)、13.8g(収率45%)の所望の生成物が僅か
に黄色い油の形態で与えられる。 1H NMRスペクトル(CDCl3、200MHz):7.56(m、5H)
;5.77(s、2H);4.77(d、J=4Hz、1H)4.46(m、1
H);4.20(m、2H);1.55(s、3H);1.48(s、3H)。
【0033】 b)第2工程:4-ベンジルオキシ-5-(2,2-ジメチル-[1,3]ジオキソラン-
4-イル)-3-トリメチルシラニルメトキシ-5H-フラン-2-オンの調製 (イオドメチル)トリメチルシラン(6.15g、0.029mol)を、上記
生成物(8.0g、0.026mol)と炭酸カリウム(4.32g、0.03
1mol)の混合物に窒素下で添加する。混合物を室温で48時間撹拌する。2
00mlの水に投入する。混合物をエチルアセテートで抽出する。有機相を食塩
水で洗浄し、NaSOで乾燥させる。 溶媒を蒸発させた後、次の工程でそのまま使用される橙色の油(10.5g)
が得られる。 1H NMRスペクトル(CDCl、200MHz):7.27(m、5H)
;5.34(s、2H);4.40(d、J=3Hz、1H);4.15(m、
1H);3.99(m、2H);3.77(m、2H);1.28(s、3H)
;1.24(s、3H);0.00(s、9H)。
【0034】 c)第3工程:4-ベンジルオキシ-5-(1,2-ジヒドロキシエチル)-3-トリメ
チルシラニルメトキシ-5H-フラン-2-オンの調製 上記生成物(10.5g、0.026mol)を100mlのメタノールに溶
解する。50mlの2N HCl水溶液を添加する。混合物を50℃で2時間加
熱する。メタノールを取り除くために混合物を40℃の真空下で乾燥させる。残
物を200mlの水に投入する。混合物を重炭酸ナトリウムで中和する。混合物
をエチルアセテートで抽出する。有機相を食塩水で洗浄し、NaSOで乾燥
させる。溶媒を蒸発させて、黄色の油を得、シリカで精製する(溶離液:シクロ
ヘキサン/エチルアセテート 60/40)。 5.6g(2工程での収率61%)の所望の生成物が黄色がかった油の形態で
得られる。 1H NMRスペクトル(CDCl、200MHz):7.27(m、5H)
;5.35(s、2H);4.55(d、J=3Hz、1H);3.74(m、
5H);2.31(拡大d、1H);2.06(t、拡大、1H);0.00(
s、9H)。
【0035】 d)第4工程:5-(1,2-ジヒドロキシエチル)-4-ヒドロキシ-3-トリメチル
シラニルメトキシ-5H-フラン-2-オンの調製 上記誘導体(5.2g、0.015mol)を100mlのエチルアセテート
に溶解する。100mlの無水エタノールを添加する。次に1gの5%炭素上パ
ラジウムを添加する。混合物を室温で7時間、12バールの水素下で撹拌する。
触媒を濾過する。 溶媒を蒸発させ、3.8g(収率98%)の所望の生成物を白い固体の形態で
得る。 1H NMRスペクトル(アセトン-d、200MHz):4.74(d、J=
2Hz、1H);3.82(m、1H);3.71(m、2H);3.63(m
、2H);0.00(s、9H)。
【0036】 実施例3:5-(1,2-ジヒドロキシエチル)-3-ヒドロキシ-4-(3-トリメチル
シラニルプロピルオキシ)-5H-フラン-2-オンの調製
【0037】 a)第1工程:5-(2,2-ジメチル-[1,3]ジオキソラン-4-イル)-3-ヒドロ
キシ-4-(3-トリメチルシラニル-プロピルオキシ)-5H-フラン-2-オンの調製 3-イオドプロピルトリメチルシラン(14.5g、0.06mol)を50
mlのジメチルスルホキシド中の5-(2,2-ジメチル-[1,3]ジオキソラン-4-
イル)-3,4-ジヒドロキシ-5H-フラン-2-オン(8.64g、0.04mol
)と重炭酸ナトリウム(5.04g、0.06mol)の混合物に、窒素下で添
加する。混合物を55℃で24時間加熱する。それを冷却し、300mlの水に
投入する。混合物をエチルアセテートで抽出する。有機相を食塩水で洗浄し、N
SOで乾燥させる。溶媒を蒸発させる。 茶色の油が得られ、シリカで精製して(溶離液:シクロヘキサン/エチルアセ
テート 75/25)、8.8g(収率67%)の所望の生成物が僅かに黄色い
油の形態で得られる。 1H NMRスペクトル(CDCl、200MHz):4.53(d、J=4
Hz、1H);4.40(t、J=7Hz、2H);4.25(m、1H);3
.98(m、2H);0.52(m、2H);0.00(s、9H)。
【0038】 b)第2工程:5-(1,2-ジヒドロキシエチル)-3-ヒドロキシ-4-(3-トリメ
チルシラニルプロピルオキシ)-5H-フラン-2-オンの調製 上記生成物(8.89g、0.03mol)を100mlのメタノールに溶解
する。50mlの2N HCl水溶液を添加する。混合物を50℃で2時間加熱
する。メタノールを取り除くために混合物を40℃の真空下で乾燥させる。残物
を100mlの水に投入する。混合物を重炭酸ナトリウムで中和する。混合物を
エチルアセテートで抽出する。有機相を食塩水で洗浄し、NaSO4で乾燥さ
せる。溶媒を蒸発させる。得られた黄色がかった油をシリカで精製する(溶離液
:シクロヘキサン/エチルアセテート 50/50)。 5.4g(収率62%)の所望の生成物が無色の油の形態で得られる。 1H NMRスペクトル(CDCl、200MHz):4.65(d、J=2
Hz、1H);4.33(m、2H);3.98(m、2H);3.81(m、
2H);1.63(m、2H);0.51(m、2H);0.00(s、9H)
【0039】 実施例4:5-(1,2-ジヒドロキシエチル)-4-ヒドロキシ-3-(3-トリメチル
シラニルプロピルオキシ)-5H-フラン-2-オンの調製
【0040】 a)第1工程:4-ベンジルオキシ-5-(2,2-ジメチル[1,3]ジオキソラン-4
-イル)-3-(3-トリメチルシラニルプロピルオキシ)-5H-フラン-2-オンの調
製 3-イオドプロピルトリメチルシラン(12.86g、0.053mol)を
100mlのジメチルスルホキシド中の4-ベンジルオキシ-5-(2,2-ジメチル
[1,3]ジオキソラン-4-イル)-3-ヒドロキシ-5H-フラン-2-オン(14.8
g、0.048mol)と炭酸カリウム(8.0g、0.058mol)の混合
物に、窒素下で添加する。混合物を室温で22時間撹拌する。それを300ml
の水に投入する。混合物をエチルアセテートで抽出する。有機相を食塩水で洗浄
し、NaSOで乾燥させる。 溶媒を蒸発させた後、橙色の油が得られ、シリカで精製して(溶離液:シクロ
ヘキサン/エチルアセテート 5/1)、10.5g(収率52%)の所望の生
成物が無色の油の形態で得られる。 1H NMRスペクトル(CDCl、200MHz):7.39(m、5H)
;5.50(s、2H);4.55(d、J=3Hz、1H);4.30(m、
1H);4.01(m、4H);1.67(m、2H);1.40(s、3H)
;1.37(s、3H)、0.50(m、2H);0.00(s、9H)。
【0041】 b)第2工程:4-ベンジルオキシ-5-(1,2-ジヒドロキシエチル)-3-(3-ト
リメチルシラニルプロピルオキシ)-5H-フラン-2-オンの調製 上記生成物(9.4g、0.025mol)を80mlのメタノールに溶解す
る。40mlの2N HCl水溶液を添加する。混合物を50℃で2時間加熱す
る。メタノールを取り除くために混合物を40℃の真空下で乾燥させる。残物を
200mlの水に投入する。混合物を重炭酸ナトリウムで中和する。混合物をエ
チルアセテートで抽出する。有機相を食塩水で洗浄し、NaSOで乾燥させ
る。溶媒を蒸発させて、黄色の油が得られ、シリカで精製する(溶離液:シクロ
ヘキサン/エチルアセテート 2/1)。 8.0g(収率94%)の所望の生成物が黄色がかった油の形態で得られる。
1H NMRスペクトル(CDCl、200MHz):7.39(m、5H)
;5.50(s、2H)、4.71(d、J=3Hz、1H);4.01(m、
3H);3.80(m、2H);2.47(拡大d、1H);2.21(拡大t
、1H);0.50(m、2H);0.00(s、9H)。
【0042】 c)第3工程:5-(1,2-ジヒドロキシエチル)-4-ヒドロキシ-3-(3-トリメ
チルシラニルプロピルオキシ)-5H-フラン-2-オンの調製 上記誘導体(7.6g、0.02mol)を100mlのエチルアセテートに
溶解する。100mlの無水エタノールを添加する。次に1.2gの5%の炭素
上パラジウムを添加する。混合物を室温で7時間、12バールの水素下で撹拌す
る。触媒を濾過する。 溶媒を蒸発させ、5.7g(収率98%)の所望の生成物を白い固体の形態で
得る。 1H NMRスペクトル(アセトン-d、200MHz):4.84(d、J=
2Hz、1H);3.96(m、3H);3.89(m、2H);1.65(m
、2H);0.54(m、2H);0.00(s、9H)。
【0043】 実施例5:抗日光用クリーム 抗日光用の水中油型エマルジョンを次の組成で調製する: − 実施例1の化合物 1g − UVスクリーン剤(メキソリル(登録商標)XL) 4g − セチルステアリルアルコールとオキシエチレン化 セチルステアリルアルコール(33EO)80/20 の混合物(TENSIA社のDEHSCONET390) 7g − グリセリルモノ-及びジ-ステアレートの混合物 (ISP社のCERASYNTH SD) 2g − ポリジメチルシロキサン (ダウコーニング社のDC200Fluid) 1.5g − C12-C15アルコールのベンゾアート (FINETEX社のFINSOLV TN) 16g − グリセリン 20g − 脱塩水 100gにする量
【0044】 実施例6:髪を保護するアフターシャンプーコンディショニングゲル 髪を保護するためのアフターシャンプーコンディショニングゲルを次の組成で
調製する: − 実施例4の化合物 2g − ポリジメチルシロキサンα、Ω-ジヒドロキシル化/ 揮発性シリコーン(ダウコーニング社のΩ2-1401) 20g − アクリルアミド/2-アクリルアミド-2-メチル プロパンスルホン酸架橋コポリマー(SEPPIC社 のSEPIGEL305) 1g AM − 水 100gにする量
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) A61K 7/06 A61K 7/06 7/075 7/075 7/08 7/08 7/42 7/42 7/48 7/48 31/695 31/695 A61P 17/16 A61P 17/16 39/06 39/06 (81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY, DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I T,LU,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,GW,ML, MR,NE,SN,TD,TG),AP(GH,GM,K E,LS,MW,MZ,SD,SL,SZ,TZ,UG ,ZW),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ,MD, RU,TJ,TM),AE,AG,AL,AM,AT, AU,AZ,BA,BB,BG,BR,BY,BZ,C A,CH,CN,CR,CU,CZ,DE,DK,DM ,DZ,EE,ES,FI,GB,GD,GE,GH, GM,HR,HU,ID,IL,IN,IS,JP,K E,KG,KP,KR,KZ,LC,LK,LR,LS ,LT,LU,LV,MA,MD,MG,MK,MN, MW,MX,MZ,NO,NZ,PL,PT,RO,R U,SD,SE,SG,SI,SK,SL,TJ,TM ,TR,TT,TZ,UA,UG,US,UZ,VN, YU,ZA,ZW Fターム(参考) 4C083 AC072 AC352 AC422 AC911 AC912 AD072 AD152 AD641 AD642 CC02 CC05 CC12 CC13 CC14 CC19 CC31 CC33 CC38 CC39 DD23 DD27 DD31 DD41 EE03 EE17 4C086 AA01 AA03 DA44 MA01 MA04 NA14 ZA89 ZA92 4H049 VN01 VP01 VQ57 VR24 VU04 VU06 VU13 VW02

Claims (17)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 − 式(1): の単位を少なくとも1つ含むシリコーン含有鎖からなる、あるいは − 又は次の式(2): に相当するシランであることを特徴とし、 ここで: − Rは直鎖状、環状又は分岐状の、飽和又は不飽和の、場合によっては部分的
    に又は全体にハロゲン化されていてもよい、C−C30の炭化水素基又は式 -
    O-SiMeのトリメチルシリルオキシ基を示し; − aは1又は2に等しく、 − R'、R'、R'は同一又は異なっていて、直鎖状又は分岐状のC-C のアルキル基、直鎖状又は分岐状のC-Cのアルケニル基、又はトリメチ
    ルシリルオキシ基から選択され; − Aは次の式(I): (ここで、L、L、L及びLは、水素又はケイ素含有鎖に基Aを結合さ
    せる式(a)又は(a')の二価の基を示し、ただし、基L、L、L及び
    の少なくとも1つが、好ましくは前記の基L、L、L及びLの1つ
    のみが、次の式(a)又は(a'): (ここで: − Vは、直鎖状又は分岐状で、飽和又は不飽和の、場合によってはヒドロキシ
    ル基、又は直鎖状又は分岐状で、飽和又は不飽和のC-Cのアルコキシ基で
    置換されていてもよい、二価のC-Cの炭化水素基であり; − Rは、水素原子、ヒドロキシル基、又は直鎖状又は分岐状で、飽和又は不
    飽和のC-Cの炭化水素基を示し; − pは0又は1、qは0又は1で、p+qが0ではないと理解される)の前記
    二価の基を示す)の基である、 アスコルビン酸から誘導されるケイ素含有化合物。
  2. 【請求項2】 シリコーン含有鎖が、式(1a): の少なくとも1つの単位、及び/又は式(1b): の少なくとも1つの単位、場合によっては、例えば式(1c): の(ジ-)アルキルシロキサン型の少なくとも1つの他の単位を含む、請求項1に
    記載の化合物。
  3. 【請求項3】 次の式(3)又は(4): [ここで: − 基Bは、同一又は異なっていて、基R及びAから選択され、 − rは0から50、好ましくは0から5の整数であり、 − sは0から20、好ましくは0、1又は2から選択される整数であって、た
    だし、s=0の場合、2つの基Bの少なくとも1つがAに相当し、 − uは1から6、好ましくは1又は2から選択される整数であり、 − tは0から9、好ましくは2、3又は4から選択される整数であり、 − t+uは3から10であり、好ましくは3、4、5、又は6に等しいと理解
    される]の1つに相当する、請求項1又は2に記載の化合物。
  4. 【請求項4】 基Rが、同一又は異なっていて、直鎖状、環状又は分岐状の
    、飽和又は不飽和のC-C18の炭化水素基、及び直鎖状又は分岐状の、飽和
    又は不飽和の、部分的にハロゲン化された、特にフッ素化された、C-C
    炭化水素基から;さらに詳細には、直鎖状又は分岐状のC-C10のアルキル
    基、特にメチル;フェニル基;直鎖状又は分岐状のフッ素化されたC-C
    アルキル基、特に3,3,3-トリフルオロプロピルから選択される、請求項1な
    いし3の何れかに記載の化合物。
  5. 【請求項5】 基R'、R'、R'が、同一又は異なっていて、直鎖状
    又は分岐状のC-Cのアルキル基、特にメチル又はエチル基、及びトリメチ
    ルシリルオキシ基から選択される、請求項1ないし4の何れかに記載の化合物。
  6. 【請求項6】 式(a)又は(a’)に相当する二価の基が、直鎖状又は分
    岐状で、飽和又は不飽和の、場合によってはヒドロキシル化された、二価のC -Cの炭化水素基、例えばメチレン(-CH-)、エチレン(-CH-CH-
    )、プロピレン(-CH-CH-CH-)、n-ブチレン(-CH-CH-C
    -CH-)、又はイソ-ブチレン(-CH-CH(CH)-CH-)基、及
    び基-CH=C-CH-、-CH=C(CH)-CH-、-CH=CH-CH(CH)-
    及びCH-CH(OH)-CH-から選択される、請求項1ないし5の何れかに
    記載の化合物。
  7. 【請求項7】 − 5-(1,2-ジヒドロキシエチル)-3-ヒドロキシ-4-(3
    -[1,3,3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]ジシロキサニル]
    プロピルオキシ)-5H-フラン-2-オン、 − 5-(1,2-ジヒドロキシエチル)-4-ヒドロキシ-3-(3-[1,3,3,3-テト
    ラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]ジシロキサニル]プロピルオキシ)-5
    H-フラン-2-オン、 − 5-(1,2-ジヒドロキシエチル)-3-ヒドロキシ-4-[2-メチル-3-[1,3,
    3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]ジシロキサニル]プロピル
    オキシ]-5H-フラン-2-オン、 − 5-(1,2-ジヒドロキシエチル)-4-ヒドロキシ-3-[2-メチル-3-[1,3,
    3,3-テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]ジシロキサニル]プロピル
    オキシ]-5H-フラン-2-オン、 − 5-(1,2-ジヒドロキシエチル)-4-[3-[3-[2-メチル-3-[1,3,3,3-
    テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]ジシロキサニル]プロピルオキシ]
    -2-ヒドロキシ-プロピルオキシ]-3-ヒドロキシ-5H-フラン-2-オン − 5-(1,2-ジヒドロキシエチル)-3-[3-[3-[2-メチル-3-[1,3,3,3-
    テトラメチル-1-[(トリメチルシリル)オキシ]ジシロキサニル]プロピルオキシ]
    -2-ヒドロキシ-プロピルオキシ]-4-ヒドロキシ-5H-フラン-2-オン、 − 5-(1,2-ジヒドロキシエチル)-3-ヒドロキシ-4-トリメチルシラニルメ
    トキシ-5H-フラン-2-オン、 − 5-(1,2-ジヒドロキシエチル)-4-ヒドロキシ-3-(3-トリメチルシラニ
    ルメトキシ)-5H-フラン-2-オン、 − 5-(1,2-ジヒドロキシエチル)-3-ヒドロキシ-4-(3-トリメチルシラニ
    ルプロポキシ)-5H-フラン-2-オン、及び − 5-(1,2-ジヒドロキシエチル)-4-ヒドロキシ-3-(3-トリメチルシラニ
    ルプロポキシ)-5H-フラン-2-オンから選択される、請求項1ないし7の何れ
    かに記載の化合物。
  8. 【請求項8】 式(2)から(4)の化合物の調製方法であって、 次の式(5)から(7): (ここで: − R'、R'、R'、R、r、s、t及びuは、上に与えられる意味を有
    し、 − B'は同一又は異なっていて、基R及び水素原子から選択され、ただしs=
    0の場合、2つの基B'の少なくとも1つはHを示す)の1つで表される、相当
    するシロキサン又はシラン誘導体の、 次の式(I’): [ここで、L'、L'、L'及びL'は、ベンジルオキシ基に相当するか、
    又は次の2つの式(b)及び(b’): (ここで、R、V及びpは上記と同じ意味を有し、基L'及びL'は、さら
    にアスコルビン酸残基と共に、少なくとも1つのC-のアルキル基又はフェ
    ニル基、特にメチル、エチル又はフェニル基で、さらに又は2つのアルキル又は
    フェニル基と置換されたメチレンジオキシ環を形成することが可能であり; ただし、少なくとも1つの基L'、L'、L'及びL'は基(b)又は(b
    ’)を示す。)の1つに相当する]の化合物から選択されるアスコルビン酸の有
    機誘導体でヒドロシリル化し、次いで、得られた化合物の、例えば接触水素化に
    よる脱ベンジル化及び/又はイソプロピリデンの酸加水分解により脱保護する方
    法。
  9. 【請求項9】 式(2)のシラン誘導体の調製方法であって、 式(I’’’): [ここで、L"、L"、L"及びL"はベンジルオキシ基又は水素原子を示
    し、 L"、L"は、さらにアスコルビン酸残基と共に、少なくとも1つのC-
    アルキル基又はフェニル基、特にメチル、エチル又はフェニル基で、さらに又は
    2つのアルキル又はフェニル基で置換されたメチレンジオキシ環を形成すること
    ができ; ただし、基L"、L"、L"及びL"の少なくとも1つは水素を表す]の誘
    導体を、 次の式(8): [ここで、Halはハロゲン、より詳細には塩素又はヨウ素を示し、基R、R' 、R'、R'、V、p及びqは上記と同じ意味を有する]のシラン誘導体と
    反応させる方法。
  10. 【請求項10】 化粧品的又は製薬的に許容可能な媒体と請求項1ないし7
    の何れか1項に記載の少なくとも1つの化合物を含む、組成物、特に化粧品用又
    は製薬用組成物。
  11. 【請求項11】 化合物が、組成物の全重量に対して0.1重量%から10
    重量%、好ましくは0.5及び5重量%の間の量で存在する、請求項10に記載
    の組成物。
  12. 【請求項12】 体及び/又は顔の皮膚、及び/又は毛髪、まつげ、眉毛及
    び/又は爪に適用するための組成物の形態で提供される、請求項10又は11に
    記載の組成物。
  13. 【請求項13】 ヒト表皮又は毛髪を紫外線から保護する組成物(抗日光用
    組成物)の形態;毛髪の保護又はトリートメント又はケアのための化粧品組成物
    の形態、特にシャンプーの前又は後、染色又は脱色の前又は後、パーマ又は髪を
    ストレートにする前、間又はした後に適用するための、シャンプー、ローション
    、ゲル又は洗い流し組成物、ヘアースタイリング又はトリートメントローション
    又はゲル、ブロードライ又はヘアセットローション又はゲル、ヘアラッカー、パ
    ーマ又は髪をストレートにするための組成物、髪を染色又は脱色するための組成
    物の形態;体及び/又は顔の皮膚のケア用組成物、例えば表皮のためのトリート
    メントクリーム、デイクリーム、ナイトクリーム、抗シワ用クリーム、保湿クリ
    ーム、ハンド又はフットクリームの形態;まつげ、眉毛、毛髪、体又は顔のため
    のメイクアップ組成物、例えばファンデーション、リップスティック、アイシャ
    ドウ、ブラッシャー、アイライナー、マスカラ、染色ゲル、マニキュアの形態で
    提供される、請求項10ないし12の何れかに記載の組成物。
  14. 【請求項14】 抗酸化及び/又は抗フリーラジカル剤としての、請求項1
    ないし7の何れかに記載の少なくとも1つの化合物の使用。
  15. 【請求項15】 化粧品用又は製薬用組成物における、請求項14の使用。
  16. 【請求項16】 酸化ストレスの処置及び/又は日光暴露の影響の処置及び
    /又は特に皮膚、毛髪、まつげ、眉毛及び/又は爪の老化防止のための、又はそ
    のための化粧品組成物における、請求項1ないし7の何れかに記載の少なくとも
    1つの化合物の使用。
  17. 【請求項17】 酸化ストレスの処置及び/又は電離又は太陽放射への暴
    露の影響の処置、及び/又は特に皮膚、毛髪、まつげ、眉毛及び/又は爪の老化
    防止、及び/又はフリーラジカルを生成する特定薬剤の使用による影響の処置の
    ための製薬用組成物の調製における、請求項1ないし7の何れかに記載の少なく
    とも1つの化合物の使用。
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